JPH07106216A - 偏向信号発生装置 - Google Patents
偏向信号発生装置Info
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- JPH07106216A JPH07106216A JP24425793A JP24425793A JPH07106216A JP H07106216 A JPH07106216 A JP H07106216A JP 24425793 A JP24425793 A JP 24425793A JP 24425793 A JP24425793 A JP 24425793A JP H07106216 A JPH07106216 A JP H07106216A
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- Japan
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- scanning
- scanning speed
- changing
- analog integrator
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Abstract
(57)【要約】
【構成】第一の走査速度を変更する座標を記憶する手段
と、第二の走査速度を変更する座標を記憶する手段と、
アナログ積分器13の出力から走査速度変更座標を検出
する手段を設け、走査速度変更信号によってアナログ積
分回路の入力電圧を切り替え走査信号の傾斜を変えるこ
とで電子ビームの走査速度を変化させ、近接効果の補正
を行う。 【効果】スループットを低下させることなく、近接効果
の補正が可能となる。
と、第二の走査速度を変更する座標を記憶する手段と、
アナログ積分器13の出力から走査速度変更座標を検出
する手段を設け、走査速度変更信号によってアナログ積
分回路の入力電圧を切り替え走査信号の傾斜を変えるこ
とで電子ビームの走査速度を変化させ、近接効果の補正
を行う。 【効果】スループットを低下させることなく、近接効果
の補正が可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム描画装置に
係り、特に、アナログ積分器を用いて電子ビームの偏向
信号(走査信号)を発生する方式の電子ビーム描画装置
における偏向信号発生装置に関する。
係り、特に、アナログ積分器を用いて電子ビームの偏向
信号(走査信号)を発生する方式の電子ビーム描画装置
における偏向信号発生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の電子ビーム描画装置は、偏向信号
発生装置として、D/A変換器を用いている。これは、
ディジタル値で与えられる描画データをD/A変換し、
偏向器にあたえることにより、電子ビームを偏向するも
のである。しかし、D/A変換器の階段状の出力で電子
ビームを偏向するので、その描画結果の輪郭には、凹凸
が生じ、描画精度が低下するという欠点がある。
発生装置として、D/A変換器を用いている。これは、
ディジタル値で与えられる描画データをD/A変換し、
偏向器にあたえることにより、電子ビームを偏向するも
のである。しかし、D/A変換器の階段状の出力で電子
ビームを偏向するので、その描画結果の輪郭には、凹凸
が生じ、描画精度が低下するという欠点がある。
【0003】その欠点を解決するため、従来、偏向信号
発生装置として用いていたD/A変換器にかわり、アナ
ログ積分器を用いる方法がある。これは、アナログ積分
器により一定の傾きを持つランプ波形(走査信号)を発
生させ、そのランプ波形を偏向器に与え、電子ビームを
走査し、走査信号から描画ラインの始点,終点を検出
し、その始点,終点によってビーム照射制御信号(ブラ
ンキング信号)を生成し、ビームをオン/オフすること
で図形を形成する方法である。この方法において、ラン
プ波形の傾きは、電子ビームの露光量を決定するもので
ある。
発生装置として用いていたD/A変換器にかわり、アナ
ログ積分器を用いる方法がある。これは、アナログ積分
器により一定の傾きを持つランプ波形(走査信号)を発
生させ、そのランプ波形を偏向器に与え、電子ビームを
走査し、走査信号から描画ラインの始点,終点を検出
し、その始点,終点によってビーム照射制御信号(ブラ
ンキング信号)を生成し、ビームをオン/オフすること
で図形を形成する方法である。この方法において、ラン
プ波形の傾きは、電子ビームの露光量を決定するもので
ある。
【0004】また、電子ビーム描画装置では、そのほか
の描画精度を低下させる大きな要因として近接効果が挙
げられる。これは、電子の散乱の影響により実効的な電
子ビーム露光量が変化し、描画図形の大きさや周辺のパ
ターン密度によって描画した図形の寸法が設計値と合わ
なくなってしまうものである。この近接効果を補正する
には、図形の大きさや密度によって電子ビーム露光量を
変える方法がよく知られている。すなわち、描画しよう
とする図形の周辺のパターン密度が多いときや大きな図
形を描画する場合には、電子ビーム露光量を少なくし、
その逆の場合には電子ビーム露光量を多くすることで近
