JPH0692418B2 - 接触ハイドロカルビルリチウム法 - Google Patents
接触ハイドロカルビルリチウム法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0896—Compounds with a Si-H linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F1/00—Compounds containing elements of Groups 1 or 11 of the Periodic Table
- C07F1/02—Lithium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/122—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はアルカリ金属をアルカリ
ハライドでアルキル化する方法に関する。
ハライドでアルキル化する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ハイドロカルビルリチウムの有機溶媒溶
液の製造は当業技術において周知であり、多くの特許刊
行物たとえば米国特許第2,816,936号、第2,
865,969号、第3,091,606号、第3,1
22,592号、第3,293,313号、第3,42
0,903号および第3,452,112号に記載され
ている。
液の製造は当業技術において周知であり、多くの特許刊
行物たとえば米国特許第2,816,936号、第2,
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22,592号、第3,293,313号、第3,42
0,903号および第3,452,112号に記載され
ている。
【0003】商業的に最も重要なハイドロカルビルリチ
ウム化合物は炭化水素溶媒中で製造されるものたとえば
n−ブチルリチウム、2級ブチルリウム、およびt−ブ
チルリチウムである。これらは一般に、対応するアルキ
ルハライド好ましくはアルキルクロライドを炭化水素溶
媒中でリチウム金属と反応させることによって製造され
る。
ウム化合物は炭化水素溶媒中で製造されるものたとえば
n−ブチルリチウム、2級ブチルリウム、およびt−ブ
チルリチウムである。これらは一般に、対応するアルキ
ルハライド好ましくはアルキルクロライドを炭化水素溶
媒中でリチウム金属と反応させることによって製造され
る。
【化6】 これらのハイドロカルビルリチウムの収率は一般に70
〜90%の範囲にあり、カップリングおよび不均化の競
合副反応によって損失が生ずる。
〜90%の範囲にあり、カップリングおよび不均化の競
合副反応によって損失が生ずる。
【化7】
【化8】 収率を改良する方法が多くの研究者によって探究された
が、高度に純粋なアルキルリチウム化合物を高収率で製
造する方法が依然として必要であった。
が、高度に純粋なアルキルリチウム化合物を高収率で製
造する方法が依然として必要であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】リチウム金属とアルキ
ルハライドとの反応によってアルキルリチウム化合物を
改良された収率で製造する方法を提供しようとするもの
である。
ルハライドとの反応によってアルキルリチウム化合物を
改良された収率で製造する方法を提供しようとするもの
である。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明はアルカリ金属を
アルキルハライドでアルキル化する方法において、該ア
ルキル化反応を炭化水素溶媒中で次式 によって表される触媒化合物の存在下で行うことを特徴
とする。R、R1およびR2は独立に水素、ハロゲン、
1〜13個の炭素原子を含むアルキルおよびアルケニル
基、3〜10個の炭素原子を含むシクロアルキル基、6
〜18個の炭素原子を含むアリール基からえらばれ;M
はケイ素、炭素、ゲルマニウムおよびスズからえらばれ
る第IV族元素であり;Aは酸素および窒素からえらば
れ、そしてx+yはAの原子価に等しい;xおよびyは
独立に0〜3の値をもつ。これらの物質(触媒または原
型触媒と呼ぶこともある)としてビス−ハイドロカルビ
ルエーテル、ハイドロカルビルシリルエーテル、ビス−
シリルエーテル、トリ−ハイドロカルビルアミン、ハイ
ドロカルビルシリルアミン、トリス−オルガノシリルア
ミンなどがあげられる。
アルキルハライドでアルキル化する方法において、該ア
ルキル化反応を炭化水素溶媒中で次式 によって表される触媒化合物の存在下で行うことを特徴
とする。R、R1およびR2は独立に水素、ハロゲン、
1〜13個の炭素原子を含むアルキルおよびアルケニル
基、3〜10個の炭素原子を含むシクロアルキル基、6
〜18個の炭素原子を含むアリール基からえらばれ;M
はケイ素、炭素、ゲルマニウムおよびスズからえらばれ
る第IV族元素であり;Aは酸素および窒素からえらば
れ、そしてx+yはAの原子価に等しい;xおよびyは
独立に0〜3の値をもつ。これらの物質(触媒または原
型触媒と呼ぶこともある)としてビス−ハイドロカルビ
