JPH07104252A - 液晶電気光学素子の製造方法 - Google Patents
液晶電気光学素子の製造方法Info
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- JPH07104252A JPH07104252A JP24790493A JP24790493A JPH07104252A JP H07104252 A JPH07104252 A JP H07104252A JP 24790493 A JP24790493 A JP 24790493A JP 24790493 A JP24790493 A JP 24790493A JP H07104252 A JPH07104252 A JP H07104252A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表示性能、信頼性の共に高い高分子分散型液
晶を用いた液晶電気光学素子の製造方法を提供する。 【構成】 少なくとも２つ以上の開口部を有し、温度コ
ントロールされた電極付きセル内にアイソトロピック状
態となった調光層形成材料を、少なくとも１つの開口部
より減圧排気し、他の少なくとも１つの開口部より注入
し、注入後、光硬化工程と熱硬化工程を併用して高分子
分散型の液晶光学素子を製造する。 【効果】 低い真空度で調光層形成材料を注入できるた
めに、比較的揮発生成分の蒸発を防ぐことができる。ま
た、温度コントロールされたセルを使用することによ
り、調光層形成材料の粘度の低下及び相分離の防止が可
能となり、上記材料を均一かつ短時間でセル内に注入す
ることができる。その後、光硬化工程と熱硬化工程を併
用し充分硬化させることにより表示性能、信頼性の共に
高い液晶光学素子を得ることができる。
晶を用いた液晶電気光学素子の製造方法を提供する。 【構成】 少なくとも２つ以上の開口部を有し、温度コ
ントロールされた電極付きセル内にアイソトロピック状
態となった調光層形成材料を、少なくとも１つの開口部
より減圧排気し、他の少なくとも１つの開口部より注入
し、注入後、光硬化工程と熱硬化工程を併用して高分子
分散型の液晶光学素子を製造する。 【効果】 低い真空度で調光層形成材料を注入できるた
めに、比較的揮発生成分の蒸発を防ぐことができる。ま
た、温度コントロールされたセルを使用することによ
り、調光層形成材料の粘度の低下及び相分離の防止が可
能となり、上記材料を均一かつ短時間でセル内に注入す
ることができる。その後、光硬化工程と熱硬化工程を併
用し充分硬化させることにより表示性能、信頼性の共に
高い液晶光学素子を得ることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶電気光学素子の製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶の常光屈折率とほぼ同じ屈折
率を有する高分子に液晶を分散保持させた高分子分散型
液晶を、一対の電極付き基板間に挟み込み、電界の有無
により液晶の屈折率を変化させ、散乱状態と透過状態と
を切り換える液晶電気光学素子が注目を集めている。
（例えば、特表昭５８ー５０１６３１号公報、特開昭６
０ー２５２６８７号公報、特開昭６１ー５０２１２８号
公報）。
率を有する高分子に液晶を分散保持させた高分子分散型
液晶を、一対の電極付き基板間に挟み込み、電界の有無
により液晶の屈折率を変化させ、散乱状態と透過状態と
を切り換える液晶電気光学素子が注目を集めている。
（例えば、特表昭５８ー５０１６３１号公報、特開昭６
０ー２５２６８７号公報、特開昭６１ー５０２１２８号
公報）。
【０００３】この高分子分散型液晶を用いた液晶光学素
子は、配向処理を要さないため製造が容易なこと、ま
た、光の散乱を利用するために偏光板を用いる必要が無
く、従来の液晶電気光学素子に比べ、明るく、視野角の
広い表示が可能であるという特徴を有している。
子は、配向処理を要さないため製造が容易なこと、ま
た、光の散乱を利用するために偏光板を用いる必要が無
く、従来の液晶電気光学素子に比べ、明るく、視野角の
広い表示が可能であるという特徴を有している。
【０００４】高分子分散型液晶の製造方法には、液晶材
料を水溶性ポリマー溶液中で乳化、分散し、ガラス基板
上に塗布、乾燥させる乳化法、高分子多孔質膜中に液晶
材料含浸させる含浸法、液晶材料と重合性モノマーの均
一溶液をセルに注入し、これを紫外線あるいは加熱によ
り重合させ相分離構造を形成する重合相分離法等があ
る。これらの製造法の中でディスプレイ等への応用を考
えた場合、溶媒を必要とせず、また、製造が簡単に行え
る重合相分離法が現在主流の方法の１つとなっている。
