JPH0694369A - 焼成炉用雰囲気ガス制御装置 - Google Patents
焼成炉用雰囲気ガス制御装置Info
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- JPH0694369A JPH0694369A JP4271216A JP27121692A JPH0694369A JP H0694369 A JPH0694369 A JP H0694369A JP 4271216 A JP4271216 A JP 4271216A JP 27121692 A JP27121692 A JP 27121692A JP H0694369 A JPH0694369 A JP H0694369A
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- gas
- firing furnace
- atmosphere gas
- firing
- atmosphere
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/60—Production of ceramic materials or ceramic elements, e.g. substitution of clay or shale by alternative raw materials, e.g. ashes
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- Tunnel Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】従来は捨てられていた排気ガスを、焼成条件に
悪影響を与えることなく有効に利用し得る焼成炉用雰囲
気ガス制御装置を提供する。 【構成】雰囲気ガス循環装置４を含む。雰囲気ガス循環
装置４は焼成炉１から導かれた排気ガスＧ１中に含まれ
る成分を調整し、焼成炉１の炉内温度に近い温度に調整
して、ガスＧ２として焼成炉内に戻す。
悪影響を与えることなく有効に利用し得る焼成炉用雰囲
気ガス制御装置を提供する。 【構成】雰囲気ガス循環装置４を含む。雰囲気ガス循環
装置４は焼成炉１から導かれた排気ガスＧ１中に含まれ
る成分を調整し、焼成炉１の炉内温度に近い温度に調整
して、ガスＧ２として焼成炉内に戻す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、焼成炉用雰囲気ガス制
御装置に関する。
御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】各種電子部品等に用いられるセラミック
スは、所定のセラミック粉末と有機バインダとの混合し
た成形品等の被焼成物を、焼成炉を通して焼成すること
によって得られる。
スは、所定のセラミック粉末と有機バインダとの混合し
た成形品等の被焼成物を、焼成炉を通して焼成すること
によって得られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】炉室内の雰囲気ガス処
理は、絶えずフレッシュな雰囲気ガスを炉室内に供給
し、排気を行うことによって行われる。炉室内に投入さ
れるフレッシュな雰囲気ガスは、室温レベルの温度で炉
室内に投入される。このため、フレッシュな雰囲気ガス
の投入により、炉室内が局部的に冷却され、セラミック
焼成条件が変化し、焼成品の特性変動を招く。
理は、絶えずフレッシュな雰囲気ガスを炉室内に供給
し、排気を行うことによって行われる。炉室内に投入さ
れるフレッシュな雰囲気ガスは、室温レベルの温度で炉
室内に投入される。このため、フレッシュな雰囲気ガス
の投入により、炉室内が局部的に冷却され、セラミック
焼成条件が変化し、焼成品の特性変動を招く。
【０００４】しかも、ガスは、熱エネルギーを有するに
もかかわらず、そのまま、利用されることなく捨てられ
ている。これは、熱エネルギー効率の面から好ましいこ
とではない。
もかかわらず、そのまま、利用されることなく捨てられ
ている。これは、熱エネルギー効率の面から好ましいこ
とではない。
【０００５】本発明の課題は、従来は捨てられていたガ
スを、焼成条件に悪影響を与えることなく有効に利用し
得る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供することであ
る。
スを、焼成条件に悪影響を与えることなく有効に利用し
得る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供することであ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明は、 雰囲気ガス循環装置を含む焼成炉用雰
囲気ガス制御装置であって、前記雰囲気ガス循環装置
は、前記焼成炉から雰囲気ガスが導入され、導入された
ガスに含まれる成分濃度を調整すると共に、前記ガスの
温度を前記焼成炉の炉室内温度に近い温度に調整した
後、前記焼成炉内に戻す。