ルエーテル、ハイドロカルビルシリルエーテル、ビス−
シリルエーテル、トリ−ハイドロカルビルアミン、ハイ
ドロカルビルシリルアミン、トリス−オルガノシリルア
ミンなどがあげられる。
【0006】本発明の実施に有用な化合物の若干の例は
次のとおりである。 a.ハイドロカルビルエーテル類たとえば環状または非
環状エーテル、対称および非対称のジアルキル、ジアリ
ールおよびアルキルアリールエーテル。これらはジメチ
ルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニ
ソール、メチル−t−ブチルエーテル、ジ−n−ブチル
エーテル、ジアミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテ
ル、ジ−n−オクチルエーテル、ブチルフェニルエーテ
ル、ジフェニルエーテルなどを包含するが、これらに限
定されない。追加の有用なエーテルはグリコールエーテ
ル類、たとえばエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコールなどのモノ−およびジ−
メチル、エチルおよびブチルエーテルである。ジメトキ
シエタンおよびジエトキシエタンのようなアセタール
(1,1−エーテル)も有用である。これらの中で好ま
しいものは対称および非対称のジアルキルエーテルたと
えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ−n−ブ
チルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジ−n−オ
クチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテルなどであ
る。これらの中で最も好ましいものはメチル−t−ブチ
ルエーテルである。表1を参照のこと。 b.上記より好ましさの少ないものはハイドロカルビル
シリルおよびビスシリルエステルたとえばt−ブチルジ
メチルイソプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキ
シシラン、クロロジメチルイソプロポキシシランおよび
ヘキサメチルジシロキサンである。 c.トリス−ハイドロカルビルアミン類たとえば環状お
よび非環状の第3級アミン。これらの例としてトリエチ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、N,N,N′,
N′−テトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジ
エチレントリアミン、トリエチレンジアミン、N−メチ
ルアニリンなどがあげられる。上記(b)と同様に、こ
れらも好ましさは少ない。
次のとおりである。 a.ハイドロカルビルエーテル類たとえば環状または非
環状エーテル、対称および非対称のジアルキル、ジアリ
ールおよびアルキルアリールエーテル。これらはジメチ
ルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、
メチルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、アニ
ソール、メチル−t−ブチルエーテル、ジ−n−ブチル
エーテル、ジアミルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテ
ル、ジ−n−オクチルエーテル、ブチルフェニルエーテ
ル、ジフェニルエーテルなどを包含するが、これらに限
定されない。追加の有用なエーテルはグリコールエーテ
ル類、たとえばエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコールなどのモノ−およびジ−
メチル、エチルおよびブチルエーテルである。ジメトキ
シエタンおよびジエトキシエタンのようなアセタール
(1,1−エーテル)も有用である。これらの中で好ま
しいものは対称および非対称のジアルキルエーテルたと
えばジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジ−n−ブ
チルエーテル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジ−n−オ
クチルエーテル、メチル−t−ブチルエーテルなどであ
る。これらの中で最も好ましいものはメチル−t−ブチ
ルエーテルである。表1を参照のこと。 b.上記より好ましさの少ないものはハイドロカルビル
シリルおよびビスシリルエステルたとえばt−ブチルジ
メチルイソプロポキシシラン、トリメチルイソプロポキ
シシラン、クロロジメチルイソプロポキシシランおよび
ヘキサメチルジシロキサンである。 c.トリス−ハイドロカルビルアミン類たとえば環状お
よび非環状の第3級アミン。これらの例としてトリエチ
ルアミン、トリ−n−ブチルアミン、N,N,N′,
N′−テトラメチルエチレンジアミン、ペンタメチルジ
エチレントリアミン、トリエチレンジアミン、N−メチ
ルアニリンなどがあげられる。上記(b)と同様に、こ
れらも好ましさは少ない。
【0007】本発明の触媒または原型触媒は殆どのアル
