JPH0693400A - チタン製電着ドラムの製造方法 - Google Patents
チタン製電着ドラムの製造方法Info
- Publication number
- JPH0693400A JPH0693400A JP24668692A JP24668692A JPH0693400A JP H0693400 A JPH0693400 A JP H0693400A JP 24668692 A JP24668692 A JP 24668692A JP 24668692 A JP24668692 A JP 24668692A JP H0693400 A JPH0693400 A JP H0693400A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- titanium
- intermediate product
- annealing
- cold
- grain size
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Metal Rolling (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】微細な組織を有するチタン製電着ドラムを効率
良く製造することが可能なチタン製ドラムの製造方法を
提供することを目的とする。 【構成】チタン素材に対して熱間でのリングローリング
を施し、リング状のチタン製中間製品を得、この中間製
品に対して冷間においてで再び圧下を加え、引き続き焼
鈍し、チタン製電着ドラムを得る。
良く製造することが可能なチタン製ドラムの製造方法を
提供することを目的とする。 【構成】チタン素材に対して熱間でのリングローリング
を施し、リング状のチタン製中間製品を得、この中間製
品に対して冷間においてで再び圧下を加え、引き続き焼
鈍し、チタン製電着ドラムを得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、電解箔などの製造に
使用されるチタン製電着ドラムの製造方法に関し、特に
微細な組織を有するチタン製電着ドラムを効率良く製造
することが可能な製造方法に関する。
使用されるチタン製電着ドラムの製造方法に関し、特に
微細な組織を有するチタン製電着ドラムを効率良く製造
することが可能な製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子機器類に用いられる銅箔を中心とす
る電解箔の製造に使用されるチタン製の電着ドラム用リ
ングは、従来、熱間圧延により製造されたチタン板を円
弧状に成形し、溶接によってリング状にして製造してい
る。しかしながら、この方法では、溶接部のミクロ組織
の制御が困難である。つまり、チタンでは溶接した場合
に、溶融金属部分や溶接熱影響部といったβ組織の部分
が生じる。このβ組織んから均一、微細な等軸粒を得る
ためには、圧下等によって歪を加えてβ組織を破壊し、
次工程の焼鈍時に蓄えた歪エネルギーによって等軸化さ
せなければならない。このため、溶接時に余盛をし、こ
れにプレスで圧下を加えて歪エネルギーを蓄積させる方
法を採用する。しかし、この方法では、大きさが直径２
〜３ｍ、幅１〜３ｍといった非常に大きな円柱状の電着
ドラムの溶融金属部分や溶接熱影響部に均一に歪を加え
ることが困難であるため、完全に再結晶させることは難
しい。また、たとえ再結晶した部分ができたとしても、
その部分の結晶粒径が母材部分に比較して粗大化した
り、板厚方向に沿って、あるいは溶接部分付近で不均一
な組織の部分ができたりする。このように組織の不均一
な部分が存在すると、製造された箔に不均一部分に対応
した模様が形成され、製品特性の不均質の原因となる。
る電解箔の製造に使用されるチタン製の電着ドラム用リ
ングは、従来、熱間圧延により製造されたチタン板を円
弧状に成形し、溶接によってリング状にして製造してい
る。しかしながら、この方法では、溶接部のミクロ組織
の制御が困難である。つまり、チタンでは溶接した場合
に、溶融金属部分や溶接熱影響部といったβ組織の部分
が生じる。このβ組織んから均一、微細な等軸粒を得る
ためには、圧下等によって歪を加えてβ組織を破壊し、
次工程の焼鈍時に蓄えた歪エネルギーによって等軸化さ
せなければならない。このため、溶接時に余盛をし、こ
れにプレスで圧下を加えて歪エネルギーを蓄積させる方
法を採用する。しかし、この方法では、大きさが直径２
〜３ｍ、幅１〜３ｍといった非常に大きな円柱状の電着
ドラムの溶融金属部分や溶接熱影響部に均一に歪を加え
ることが困難であるため、完全に再結晶させることは難
しい。また、たとえ再結晶した部分ができたとしても、
その部分の結晶粒径が母材部分に比較して粗大化した
り、板厚方向に沿って、あるいは溶接部分付近で不均一
な組織の部分ができたりする。このように組織の不均一
な部分が存在すると、製造された箔に不均一部分に対応
した模様が形成され、製品特性の不均質の原因となる。
【０００３】これに対して、リングローリング法を用い
て、溶接部を持たないチタン製電着ドラム用リングを製
造する方法が提案されている（特開平３−１６９４４５