め、本発明は、 雰囲気ガス循環装置を含む焼成炉用雰
囲気ガス制御装置であって、前記雰囲気ガス循環装置
は、前記焼成炉から雰囲気ガスが導入され、導入された
ガスに含まれる成分濃度を調整すると共に、前記ガスの
温度を前記焼成炉の炉室内温度に近い温度に調整した
後、前記焼成炉内に戻す。
【０００７】
【作用】雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガ
スを、焼成炉内に戻すから、従来は無駄に捨てられてい
たガスを、その熱エネルギーを含めて、有効に利用でき
る。
スを、焼成炉内に戻すから、従来は無駄に捨てられてい
たガスを、その熱エネルギーを含めて、有効に利用でき
る。
【０００８】雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれ
たガス中の成分濃度を調整し、その後にガスを焼成炉内
に戻す。例えば、成分が被焼成物から発生したものであ
る場合には、これらを除去した後に焼成炉に戻される。
被焼成物から発生する成分としては、有機バインダの分
解ガス、蒸気の他、被焼成物を構成する要素、例えばＰ
ｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｎ等の金属成分またはこれらの金属酸
化物が含まれる。成分、例えば燃焼用空気が不足した場
合は、不足分が添加される。このため、ガスの循環が被
焼成物の焼成に悪影響を与えることがない。
たガス中の成分濃度を調整し、その後にガスを焼成炉内
に戻す。例えば、成分が被焼成物から発生したものであ
る場合には、これらを除去した後に焼成炉に戻される。
被焼成物から発生する成分としては、有機バインダの分
解ガス、蒸気の他、被焼成物を構成する要素、例えばＰ
ｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｎ等の金属成分またはこれらの金属酸
化物が含まれる。成分、例えば燃焼用空気が不足した場
合は、不足分が添加される。このため、ガスの循環が被
焼成物の焼成に悪影響を与えることがない。
【０００９】雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれ
たガスを、焼成炉の炉内温度に近い温度に調整して焼成
炉内に戻すから、炉室内が局部的に冷却されたり、ある
いは過熱されることがない。このため、セラミック焼成
条件の変動や、焼成品の特性変動を招くことがない。
たガスを、焼成炉の炉内温度に近い温度に調整して焼成
炉内に戻すから、炉室内が局部的に冷却されたり、ある
いは過熱されることがない。このため、セラミック焼成
条件の変動や、焼成品の特性変動を招くことがない。
【００１０】
【実施例】図１は本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御
装置を有する焼成装置の構成を示す図である。１は焼成
炉、２は雰囲気ガス制御装置である。焼成炉１には、量
産型連続炉、量産型バッチ炉等の他、試験炉等も含まれ
る。焼成炉１は所定のセラミック粉末と有機バインダと
の混合した成形品等の被焼成物３を、所定の焼成条件で
焼成する。
装置を有する焼成装置の構成を示す図である。１は焼成
炉、２は雰囲気ガス制御装置である。焼成炉１には、量
産型連続炉、量産型バッチ炉等の他、試験炉等も含まれ
る。焼成炉１は所定のセラミック粉末と有機バインダと
の混合した成形品等の被焼成物３を、所定の焼成条件で
焼成する。
【００１１】雰囲気ガス制御装置２は、焼成炉１に雰囲
気ガスを供給し、焼成炉１内の雰囲気ガスを制御する。
雰囲気ガス制御装置２は雰囲気ガス循環装置４を含んで
いる。５はフレッシュな雰囲気ガスを供給する雰囲気ガ
ス供給装置である。
気ガスを供給し、焼成炉１内の雰囲気ガスを制御する。
雰囲気ガス制御装置２は雰囲気ガス循環装置４を含んで
いる。５はフレッシュな雰囲気ガスを供給する雰囲気ガ
ス供給装置である。
【００１２】雰囲気ガス循環装置４は、焼成炉１から導
かれたガスＧ１中に含まれる成分濃度を調整し、焼成炉
１の炉内温度に近い温度に調整した後、ガスＧ２として
焼成炉１の内部に戻す。
かれたガスＧ１中に含まれる成分濃度を調整し、焼成炉
１の炉内温度に近い温度に調整した後、ガスＧ２として
焼成炉１の内部に戻す。
【００１３】上述のように、雰囲気ガス循環装置４は、
焼成炉１から導かれたガスＧ１を、焼成炉１の内部に戻
すから、従来は無駄に捨てられていたガスＧ１を、その
熱エネルギーを含めて、有効に利用できる。
焼成炉１から導かれたガスＧ１を、焼成炉１の内部に戻
すから、従来は無駄に捨てられていたガスＧ１を、その
熱エネルギーを含めて、有効に利用できる。
【００１４】しかも、雰囲気ガス循環装置４は、焼成炉
１から導かれたガスＧ１中に含まれる成分の濃度を調整
する。例えば、成分が被焼成物から発生したものである
場合には、これらを除去した後に焼成炉に戻される。被
焼成物から発生する成分としては、有機バインダの分解
ガス及び蒸気の他、被焼成物を構成する要素、例えばＰ
ｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｎ等の金属成分またはこれらの金属酸
化物が含まれる。例えば燃焼用空気が不足した場合は、
不足分が添加される。このため、ガスの循環が被焼成物
３の焼成に悪影響を与えることがない。
１から導かれたガスＧ１中に含まれる成分の濃度を調整
する。例えば、成分が被焼成物から発生したものである
場合には、これらを除去した後に焼成炉に戻される。被
焼成物から発生する成分としては、有機バインダの分解
ガス及び蒸気の他、被焼成物を構成する要素、例えばＰ
ｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍｎ等の金属成分またはこれらの金属酸
化物が含まれる。例えば燃焼用空気が不足した場合は、
不足分が添加される。このため、ガスの循環が被焼成物
３の焼成に悪影響を与えることがない。
【００１５】更に、雰囲気ガス循環装置４は、焼成炉１
から導かれたガスＧ１を、焼成炉１の炉内温度に近い温
度に調整して焼成炉１の内部に戻すから、炉室内が局部
的に冷却されたり、あるいは過熱されたりすることがな
い。このため、セラミック焼成条件の変動や、焼成品の
特性変動を招くことがない。
から導かれたガスＧ１を、焼成炉１の炉内温度に近い温
度に調整して焼成炉１の内部に戻すから、炉室内が局部
的に冷却されたり、あるいは過熱されたりすることがな
い。このため、セラミック焼成条件の変動や、焼成品の
特性変動を招くことがない。
【００１６】図２は本発明に係る雰囲気ガス制御装置を
有する焼成装置のさらに具体的な構成を示す図である。
図において、図１と同一の参照符号は同一性ある構成部
分を示している。雰囲気ガス循環装置４は、焼却装置４
１を含んでいる。焼却装置４１はガスＧ１中に含まれる
不要成分を焼却する。焼却装置４１は電気ヒータまたは
燃焼機器によって構成でき、図は電気ヒータを用いた例
を示している。４１１は電気ヒータ駆動用の電源であ
る。不要成分の燃焼に必要な空気はフィルタ４１２、ブ
ロア４１３及び電磁弁４１４を通して、焼却装置４１に
供給される。焼却装置４１は、有機バインダ、その分解
ガス、蒸気の焼却に必要な温度、例えば７５０〜８００
℃程度に加熱する。焼成炉１から排出されるガスＧ１は
５００℃以下の温度である。
有する焼成装置のさらに具体的な構成を示す図である。
図において、図１と同一の参照符号は同一性ある構成部
分を示している。雰囲気ガス循環装置４は、焼却装置４
１を含んでいる。焼却装置４１はガスＧ１中に含まれる
不要成分を焼却する。焼却装置４１は電気ヒータまたは
燃焼機器によって構成でき、図は電気ヒータを用いた例
を示している。４１１は電気ヒータ駆動用の電源であ
る。不要成分の燃焼に必要な空気はフィルタ４１２、ブ
ロア４１３及び電磁弁４１４を通して、焼却装置４１に
供給される。焼却装置４１は、有機バインダ、その分解
ガス、蒸気の焼却に必要な温度、例えば７５０〜８００
℃程度に加熱する。焼成炉１から排出されるガスＧ１は
５００℃以下の温度である。
【００１７】雰囲気ガス循環装置４は、熱交換装置４２
を有する。熱交換装置４２は焼却装置４１から供給され
た焼却後のガスＧ４と、焼成炉１に供給されるべき供給
ガスＧ５との間で熱交換を行い、焼却装置４１から出た
ガスＧ４の熱を利用してフレッシュな供給ガスＧ５との
熱交換を行い、熱効率を向上させる。
を有する。熱交換装置４２は焼却装置４１から供給され
た焼却後のガスＧ４と、焼成炉１に供給されるべき供給
ガスＧ５との間で熱交換を行い、焼却装置４１から出た
ガスＧ４の熱を利用してフレッシュな供給ガスＧ５との
熱交換を行い、熱効率を向上させる。
【００１８】更に、図示の雰囲気ガス循環装置４は、熱
交換装置４２よりも前段において焼却後のガスＧ４を供
給ガスＧ５に混合する経路を含む。この経路は冷却装置
４３及びブロア４４を含む。冷却装置４３は焼却後のガ
スを例えば５０℃程度まで冷却し、冷却後のガスＧ６
を、熱交換装置４２よりも前段において供給ガスＧ５に
混合する。冷却後のガスＧ６及び供給ガスＧ５は、互い
に混合されて熱交換装置４２に供給され、焼却装置４１
から出た直後のガスＧ４との間の熱交換作用により加熱
され、加熱されたガスＧ２が焼成炉１に供給される。従
って、図２の実施例は雰囲気ガス循環装置４及び雰囲気
ガス供給装置５がガス供給路及びガス循環路を互いに共
用する経路を有する。焼却装置４１は、ガスＧ１を有機
バインダの分解ガスの焼却に必要な７５０〜８００℃程
度に加熱する。従って、焼却装置４１は、ガスＧ１に含
まれる各種成分の焼却とともに、昇温作用をも行うこと
になるから、焼却装置４１から出たガスを直接に焼成炉
１に戻すことも可能である。
交換装置４２よりも前段において焼却後のガスＧ４を供
給ガスＧ５に混合する経路を含む。この経路は冷却装置
４３及びブロア４４を含む。冷却装置４３は焼却後のガ
スを例えば５０℃程度まで冷却し、冷却後のガスＧ６
を、熱交換装置４２よりも前段において供給ガスＧ５に