キルリチウムの収率を改良するけれども、若干のアルキ
ルリチウム種は他のものよりも大きく影響を受ける。す
なわち、アルキルリチウムの製造のためのアルキルハラ
イドとリチウム基材との反応において、立体障害の炭素
−ハロゲン結合をもつアルキルハライドは触媒の存在に
対してより敏感であるようにみえ、容易に接近しうる炭
素−ハロゲン結合をもつアルキルハライドが行なうより
もずっと大きい収率改良(無触媒操業に比べての改良)
を示す。立体障害アルキルハライドは炭素−ハロゲン結
合を包囲して嵩高の基または多重基を有するアルキルハ
ライドである。それらはたとえばt−ブチルクロライド
におけるような第3級炭素−ハロゲン結合、あるいは近
くに(αまたはβ)長鎖アルキル置換分をもつ1級また
は2級炭素−ハロゲン結合たとえば2−エチルヘキシル
クロライドまたは2−メチルブチルクロライドである。
すなわち、リチウム金属との反応において触媒作用を受
けて対応するアルキルリチウムを生成するアルキルハラ
イドとして(a)1級アルキルハライドたとえばn−ブ
チルクロライド、n−ヘキシルクロライド、n−オクチ
ルクロライド、2−エチルヘキシルクロライド、および
2−メチルブチルクロライド、(b)2級アルキルハラ
イドたとえばイソプロピルクロライド、2級ブチルクロ
ライド、およびシクロヘキシルクロライド、および
(c)3級アルキルハライドたとえばt−ブチルクロラ
イドおよびt−アミルクロライド(表2参照)があげら
れるが、これらに限定されない。
キルリチウムの収率を改良するけれども、若干のアルキ
ルリチウム種は他のものよりも大きく影響を受ける。す
なわち、アルキルリチウムの製造のためのアルキルハラ
イドとリチウム基材との反応において、立体障害の炭素
−ハロゲン結合をもつアルキルハライドは触媒の存在に
対してより敏感であるようにみえ、容易に接近しうる炭
素−ハロゲン結合をもつアルキルハライドが行なうより
もずっと大きい収率改良(無触媒操業に比べての改良)
を示す。立体障害アルキルハライドは炭素−ハロゲン結
合を包囲して嵩高の基または多重基を有するアルキルハ
ライドである。それらはたとえばt−ブチルクロライド
におけるような第3級炭素−ハロゲン結合、あるいは近
くに(αまたはβ)長鎖アルキル置換分をもつ1級また
は2級炭素−ハロゲン結合たとえば2−エチルヘキシル
クロライドまたは2−メチルブチルクロライドである。
すなわち、リチウム金属との反応において触媒作用を受
けて対応するアルキルリチウムを生成するアルキルハラ
イドとして(a)1級アルキルハライドたとえばn−ブ
チルクロライド、n−ヘキシルクロライド、n−オクチ
ルクロライド、2−エチルヘキシルクロライド、および
2−メチルブチルクロライド、(b)2級アルキルハラ
イドたとえばイソプロピルクロライド、2級ブチルクロ
ライド、およびシクロヘキシルクロライド、および
(c)3級アルキルハライドたとえばt−ブチルクロラ
イドおよびt−アミルクロライド(表2参照)があげら
れるが、これらに限定されない。
【0008】W.N.スミスは米国特許第3,420,
903号において、n−ペンタン中のt−ブチルリチウ
ムの収率は少量のアルコールたとえばn−、2級・また
は3級ブタノールの添加によって40%から約70〜7
5%にまで改良しうることを述べている。我々はこれら
の結果を支持した、そして今や更に我々のエーテル触媒
の使用がスミスのアルコール接触法を実質的に改良する
ことを示した(表3参照)。たとえば、触媒としてのメ
チル−t−ブチルエーテルの使用は98%程度の高い
(実質的に定量的)収率でn−ペンタン中でt−ブチル
リチウムを得ている(表2参照)。
903号において、n−ペンタン中のt−ブチルリチウ
ムの収率は少量のアルコールたとえばn−、2級・また
は3級ブタノールの添加によって40%から約70〜7
5%にまで改良しうることを述べている。我々はこれら
の結果を支持した、そして今や更に我々のエーテル触媒
の使用がスミスのアルコール接触法を実質的に改良する
ことを示した(表3参照)。たとえば、触媒としてのメ
チル−t−ブチルエーテルの使用は98%程度の高い
(実質的に定量的)収率でn−ペンタン中でt−ブチル
リチウムを得ている(表2参照)。
【0009】我々は0.2モル%程度の少量のエーテル
たとえばジ−n−オクチルまたはメチル−t−ブチルエ
ーテルがリチウム金属とt−ブチルクロライドとの反応
を有効に接触するために使用することが必要であること
をも発見した(表4参照)。これに対してスミスは約
0.6〜2.5モル%のC4アルコールまたはアルコキ
シドの使用を教示している。
たとえばジ−n−オクチルまたはメチル−t−ブチルエ
ーテルがリチウム金属とt−ブチルクロライドとの反応
を有効に接触するために使用することが必要であること
をも発見した(表4参照)。これに対してスミスは約
0.6〜2.5モル%のC4アルコールまたはアルコキ
シドの使用を教示している。
【0010】これは爾後の有機メタロイド化合物の合成
において重要になる。たとえば、生成するt−ブチルリ
チウムからのt−ブチルジメチルクロロシランの合成で
あるが、この場合、最良の結果のためには十分なモル%
以上のアルコールが必要であるが、僅か約0.1〜0.