料を水溶性ポリマー溶液中で乳化、分散し、ガラス基板
上に塗布、乾燥させる乳化法、高分子多孔質膜中に液晶
材料含浸させる含浸法、液晶材料と重合性モノマーの均
一溶液をセルに注入し、これを紫外線あるいは加熱によ
り重合させ相分離構造を形成する重合相分離法等があ
る。これらの製造法の中でディスプレイ等への応用を考
えた場合、溶媒を必要とせず、また、製造が簡単に行え
る重合相分離法が現在主流の方法の１つとなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の方法で高分子分散型液晶を製造する場合、液晶材
料、重合性組成物及び重合開始剤を含有する調光層形成
材料を均一溶解状態かつ目的組成比でセル内に注入し、
硬化しなければならない。
従来の方法で高分子分散型液晶を製造する場合、液晶材
料、重合性組成物及び重合開始剤を含有する調光層形成
材料を均一溶解状態かつ目的組成比でセル内に注入し、
硬化しなければならない。
【０００６】ところが、従来、液晶注入に広く用いられ
てきた真空注入法では、調光層形成材料のうち揮発性化
合物の蒸発により組成比に変化がおこり、硬化後の液晶
電気光学素子の表示性能の低下が生じるという問題点を
有していた。
てきた真空注入法では、調光層形成材料のうち揮発性化
合物の蒸発により組成比に変化がおこり、硬化後の液晶
電気光学素子の表示性能の低下が生じるという問題点を
有していた。
【０００７】また、従来の光重合相分離法では、重合が
不十分で重合開始剤等の未重合物質が内部に残存し、表
示性能の低下及び性能劣化を引き起こすという問題点も
有していた。
不十分で重合開始剤等の未重合物質が内部に残存し、表
示性能の低下及び性能劣化を引き起こすという問題点も
有していた。
【０００８】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、セル内に調光層形成材料を均一かつ目的組成比で
注入し、光硬化と熱硬化の併用により充分硬化させ表示
性能、信頼性のともに高い液晶電気光学素子の製造方法
を提供することを目的とする。
ので、セル内に調光層形成材料を均一かつ目的組成比で
注入し、光硬化と熱硬化の併用により充分硬化させ表示
性能、信頼性のともに高い液晶電気光学素子の製造方法
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の液晶電気光学素子の製造方法は、少なくとも
２つ以上の開口部を有し、加熱手段により温度コントロ
ールされた電極付きセル内にアイソトロピック状態とな
った調光層形成材料を、少なくとも１つの開口部より減
圧排気し、同時に、他の少なくとも１つの開口部より液
晶を注入する第１工程、その後、紫外線を照射して調光
層を形成する第２工程、熱後硬化する第３工程を有する
ことを特徴とする液晶電気光学素子の製造方法である。
に本発明の液晶電気光学素子の製造方法は、少なくとも
２つ以上の開口部を有し、加熱手段により温度コントロ
ールされた電極付きセル内にアイソトロピック状態とな
った調光層形成材料を、少なくとも１つの開口部より減
圧排気し、同時に、他の少なくとも１つの開口部より液
晶を注入する第１工程、その後、紫外線を照射して調光
層を形成する第２工程、熱後硬化する第３工程を有する
ことを特徴とする液晶電気光学素子の製造方法である。
【００１０】
【作用】この構成によって、従来の真空注入法に要した
真空度よりもかなり低い真空度で調光層形成材料を注入
できることに加えて、加熱された組成物自体を長時間減
圧下に曝すことがなくなるために比較的揮発性成分の蒸
発を防ぐことができる。
真空度よりもかなり低い真空度で調光層形成材料を注入
できることに加えて、加熱された組成物自体を長時間減
圧下に曝すことがなくなるために比較的揮発性成分の蒸
発を防ぐことができる。
【００１１】また、加熱手段を有し、温度コントロール
されたセルを使用することにより、調光層形成材料の粘
度の低下及び相分離の防止が可能となり、上記材料を均
一かつ短時間でセル内に注入することができる。
されたセルを使用することにより、調光層形成材料の粘
度の低下及び相分離の防止が可能となり、上記材料を均
一かつ短時間でセル内に注入することができる。
【００１２】その後、光硬化工程と熱硬化工程を併用し
充分硬化させることにより表示性能、信頼性の共に高い
液晶電気光学素子を得ることができる。
充分硬化させることにより表示性能、信頼性の共に高い
液晶電気光学素子を得ることができる。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の液晶電気光学素子の製造方法
について、図面を参照しながら説明する。
