JPH0692888A - ビスフェノールａの精製方法 - Google Patents
ビスフェノールａの精製方法Info
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- JPH0692888A JPH0692888A JP3255084A JP25508491A JPH0692888A JP H0692888 A JPH0692888 A JP H0692888A JP 3255084 A JP3255084 A JP 3255084A JP 25508491 A JP25508491 A JP 25508491A JP H0692888 A JPH0692888 A JP H0692888A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 遠心薄膜蒸発器を使用し、フェノールを含有
するビスフェノールＡをスチームと向流接触させてスチ
ームストリッピングを行うことにより、ビスフェノール
Ａ中のフェノールを除去し、残留フェノールが５０ppm
以下、望ましくは１０ppm 以下のビスフェノールＡを精
製する。 【効果】 得られるビスフェノールＡをさらに再結晶処
理する必要がないため連続操作が容易であり、またスチ
ームを常に過熱状態に保つことにより得られるビスフェ
ノールＡの水分含量をきわめて低くすることができる。
するビスフェノールＡをスチームと向流接触させてスチ
ームストリッピングを行うことにより、ビスフェノール
Ａ中のフェノールを除去し、残留フェノールが５０ppm
以下、望ましくは１０ppm 以下のビスフェノールＡを精
製する。 【効果】 得られるビスフェノールＡをさらに再結晶処
理する必要がないため連続操作が容易であり、またスチ
ームを常に過熱状態に保つことにより得られるビスフェ
ノールＡの水分含量をきわめて低くすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はフェノールを含むビスフ
ェノールＡからフェノールを除去し、フェノール含有量
の少ないビスフェノールＡを精製する方法に関する。
ェノールＡからフェノールを除去し、フェノール含有量
の少ないビスフェノールＡを精製する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の方法では、特開昭５７−８８１３
７号公報に記載のように、ビスフェノールＡからフェノ
ールを除去する主な工程は蒸留と再結晶から構成されて
いる。この方法によれば、ビスフェノールＡ中のフェノ
ールの大部分をまず薄膜蒸発器で蒸発除去し、得られた
１〜１．５％フェノールを含むビスフェノールＡを攪拌
容器に水と一緒に仕込み、加熱溶解した後、徐々に９０
℃まで冷却を行ってビスフェノールＡの結晶を晶出さ
せ、これを濾過分離してビスフェノールＡの結晶を得て
いる。
７号公報に記載のように、ビスフェノールＡからフェノ
ールを除去する主な工程は蒸留と再結晶から構成されて
いる。この方法によれば、ビスフェノールＡ中のフェノ
ールの大部分をまず薄膜蒸発器で蒸発除去し、得られた
１〜１．５％フェノールを含むビスフェノールＡを攪拌
容器に水と一緒に仕込み、加熱溶解した後、徐々に９０
℃まで冷却を行ってビスフェノールＡの結晶を晶出さ
せ、これを濾過分離してビスフェノールＡの結晶を得て
いる。
【０００３】また、特開昭６３−１３２３５０号公報に
記載のように、充填塔を用いてスチームストリッピング
によりビスフェノールＡ中のフェノールを除去すること
も行われている。
記載のように、充填塔を用いてスチームストリッピング
によりビスフェノールＡ中のフェノールを除去すること
も行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、フェ
ノール含有量の少ないビスフェノールＡを得ることを目
的としているが、その方法は蒸留と再結晶を組み合わせ
た方法のため、連続操作と大処理量化に適していない。
また、水中で再結晶を行い濾過によってフェノール含有
量の少ないビスフェノールＡの結晶を得ているので、結
晶には水分が付着しており水分の乾燥を行う必要があ
る。
ノール含有量の少ないビスフェノールＡを得ることを目
的としているが、その方法は蒸留と再結晶を組み合わせ
た方法のため、連続操作と大処理量化に適していない。
また、水中で再結晶を行い濾過によってフェノール含有