2モル%のエーテルが必要であるにすぎない(本願の優
先日と同日付けのUSSN736660の分割出願参
照)。
において重要になる。たとえば、生成するt−ブチルリ
チウムからのt−ブチルジメチルクロロシランの合成で
あるが、この場合、最良の結果のためには十分なモル%
以上のアルコールが必要であるが、僅か約0.1〜0.
2モル%のエーテルが必要であるにすぎない(本願の優
先日と同日付けのUSSN736660の分割出願参
照)。
【0011】(使用するアルキルクロライドまたはアル
キルリチウムを基準にして10〜100モル%およびそ
れ以上の)遥かに多量のエーテルの使用は両方の方法に
とって有害であり(表5参照)、所望の生成物の収率を
劇的に低下させる。たとえばt−ブチルリチウムの収率
はMTBE触媒を1モル%から10モル%に増大させる
ことによって約95%+から84%に低下する。このよ
うな多量のエーテル中でアルキルリチウム化合物を製造
することは当業技術において周知であるけれども、t−
ブチルリチウムによってエーテルが攻撃されるのを防ぐ
ために反応試剤は非常に低温(ジエチルエーテル中のt
−ブチルリチウムについて−35°以下)で使用しなけ
ればならない。この温度を工業的(プラント)規模で達
成するのは困難である。本発明のエーテル触媒の操作範
囲はアルキルハライドを基準にして0.1〜10モル%
であり、好ましい範囲は0.5〜2モル%であり、最も
好ましい範囲は0.8〜1.2モル%である。驚くべき
ことに、好ましい範囲においてエーテルは容易に開裂せ
ず、低温操作は必要でなく、そして本発明の炭化水素溶
液生成物の熱安定性はすぐれている。
キルリチウムを基準にして10〜100モル%およびそ
れ以上の)遥かに多量のエーテルの使用は両方の方法に
とって有害であり(表5参照)、所望の生成物の収率を
劇的に低下させる。たとえばt−ブチルリチウムの収率
はMTBE触媒を1モル%から10モル%に増大させる
ことによって約95%+から84%に低下する。このよ
うな多量のエーテル中でアルキルリチウム化合物を製造
することは当業技術において周知であるけれども、t−
ブチルリチウムによってエーテルが攻撃されるのを防ぐ
ために反応試剤は非常に低温(ジエチルエーテル中のt
−ブチルリチウムについて−35°以下)で使用しなけ
ればならない。この温度を工業的(プラント)規模で達
成するのは困難である。本発明のエーテル触媒の操作範
囲はアルキルハライドを基準にして0.1〜10モル%
であり、好ましい範囲は0.5〜2モル%であり、最も
好ましい範囲は0.8〜1.2モル%である。驚くべき
ことに、好ましい範囲においてエーテルは容易に開裂せ
ず、低温操作は必要でなく、そして本発明の炭化水素溶
液生成物の熱安定性はすぐれている。
【0012】実施例1に従って、然し触媒を添加せずに
製造した比較試料を表6において本発明の触媒を添加し
て製造した実施例と比較して熱安定性を検討した。本発
明の最も好ましい実施例BTBEはエーテルを含まない
比較試料と同様に安定であった。
製造した比較試料を表6において本発明の触媒を添加し
て製造した実施例と比較して熱安定性を検討した。本発
明の最も好ましい実施例BTBEはエーテルを含まない
比較試料と同様に安定であった。
【0013】W.N.スミスのアルコール触媒と本発明
のエーテル触媒との間の最も決定的な相違は恐らく、ペ
ンタンより高沸点の溶媒中で達成しうるt−ブチルリチ
ウムの収率を比較するときに明らかである。スミスは
J.Organometal.Chem.,82(19
74)1−6において、ヘキサンまたはヘキサン/イソ
ペンタン中でのt−ブチルリチウムの最大達成収率は3
0%であることを示している。我々の好ましい触媒であ
るメチル−t−ブチルエーテルを使用すれば、ヘプタン
中での収率はペンタン中での収率(約90%)に近い
(表4参照)。ジ−n−オクチルエーテルでさえスミス
よりすぐれた結果(70%)を与える。ここでもW.