号公報）。しかし、この方法では、加熱温度を７００℃
未満とし、かつ外径成長速度を８mm／秒に制限する必要
があるため、加熱−リングローリングの工程を数回繰り
返す必要があったり、成形時間が長くなり、再加熱に要
する時間も加えると極めて生産効率が低いという問題が
ある。さらに、この方法によって得られた製品の結晶粒
径は粒度番号で７．０〜６．５であって十分に細粒とは
いえず、製品の不均質性が完全に解消されてはいない。
て、溶接部を持たないチタン製電着ドラム用リングを製
造する方法が提案されている（特開平３−１６９４４５
号公報）。しかし、この方法では、加熱温度を７００℃
未満とし、かつ外径成長速度を８mm／秒に制限する必要
があるため、加熱−リングローリングの工程を数回繰り
返す必要があったり、成形時間が長くなり、再加熱に要
する時間も加えると極めて生産効率が低いという問題が
ある。さらに、この方法によって得られた製品の結晶粒
径は粒度番号で７．０〜６．５であって十分に細粒とは
いえず、製品の不均質性が完全に解消されてはいない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明はかかる事情
に鑑みてなされたものであって、微細な組織を有するチ
タン製電着ドラムを効率良く製造することが可能なチタ
ン製ドラムの製造方法を提供することを目的とする。
に鑑みてなされたものであって、微細な組織を有するチ
タン製電着ドラムを効率良く製造することが可能なチタ
ン製ドラムの製造方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び作用】この発明は、チ
タン素材に対して熱間でのリングローリングを施し、リ
ング状のチタン製中間製品を得、この中間製品に対して
冷間において再び圧下を加え、引き続き焼鈍することを
特徴とするチタン製電着ドラムの製造方法を提供する。
タン素材に対して熱間でのリングローリングを施し、リ
ング状のチタン製中間製品を得、この中間製品に対して
冷間において再び圧下を加え、引き続き焼鈍することを
特徴とするチタン製電着ドラムの製造方法を提供する。
【０００６】本願発明者らは、チタン製電着ドラムの結
晶粒の微細化について検討を重ねた結果、再結晶を促進
させて微細な再結晶粒を得るためには、リング状にする
最終工程において冷間（室温）で十分な加工歪を導入
し、その後適正な条件で熱処理を施せばよいことを見出
した。また、このような微細な再結晶粒を有するチタン
製電着ドラム製造効率良く製造するためには、熱間での
リングローリングによって中間製品まで加工することが
有効であることを見出した。さらに、熱間でのリングロ
ーリングによって製造した中間製品の組織が粗粒であっ
ても、リング状にする最終工程において冷間（室温）で
の圧下条件を適切に制御することにより、微細な再結晶
粒が得られることも見出した。上記構成を有する本発明
は、本願発明者らの以上のような知見に基づいてなされ
たものである。以下、本発明について詳細に説明する。
晶粒の微細化について検討を重ねた結果、再結晶を促進
させて微細な再結晶粒を得るためには、リング状にする
最終工程において冷間（室温）で十分な加工歪を導入
し、その後適正な条件で熱処理を施せばよいことを見出
した。また、このような微細な再結晶粒を有するチタン
製電着ドラム製造効率良く製造するためには、熱間での
リングローリングによって中間製品まで加工することが
有効であることを見出した。さらに、熱間でのリングロ
ーリングによって製造した中間製品の組織が粗粒であっ
ても、リング状にする最終工程において冷間（室温）で
の圧下条件を適切に制御することにより、微細な再結晶
粒が得られることも見出した。上記構成を有する本発明
は、本願発明者らの以上のような知見に基づいてなされ
たものである。以下、本発明について詳細に説明する。
【０００７】本発明においては、まずチタン素材に対し
て熱間でリングローリングを施し、リング状の中間製品
を得る。この際の温度は８００℃以上８８０℃以下が好
ましい。チタンは８００℃以上になると変形抵抗が５kg
f ／mm2 以下に低下し、大径のリング状を有する電着ド
ラムの加工を容易にするが、８８０℃を超えると加工中
に素材が変態点以上の温度にさらされる可能性があり、
変態点以上に加熱された部分はβ組織となり、均一・微
細な等軸粒の形成の面から好ましくない。このような熱
間でのリングローリングでは、次工程の冷間において、
微細に再結晶させるのに必要な歪を加えられるだけの板
厚まで圧下することができるので、全ての圧下を冷間で
行う方法よりも効率が良い。
て熱間でリングローリングを施し、リング状の中間製品
を得る。この際の温度は８００℃以上８８０℃以下が好
ましい。チタンは８００℃以上になると変形抵抗が５kg
f ／mm2 以下に低下し、大径のリング状を有する電着ド
ラムの加工を容易にするが、８８０℃を超えると加工中
に素材が変態点以上の温度にさらされる可能性があり、
変態点以上に加熱された部分はβ組織となり、均一・微
細な等軸粒の形成の面から好ましくない。このような熱
間でのリングローリングでは、次工程の冷間において、
微細に再結晶させるのに必要な歪を加えられるだけの板