量の少ないビスフェノールＡの結晶を得ているので、結
晶には水分が付着しており水分の乾燥を行う必要があ
る。
【０００５】本発明の目的は、ビスフェノールＡ中のフ
ェノールを除去する方法において、再結晶を行わず蒸留
のみを行うことにより、連続的に、かつ水分の付着なし
に、フェノール含量の少ないビスフェノールＡを精製す
る方法を提供することにある。また、ビスフェノールＡ
は熱劣化による着色を生じ易いので、充填塔よりも滞留
時間の短い装置を使用してスチームストリッピングを行
うビスフェノールＡの精製方法を提供することにある。
ェノールを除去する方法において、再結晶を行わず蒸留
のみを行うことにより、連続的に、かつ水分の付着なし
に、フェノール含量の少ないビスフェノールＡを精製す
る方法を提供することにある。また、ビスフェノールＡ
は熱劣化による着色を生じ易いので、充填塔よりも滞留
時間の短い装置を使用してスチームストリッピングを行
うビスフェノールＡの精製方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、遠心薄膜蒸発器を使用し、フェ
ノールを含むビスフェノールＡをスチームと向流接触さ
せてスチームストリッピングを行うことにより、ビスフ
ェノールＡ中のフェノールを除去する。
に、本発明においては、遠心薄膜蒸発器を使用し、フェ
ノールを含むビスフェノールＡをスチームと向流接触さ
せてスチームストリッピングを行うことにより、ビスフ
ェノールＡ中のフェノールを除去する。
【０００７】
【作用】遠心薄膜蒸発器に供給されるビスフェノールＡ
中のフェノールの初期濃度は３％以下が好ましい。この
フェノールの濃度が高いとスチームストリッピングに必
要なスチームが増えるため好ましくない。また、フェノ
ール濃度３％までは、遠心薄膜蒸発器を液温１６０〜１
８０℃、真空度４０Torr以下の条件で運転することによ
り、スチームストリッピングによらなくとも蒸発によっ
てフェノールを除去することが可能である。
中のフェノールの初期濃度は３％以下が好ましい。この
フェノールの濃度が高いとスチームストリッピングに必
要なスチームが増えるため好ましくない。また、フェノ
ール濃度３％までは、遠心薄膜蒸発器を液温１６０〜１
８０℃、真空度４０Torr以下の条件で運転することによ
り、スチームストリッピングによらなくとも蒸発によっ
てフェノールを除去することが可能である。
【０００８】フェノールを含むビスフェノールＡからフ
ェノール濃度５０ppm 以下、望ましくは１０ppm 以下の
ビスフェノールＡを得るためには、液温は高く真空度は
低くする必要がある。しかし、液温を高くすることはビ
スフェノールＡが熱劣化を受けて着色されやすくなるた
め好ましくない。そこで、液温を高くするかわりにスチ
ームを供給することにより系内のフェノール分圧を下
げ、フェノールをスチームストリッピングすることによ
りフェノール含有量の少ないビスフェノールＡを精製す
るのである。
ェノール濃度５０ppm 以下、望ましくは１０ppm 以下の
ビスフェノールＡを得るためには、液温は高く真空度は
低くする必要がある。しかし、液温を高くすることはビ
スフェノールＡが熱劣化を受けて着色されやすくなるた
め好ましくない。そこで、液温を高くするかわりにスチ
ームを供給することにより系内のフェノール分圧を下
げ、フェノールをスチームストリッピングすることによ
りフェノール含有量の少ないビスフェノールＡを精製す
るのである。
【０００９】遠心薄膜蒸発器に供給されたフェノールを
含むビスフェノールＡは、胴内と僅かな隙間を保って回
転する回転翼によって攪拌され、胴内面に液膜を形成す
る。この形成された液膜の流動方向と向流に流れながら
接触するスチームによってフェノールの分圧が低下し、
フェノールのスチームストリッピングによる除去が行わ
れる。
含むビスフェノールＡは、胴内と僅かな隙間を保って回
転する回転翼によって攪拌され、胴内面に液膜を形成す
る。この形成された液膜の流動方向と向流に流れながら
接触するスチームによってフェノールの分圧が低下し、
フェノールのスチームストリッピングによる除去が行わ
れる。
【００１０】なお、ビスフェノールＡと接触するスチー
ムは常に過熱状態にあるようにする。これによりスチー
ムを凝縮させずにスチームストリッピングを行うことが
できるため、得られるビスフェノールＡの水分含量をき
わめて低くすることができる。
ムは常に過熱状態にあるようにする。これによりスチー