N.スミスはリチウム金属とヘキサン中での希釈t−ブ
タノールとの接触は爾後にt−ブチルクロライドと反応
させたとき増大した収率を与えないことを述べている。
他方、我々は我々のエーテル触媒がリチウム金属に又は
ハライド供給物に加えることができ良好な結果を与える
ことを見出した(実施例2および3参照)。
のエーテル触媒との間の最も決定的な相違は恐らく、ペ
ンタンより高沸点の溶媒中で達成しうるt−ブチルリチ
ウムの収率を比較するときに明らかである。スミスは
J.Organometal.Chem.,82(19
74)1−6において、ヘキサンまたはヘキサン/イソ
ペンタン中でのt−ブチルリチウムの最大達成収率は3
0%であることを示している。我々の好ましい触媒であ
るメチル−t−ブチルエーテルを使用すれば、ヘプタン
中での収率はペンタン中での収率(約90%)に近い
(表4参照)。ジ−n−オクチルエーテルでさえスミス
よりすぐれた結果(70%)を与える。ここでもW.
N.スミスはリチウム金属とヘキサン中での希釈t−ブ
タノールとの接触は爾後にt−ブチルクロライドと反応
させたとき増大した収率を与えないことを述べている。
他方、我々は我々のエーテル触媒がリチウム金属に又は
ハライド供給物に加えることができ良好な結果を与える
ことを見出した(実施例2および3参照)。
【0014】ジメチルジクロロシランをアルキル化して
t−ブチルジメチルクロロシランを製造するコストに及
ぼすt−ブチルリチウムの改良された収率の効果の程度
は表7に見出すことができる。t−ブチルリチウムにつ
いて示す原料コスト(RMC)はえられるアルキル化生
成物のRMCの主要%を表わすので、後者のコストのか
なりな上昇はt−ブチルリチウムの収率のそれぞれ5%
の低下によって行なわれる。すなわち、t−ブチルリチ
ウムの80%収率は、定量的収率と比べたとき、最終生
成物のコストに殆ど18%を付加する。この差異はこの
ような生成物を市場価格で享受する競合者に著しく影響
を及ぼす。
t−ブチルジメチルクロロシランを製造するコストに及
ぼすt−ブチルリチウムの改良された収率の効果の程度
は表7に見出すことができる。t−ブチルリチウムにつ
いて示す原料コスト(RMC)はえられるアルキル化生
成物のRMCの主要%を表わすので、後者のコストのか
なりな上昇はt−ブチルリチウムの収率のそれぞれ5%
の低下によって行なわれる。すなわち、t−ブチルリチ
ウムの80%収率は、定量的収率と比べたとき、最終生
成物のコストに殆ど18%を付加する。この差異はこの
ような生成物を市場価格で享受する競合者に著しく影響
を及ぼす。
【0015】我々はこれらのアルキルリチウム溶液中の
可溶性無機クロライド濃度が我々のエーテル触媒を使用
するときに著しく低いということを予想外にも発見し
た。すなわち、触媒なしに製造したn−ブチルリチウム
は200〜300ppmの溶解無機クロライド(LiC
l)を一般に含むのに対して、MTBE触媒を使用した
場合にはこの値は30ppm未満に低下する。これは、
溶液の透明度と品質が改良され、重合および有機合成の
ような反応の用途において殆ど妨害が起らない、という
点で有利である。
可溶性無機クロライド濃度が我々のエーテル触媒を使用
するときに著しく低いということを予想外にも発見し
た。すなわち、触媒なしに製造したn−ブチルリチウム
は200〜300ppmの溶解無機クロライド(LiC
l)を一般に含むのに対して、MTBE触媒を使用した
場合にはこの値は30ppm未満に低下する。これは、