厚まで圧下することができるので、全ての圧下を冷間で
行う方法よりも効率が良い。
【０００８】次に、このようにして得られた中間製品に
対して冷間において再び圧下を加える。このように冷間
で再び圧下を加えることにより、熱間で製造した中間製
品の組織を破壊し、微細に再結晶させるのに必要な歪エ
ネルギーを導入する効果がある。また、冷間でリングロ
ーリングを行うことにより、電着ドラム主面に均一に歪
を加えることが可能であり、焼鈍後に均一・微細に再結
晶させることが可能となる。この場合の合計の加工率は
２０％以上、７０％以下にすることが好ましい。加工率
が２０％未満の場合には、導入される歪エネルギーが少
なく、再結晶させるのに不十分なばかりか、熱間で製造
した中間製品の組織を十分に破壊することができない。
加工率が７０％より大きい場合には、圧下の際に大きな
パワーを必要とし、リングローリングミルのパワーが不
足する恐れがある。なお、この際の加工は特定の方法に
限定されるものではない。
対して冷間において再び圧下を加える。このように冷間
で再び圧下を加えることにより、熱間で製造した中間製
品の組織を破壊し、微細に再結晶させるのに必要な歪エ
ネルギーを導入する効果がある。また、冷間でリングロ
ーリングを行うことにより、電着ドラム主面に均一に歪
を加えることが可能であり、焼鈍後に均一・微細に再結
晶させることが可能となる。この場合の合計の加工率は
２０％以上、７０％以下にすることが好ましい。加工率
が２０％未満の場合には、導入される歪エネルギーが少
なく、再結晶させるのに不十分なばかりか、熱間で製造
した中間製品の組織を十分に破壊することができない。
加工率が７０％より大きい場合には、圧下の際に大きな
パワーを必要とし、リングローリングミルのパワーが不
足する恐れがある。なお、この際の加工は特定の方法に
限定されるものではない。
【０００９】このように冷間で圧下を加えた後、焼鈍処
理を施す。この焼鈍処理により、微細に再結晶させて、
微細な（典型的には平均粒径が２５μｍ以下の）再結晶
粒を得ることができる。結晶粒径が２５μｍを超える
と、隣接する結晶粒において大きな段差が生じ、銅箔を
製造した場合に、その段差が箔に転写されて不良品とな
ってしまう。これに対して結晶粒径が２５μｍ以下であ
ればその段差も小さく、電着した銅箔に段差が転写され
ることもなく、製品特性、歩留りが向上する。
理を施す。この焼鈍処理により、微細に再結晶させて、
微細な（典型的には平均粒径が２５μｍ以下の）再結晶
粒を得ることができる。結晶粒径が２５μｍを超える
と、隣接する結晶粒において大きな段差が生じ、銅箔を
製造した場合に、その段差が箔に転写されて不良品とな
ってしまう。これに対して結晶粒径が２５μｍ以下であ
ればその段差も小さく、電着した銅箔に段差が転写され
ることもなく、製品特性、歩留りが向上する。
【００１０】その際の再結晶粒の粒径は冷間における加
工率にも依存する。ここで、焼鈍における温度をＴ℃、
時間をｔ分とすると、冷間における圧下の合計の加工率
が３５％以上、７０％以下の場合には、５７０≦Ｔ≦６
７０、及び５≦ｔ≦１２０、及び−Ｔ＋６１０≦ｔ≦−
Ｔ＋７２０を満足することが好ましく、冷間における圧
下の合計の加工率が２０％以上、３５％未満の場合に
は、６００≦Ｔ≦６７０、及び３０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
を満足することが好ましい。このような条件を満足しな
いような低温短時間の焼鈍では再結晶が進行せず、未再
結晶組織のままとなってしまう。逆に、これらの式より
も高温長時間側では、再結晶は生じるが、結晶粒が粗大
となり、電解箔にドラム結晶粒が転写され、製品特性の
上から好ましくない。
工率にも依存する。ここで、焼鈍における温度をＴ℃、
時間をｔ分とすると、冷間における圧下の合計の加工率
が３５％以上、７０％以下の場合には、５７０≦Ｔ≦６
７０、及び５≦ｔ≦１２０、及び−Ｔ＋６１０≦ｔ≦−
Ｔ＋７２０を満足することが好ましく、冷間における圧
下の合計の加工率が２０％以上、３５％未満の場合に
は、６００≦Ｔ≦６７０、及び３０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
を満足することが好ましい。このような条件を満足しな
いような低温短時間の焼鈍では再結晶が進行せず、未再
結晶組織のままとなってしまう。逆に、これらの式より
も高温長時間側では、再結晶は生じるが、結晶粒が粗大
となり、電解箔にドラム結晶粒が転写され、製品特性の
上から好ましくない。
【００１１】以上のように、熱間でのリングローリン
グ、冷間での圧下、及び焼鈍処理を施すことにより、平
均粒径が２５μｍ以下の微細な再結晶粒のチタン製電着
ドラムを効率良く得ることができる。
グ、冷間での圧下、及び焼鈍処理を施すことにより、平
均粒径が２５μｍ以下の微細な再結晶粒のチタン製電着
ドラムを効率良く得ることができる。
【００１２】
（実施例１）
【００１３】外径φ３００mm、肉厚７０mmのＣＰ−１種
純チタンの中空素材を鍛造によって製造し、これをチタ
ン製電着ドラムの素材とした。この素材を８５０℃に加