について、図面を参照しながら説明する。
【００１４】図１は、本実施例の液晶光学素子の注入に
用いた注入装置の構成を示す。一対のＩＴＯ付きガラス
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気口及び注入口を有する空セル４を
作製した後、空セルを温度コントローラー付きホットプ
レート３に担持し、一定温度に保持した。
用いた注入装置の構成を示す。一対のＩＴＯ付きガラス
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気口及び注入口を有する空セル４を
作製した後、空セルを温度コントローラー付きホットプ
レート３に担持し、一定温度に保持した。
【００１５】その後、液晶材料、光重合性組成物及び光
重合開始剤からなる調光層形成材料を加熱、撹拌により
アイソトロピック状態とした後、温度コントロールされ
た液晶だめ６に注ぎ前記調光層形成材料を均一状態に保
持する。つづいて、空セル４を液晶だめ６に浸し、注入
口５より調光層形成材料を注入するとともに排気口１よ
り減圧排気し注入を完了する。
重合開始剤からなる調光層形成材料を加熱、撹拌により
アイソトロピック状態とした後、温度コントロールされ
た液晶だめ６に注ぎ前記調光層形成材料を均一状態に保
持する。つづいて、空セル４を液晶だめ６に浸し、注入
口５より調光層形成材料を注入するとともに排気口１よ
り減圧排気し注入を完了する。
【００１６】注入後、開口部に光重合性封口剤を塗布し
たパネルに紫外線を照射し、ひきつづいて前記光硬化温
度よりも高い温度で加熱処理することによりいわゆる高
分子分散型液晶からなる液晶セルを作製した。もしく
は、注入後、紫外線を照射し一次硬化したパネルに熱硬
化性封口剤を塗布し、その後、加熱処理するとともに封
口し、液晶セルを作製した。
たパネルに紫外線を照射し、ひきつづいて前記光硬化温
度よりも高い温度で加熱処理することによりいわゆる高
分子分散型液晶からなる液晶セルを作製した。もしく
は、注入後、紫外線を照射し一次硬化したパネルに熱硬
化性封口剤を塗布し、その後、加熱処理するとともに封
口し、液晶セルを作製した。
【００１７】以下、具体的実施例をあげ更に詳しく説明
する。但し、本発明は、これらの実施例に限定されるも
のではない。
する。但し、本発明は、これらの実施例に限定されるも
のではない。
【００１８】（実施例１）一対のＩＴＯ電極付きガラス
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気口及び注入口を有する空セルを作
製した後、空セルを温度コントローラー付きホットプレ
ートに担持し、４５℃に保持した。
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気口及び注入口を有する空セルを作
製した後、空セルを温度コントローラー付きホットプレ
ートに担持し、４５℃に保持した。
【００１９】次に、液晶材料として、メルク（株）製液
晶（商品名：Ｅー８）を８０部、光重合性組成物として
２ーエチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１６部とビスコート＃３７００（大阪有機
化学工業（株）製）を３．９２部、光重合開始剤として
ベンジルメチルケタール（日本化薬（株）社製）を０．
０８部用意し、上記成分からなる調光層形成材料を４０
℃で充分撹拌し、アイソトロピック状態となった調光層
形成材料を液晶だめに注いだ。
晶（商品名：Ｅー８）を８０部、光重合性組成物として
２ーエチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１６部とビスコート＃３７００（大阪有機
化学工業（株）製）を３．９２部、光重合開始剤として
ベンジルメチルケタール（日本化薬（株）社製）を０．
０８部用意し、上記成分からなる調光層形成材料を４０
℃で充分撹拌し、アイソトロピック状態となった調光層
形成材料を液晶だめに注いだ。
【００２０】つづいて、前記空セルを液晶だめに浸し、
注入口より注入するとともに排気口より減圧排気し注入
を完了した。
注入口より注入するとともに排気口より減圧排気し注入
を完了した。
【００２１】注入後、開口部に光重合製封口剤塗布した
パネルを４５℃に保持し、パネルに紫外線（５７ｍｗ／
ｃｍ2）を８秒照射した後、引き続いて、１００℃のク
リーンオーブン内で３時間加熱処理し、高分子分散型液
晶からなる液晶光学素子を作製した。
パネルを４５℃に保持し、パネルに紫外線（５７ｍｗ／
ｃｍ2）を８秒照射した後、引き続いて、１００℃のク
リーンオーブン内で３時間加熱処理し、高分子分散型液