ムを凝縮させずにスチームストリッピングを行うことが
できるため、得られるビスフェノールＡの水分含量をき
わめて低くすることができる。
【００１１】
【実施例】本発明の第１の実施例を図１及び図２により
説明する。図１において、フェノールを含むビスフェノ
ールＡは、液入口２から遠心薄膜蒸発器１に導入され、
回転翼６によって攪拌されて胴体７の内面に液膜を形成
する。この遠心薄膜蒸発器１の内部に形成されたフェノ
ールを含むビスフェノールＡの液膜は、スチーム吹込み
口５から供給されるスチームにより、減圧下での向流接
触によるスチームストリッピング作用を受ける。これに
よりビスフェノールＡ中のフェノールは液膜から除去さ
れ、液出口３からフェノール含有量の少ないビスフェノ
ールＡが得られる。一方、除去されたフェノールを含む
スチームは蒸発物出口４から系外へ放出される。
説明する。図１において、フェノールを含むビスフェノ
ールＡは、液入口２から遠心薄膜蒸発器１に導入され、
回転翼６によって攪拌されて胴体７の内面に液膜を形成
する。この遠心薄膜蒸発器１の内部に形成されたフェノ
ールを含むビスフェノールＡの液膜は、スチーム吹込み
口５から供給されるスチームにより、減圧下での向流接
触によるスチームストリッピング作用を受ける。これに
よりビスフェノールＡ中のフェノールは液膜から除去さ
れ、液出口３からフェノール含有量の少ないビスフェノ
ールＡが得られる。一方、除去されたフェノールを含む
スチームは蒸発物出口４から系外へ放出される。
【００１２】上述の図１の構成の遠心薄膜蒸発器を用い
て運転した結果を図２に示す。図２は、遠心薄膜蒸発器
の胴体内部の圧力を１０Torrから２０Torr、液出口温度
を１７０℃から１８０℃、液出口流量に対するスチーム
の流量比（スチーム量／液出口流量）を０．０４重量倍
とし、液入口におけるフェノール濃度が８００ppm で遠
心薄膜蒸発器の攪拌頻度（回転翼枚数（Ｍ）と毎分の回
転数（Ｎ）の積で表わされるＭＮ値）が１５０００の場
合と、液入り口におけるフェノール濃度が１５００ppm
で遠心薄膜蒸発器の攪拌頻度（ＭＮ値）が２０００の場
合との２つの事例を示す。
て運転した結果を図２に示す。図２は、遠心薄膜蒸発器
の胴体内部の圧力を１０Torrから２０Torr、液出口温度
を１７０℃から１８０℃、液出口流量に対するスチーム
の流量比（スチーム量／液出口流量）を０．０４重量倍
とし、液入口におけるフェノール濃度が８００ppm で遠
心薄膜蒸発器の攪拌頻度（回転翼枚数（Ｍ）と毎分の回
転数（Ｎ）の積で表わされるＭＮ値）が１５０００の場
合と、液入り口におけるフェノール濃度が１５００ppm
で遠心薄膜蒸発器の攪拌頻度（ＭＮ値）が２０００の場
合との２つの事例を示す。
【００１３】図２に示されるように、上記運転条件の下
で、攪拌頻度（ＭＮ値）が１５０００の場合には液出口
における残留フェノール濃度は充分に５０ppm 以下とな
り、さらには１０ppm 以下が達成された。また、攪拌頻
度（ＭＮ値）が２０００においても残留フェノール濃度
５０ppm 以下が達成された。
で、攪拌頻度（ＭＮ値）が１５０００の場合には液出口
における残留フェノール濃度は充分に５０ppm 以下とな
り、さらには１０ppm 以下が達成された。また、攪拌頻
度（ＭＮ値）が２０００においても残留フェノール濃度
５０ppm 以下が達成された。
【００１４】また、遠心薄膜蒸発器の胴体内部の圧力を
１０Torr以下とし、あるいはスチームの流量比をより大
きくすれば、液出口における残留フェノール濃度が小さ
くなることがわかった。さらに、スチームの分圧が不足
する場合は脱フェノールがうまくゆかず、残留フェノー
ル濃度が大きくなることもわかった。
１０Torr以下とし、あるいはスチームの流量比をより大
きくすれば、液出口における残留フェノール濃度が小さ
くなることがわかった。さらに、スチームの分圧が不足
する場合は脱フェノールがうまくゆかず、残留フェノー
ル濃度が大きくなることもわかった。
【００１５】なお、実用上好ましい範囲を言えば、遠心
薄膜蒸発器の胴体内部の圧力の上限は約３０Torr、液入
口におけるフェノール濃度の上限は約２５００ppm 、液
出口流量に対するスチームの流量比の下限は約０．０３
重量倍である。
薄膜蒸発器の胴体内部の圧力の上限は約３０Torr、液入
口におけるフェノール濃度の上限は約２５００ppm 、液
出口流量に対するスチームの流量比の下限は約０．０３