熱し、リングローリングを行い、外径φ１５１０mm、肉
厚１２mmの中間製品とした。引き続き、室温において、
馬掛け方式によって加工率５０％の圧下を加えて、外径
φ３０００mm、肉厚６mmの最終形状に仕上げた。この製
品に対して、焼鈍温度５５０〜７００℃、焼鈍時間２〜
１５０分の条件で焼鈍を行ない最終製品を得た。そし
て、その際の製品の結晶粒径を測定した。図１にその結
果を示す。図１は、横軸に焼鈍温度をとり、縦軸に焼鈍
時間をとって、各条件での結晶粒径を示す図である。図
中数字は結晶粒径を示し、○は結晶粒径が２５μｍ以
下、□は結晶粒径が２５μｍより大、×は未再結晶ある
いは部分再結晶組織を示す。図１から明らかなように、
焼鈍温度をＴ℃、焼鈍時間をｔ分としたとき、 ５７０≦Ｔ≦６７０ ５≦ｔ≦１２０ −Ｔ＋６１０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
純チタンの中空素材を鍛造によって製造し、これをチタ
ン製電着ドラムの素材とした。この素材を８５０℃に加
熱し、リングローリングを行い、外径φ１５１０mm、肉
厚１２mmの中間製品とした。引き続き、室温において、
馬掛け方式によって加工率５０％の圧下を加えて、外径
φ３０００mm、肉厚６mmの最終形状に仕上げた。この製
品に対して、焼鈍温度５５０〜７００℃、焼鈍時間２〜
１５０分の条件で焼鈍を行ない最終製品を得た。そし
て、その際の製品の結晶粒径を測定した。図１にその結
果を示す。図１は、横軸に焼鈍温度をとり、縦軸に焼鈍
時間をとって、各条件での結晶粒径を示す図である。図
中数字は結晶粒径を示し、○は結晶粒径が２５μｍ以
下、□は結晶粒径が２５μｍより大、×は未再結晶ある
いは部分再結晶組織を示す。図１から明らかなように、
焼鈍温度をＴ℃、焼鈍時間をｔ分としたとき、 ５７０≦Ｔ≦６７０ ５≦ｔ≦１２０ −Ｔ＋６１０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
【００１４】の３つの不等式を満足する場合に、平均結
晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認され
た。これに対し、これらの式を満足しない場合には、再
結晶しないか、又は２５μｍを超える粗大な再結晶粒と
なることが確認された。 （実施例２）
晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認され
た。これに対し、これらの式を満足しない場合には、再
結晶しないか、又は２５μｍを超える粗大な再結晶粒と
なることが確認された。 （実施例２）
【００１５】外径φ３００mm、肉厚７０mmのＣＰ−１種
純チタンの中空素材を鍛造によって製造し、これをチタ
ン製電着ドラムの素材とした。この素材を８５０℃に加
熱し、リングローリングを行い、外径φ２４０５mm、肉
厚７．５mmの中間製品とした。引き続き、室温におい
て、馬掛け方式によって加工率２０％の圧下を加えて、
外径φ３０００mm、肉厚６mmの最終形状に仕上げた。こ
の製品に対して、焼鈍温度５５０〜７００℃、焼鈍時間
２〜１５０分の条件で焼鈍を行ない最終製品を得た。そ
して、その際の製品の結晶粒径を測定した。図２にその
結果を示す。図２は、横軸に焼鈍温度をとり、縦軸に焼
鈍時間をとって、各条件での結晶粒径を示す図である。
図中の数字及びマークは図１と同様である。図２から明
らかなように、焼鈍温度をＴ℃、焼鈍時間をｔ分とした
とき、 ６００≦Ｔ≦６７０ ３０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
純チタンの中空素材を鍛造によって製造し、これをチタ
ン製電着ドラムの素材とした。この素材を８５０℃に加
熱し、リングローリングを行い、外径φ２４０５mm、肉
厚７．５mmの中間製品とした。引き続き、室温におい
て、馬掛け方式によって加工率２０％の圧下を加えて、
外径φ３０００mm、肉厚６mmの最終形状に仕上げた。こ
の製品に対して、焼鈍温度５５０〜７００℃、焼鈍時間
２〜１５０分の条件で焼鈍を行ない最終製品を得た。そ
して、その際の製品の結晶粒径を測定した。図２にその
結果を示す。図２は、横軸に焼鈍温度をとり、縦軸に焼
鈍時間をとって、各条件での結晶粒径を示す図である。
図中の数字及びマークは図１と同様である。図２から明
らかなように、焼鈍温度をＴ℃、焼鈍時間をｔ分とした
とき、 ６００≦Ｔ≦６７０ ３０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
【００１６】の２つの不等式を満足する場合に、平均結
晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認され
た。これに対し、これらの式を満足しない場合には、再
結晶しないか、又は２５μｍを超える粗大な再結晶粒と
なることが確認された。 （実施例３）
晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認され
た。これに対し、これらの式を満足しない場合には、再