混合する。冷却後のガスＧ６及び供給ガスＧ５は、互い
に混合されて熱交換装置４２に供給され、焼却装置４１
から出た直後のガスＧ４との間の熱交換作用により加熱
され、加熱されたガスＧ２が焼成炉１に供給される。従
って、図２の実施例は雰囲気ガス循環装置４及び雰囲気
ガス供給装置５がガス供給路及びガス循環路を互いに共
用する経路を有する。焼却装置４１は、ガスＧ１を有機
バインダの分解ガスの焼却に必要な７５０〜８００℃程
度に加熱する。従って、焼却装置４１は、ガスＧ１に含
まれる各種成分の焼却とともに、昇温作用をも行うこと
になるから、焼却装置４１から出たガスを直接に焼成炉
１に戻すことも可能である。
【００１９】雰囲気ガス供給装置５は、図では、ガス１
を供給する経路と、ガス２を供給する経路を持つ。各供
給経路は、フィルタ５１、５２及び電磁弁５３、５４を
含んでいる。ガス１及び２は燃焼用空気または窒素ガス
等である。
を供給する経路と、ガス２を供給する経路を持つ。各供
給経路は、フィルタ５１、５２及び電磁弁５３、５４を
含んでいる。ガス１及び２は燃焼用空気または窒素ガス
等である。
【００２０】６は雰囲気ガス濃度監視装置、７はバルブ
である。雰囲気ガス監視装置６は冷却後のガスＧ６の濃
度、例えば（空気／窒素）を監視し、電磁弁５３、５４
の開度または開閉回数等を制御して、焼成炉１の内部の
雰囲気ガス濃度を調整する。バルブ７は過剰な雰囲気ガ
スを排気する弁である。
である。雰囲気ガス監視装置６は冷却後のガスＧ６の濃
度、例えば（空気／窒素）を監視し、電磁弁５３、５４
の開度または開閉回数等を制御して、焼成炉１の内部の
雰囲気ガス濃度を調整する。バルブ７は過剰な雰囲気ガ
スを排気する弁である。
【００２１】図３は本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制
御装置及び焼成装置の別の実施例における構成を示す図
である。図において、図２と同一の参照符号は同一性あ
る構成部分を示している。
御装置及び焼成装置の別の実施例における構成を示す図
である。図において、図２と同一の参照符号は同一性あ
る構成部分を示している。
【００２２】雰囲気ガス循環装置４は、冷却装置４５
と、昇温装置４６とを含んでいる。冷却装置４５は焼成
炉１から導かれたガスＧ１中に含まれる有機バインダを
凝縮して除去する。冷却装置４５は図示では熱交換装置
４５１と、冷却装置４５２とを含み、熱交換装置４５１
で降温した後、後段の冷却装置４５２によって凝縮温度
まで冷却する。セラミック製品焼成に伴って発生する有
機バインダの分解ガスを凝縮する場合は、後段の冷却装
置４５２において（−３０）℃程度まで冷却する。熱交
換装置４５１は冷却装置によって置換できる。凝縮成分
は分離路８を通して回収される。
と、昇温装置４６とを含んでいる。冷却装置４５は焼成
炉１から導かれたガスＧ１中に含まれる有機バインダを
凝縮して除去する。冷却装置４５は図示では熱交換装置
４５１と、冷却装置４５２とを含み、熱交換装置４５１
で降温した後、後段の冷却装置４５２によって凝縮温度
まで冷却する。セラミック製品焼成に伴って発生する有
機バインダの分解ガスを凝縮する場合は、後段の冷却装
置４５２において（−３０）℃程度まで冷却する。熱交
換装置４５１は冷却装置によって置換できる。凝縮成分
は分離路８を通して回収される。
【００２３】冷却装置４５を通した後のガスＧ７及びＧ
８は熱交換装置４５１によって昇温される。熱交換装置
４５１からでたＧガスは熱交換装置４２によって昇温さ
れる。熱交換装置４２から出たガスＧ９は、昇温装置４
６によって加熱された後、焼成炉１に供給される。熱交
換装置４２は、冷却装置４５よりは前段において、焼成
炉１から導かれたガスＧ１と、焼成炉１に供給されるべ
き供給ガスとの間で熱交換を行う。
８は熱交換装置４５１によって昇温される。熱交換装置
４５１からでたＧガスは熱交換装置４２によって昇温さ
れる。熱交換装置４２から出たガスＧ９は、昇温装置４
６によって加熱された後、焼成炉１に供給される。熱交
換装置４２は、冷却装置４５よりは前段において、焼成
炉１から導かれたガスＧ１と、焼成炉１に供給されるべ
き供給ガスとの間で熱交換を行う。
【００２４】雰囲気ガス循環装置４は、雰囲気ガス供給
装置５から供給される供給ガスＧ１０に冷却後のガスＧ
７を混合する経路を含む。ガスＧ１０及びＧ７はブロア
４７によって熱交換装置４２に供給される、図４は本発
明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置及び焼成装置の別
の実施例における構成を示す図である。図において、図
３と同一の参照符号は同一性ある構成部分を示してい
る。この実施例は、冷却装置４５は１個だけであり、不
純物または有機バインダ等を含まない雰囲気ガスの処理
に対応するものである。
装置５から供給される供給ガスＧ１０に冷却後のガスＧ
７を混合する経路を含む。ガスＧ１０及びＧ７はブロア
４７によって熱交換装置４２に供給される、図４は本発