重量倍である。
【００１６】次に、本発明の第２の実施例を図１及び図
３により説明する。この実施例は、フェノール３％を含
むビスフェノールＡを図１の遠心薄膜蒸発器でスチーム
ストリッピング処理し、その結果を図３に示すものであ
る。
３により説明する。この実施例は、フェノール３％を含
むビスフェノールＡを図１の遠心薄膜蒸発器でスチーム
ストリッピング処理し、その結果を図３に示すものであ
る。
【００１７】図３は、液出口温度を１７０℃から１８０
℃、液出口流量に対するスチームの流量比を０．０４重
量倍、攪拌頻度（ＭＮ値）を７０００とし、遠心薄膜蒸
発器の胴体内部の圧力が１０Torrから２０Torrの場合と
５０Torrから６０Torrの場合との２つの事例を示す。
℃、液出口流量に対するスチームの流量比を０．０４重
量倍、攪拌頻度（ＭＮ値）を７０００とし、遠心薄膜蒸
発器の胴体内部の圧力が１０Torrから２０Torrの場合と
５０Torrから６０Torrの場合との２つの事例を示す。
【００１８】図３に示されるように、上記運転条件の下
で、胴体内部の圧力が１０〜２０Torrの場合には液出口
における残留フェノール濃度は充分に８００ppm 以下と
なった。一方、胴体内部の圧力が５０〜６０Torrの場合
には残留フェノール濃度は１２００ppm であった。
で、胴体内部の圧力が１０〜２０Torrの場合には液出口
における残留フェノール濃度は充分に８００ppm 以下と
なった。一方、胴体内部の圧力が５０〜６０Torrの場合
には残留フェノール濃度は１２００ppm であった。
【００１９】この実施例で得られたビスフェノールＡを
さらに上述の第１の実施例の条件で処理することによっ
て、残留フェノール濃度５０ppm 以下、さらには１０pp
m 以下のビスフェノールＡを得ることができた。
さらに上述の第１の実施例の条件で処理することによっ
て、残留フェノール濃度５０ppm 以下、さらには１０pp
m 以下のビスフェノールＡを得ることができた。
【００２０】従って、第１の実施例と第２の実施例の結
果を組み合わせれば、スチームストリッピングが可能な
遠心薄膜蒸発器が１台の場合でも、スチームとの接触長
さが充分あればビスフェノールＡ中のフェノール濃度が
３％のものを５０ppm 以下、さらには１０ppm 以下に下
げることが可能であるといえる。
果を組み合わせれば、スチームストリッピングが可能な
遠心薄膜蒸発器が１台の場合でも、スチームとの接触長
さが充分あればビスフェノールＡ中のフェノール濃度が
３％のものを５０ppm 以下、さらには１０ppm 以下に下
げることが可能であるといえる。
【００２１】次に本発明の第３の実施例を図１及び図４
により説明する。この実施例は、４０％のフェノールを
含むビスフェノールＡを、図１の遠心薄膜蒸発器を用
い、スチーム入り口からはスチームを吹き込まず蒸発の
みによってフェノールを除去し、その結果を図４に示す
ものである。
により説明する。この実施例は、４０％のフェノールを
含むビスフェノールＡを、図１の遠心薄膜蒸発器を用
い、スチーム入り口からはスチームを吹き込まず蒸発の
みによってフェノールを除去し、その結果を図４に示す
ものである。
【００２２】図４は、液出口温度を１６０℃から１８０
℃とし、遠心薄膜蒸発器の胴体内部の圧力が２０Torrの
場合と４０Torrの場合との２つの事例を示す。
℃とし、遠心薄膜蒸発器の胴体内部の圧力が２０Torrの
場合と４０Torrの場合との２つの事例を示す。
【００２３】図４に示されるように、真空度が２０Torr
の場合には上述の第２の実施例に用いたフェノール濃度
３％まで充分蒸発除去された。さらに、真空度が４０To
rrの場合でも単位伝熱面積当りの液出口流量が少ない範
囲ではフェノール濃度３％まで除去することは可能であ
る。この工程では、フェノールの蒸発は伝熱によって促
進されることはよく知られている。従って、液入り口の
ビスフェノールＡに含まれるフェノール濃度が４０％以
上の場合には、単純に伝熱面積の容量を増やしてやれば
残留フェノール濃度を３％以下にすることができる。
の場合には上述の第２の実施例に用いたフェノール濃度
３％まで充分蒸発除去された。さらに、真空度が４０To
rrの場合でも単位伝熱面積当りの液出口流量が少ない範
囲ではフェノール濃度３％まで除去することは可能であ
る。この工程では、フェノールの蒸発は伝熱によって促
進されることはよく知られている。従って、液入り口の