溶液の透明度と品質が改良され、重合および有機合成の
ような反応の用途において殆ど妨害が起らない、という
点で有利である。
【0016】アルキルリチウム化合物の合成において重
要な他の因子はリチウム金属のナトリウム含量、リチウ
ム金属の粒径、リチウム金属の表面状態、および十分に
過剰なリチウム金属の使用である。
要な他の因子はリチウム金属のナトリウム含量、リチウ
ム金属の粒径、リチウム金属の表面状態、および十分に
過剰なリチウム金属の使用である。
【0017】リチウム金属のナトリウム含量は少なくと
も0.5重量%、好ましくは0.7%より大きく、リチ
ウム金属の粒径は200ミクロン以下、好ましくは10
0ミクロン以下である。最良の結果は一般に触媒を使用
しない場合に新しく調製した金属についてえられるけれ
ども、リチウム金属表面の状態は触媒を使用する場合に
これよりずっと小さい因子である。
も0.5重量%、好ましくは0.7%より大きく、リチ
ウム金属の粒径は200ミクロン以下、好ましくは10
0ミクロン以下である。最良の結果は一般に触媒を使用
しない場合に新しく調製した金属についてえられるけれ
ども、リチウム金属表面の状態は触媒を使用する場合に
これよりずっと小さい因子である。
【0018】
【実施例】次の実施例により本発明を更に具体的に説明
する。 実施例1 1モル%のTHFを使用するt−ブチルリチウムの合成 還流コンデンサー、反応器に液体材料を加えるための添
加ロート、温度指示装置、および反応物質を攪拌する機
器を備える反応器に、13.4gのリチウム分散液
(1.94モル)、165mlのペンタンおよび15m
lのブチルリチウムの1.5M溶液(ペンタン中)を充
てんした。リチウム分散液は0.74重量%の合金ナト
リウムを含んでいた。反応器の内容物を1.5時間攪拌
してリチウム金属表面をコンディショニング(活性化)
した。次に、65.03gのt−ブチルクロライド
(0.702モル)、55mlのペンタン、および0.
48gのテトラヒドロフラン(6.6ミリモル)を添加
ロートに加えた。反応器の内容物を加熱マントルによっ
て還流温度(35℃)に加熱した。1mlの希釈t−ブ
チルクロイドの添加によって反応を開始させた。反応の
開始は1℃の温度上昇、および還流速度の増大によって
明らかである。残りの希釈ハライド溶液を次の2時間4
分にわたって滴下状に加え、このあいだ反応速度を一定
の還流温度に保持した。この期間中、激しい反応が続
き、更に加熱する必要はなかった。反応混合物を更に1
時間半攪拌してからガラスフィルターロートに移して濾
過し、透明淡黄色溶液をえた。固体濾過残渣を50ml
づつのペンタンで3回洗浄した。洗浄した濾過残渣を主
要濾過溶液と一緒にした。t−ブチルリチウム溶液の1
5.5重量溶液の合計260.7gをえた。回収した収
率は使用したt−ブチルクロライドの量を基準にして9
0.1%であった。
する。 実施例1 1モル%のTHFを使用するt−ブチルリチウムの合成 還流コンデンサー、反応器に液体材料を加えるための添
加ロート、温度指示装置、および反応物質を攪拌する機
器を備える反応器に、13.4gのリチウム分散液
(1.94モル)、165mlのペンタンおよび15m
lのブチルリチウムの1.5M溶液(ペンタン中)を充
てんした。リチウム分散液は0.74重量%の合金ナト
リウムを含んでいた。反応器の内容物を1.5時間攪拌
してリチウム金属表面をコンディショニング(活性化)
した。次に、65.03gのt−ブチルクロライド
(0.702モル)、55mlのペンタン、および0.