結晶しないか、又は２５μｍを超える粗大な再結晶粒と
なることが確認された。 （実施例３）
【００１７】実施例１，２と同様のＣＰ−１種純チタン
の中空素材を８５０℃に加熱し、リングローリングによ
って、表１に示す８つの形状の中間製品を製造し、実施
例１，２と同様に馬掛け方式によって、外径φ３０００
mm、肉厚６mm、又は外径φ１０１６mm、肉厚１８mmの最
終形状に仕上げた。その際の冷間加工率も表１に併記す
る。
の中空素材を８５０℃に加熱し、リングローリングによ
って、表１に示す８つの形状の中間製品を製造し、実施
例１，２と同様に馬掛け方式によって、外径φ３０００
mm、肉厚６mm、又は外径φ１０１６mm、肉厚１８mmの最
終形状に仕上げた。その際の冷間加工率も表１に併記す
る。
【００１８】
【表１】 これら中間製品に対し、表２に示す条件で焼鈍処理を行
った。その際の平均結晶粒径を表２に併記する。なお、
表２中×は未再結晶又は部分的再結晶を示す。
った。その際の平均結晶粒径を表２に併記する。なお、
表２中×は未再結晶又は部分的再結晶を示す。
【００１９】
【表２】
【００２０】表２に示すように、加工率が２０％以上、
７０％以下の場合には、焼鈍条件が適切であれば、平均
結晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認さ
れた。しかし、加工率が２０％以上、７０％以下であっ
ても、図１、図２から外れる焼鈍条件の場合には、再結
晶しないか、又は２５μｍ以上の粗大な再結晶粒となる
ことが確認された。また、加工率が２０％未満の場合に
は、焼鈍条件が適切であっても、再結晶しないか、又は
２５μｍを超える粗大粒となる場合があることが確認さ
れた。さらに、加工率が７０％を超える場合には、圧下
が大きすぎ、室温では最終形状まで成形することが不可
能であった。
７０％以下の場合には、焼鈍条件が適切であれば、平均
結晶粒径が２５μｍ以下の細粒組織となることが確認さ
れた。しかし、加工率が２０％以上、７０％以下であっ
ても、図１、図２から外れる焼鈍条件の場合には、再結
晶しないか、又は２５μｍ以上の粗大な再結晶粒となる
ことが確認された。また、加工率が２０％未満の場合に
は、焼鈍条件が適切であっても、再結晶しないか、又は
２５μｍを超える粗大粒となる場合があることが確認さ
れた。さらに、加工率が７０％を超える場合には、圧下
が大きすぎ、室温では最終形状まで成形することが不可
能であった。
【００２１】なお、上記実施例では、室温（冷間）での
加工を馬掛け方式によって行ったが、これに限るもので
はなく、冷間でのリングローリング等によっても行うこ
とができる。
加工を馬掛け方式によって行ったが、これに限るもので
はなく、冷間でのリングローリング等によっても行うこ
とができる。
【００２２】
【発明の効果】この発明によれば、微細な組織を有する
チタン製電着ドラムを効率良く製造することが可能なチ
タン製ドラムの製造方法が提供される。
チタン製電着ドラムを効率良く製造することが可能なチ
タン製ドラムの製造方法が提供される。
【図１】冷間での加工率が５０％のときの焼鈍温度及び
焼鈍時間と結晶粒径との関係を示す図。
焼鈍時間と結晶粒径との関係を示す図。
【図２】冷間での加工率が２０％のときの焼鈍温度及び
焼鈍時間と結晶粒径との関係を示す図。
焼鈍時間と結晶粒径との関係を示す図。
Claims (4)
- 【請求項１】 チタン素材に対して熱間でのリングロー
リングを施し、リング状のチタン製中間製品を得、この
中間製品に対して冷間において再び圧下を加え、引き続
き焼鈍することを特徴とするチタン製電着ドラムの製造
方法。 - 【請求項２】 前記冷間における圧下の合計の加工率が
２０％以上、７０％以下であることを特徴とする請求項
１に記載のチタン製電着ドラムの製造方法。 - 【請求項３】 前記冷間における圧下の合計の加工率が
３５％以上、７０％以下であり、引き続き行われる焼鈍
における温度をＴ℃、時間をｔ分とした場合に、Ｔ及び
ｔが以下の式を満足することを特徴とする請求項１又は
２に記載のチタン製電着ドラムの製造方法。 ５７０≦Ｔ≦６７０ ５≦ｔ≦１２０ −Ｔ＋６１０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０ - 【請求項４】 前記冷間における圧下の合計の加工率が
２０％以上、３５％未満であり、引き続き行われる焼鈍
における温度をＴ℃、時間をｔ分とした場合に、Ｔ及び
ｔが以下の式を満足することを特徴とする請求項１又は
２に記載のチタン製電着ドラムの製造方法。 ６００≦Ｔ≦６７０ ３０≦ｔ≦−Ｔ＋７２０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24668692A JPH0693400A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | チタン製電着ドラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24668692A JPH0693400A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | チタン製電着ドラムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0693400A true JPH0693400A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17152120