ビスフェノールＡに含まれるフェノール濃度が４０％以
上の場合には、単純に伝熱面積の容量を増やしてやれば
残留フェノール濃度を３％以下にすることができる。
【００２４】この実施例で処理したビスフェノールＡを
さらに上述の第２の実施例と第３の実施例の条件で処理
することによって、残留フェノール濃度が５０ppm 以
下、さらには１０ppm 以下のビスフェノールＡを得るこ
とができた。
さらに上述の第２の実施例と第３の実施例の条件で処理
することによって、残留フェノール濃度が５０ppm 以
下、さらには１０ppm 以下のビスフェノールＡを得るこ
とができた。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、遠心薄膜蒸発器を使用
することにより、再結晶を行わず蒸発のみでフェノール
含量の少ないビスフェノールＡを連続的に製造すること
が可能になる。このため、本発明の方法は生産量の大規
模化に適している。
することにより、再結晶を行わず蒸発のみでフェノール
含量の少ないビスフェノールＡを連続的に製造すること
が可能になる。このため、本発明の方法は生産量の大規
模化に適している。
【００２６】また、ビスフェノールＡと接触するスチー
ムは常に過熱状態にあるためスチームストリッピングの
際にスチームが凝縮せず、水分含量が少なく、かつフェ
ノール含量の少ないビスフェノールＡが得られる。
ムは常に過熱状態にあるためスチームストリッピングの
際にスチームが凝縮せず、水分含量が少なく、かつフェ
ノール含量の少ないビスフェノールＡが得られる。
【図１】本発明の実施例に使用した遠心薄膜蒸発器の説
明図である。
明図である。
【図２】本発明の第１の実施例における残留フェノール
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
【図３】本発明の第２の実施例における残留フェノール
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
【図４】本発明の第３の実施例における残留フェノール
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
濃度と単位伝熱面積当りの液出口流量の関係図である。
１ 遠心薄膜蒸発器 ２ 液入口 ３ 液出口 ４ 蒸発物出口 ５ スチーム吹込み口 ６ 回転翼 ７ 胴体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 守屋 信男 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 植田 哲夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 安井 誠 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 １号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 古川 敬信 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 赤穴 太介 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 野村 聖次 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 藤本 正勝 山口県下松市大字東豊井794番地 株式会 社日立製作所笠戸工場内
Claims (11)
- 【請求項１】 ビスフェノールＡとフェノールとの混合
液からフェノールを除去してビスフェノールＡを精製す
る方法において、 前記混合液をスチームと向流接触させる遠心薄膜蒸発器
に導き、該遠心薄膜蒸発器でスチームストリッピングに
より含有フェノールを除去し、残留フェノールが５０pp
m 以下のビスフェノールＡを得ることを特徴とするビス
フェノールＡの精製方法。 - 【請求項２】 残留フェノールが１０ppm 以下のビスフ
ェノールＡを得る請求項１記載の精製方法。 - 【請求項３】 該遠心薄膜蒸発器に供給する混合液中の
フェノール濃度を２５００ppm 以下とし、該混合液と少
なくとも０．０３重量倍のスチームとを向流接触させ、
該遠心薄膜蒸発器の真空度を２０Torr以下に制御しなが
ら所定の攪拌頻度（ＭＮ値）で運転する請求項１または