48gのテトラヒドロフラン(6.6ミリモル)を添加
ロートに加えた。反応器の内容物を加熱マントルによっ
て還流温度(35℃)に加熱した。1mlの希釈t−ブ
チルクロイドの添加によって反応を開始させた。反応の
開始は1℃の温度上昇、および還流速度の増大によって
明らかである。残りの希釈ハライド溶液を次の2時間4
分にわたって滴下状に加え、このあいだ反応速度を一定
の還流温度に保持した。この期間中、激しい反応が続
き、更に加熱する必要はなかった。反応混合物を更に1
時間半攪拌してからガラスフィルターロートに移して濾
過し、透明淡黄色溶液をえた。固体濾過残渣を50ml
づつのペンタンで3回洗浄した。洗浄した濾過残渣を主
要濾過溶液と一緒にした。t−ブチルリチウム溶液の1
5.5重量溶液の合計260.7gをえた。回収した収
率は使用したt−ブチルクロライドの量を基準にして9
0.1%であった。
【0019】実施例2 1モル%のメチルt−ブチルエーテル(MTBE)を使
用するペンタン中のt−ブチルリチウムの製造 アルゴン雰囲気下の実施例1の反応器に14.15g
(2.04m)のリチウム粉末と170mlのペンタン
を加えた。次に10mlの1.8M t−ブチルリチウ
ム溶液を注射器から金属混合物に加え、少なくとも約4
00RPMで少なくとも1時間20分攪拌して反応器お
よび金属表面をコンデイショニングした。この間に、滴
下ロートに78.06g(0.843モル)のt−ブチ
ルクロライド、70mlのペンタンおよび0.794g
(0.009098モル)のBTBEを加えた。(注:
滴下ロートの内容物を十分に混合して均一な溶液を与え
ることが重要である)。t−ブチルクロライド溶液の添
加前に、リチウム金属/ペンタン混合物を還流温度(約
34℃)近くに加熱した。約1mlのt−ブチルクロラ
イド供給溶液を32.0℃で加えた。この添加は約1分
間で発熱を与えた。3分後に反応温度は低下し始めたの
で供給溶液の滴下状添加を始めた。(注:安全のために
反応器の下に容器を置いたが、冷却浴は使用しなかっ
た。発熱反応を還流温度で行なったが、還流はこの反応
を冷却した。)合計の添加時間は2.0時間であった。
観察された最高還流温度は36・9℃であり、供給の終
りの最終還流温度は36.0℃であった。供給完了後に
反応混合物を2 1/2時間攪拌した。この混合物を次
いで3 1/8インチのテフロン管を介して圧力フィル
タ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン雰囲
気下に濾過した。この濾過に2分間を要した。次いでこ
の反応器を毎回3×50mlのペンタンで洗浄し、洗浄
液をフィルタ中の泥にあけ、この泥も洗浄液で洗い濾過
した。最終生成物は曇った無色溶液281.1gであっ
た。曇りはフィルタを通過する微細固体によって生じ
た。溶液の透明試料の分析は添加したt−ブチルクロラ
イドのモル数を基準にして96.3%の活性R−Li
(18.49重量%)の収率および98.4%の合計塩
基(18.91重量%)の収率を示した。
用するペンタン中のt−ブチルリチウムの製造 アルゴン雰囲気下の実施例1の反応器に14.15g
(2.04m)のリチウム粉末と170mlのペンタン
を加えた。次に10mlの1.8M t−ブチルリチウ
ム溶液を注射器から金属混合物に加え、少なくとも約4
00RPMで少なくとも1時間20分攪拌して反応器お
よび金属表面をコンデイショニングした。この間に、滴
下ロートに78.06g(0.843モル)のt−ブチ
ルクロライド、70mlのペンタンおよび0.794g
(0.009098モル)のBTBEを加えた。(注:
滴下ロートの内容物を十分に混合して均一な溶液を与え
ることが重要である)。t−ブチルクロライド溶液の添
加前に、リチウム金属/ペンタン混合物を還流温度(約
34℃)近くに加熱した。約1mlのt−ブチルクロラ
イド供給溶液を32.0℃で加えた。この添加は約1分
間で発熱を与えた。3分後に反応温度は低下し始めたの
で供給溶液の滴下状添加を始めた。(注:安全のために
反応器の下に容器を置いたが、冷却浴は使用しなかっ
た。発熱反応を還流温度で行なったが、還流はこの反応