接効果の補正を行う。上記方法の場合、一般に、描画図
形の輪郭部分の電子ビーム露光量を変化させて描画する
方法が用いられている。
の描画精度を低下させる大きな要因として近接効果が挙
げられる。これは、電子の散乱の影響により実効的な電
子ビーム露光量が変化し、描画図形の大きさや周辺のパ
ターン密度によって描画した図形の寸法が設計値と合わ
なくなってしまうものである。この近接効果を補正する
には、図形の大きさや密度によって電子ビーム露光量を
変える方法がよく知られている。すなわち、描画しよう
とする図形の周辺のパターン密度が多いときや大きな図
形を描画する場合には、電子ビーム露光量を少なくし、
その逆の場合には電子ビーム露光量を多くすることで近
接効果の補正を行う。上記方法の場合、一般に、描画図
形の輪郭部分の電子ビーム露光量を変化させて描画する
方法が用いられている。
【0005】近接効果の補正方法を実現する手段とし
て、特開昭56−165321号公報が挙げられる。これは、電
子ビームの走査信号を高速カウンタとD/A変換器を用
いて電子ビームの走査信号を発生する方式の電子ビーム
描画装置において、描画図形の輪郭部分の図形とその内
側の図形とに分割し、図形の輪郭部分と内側とでカウン
タに入力するクロックの周波数を変化させることで、走
査信号の走査速度を変化させ近接効果の補正を行うもの
である。電子ビーム露光量は、走査速度に反比例する。
すなわち、走査速度が遅いほど描画位置での電子ビーム
滞在時間が長くなり電子ビーム露光量が多くなる。した
がって、電子ビームの走査速度を部分的に変化させるこ
とにより電子ビーム露光量を変化させることができる。
また、走査速度変更座標の検出は、描画開始からのクロ
ック数を計数することによって行う。
て、特開昭56−165321号公報が挙げられる。これは、電
子ビームの走査信号を高速カウンタとD/A変換器を用
いて電子ビームの走査信号を発生する方式の電子ビーム
描画装置において、描画図形の輪郭部分の図形とその内
側の図形とに分割し、図形の輪郭部分と内側とでカウン
タに入力するクロックの周波数を変化させることで、走
査信号の走査速度を変化させ近接効果の補正を行うもの
である。電子ビーム露光量は、走査速度に反比例する。
すなわち、走査速度が遅いほど描画位置での電子ビーム
滞在時間が長くなり電子ビーム露光量が多くなる。した
がって、電子ビームの走査速度を部分的に変化させるこ
とにより電子ビーム露光量を変化させることができる。
また、走査速度変更座標の検出は、描画開始からのクロ
ック数を計数することによって行う。
【0006】また、アナログ積分回路方式において、部
分的に電子ビーム露光量を変化させるには、特開昭56−
158425号公報のように、走査速度で定まる電子ビーム露
光量を使用するレジストの感度より充分小さく設定して
おき、数回の多重露光描画を行い、多重露光描画の回数
を部分的に変化させ近接効果を補正する方法がある。
分的に電子ビーム露光量を変化させるには、特開昭56−
158425号公報のように、走査速度で定まる電子ビーム露
光量を使用するレジストの感度より充分小さく設定して
おき、数回の多重露光描画を行い、多重露光描画の回数
を部分的に変化させ近接効果を補正する方法がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前記多重露光方法によ
って近接効果補正を行うためには、多重露光の位置精度
すなわち、重ね合わせ精度が重要となる。この重ね合わ
せ精度は、使用するビーム径の1/5以下程度の精度が
必要となる。特に、細かいスポットビームを使用した装
置では、必要な重ね合わせ精度も高くなり、これを実現
することは困難であるという問題がある。さらに、多重
露光描画することによって描画に寄与しない部分を走査
している時間も増加し、スループットが低下するという
問題もある。
って近接効果補正を行うためには、多重露光の位置精度
すなわち、重ね合わせ精度が重要となる。この重ね合わ
せ精度は、使用するビーム径の1/5以下程度の精度が
必要となる。特に、細かいスポットビームを使用した装
置では、必要な重ね合わせ精度も高くなり、これを実現
することは困難であるという問題がある。さらに、多重
露光描画することによって描画に寄与しない部分を走査
している時間も増加し、スループットが低下するという
問題もある。
【0008】これらの理由から、アナログ積分器を用い
た方法では、多重露光方法でなく、一走査中にその走査
速度を部分的に変化させることによって、電子ビーム露
光量を制御することが望ましい。
た方法では、多重露光方法でなく、一走査中にその走査
速度を部分的に変化させることによって、電子ビーム露
光量を制御することが望ましい。
【0009】本発明の課題は、アナログ積分器を用いて
走査信号を発生する場合、いかにして一ラインの中で部
分的に走査信号の傾斜を変化させるかである。
走査信号を発生する場合、いかにして一ラインの中で部
分的に走査信号の傾斜を変化させるかである。
【0010】本発明の目的は、アナログ積分器を用いた
走査信号から走査速度変更座標を検出し、走査速度の傾
斜を変化させる回路を提供することにある。
走査信号から走査速度変更座標を検出し、走査速度の傾