明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置及び焼成装置の別
の実施例における構成を示す図である。図において、図
３と同一の参照符号は同一性ある構成部分を示してい
る。この実施例は、冷却装置４５は１個だけであり、不
純物または有機バインダ等を含まない雰囲気ガスの処理
に対応するものである。
【００２５】図５は本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制
御装置及び焼成装置の別の実施例における構成を示す図
である。図において、図４と同一の参照符号は同一性あ
る構成部分を示す。この実施例では、ベーパ回収装置４
８を有する。ベーパ回収装置４８はＰｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍ
ｎ等の金属成分またはこれらの金属酸化物を析出回収す
る。これらは２基が並列に設けられ、切替コック４８
３、４８４によって切り替え使用できるようになってい
る。
御装置及び焼成装置の別の実施例における構成を示す図
である。図において、図４と同一の参照符号は同一性あ
る構成部分を示す。この実施例では、ベーパ回収装置４
８を有する。ベーパ回収装置４８はＰｂ、Ｋ、Ｎａ、Ｍ
ｎ等の金属成分またはこれらの金属酸化物を析出回収す
る。これらは２基が並列に設けられ、切替コック４８
３、４８４によって切り替え使用できるようになってい
る。
【００２６】本発明に係る雰囲気ガス制御装置は、焼成
炉の外部に設置してもよいし、１部または全部を焼成炉
に組み合わせて設置することもできる。図６は本発明に
係る雰囲気ガス制御装置の一部を焼成炉に組み込んだ例
をモデル化して示す部分断面図である。図において、９
は雰囲気ガス制御装置、１０は耐火炉体、２０は炉室、
３０は被焼成物、４０は主熱源装置、５０は副熱源装
置、６０は熱交換装置である。雰囲気ガス制御装置９は
図１〜図５に示した何れかの構成を有する。炉室２０を
囲む炉体１０は、耐火レンガ等を使用して形成されてい
る。被焼成物３０は、有機バインダ等を含むセラミック
製品を耐熱性ケースの内部に配置したものであって、通
常、耐熱性台板７０の上に配置されて炉室２０の内部に
収納される。
炉の外部に設置してもよいし、１部または全部を焼成炉
に組み合わせて設置することもできる。図６は本発明に
係る雰囲気ガス制御装置の一部を焼成炉に組み込んだ例
をモデル化して示す部分断面図である。図において、９
は雰囲気ガス制御装置、１０は耐火炉体、２０は炉室、
３０は被焼成物、４０は主熱源装置、５０は副熱源装
置、６０は熱交換装置である。雰囲気ガス制御装置９は
図１〜図５に示した何れかの構成を有する。炉室２０を
囲む炉体１０は、耐火レンガ等を使用して形成されてい
る。被焼成物３０は、有機バインダ等を含むセラミック
製品を耐熱性ケースの内部に配置したものであって、通
常、耐熱性台板７０の上に配置されて炉室２０の内部に
収納される。
【００２７】炉室２０は被焼成物３０を収納する第１炉
室２０１と、第２炉室２０２とに区画されている。２０
３は第１炉室２０１と第２炉室２０２とを区画する耐火
隔壁である。主熱源装置４０は第１炉室２０１の内部に
配置され、副熱源装置５０は第２炉室２０２の内部に配
置されている。主熱源装置４０は被焼成物３０の焼成に
必要な熱を得る主力熱源として使用され、副熱源装置５
０はそのバックアップヒータとして用いられる。主熱源
装置４０及び副熱源装置５０は任意数設けられる。この
ような構造であると、副熱源装置５０を、必要数だけ、
必要な熱出力が得られるように駆動することにより、炉
体蓄熱の差を考慮した焼成条件を設定し得る。また、乾
燥、昇温、均熱、冷却等の焼成条件設定を自由に行うこ
とができる。
室２０１と、第２炉室２０２とに区画されている。２０
３は第１炉室２０１と第２炉室２０２とを区画する耐火
隔壁である。主熱源装置４０は第１炉室２０１の内部に
配置され、副熱源装置５０は第２炉室２０２の内部に配
置されている。主熱源装置４０は被焼成物３０の焼成に
必要な熱を得る主力熱源として使用され、副熱源装置５
０はそのバックアップヒータとして用いられる。主熱源
装置４０及び副熱源装置５０は任意数設けられる。この
ような構造であると、副熱源装置５０を、必要数だけ、
必要な熱出力が得られるように駆動することにより、炉
体蓄熱の差を考慮した焼成条件を設定し得る。また、乾
燥、昇温、均熱、冷却等の焼成条件設定を自由に行うこ
とができる。
【００２８】好ましくは、主熱源装置４０は電熱源であ
り、副熱源装置５０はガスバーナ、オイルバーナ等の燃
焼熱源である。副熱源装置５０がガスバーナ等の燃焼熱
源であると、電熱源を単独で用いる場合よりも、熱エネ
ルギーコストが安価になる。
り、副熱源装置５０はガスバーナ、オイルバーナ等の燃
焼熱源である。副熱源装置５０がガスバーナ等の燃焼熱
源であると、電熱源を単独で用いる場合よりも、熱エネ
ルギーコストが安価になる。
【００２９】第１炉室２０１で構成される焼成室は、第
２炉室２０２に含まれる燃焼室２０４から区画されてい