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24668692A Pending JPH0693400A (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | チタン製電着ドラムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0693400A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5712046A (en) * | 1995-07-04 | 1998-01-27 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Titanium ring for an electrodeposition drum and a method for its manufacture |
| WO1999002743A1 (en) * | 1997-07-11 | 1999-01-21 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Metal article with fine uniform structures and textures and process of making same |
| US6331233B1 (en) | 2000-02-02 | 2001-12-18 | Honeywell International Inc. | Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture |
| US6348139B1 (en) | 1998-06-17 | 2002-02-19 | Honeywell International Inc. | Tantalum-comprising articles |
| US6723187B2 (en) | 1999-12-16 | 2004-04-20 | Honeywell International Inc. | Methods of fabricating articles and sputtering targets |
| US7517417B2 (en) | 2000-02-02 | 2009-04-14 | Honeywell International Inc. | Tantalum PVD component producing methods |
| RU2542957C2 (ru) * | 2012-10-15 | 2015-02-27 | Нуреев Рафаэль Мухамедович | Способ упрочнения заготовок, преимущественно кольцевых, из хромомарганцевых сталей |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP24668692A patent/JPH0693400A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5712046A (en) * | 1995-07-04 | 1998-01-27 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Titanium ring for an electrodeposition drum and a method for its manufacture |
| WO1999002743A1 (en) * | 1997-07-11 | 1999-01-21 | Johnson Matthey Electronics, Inc. | Metal article with fine uniform structures and textures and process of making same |
| US6238494B1 (en) | 1997-07-11 | 2001-05-29 | Johnson Matthey Electronics Inc. | Polycrystalline, metallic sputtering target |
| US6569270B2 (en) | 1997-07-11 | 2003-05-27 | Honeywell International Inc. | Process for producing a metal article |
| KR100528090B1 (ko) * | 1997-07-11 | 2005-11-15 | 존슨 마테이 일렉트로닉스, 인코포레이티드 | 미세한 균일 구조 및 조직을 가지는 금속 물품 및 그의 제조방법 |