斜を変化させる回路を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の問題を解決するた
めに、本発明では、アナログ積分器の積分速度、すなわ
ち、走査速度を部分的に変化させる手段として、輪郭部
分の幅と図形の始点座標および終点座標より走査速度変
更点標を演算する走査速度変更座標演算回路と、走査速
度変更座標をD/A変換する回路とを設け、前記走査速
度変更点での走査信号の電圧と走査信号の電圧とをアナ
ログ比較回路によって比較し、走査速度変更点を検出す
る走査速度変更点検出回路を設け、これによって、アナ
ログ積分器の入力電圧を変化させる構成とする。
めに、本発明では、アナログ積分器の積分速度、すなわ
ち、走査速度を部分的に変化させる手段として、輪郭部
分の幅と図形の始点座標および終点座標より走査速度変
更点標を演算する走査速度変更座標演算回路と、走査速
度変更座標をD/A変換する回路とを設け、前記走査速
度変更点での走査信号の電圧と走査信号の電圧とをアナ
ログ比較回路によって比較し、走査速度変更点を検出す
る走査速度変更点検出回路を設け、これによって、アナ
ログ積分器の入力電圧を変化させる構成とする。
【0012】さらに、近接効果補正が必要な図形か否
か、また、どの部分で必要かを示す判定フラグをパター
ンジェネレータにより生成する。この判定フラグに従っ
て、走査速度変更位置と走査速度の制御を行う。
か、また、どの部分で必要かを示す判定フラグをパター
ンジェネレータにより生成する。この判定フラグに従っ
て、走査速度変更位置と走査速度の制御を行う。
【0013】また、別の走査速度変更座標検出方法とし
て、描画開始点から走査速度変更点までを走査すること
に要する時間を演算する回路と、走査信号の描画開始点
から走査に要した時間を計測する回路と、前記走査時間
計測回路と走査時間演算回路の出力を比較する回路を設
け、これによって走査速度を変化させる構成とする。
て、描画開始点から走査速度変更点までを走査すること
に要する時間を演算する回路と、走査信号の描画開始点
から走査に要した時間を計測する回路と、前記走査時間
計測回路と走査時間演算回路の出力を比較する回路を設
け、これによって走査速度を変化させる構成とする。
【0014】
【作用】上記手段は、走査の始点座標,終点座標および
輪郭部分の幅より走査速度変更点を演算する走査速度変
更点演算回路と走査速度変更点演算回路の出力をD/A
変換するD/A変換器とによって、走査速度変更点の走
査信号の電圧を求め、走査信号の電圧と走査速度変更点
電圧を比較し、判定フラグに従い、走査速度を変更する
必要がある場合は、走査信号が走査速度変更点電圧を超
えた時点でアナログ積分回路の入力電圧を変化させ、走
査信号の傾斜を変え、走査速度を変化させるように動作
する。走査信号を制御するための判定フラグは、パター
ンジェネレータで生成され、図形をラインに分解し、図
形のどの部分を描画するデータかによって判定フラグ
(コード)を発生させそのコードに従って電子ビーム露
光量を変化させるべく走査ラインの傾斜を制御する。
輪郭部分の幅より走査速度変更点を演算する走査速度変
更点演算回路と走査速度変更点演算回路の出力をD/A
変換するD/A変換器とによって、走査速度変更点の走
査信号の電圧を求め、走査信号の電圧と走査速度変更点
電圧を比較し、判定フラグに従い、走査速度を変更する
必要がある場合は、走査信号が走査速度変更点電圧を超
えた時点でアナログ積分回路の入力電圧を変化させ、走
査信号の傾斜を変え、走査速度を変化させるように動作
する。走査信号を制御するための判定フラグは、パター
ンジェネレータで生成され、図形をラインに分解し、図
形のどの部分を描画するデータかによって判定フラグ
(コード)を発生させそのコードに従って電子ビーム露
光量を変化させるべく走査ラインの傾斜を制御する。
【0015】また、描画開始点から走査速度変更点まで
の走査に要する時間を演算し、走査時間を計測する回路
によって走査信号の走査時間を測定し、それぞれの出力
を比較して、走査信号の時間が走査速度変更点までの時
間を超えた時点で走査速度を変化させるように動作す
る。
の走査に要する時間を演算し、走査時間を計測する回路
によって走査信号の走査時間を測定し、それぞれの出力
を比較して、走査信号の時間が走査速度変更点までの時
間を超えた時点で走査速度を変化させるように動作す
る。
【0016】さらに、近接効果補正が必要な図形である
かどうかは、判定フラグによって判定し、近接効果補正
を必要としない図形は、走査速度を変化させることなく
描画し、近接効果補正が必要な図形については、前記方
法により、走査速度を変化させて描画する。
かどうかは、判定フラグによって判定し、近接効果補正
を必要としない図形は、走査速度を変化させることなく
描画し、近接効果補正が必要な図形については、前記方
法により、走査速度を変化させて描画する。
【0017】以上のように動作する回路によって、走査
信号を発生させることにより、一走査中に電子ビームの
露光量を変化させることが可能となり、その結果、近接
効果の補正を行うことができる。
信号を発生させることにより、一走査中に電子ビームの