る。このため、焼成室２０１内の雰囲気をコントロール
し、燃焼熱源である副熱源装置５０の燃焼動作による製
品干渉を阻止して、一定品質の焼成品が得られる。しか
も、副熱源装置５０のための燃焼室２０４と第１炉室２
０１で構成される焼成室とを、隔壁２０３によって互い
に区画し、その雰囲気をコントロールするようにしてあ
る。このため、燃焼熱源である副熱源装置５０の燃焼動
作が変動した場合でも、焼成室２０１内の、特に酸素濃
度に対する干渉はない。また、隔壁２０３を介した間接
加熱となるため、脱バインダにムラがなくなり、割れ等
の品質不良も低減される。
２炉室２０２に含まれる燃焼室２０４から区画されてい
る。このため、焼成室２０１内の雰囲気をコントロール
し、燃焼熱源である副熱源装置５０の燃焼動作による製
品干渉を阻止して、一定品質の焼成品が得られる。しか
も、副熱源装置５０のための燃焼室２０４と第１炉室２
０１で構成される焼成室とを、隔壁２０３によって互い
に区画し、その雰囲気をコントロールするようにしてあ
る。このため、燃焼熱源である副熱源装置５０の燃焼動
作が変動した場合でも、焼成室２０１内の、特に酸素濃
度に対する干渉はない。また、隔壁２０３を介した間接
加熱となるため、脱バインダにムラがなくなり、割れ等
の品質不良も低減される。
【００３０】第２炉室２０２は、燃焼室２０４と空気供
給路２０５とを有する。空気供給路２０５は外部から取
り入れた外気を燃焼室２０４に供給する経路を構成して
いる。２０６は隔壁であり、隔壁２０６は空気供給路２
０５を燃焼室２０４から区画している。
給路２０５とを有する。空気供給路２０５は外部から取
り入れた外気を燃焼室２０４に供給する経路を構成して
いる。２０６は隔壁であり、隔壁２０６は空気供給路２
０５を燃焼室２０４から区画している。
【００３１】隔壁２０３及び２０６は間接輻射壁を構成
している。焼成室２０１の周りに形成される間接輻射壁
は、焼成室２０１の内壁面積の５０％前後の面積を持つ
ように構成する。これにより、焼成室２０１内の温度を
確実、かつ、容易にコントロールすることが可能にな
る。
している。焼成室２０１の周りに形成される間接輻射壁
は、焼成室２０１の内壁面積の５０％前後の面積を持つ
ように構成する。これにより、焼成室２０１内の温度を
確実、かつ、容易にコントロールすることが可能にな
る。
【００３２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、次
のような効果が得られる。 （ａ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
を、焼成炉内に戻すから、従来は無駄に捨てられていた
ガスを、その熱エネルギーを含めて、有効に利用し、焼
成炉効率を向上させ得る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を
提供できる。 （ｂ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
中に含まれる成分濃度を調整し、その後に焼成炉内に戻
すから、ガスの循環が被焼成物の焼成に悪影響を与える
ことのない焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供できる。 （ｃ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
を、焼成炉の炉内温度に近い温度に調整して焼成炉内に
戻すから、炉室内が局部的に冷却または昇温されること
がなく、焼成条件の変動や、焼成品の特性変動を招くこ
とのない焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供できる。
のような効果が得られる。 （ａ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
を、焼成炉内に戻すから、従来は無駄に捨てられていた
ガスを、その熱エネルギーを含めて、有効に利用し、焼
成炉効率を向上させ得る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を
提供できる。 （ｂ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
中に含まれる成分濃度を調整し、その後に焼成炉内に戻
すから、ガスの循環が被焼成物の焼成に悪影響を与える
ことのない焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供できる。 （ｃ）雰囲気ガス循環装置は、焼成炉から導かれたガス
を、焼成炉の炉内温度に近い温度に調整して焼成炉内に
戻すから、炉室内が局部的に冷却または昇温されること
がなく、焼成条件の変動や、焼成品の特性変動を招くこ
とのない焼成炉用雰囲気ガス制御装置を提供できる。
【図１】本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を有