晶からなる液晶光学素子を作製した。
【００２２】このようにして作製した液晶光学素子は、
電圧無印加では、充分な散乱状態（白濁状態）であっ
た。この電極間に交流電（１５Ｖ、３０Ｈｚ）を印加し
たところ透明状態となり、電圧印加を止めたところ散乱
状態にもどり、充分な散乱ー透過特性が得られた。
電圧無印加では、充分な散乱状態（白濁状態）であっ
た。この電極間に交流電（１５Ｖ、３０Ｈｚ）を印加し
たところ透明状態となり、電圧印加を止めたところ散乱
状態にもどり、充分な散乱ー透過特性が得られた。
【００２３】（実施例２）一対のＩＴＯ電極付きガラス
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気孔及び注入孔を有する空セルを作
製した後空セルを温度コントローラー付きホットプレー
トに担持し、５５℃に保持した。
基板をスペーサー及びシール樹脂を介して張り合わせ、
１３μｍの間隔で排気孔及び注入孔を有する空セルを作
製した後空セルを温度コントローラー付きホットプレー
トに担持し、５５℃に保持した。
【００２４】次に、液晶材料として、メルク（株）製液
晶（商品名：Ｅ−８）を８０部、光重合性組成物とし
て、２ーエチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１２部とビスコート＃３７００（大阪有機
化学工業（株）製）を７．８４部、光重合開始剤として
ベンジルメチルケタール（日本化薬（株）社製）を０．
１６部用意し、上記成分からなる調光層形成材料を４５
℃で充分撹拌し、アイソトロピック状態となった調光層
形成材料を液晶だめに注いだ。
晶（商品名：Ｅ−８）を８０部、光重合性組成物とし
て、２ーエチルヘキシルアクリレート（ナカライテスク
（株）製）を１２部とビスコート＃３７００（大阪有機
化学工業（株）製）を７．８４部、光重合開始剤として
ベンジルメチルケタール（日本化薬（株）社製）を０．
１６部用意し、上記成分からなる調光層形成材料を４５
℃で充分撹拌し、アイソトロピック状態となった調光層
形成材料を液晶だめに注いだ。
【００２５】つづいて、前記空セルを液晶だめに浸し、
注入口より注入するとともに排気口より減圧排気し注入
を完了した。注入後、パネルを４５℃に保持し、紫外線
（５７ｍｗ／ｃｍ2）を８秒照射した後、開口部に熱硬
化性封口剤を塗布し８０℃のクリーンオーブン内で５時
間加熱処理し、高分子分散型液晶からなる液晶光学素子
を作製した。
注入口より注入するとともに排気口より減圧排気し注入
を完了した。注入後、パネルを４５℃に保持し、紫外線
（５７ｍｗ／ｃｍ2）を８秒照射した後、開口部に熱硬
化性封口剤を塗布し８０℃のクリーンオーブン内で５時
間加熱処理し、高分子分散型液晶からなる液晶光学素子
を作製した。
【００２６】このようにして作製した液晶光学素子は、
電圧無印加では、充分な散乱状態（白濁状態）であっ
た。この電極間に交流電（１５Ｖ、３０Ｈｚ）を印加し
たところ透明状態となり、電圧印加を止めたところ散乱
状態にもどり、充分な散乱ー透過特性が得られた。
電圧無印加では、充分な散乱状態（白濁状態）であっ
た。この電極間に交流電（１５Ｖ、３０Ｈｚ）を印加し
たところ透明状態となり、電圧印加を止めたところ散乱
状態にもどり、充分な散乱ー透過特性が得られた。
【００２７】
【発明の効果】上記の実施例より明らかなように、本発
明によれば従来の真空注入法に要した真空度よりもかな
り低い真空度で調光層形成材料を注入できるために、比
較的揮発生成分の蒸発を防ぐことができる。また、加熱
手段を有し温度コントロールされたセルを使用すること
により、調光層形成材料の粘度の低下及び相分離の防止
が可能となり、上記材料を均一かつ短時間でセル内に注
入することができる。その後、光硬化工程と熱硬化工程
を併用し充分硬化させることにより表示性能、信頼性の
共に高い液晶光学素子を得ることができる。
明によれば従来の真空注入法に要した真空度よりもかな
り低い真空度で調光層形成材料を注入できるために、比
較的揮発生成分の蒸発を防ぐことができる。また、加熱
手段を有し温度コントロールされたセルを使用すること
により、調光層形成材料の粘度の低下及び相分離の防止
が可能となり、上記材料を均一かつ短時間でセル内に注
入することができる。その後、光硬化工程と熱硬化工程
を併用し充分硬化させることにより表示性能、信頼性の
共に高い液晶光学素子を得ることができる。
【図１】本発明の液晶光学素子の注入装置の概略構成図
【図２】同液晶を注入工程図
１ 排気口 ２ トラップ ３ ホットプレート ４ 電極付きセル ５ 注入口 ６ 液晶だめ
Claims (4)