露光量を変化させることが可能となり、その結果、近接
効果の補正を行うことができる。
【0018】
【実施例】図1は、本発明の第1の実施例を示す図であ
る。1はパターンジェネレータ、2は加算器、3は減算
器、4,5および12はD/A変換器、6および7はア
ナログ比較器、8は制御回路、9は走査速度va を設定
するレジスタ、10は走査速度vb を設定するレジス
タ、11はセレクタ、13はアナログ積分器である。
る。1はパターンジェネレータ、2は加算器、3は減算
器、4,5および12はD/A変換器、6および7はア
ナログ比較器、8は制御回路、9は走査速度va を設定
するレジスタ、10は走査速度vb を設定するレジス
タ、11はセレクタ、13はアナログ積分器である。
【0019】図8に、本発明を用いた電子ビーム描画装
置における描画の手順を示す。(a)は、描画図形と走査
ラインの関係、(b)および(c)は、走査信号と電子
ビーム露光量を示す。図中、ハッチング部は、輪郭部分
であり、近接効果補正が必要な部分を示す。
置における描画の手順を示す。(a)は、描画図形と走査
ラインの関係、(b)および(c)は、走査信号と電子
ビーム露光量を示す。図中、ハッチング部は、輪郭部分
であり、近接効果補正が必要な部分を示す。
【0020】描画図形200は、パターンジェネレータ
1によって、電子ビームの走査方向に平行ライン1から
ライン23に分解される。各ラインの始点座標および終
点座標は、パターンジェネレータ1によって算出され
る。また、各走査ラインに対して、近接効果補正の要否
および1ライン中の近接効果補正が必要な部分を示す判
定フラグ102を付加して、パターンジェネレータ1よ
り出力される。判定フラグについては、図3の説明の中
で詳述する。
1によって、電子ビームの走査方向に平行ライン1から
ライン23に分解される。各ラインの始点座標および終
点座標は、パターンジェネレータ1によって算出され
る。また、各走査ラインに対して、近接効果補正の要否
および1ライン中の近接効果補正が必要な部分を示す判
定フラグ102を付加して、パターンジェネレータ1よ
り出力される。判定フラグについては、図3の説明の中
で詳述する。
【0021】描画図形200の描画は、ライン1から順
に行われる。ライン1からライン4までは、ライン全体
が近接効果補正を必要とする領域であり、走査信号80
4によって描画され、ライン全体を走査速度vb で描画
する。このとき、電子ビームの露光量は、803のよう
な分布となる。ライン5からライン18までは、ライン
の両端の部分が近接効果補正を必要とする領域であり、
走査信号801によって描画され、走査信号801の走
査速度は、ラインの両端の部分を走査速度vbで描画
し、内側の部分は走査速度va で描画する。この場合、
電子ビーム露光量は、803のような分布となる。ライ
ン19からライン23は、ライン1からライン4までと
同様に走査信号804で描画される。つまり、描画図形
200の輪郭部分は走査速度vbで、輪郭部分内部は走
査速度vaで描画を行う。走査速度の切り替えは、判定
フラグ102に従って行われる。
に行われる。ライン1からライン4までは、ライン全体
が近接効果補正を必要とする領域であり、走査信号80
4によって描画され、ライン全体を走査速度vb で描画
する。このとき、電子ビームの露光量は、803のよう
な分布となる。ライン5からライン18までは、ライン
の両端の部分が近接効果補正を必要とする領域であり、
走査信号801によって描画され、走査信号801の走
査速度は、ラインの両端の部分を走査速度vbで描画
し、内側の部分は走査速度va で描画する。この場合、
電子ビーム露光量は、803のような分布となる。ライ
ン19からライン23は、ライン1からライン4までと
同様に走査信号804で描画される。つまり、描画図形
200の輪郭部分は走査速度vbで、輪郭部分内部は走
査速度vaで描画を行う。走査速度の切り替えは、判定
フラグ102に従って行われる。
【0022】ここでvaとvbの関係は、va>vbであ
る。したがって、描画図形200の輪郭部分の電子ビー
ム露光量は、内側より大きくなり、近接効果補正を行う
ことができる。
る。したがって、描画図形200の輪郭部分の電子ビー
ム露光量は、内側より大きくなり、近接効果補正を行う
ことができる。
【0023】図2は、図8のライン12(図2の20
1)図形を描画する場合における走査信号を示す説明図
である。
1)図形を描画する場合における走査信号を示す説明図
である。
【0024】パターンジェネレータ1より、レジスタ9
には輪郭部分内部を描画する場合の走査速度vaが、レ
ジスタ10には輪郭部分を描画する場合の走査速度vb
が設定される。また、描画ラインの始点座標X1と終点
座標X4および輪郭部分の幅ΔXがパターンジェネレー
タ1によって設定され、加算器2で第一の走査速度変更
点X2を算出し、減算器3で第二の速度変更点X3を算出
する。加算器2および減算器3は、次のような演算を行
う。すなわち、X2=X1+ΔX,X3=X4−ΔXここ
で、ΔXの値は、実験的に求められた値を用いる。
には輪郭部分内部を描画する場合の走査速度vaが、レ
ジスタ10には輪郭部分を描画する場合の走査速度vb