| US6348139B1 (en) | 1998-06-17 | 2002-02-19 | Honeywell International Inc. | Tantalum-comprising articles |
| US6723187B2 (en) | 1999-12-16 | 2004-04-20 | Honeywell International Inc. | Methods of fabricating articles and sputtering targets |
| US6878250B1 (en) | 1999-12-16 | 2005-04-12 | Honeywell International Inc. | Sputtering targets formed from cast materials |
| US6331233B1 (en) | 2000-02-02 | 2001-12-18 | Honeywell International Inc. | Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture |
| US7101447B2 (en) | 2000-02-02 | 2006-09-05 | Honeywell International Inc. | Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture |
| US7517417B2 (en) | 2000-02-02 | 2009-04-14 | Honeywell International Inc. | Tantalum PVD component producing methods |
| RU2542957C2 (ru) * | 2012-10-15 | 2015-02-27 | Нуреев Рафаэль Мухамедович | Способ упрочнения заготовок, преимущественно кольцевых, из хромомарганцевых сталей |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4754617B2 (ja) | タンタルスパッタリングターゲットの製造方法 | |
| CN100445419C (zh) | Ta溅射靶及其制造方法 | |
| JPH08232061A (ja) | 高純度チタン材の鍛造方法 | |
| JPH0693400A (ja) | チタン製電着ドラムの製造方法 | |
| JP3659921B2 (ja) | ターゲット用チタン材の製造方法 | |
| EP0411537B1 (en) | Process for preparing titanium and titanium alloy materials having a fine equiaxed microstructure | |
| EP0909339B1 (en) | Method for processing billets from multiphase alloys | |
| JPH03193850A (ja) | 微細針状組織をなすチタンおよびチタン合金の製造方法 | |
| CN113718110B (zh) | 一种采用累积能量控制板材组织的高品质铌板的制备方法 | |
| US4486242A (en) | Method for producing superplastic aluminum alloys | |
| US4528042A (en) | Method for producing superplastic aluminum alloys | |
| JP2864890B2 (ja) | チタン製電着ドラムの製造方法 | |
| JP2003253411A (ja) | ターゲット用チタン材の製造方法 | |
| US2545862A (en) | Process of producing mechanical elements | |
| JPH06335769A (ja) | チタン製電着面板ドラムの製造方法 | |
| JP2005046854A (ja) | 高Ｎｂ合金の熱間加工方法 | |
| JP3738468B2 (ja) | 電着ドラム用チタンリングの製造方法 | |
| JP2002155349A (ja) | チタン板の製造方法 | |
| RU2064356C1 (ru) | Способ изготовления полых заготовок | |
| JPH0568524B2 (ja) | ||
| JPS6363585A (ja) | チタンクラツド鋼の製造法 | |
| JPH02243790A (ja) | チタン製電着面板ドラムとその製造方法 | |
| JPS5825421A (ja) | 組織の良好なチタン合金圧延材の製造方法 | |
| JPS62247007A (ja) | アルミニウム合金焼結品の製造方法 | |
| JP2626922B2 (ja) | 板幅方向の機械的性質および耳率が均一なアルミニウム板の製造方法 |