する焼成装置の構成を示す図である。
する焼成装置の構成を示す図である。
【図２】本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を有
する焼成装置の他の構成を示す図である。
する焼成装置の他の構成を示す図である。
【図３】本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を有
する焼成装置の他の構成を示す図である。
する焼成装置の他の構成を示す図である。
【図４】本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を有
する焼成装置の他の構成を示す図である。
する焼成装置の他の構成を示す図である。
【図５】本発明に係る焼成炉用雰囲気ガス制御装置を有
する焼成装置の他の構成を示す図である。
する焼成装置の他の構成を示す図である。
【図６】本発明に係る雰囲気ガス制御装置の一部を焼成
炉憎み込んだ例をモデル化して示す部分断面図である。
炉憎み込んだ例をモデル化して示す部分断面図である。
１ 焼成炉 ２ 雰囲気ガス制御装置 ３ 雰囲気ガス循環装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 誠 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 田中 努武 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 能勢 義政 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 小林 和美 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 内川 哲英 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 浜畑 利寛 東京都中央区日本橋１丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 雰囲気ガス循環装置を含む焼成炉用雰囲
気ガス制御装置であって、 前記雰囲気ガス循環装置は、前記焼成炉から雰囲気ガス
が導入され、導入されたガスに含まれる成分濃度を調整
すると共に、前記ガスの温度を前記焼成炉の炉室内温度
に近い温度に調整した後、前記焼成炉内に戻す焼成炉用
雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項２】 前記雰囲気ガス循環装置は、前記焼成炉
内に戻されるガスの温度が、前記焼成炉内の温度から５
０℃以上離れないように調整する請求項１に記載の焼成
炉用雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項３】 前記雰囲気ガス循環装置は、導入された
ガスの不要成分を除去する請求項１または２に記載の焼
成炉用雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項４】 前記雰囲気ガス循環装置は、焼却装置を
含み、前記焼却装置が前記ガス中に含まれる不要成分を
焼却する請求項３に記載の焼成炉用雰囲気ガス制御装
置。 - 【請求項５】 前記雰囲気ガス循環装置は、熱交換装置
を含み、前記熱交換装置が前記焼却装置から供給された
焼却後のガスと、前記焼成炉に供給される供給ガスとの
間で熱交換を行う請求項４に記載の焼成炉用雰囲気ガス
制御装置。 - 【請求項６】 前記雰囲気ガス循環装置は、前記焼却後
のガスを前記供給ガスに混合する経路を含む請求項４に
記載の焼成炉用雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項７】 前記雰囲気ガス循環装置は、冷却装置を
含み、前記冷却装置が前記焼却後のガスを冷却し、冷却
後のガスが前記供給ガスに混合される請求項６に記載の
焼成炉用雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項８】 前記雰囲気ガス循環装置は、冷却装置
と、昇温装置とを含み、前記冷却装置が前記焼成炉から
導かれたガス中に含まれる各種成分を凝縮して除去し、
前記昇温装置が前記冷却装置を通した後の前記ガスを加
熱して前記焼成炉に供給する請求項１に記載の焼成炉用
雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項９】 前記雰囲気ガス循環装置は、熱交換装置
を含み、前記熱交換装置が前記焼成炉から導かれた前記
ガスと前記焼成炉に供給される供給ガスとの間で熱交換
を行い前記供給ガスを昇温させ、前記昇温装置が前記熱
交換装置を通った後の前記供給ガスを昇温する請求項８
に記載の焼成炉用雰囲気ガス制御装置。 - 【請求項１０】 前記雰囲気ガス循環装置は、すくなと
も１部が前記焼成炉と一体化されている請求項１乃至９
記載の焼成炉用雰囲気ガス制御装置。