が設定される。また、描画ラインの始点座標X1と終点
座標X4および輪郭部分の幅ΔXがパターンジェネレー
タ1によって設定され、加算器2で第一の走査速度変更
点X2を算出し、減算器3で第二の速度変更点X3を算出
する。加算器2および減算器3は、次のような演算を行
う。すなわち、X2=X1+ΔX,X3=X4−ΔXここ
で、ΔXの値は、実験的に求められた値を用いる。
【0025】演算された走査速度変更座標X2およびX3
は、D/A変換器4および5によりアナログ電圧に変換
し、アナログ比較器6および7に入力され、走査信号1
01との比較を行い制御回路8を介してセレクタ11を
制御する。レジスタ9及び10に設定された走査速度v
aおよびvbは、セレクタ11によって選択され、D/A
変換器12を介してアナログ積分器13に入力される。
セレクタ11を制御することにより、アナログ積分器1
3の入力電圧(または入力電流)を可変し、走査速度信
号の傾斜を変化させることができる。
は、D/A変換器4および5によりアナログ電圧に変換
し、アナログ比較器6および7に入力され、走査信号1
01との比較を行い制御回路8を介してセレクタ11を
制御する。レジスタ9及び10に設定された走査速度v
aおよびvbは、セレクタ11によって選択され、D/A
変換器12を介してアナログ積分器13に入力される。
セレクタ11を制御することにより、アナログ積分器1
3の入力電圧(または入力電流)を可変し、走査速度信
号の傾斜を変化させることができる。
【0026】図2の描画ライン201を描画する場合を
例にとって動作を説明する。
例にとって動作を説明する。
【0027】描画ライン201では、X1からX2までを
走査速度vbで描画し、X2からX3までは、走査速度va
で描画し、さらに、X3からX4までは、再び走査速度v
bで描画する。図2では、va>vbの場合を示す。
走査速度vbで描画し、X2からX3までは、走査速度va
で描画し、さらに、X3からX4までは、再び走査速度v
bで描画する。図2では、va>vbの場合を示す。
【0028】描画ライン201の図形を描画する場合、
描画開始前は、制御回路8によって、セレクタ11が制
御され、レジスタ10の内容、すなわち、走査速度vb
が選択されている。
描画開始前は、制御回路8によって、セレクタ11が制
御され、レジスタ10の内容、すなわち、走査速度vb
が選択されている。
【0029】走査開始信号103により、アナログ積分
器13が起動され、走査速度vb の傾きをもつ走査信号
を出力する。
器13が起動され、走査速度vb の傾きをもつ走査信号
を出力する。
【0030】走査信号が描画開始座標X1 に達すると、
ビームがオンされ、露光が開始される。
ビームがオンされ、露光が開始される。
【0031】次に、走査信号が、第一の走査速度変更点
X2 に達したことをアナログ比較器6によって検出する
と、制御回路8は、セレクタ11を制御してレジスタ9
の内容すなわち走査速度vaを選択し、アナログ積分器
13にvbより大きな入力電圧を印加することによっ
て、走査速度vaの傾きの走査信号を出力する。
X2 に達したことをアナログ比較器6によって検出する
と、制御回路8は、セレクタ11を制御してレジスタ9
の内容すなわち走査速度vaを選択し、アナログ積分器
13にvbより大きな入力電圧を印加することによっ
て、走査速度vaの傾きの走査信号を出力する。
【0032】さらに、第二の走査速度変更点X3 に達す
るとアナログ比較器7および制御回路8によりセレクタ
11がレジスタ10の走査速度vbを選択し走査速度vb
の傾きの走査速度の信号を出力する。
るとアナログ比較器7および制御回路8によりセレクタ
11がレジスタ10の走査速度vbを選択し走査速度vb
の傾きの走査速度の信号を出力する。
【0033】最後に走査信号が描画終了点X4 に達する
とビームがオフされ一ラインの露光を終了する。
とビームがオフされ一ラインの露光を終了する。
【0034】図2の走査信号202は、以上の動作を波
形で示したものであり、BLK信号203はビームのオ
ン/オフ状態を示し、さらに露光量204は、本動作に
おける電子ビームの照射量を示した図である。
形で示したものであり、BLK信号203はビームのオ
ン/オフ状態を示し、さらに露光量204は、本動作に
おける電子ビームの照射量を示した図である。
【0035】図3は、図形と近接効果補正の要否を示す
判定フラグ(FLG)との関係を示す図である。図中、
ハッチング部が近接効果補正を必要とする図形を示す。
判定フラグ(FLG)との関係を示す図である。図中、
ハッチング部が近接効果補正を必要とする図形を示す。
【0036】FLG=“000”の場合は、近接効果補
正を必要としない図形もしくは輪郭分解した図形の内側
部分にあたる図形である。FLG=“000”の場合
は、近接効果補正を必要としない図形であり、走査信号
は、図形全体を走査速度va で走査して描画する。
正を必要としない図形もしくは輪郭分解した図形の内側
部分にあたる図形である。FLG=“000”の場合
は、近接効果補正を必要としない図形であり、走査信号
は、図形全体を走査速度va で走査して描画する。
【0037】FLG=“100”の場合は、左端の部分