請求項２記載の精製方法。 - 【請求項４】 該遠心薄膜蒸発器に供給する混合液中の
フェノール濃度を３％以下とし、該混合液と少なくとも
０．０３重量倍のスチームとを向流接触させる遠心薄膜
蒸発器を直列に複数段用い、該複数段の遠心薄膜蒸発器
の真空度をそれぞれ２０Torr以下に制御しながら所定の
攪拌頻度（ＭＮ値）で運転する請求項１または請求項２
記載の精製方法。 - 【請求項５】 該攪拌頻度（ＭＮ値）を２０００以上と
して残留フェノールが５０ppm 以下のビスフェノールＡ
を得る請求項３または請求項４記載の精製方法。 - 【請求項６】 該攪拌頻度（ＭＮ値）を１５０００以上
として残留フェノールが１０ppm 以下のビスフェノール
Ａを得る請求項３または請求項４記載の精製方法。 - 【請求項７】 ビスフェノールＡとフェノールとの混合
液からフェノールを除去してビスフェノールＡを精製す
る方法において、 前記混合液を前段に設けた遠心薄膜蒸発器に導いて混合
液中のフェノールの大部分を蒸発除去し、かくして残留
フェノールを所定値以下に除去したビスフェノールＡを
後段に設けたスチームと向流接触させる遠心薄膜蒸発器
に導き、該後段の遠心薄膜蒸発器でスチームストリッピ
ングにより含有フェノールを除去し、残留フェノールが
５０ppm 以下のビスフェノールＡを得ることを特徴とす
るビスフェノールＡの精製方法。 - 【請求項８】 残留フェノールが１０ppm 以下のビスフ
ェノールＡを得る請求項７記載の精製方法。 - 【請求項９】 該前段の遠心薄膜蒸発器の圧力を４０To
rr以下、該後段の遠心薄膜蒸発器の圧力を２０Torr以下
で運転することを特徴とする請求項７または請求項８記
載の精製方法。 - 【請求項１０】 該後段の遠心薄膜蒸発器においては、
少なくとも０．０３重量倍のスチームを用い、攪拌頻度
（ＭＮ値）を２０００以上とする請求項７記載の精製方
法。 - 【請求項１１】 該後段の遠心薄膜蒸発器においては、
少なくとも０．０３重量倍のスチームを用い、攪拌頻度
（ＭＮ値）を１５０００以上とする請求項８記載の精製
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255084A JPH0692888A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ビスフェノールａの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3255084A JPH0692888A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ビスフェノールａの精製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0692888A true JPH0692888A (ja) | 1994-04-05 |
Family
ID=17273911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3255084A Pending JPH0692888A (ja) | 1991-10-02 | 1991-10-02 | ビスフェノールａの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0692888A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000191575A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ビスフェノ―ル類化合物の精製方法、及び、当該精製方法により製造されたビスフェノ―ル類化合物 |
-
1991
- 1991-10-02 JP JP3255084A patent/JPH0692888A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000191575A (ja) * | 1998-12-25 | 2000-07-11 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ビスフェノ―ル類化合物の精製方法、及び、当該精製方法により製造されたビスフェノ―ル類化合物 |
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