Priority Applications (8)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271216A JPH0694369A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 焼成炉用雰囲気ガス制御装置 |
| DE69321041T DE69321041D1 (de) | 1992-06-23 | 1993-06-18 | Kalzinierungsofen |
| EP93109754A EP0576934B1 (en) | 1992-06-23 | 1993-06-18 | Calcination furnace |
| US08/080,570 US5559826A (en) | 1992-06-23 | 1993-06-21 | Calcination furnace |
| CA002098861A CA2098861A1 (en) | 1992-06-23 | 1993-06-21 | Calcination furnace |
| CN93109455A CN1084630A (zh) | 1992-06-23 | 1993-06-23 | 煅烧炉 |
| KR1019930011511A KR940005518A (ko) | 1992-06-23 | 1993-06-23 | 소성로 |
| US08/664,340 US5703901A (en) | 1992-06-23 | 1996-06-14 | Calcination furnace |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4271216A JPH0694369A (ja) | 1992-09-14 | 1992-09-14 | 焼成炉用雰囲気ガス制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0694369A true JPH0694369A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17496970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4271216A Pending JPH0694369A (ja) | 1992-06-23 | 1992-09-14 | 焼成炉用雰囲気ガス制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0694369A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001524451A (ja) * | 1997-12-02 | 2001-12-04 | コーニング インコーポレイテッド | セラミックハニカム体の焼成方法 |
| JP2007187374A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Ngk Insulators Ltd | 連続焼成炉 |
| JP2011526734A (ja) * | 2008-06-11 | 2011-10-13 | アプライド マテリアルズ イタリア エス． アール． エル． | スクリーン印刷に有用な熱プロファイルの短いオーブン |
| CN105737598A (zh) * | 2016-03-07 | 2016-07-06 | 苏州新凌电炉有限公司 | 一种高效率辊道窑炉 |
-
1992
- 1992-09-14 JP JP4271216A patent/JPH0694369A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001524451A (ja) * | 1997-12-02 | 2001-12-04 | コーニング インコーポレイテッド | セラミックハニカム体の焼成方法 |
| JP4771590B2 (ja) * | 1997-12-02 | 2011-09-14 | コーニング インコーポレイテッド | セラミックハニカム体の焼成方法 |
| JP2007187374A (ja) * | 2006-01-12 | 2007-07-26 | Ngk Insulators Ltd | 連続焼成炉 |
| JP4522368B2 (ja) * | 2006-01-12 | 2010-08-11 | 日本碍子株式会社 | 炉内生成ガス排出機構 |
| JP2011526734A (ja) * | 2008-06-11 | 2011-10-13 | アプライド マテリアルズ イタリア エス． アール． エル． | スクリーン印刷に有用な熱プロファイルの短いオーブン |
| CN105737598A (zh) * | 2016-03-07 | 2016-07-06 | 苏州新凌电炉有限公司 | 一种高效率辊道窑炉 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20020821 |