が近接効果補正を必要とする部分であり、近接効果補正
部は走査速度vb で走査し、走査速度変更点X2 以降は
走査速度vaで走査し描画する。
が近接効果補正を必要とする部分であり、近接効果補正
部は走査速度vb で走査し、走査速度変更点X2 以降は
走査速度vaで走査し描画する。
【0038】以下、FLG=“001”の場合は、X3
までを走査速度vaで、X3以降を走査速度vbで走査
し、FLG=“101”の場合は、X2までをvb、X2
からX3の間をva、X3以降をvb で走査し描画する。
までを走査速度vaで、X3以降を走査速度vbで走査
し、FLG=“101”の場合は、X2までをvb、X2
からX3の間をva、X3以降をvb で走査し描画する。
【0039】また、FLG=“111”の場合は、図形
全体が近接効果補正を必要とする図形であり、走査速度
vbで全体を描画する。
全体が近接効果補正を必要とする図形であり、走査速度
vbで全体を描画する。
【0040】以上のように走査速度を制御する制御回路
8に上記判定フラグ102を入力し、走査速度を切り替
えながら描画し、近接効果補正を行う。
8に上記判定フラグ102を入力し、走査速度を切り替
えながら描画し、近接効果補正を行う。
【0041】図4は、本発明の第二の実施例を示すブロ
ック図である。図4は、走査速度変更点の検出をディジ
タル回路で実現したものであり、16はA/D変換器、
14および15はディジタル比較器回路である。
ック図である。図4は、走査速度変更点の検出をディジ
タル回路で実現したものであり、16はA/D変換器、
14および15はディジタル比較器回路である。
【0042】走査信号はA/D変換器16によってディ
ジタル信号に変換され、ディジタル比較回路14および
15に入力される。
ジタル信号に変換され、ディジタル比較回路14および
15に入力される。
【0043】ディジタル比較回路14は、加算器2から
出力される第一の走査速度変更点X2とA/D変換器1
6の出力とを比較し、走査信号がX2以上になった点で
信号を出力する。また、ディジタル比較回路15は減算
器3の出力とA/D変換器16の出力とを比較し、走査
信号がX3 以上になった点で信号を出力する。
出力される第一の走査速度変更点X2とA/D変換器1
6の出力とを比較し、走査信号がX2以上になった点で
信号を出力する。また、ディジタル比較回路15は減算
器3の出力とA/D変換器16の出力とを比較し、走査
信号がX3 以上になった点で信号を出力する。
【0044】以下、図1に示した動作と同様に制御回路
8とセレクタ11とによって、走査速度の切り替えを行
う。
8とセレクタ11とによって、走査速度の切り替えを行
う。
【0045】図5は、本発明の第三の実施例を示す図で
ある。この方式は、走査時間計測部17と走査時間演算
部18および19を設け、走査速度変更点Xおよび、X
3 を時間で検出する方法である。
ある。この方式は、走査時間計測部17と走査時間演算
部18および19を設け、走査速度変更点Xおよび、X
3 を時間で検出する方法である。
【0046】カウンタで構成される走査時間計測部17
は、ビームをオンするタイミングで出力される描画開始
信号501によってクリアされ、走査開始から終了まで
の時間tSをクロック信号502で計数する。
は、ビームをオンするタイミングで出力される描画開始
信号501によってクリアされ、走査開始から終了まで
の時間tSをクロック信号502で計数する。
【0047】一方、走査時間演算部18は、t2=(X2
−X1)/vbの演算を行い、描画開始点X1から第一の走
査速度変更点X2までを走査するのに要する時間t2 を
演算し比較回路20に入力する。
−X1)/vbの演算を行い、描画開始点X1から第一の走
査速度変更点X2までを走査するのに要する時間t2 を
演算し比較回路20に入力する。
【0048】また、走査時間演算部19は、t3=
{(X3−X2)/va}+t2 の演算を行い、描画開始
点X1から走査速度変更点X3までの走査に要する時間t
3 を演算し比較回路21に入力する。
{(X3−X2)/va}+t2 の演算を行い、描画開始
点X1から走査速度変更点X3までの走査に要する時間t
3 を演算し比較回路21に入力する。
【0049】比較回路20は、走査時間計測部17の出
力である走査時間tSとt2の比較を行い、tS≧t2とな
った時点で走査速度切り替え信号を出力する。比較回路
21は、走査時間tSとt3の比較を行い、tS≧t3とな
った時点で走査速度切り替え信号を出力する。
力である走査時間tSとt2の比較を行い、tS≧t2とな
った時点で走査速度切り替え信号を出力する。比較回路
21は、走査時間tSとt3の比較を行い、tS≧t3とな
った時点で走査速度切り替え信号を出力する。
【0050】比較回路20および21の出力は制御回路
8に入力され、制御回路8によってセレクタ11を図1
で説明した方法により制御することによって走査速度の
変更を行う。
8に入力され、制御回路8によってセレクタ11を図1
で説明した方法により制御することによって走査速度の
変更を行う。
【0051】以上のように、時間管理によっても走査速
度の変更による近接効果補正ができる。
度の変更による近接効果補正ができる。