- 【請求項１】液晶が高分子樹脂マトリクス中に分散保持
された高分子分散型液晶を、電極層を有する少なくとも
一方が透明な２枚の基板間に挟持して成る液晶光学素子
の製造法において、（１）少なくとも２つ以上の開口部
を有し、加熱手段により一定温度にコントロールされた
セル内に、加熱、撹拌によりアイソトロピック状態とな
った液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤からな
る調光層形成材料を、少なくとも１つの開口部より減圧
排気し、他の少なくとも１つの開口部より注入する第１
工程と、（２）注入完了後、アイソトロピック状態の調
光層形成材料に紫外線を照射し、前記光重合性組成物を
重合させることによって液晶を高分子樹脂マトリクス中
に分散保持させた調光層を形成する第２工程を有するこ
とを特徴とする液晶電気光学素子の製造方法。 - 【請求項２】第２工程の硬化温度よりも高く、２００℃
よりも低い温度で加熱処理することを特徴とする請求項
１記載の液晶光学素子の製造方法。 - 【請求項３】第１工程後、注入口及び排気口に光重合性
封口剤を塗布し、第２工程により調光層を形成すると共
に注入口及び排気口を封口することを特徴とする請求項
１または２記載の液晶電気光学素子の製造方法。 - 【請求項４】第２工程後、注入口及び排気口に熱重合性
封口剤を塗布し、第３工程により注入口及び排気口を封
口することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の液晶電気光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24790493A JPH07104252A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 液晶電気光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24790493A JPH07104252A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 液晶電気光学素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07104252A true JPH07104252A (ja) | 1995-04-21 |
Family
ID=17170293
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24790493A Pending JPH07104252A (ja) | 1993-10-04 | 1993-10-04 | 液晶電気光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07104252A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111465896A (zh) * | 2017-12-22 | 2020-07-28 | 株式会社Lg化学 | 液晶单元 |
| JP2021505937A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 液晶セル |
-
1993
- 1993-10-04 JP JP24790493A patent/JPH07104252A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111465896A (zh) * | 2017-12-22 | 2020-07-28 | 株式会社Lg化学 | 液晶单元 |
| JP2021505939A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 液晶セル |
| JP2021505937A (ja) * | 2017-12-22 | 2021-02-18 | エルジー・ケム・リミテッド | 液晶セル |
| US11131897B2 (en) | 2017-12-22 | 2021-09-28 | Lg Chem, Ltd. | Liquid crystal cell |
| US11175558B2 (en) | 2017-12-22 | 2021-11-16 | Lg Chem, Ltd. | Liquid crystal cell |
| CN111465896B (zh) * | 2017-12-22 | 2023-01-24 | 株式会社Lg化学 | 液晶单元 |
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