【0052】図6は、本発明の第四の実施例を示すブロ
ック図である。この方式は、アナログ積分器24と、ア
ナログ積分回路で構成した折線発生回路25とを用い、
加算回路26で二つの回路の出力を加算することによっ
て走査速度の切り替えを行う方法である。
ック図である。この方式は、アナログ積分器24と、ア
ナログ積分回路で構成した折線発生回路25とを用い、
加算回路26で二つの回路の出力を加算することによっ
て走査速度の切り替えを行う方法である。
【0053】図7は、図6の実施例の動作の説明図であ
る。アナログ積分器24は、D/A変換器22によって
走査速度vbに相当する電圧が与えられ、走査速度vbの
走査信号701を出力する。
る。アナログ積分器24は、D/A変換器22によって
走査速度vbに相当する電圧が与えられ、走査速度vbの
走査信号701を出力する。
【0054】一方、折線発生回路25は、制御回路8か
ら出力される折線制御信号704にしたがって、レジス
タ27とD/A変換器23によって設定された折線傾斜
vcをもつ走査信号702を出力する。走査信号701
と折線信号702は、加算回路26によって加算され、
走査信号703を出力する。走査信号703で描画する
ことにより、705に示すような露光量となり、近接効
果が補正される。
ら出力される折線制御信号704にしたがって、レジス
タ27とD/A変換器23によって設定された折線傾斜
vcをもつ走査信号702を出力する。走査信号701
と折線信号702は、加算回路26によって加算され、
走査信号703を出力する。走査信号703で描画する
ことにより、705に示すような露光量となり、近接効
果が補正される。
【0055】
【発明の効果】本発明の方法を用いることで、アナログ
積分器を用いた走査信号の走査速度を任意の位置で変更
することが可能となり、スループットを低下させること
なく近接効果を補正することができる。
積分器を用いた走査信号の走査速度を任意の位置で変更
することが可能となり、スループットを低下させること
なく近接効果を補正することができる。
【図1】本発明の第一の実施例を示すブロック図。
【図2】本発明の第一の実施例の動作を示す説明図。
【図3】本発明における走査位置と近接効果の要否を示
す説明図。
す説明図。
【図4】本発明の第二の実施例を示すブロック図。
【図5】本発明の第三の実施例を示すブロック図。
【図6】本発明の第四の実施例を示すブロック図。
【図7】本発明の第四の実施例の動作を示す説明図。
【図8】本発明を用いた描画手順を示す説明図。
1…パターンジェネレータ、2…ディジタル加算器、3
…ディジタル減算器、4,5,12…D/A変換器、
6,7…アナログ比較器、8…制御回路、9,10…レ
ジスタ、11…セレクタ、13…アナログ積分器。
…ディジタル減算器、4,5,12…D/A変換器、
6,7…アナログ比較器、8…制御回路、9,10…レ
ジスタ、11…セレクタ、13…アナログ積分器。
Claims (7)
- 【請求項1】電子ビームを収束する手段と、前記収束さ
れた電子ビームの偏向手段と、前記偏向手段の偏向信号
発生手段がアナログ積分器で成る電子ビーム描画装置に
おいて、前記アナログ積分器が積分速度を一走査内の任
意の位置で任意に可変する手段を具備するアナログ積分
器から成ることを特徴とする偏向信号発生装置。 - 【請求項2】請求項1において、描画パターンの輪郭部
分とその内部との境界を検出し、前記アナログ積分器の
積分速度を変えることで電子ビームの露光量を変化さ
せ、近接効果の補正を行う偏向信号発生装置。 - 【請求項3】請求項2において、描画パターンの始点座
標および終点座標と前記電子ビームの露光量を変化させ
る輪郭部の幅とにより走査速度変更座標を演算する走査
速度変更座標演算手段と、前記走査速度変更座標をD/
A変換する手段を設け、前記アナログ積分器の出力電圧
から前記走査速度変更座標によって定まる走査速度変更
点をアナログ比較手段によって検出する偏向信号発生装
置。 - 【請求項4】請求項3において、前記アナログ積分器の
出力をA/D変換する手段を設け、さらに前記A/D変
換された信号と前記走査速度変更座標とを比較するディ
ジタル比較手段を設け、走査速度変更点を検出する偏向
信号発生装置。 - 【請求項5】請求項3において、描画開始点から描画終
了点までの時間を計測する走査時間計測手段と、偏向信
号が描画開始点から走査速度変更座標まで走査するに要
する時間を求めるための走査速度変更時間演算手段とを
設け、前記走査時間計測手段の出力と前記走査速度変更
時間演算手段の出力とを比較する手段を設け、前記比較
手段の出力によって走査速度を変化させる偏向信号発生
装置。 - 【請求項6】請求項3において、前記アナログ積分器に
よって発生せしめた走査信号で描画する図形ラインが近
接効果補正領域内の図形ラインであるかどうかを判定す
る判定フラグを設け、前記判定フラグによって図形ライ
ン全体、あるいは、図形ラインの一部の走査速度を変化
させる偏向信号発生装置。 - 【請求項7】請求項3において、偏向速度に応じたラン
プ波形を出力するためのアナログ積分器からなる走査信
号発生手段と、走査速度を変化させる部分にのみランプ
波形を発生し、走査速度を変化させない部分では前記ラ
ンプ波形の電圧を保持する折線信号発生手段とを具備
し、前記走査信号発生手段と前記折線信号発生手段の出
力を加算することによって走査速度を変化させる偏向信
号発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24425793A JPH07106216A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 偏向信号発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24425793A JPH07106216A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 偏向信号発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07106216A true JPH07106216A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17116068
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24425793A Pending JPH07106216A (ja) | 1993-09-30 | 1993-09-30 | 偏向信号発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07106216A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6503671B1 (en) | 1999-10-05 | 2003-01-07 | Nec Corporation | Electron beam writing method |
JP2007142433A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Advanced Mask Technology Center Gmbh & Co Kg | 露光線量決定方法及び露光装置 |
USD895823S1 (en) | 2019-05-24 | 2020-09-08 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
USD905262S1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-15 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
USD939098S1 (en) | 2019-09-03 | 2021-12-21 | Church & Dwight Co., Inc. | Roller device |
USD949380S1 (en) | 2020-01-08 | 2022-04-19 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
USD949360S1 (en) | 2019-09-18 | 2022-04-19 | Church & Dwight Co., Inc. | Roller device |
-
1993
- 1993-09-30 JP JP24425793A patent/JPH07106216A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6503671B1 (en) | 1999-10-05 | 2003-01-07 | Nec Corporation | Electron beam writing method |
JP2007142433A (ja) * | 2005-11-18 | 2007-06-07 | Advanced Mask Technology Center Gmbh & Co Kg | 露光線量決定方法及び露光装置 |
USD895823S1 (en) | 2019-05-24 | 2020-09-08 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
USD905262S1 (en) | 2019-05-24 | 2020-12-15 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
USD939098S1 (en) | 2019-09-03 | 2021-12-21 | Church & Dwight Co., Inc. | Roller device |
USD949360S1 (en) | 2019-09-18 | 2022-04-19 | Church & Dwight Co., Inc. | Roller device |
USD949380S1 (en) | 2020-01-08 | 2022-04-19 | Church & Dwight Co., Inc. | Facial massaging device |
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