を冷却した。)合計の添加時間は2.0時間であった。
観察された最高還流温度は36・9℃であり、供給の終
りの最終還流温度は36.0℃であった。供給完了後に
反応混合物を2 1/2時間攪拌した。この混合物を次
いで3 1/8インチのテフロン管を介して圧力フィル
タ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン雰囲
気下に濾過した。この濾過に2分間を要した。次いでこ
の反応器を毎回3×50mlのペンタンで洗浄し、洗浄
液をフィルタ中の泥にあけ、この泥も洗浄液で洗い濾過
した。最終生成物は曇った無色溶液281.1gであっ
た。曇りはフィルタを通過する微細固体によって生じ
た。溶液の透明試料の分析は添加したt−ブチルクロラ
イドのモル数を基準にして96.3%の活性R−Li
(18.49重量%)の収率および98.4%の合計塩
基(18.91重量%)の収率を示した。
【0020】実施例3 0.2モル%のメチル−t−ブチルエーテル(MTB
E)を金属に添加して使用するペンタン中のt−ブチル
リチウムの製造 アルゴン雰囲気下の実施例1の反応器に14.12g
(2.03モル)のリチウム粉末および150mlのペ
ンタンを加えた。この反応に使用したリチウム分散液は
実施例2で使用したものと同じであった。次に、10m
lの1.8M t−ブチルリチウム溶液を注射器から金
属混合物に加え、攪拌して反応器および金属表面をコン
デイショニングした。このあいだに、滴下ロートに7
8.44g(0.847m)のt−ブチルクロライドお
よび85mlのペンタンを加えた。(注:滴下ロートの
内容物を十分に混合して均一溶液を与えることが重要で
ある。)t−ブチルクロライド供給溶液のリチウム金属
混合物への添加開始前に、0.161g(0.0018
3m)のMTBEを加え、混合物を還流温度(約34
℃)近くに加熱した。約1mlのt−ブチルクロライド
供給溶液を33.5℃で加えた。これは約2分間で発熱
を与えた。5分後に反応温度は低下し始めたので、供給
溶液の滴下状添加を始めた。(注:安全のために反応器
の下に容器をおいたが、冷却浴は使用しなかった。発熱
反応は還流によって冷却した。)合計の添加時間は2.
0時間であった。観察された最大還流温度は36.9℃
であり、供給の終りにおける還流温度は34.0℃であ
った。供給の完了後に反応混合物を3時間攪拌した。次
いで反応混合物を3/8インチのテフロン管から圧力フ
ィルタ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン
雰囲気下に濾過した。この濾過に2分間を要した。次い
で反応器を毎回3×50mlのペンタンで洗浄し、洗浄
液を泥に移し、この泥も洗浄液で洗い、混合し、濾過し
た。最終生成物は282.2gの無色溶液であった。分
析は、添加したt−ブチルクロライドのモル数を基準に
して88.3%の活性R−Li(16.97重量%)の
収率および89.6%全塩基(17.22重量%)の収
率であった。
E)を金属に添加して使用するペンタン中のt−ブチル
リチウムの製造 アルゴン雰囲気下の実施例1の反応器に14.12g
(2.03モル)のリチウム粉末および150mlのペ
ンタンを加えた。この反応に使用したリチウム分散液は
実施例2で使用したものと同じであった。次に、10m
lの1.8M t−ブチルリチウム溶液を注射器から金
属混合物に加え、攪拌して反応器および金属表面をコン
デイショニングした。このあいだに、滴下ロートに7
8.44g(0.847m)のt−ブチルクロライドお
よび85mlのペンタンを加えた。(注:滴下ロートの
内容物を十分に混合して均一溶液を与えることが重要で
ある。)t−ブチルクロライド供給溶液のリチウム金属
混合物への添加開始前に、0.161g(0.0018
3m)のMTBEを加え、混合物を還流温度(約34
℃)近くに加熱した。約1mlのt−ブチルクロライド
供給溶液を33.5℃で加えた。これは約2分間で発熱
を与えた。5分後に反応温度は低下し始めたので、供給
溶液の滴下状添加を始めた。(注:安全のために反応器
の下に容器をおいたが、冷却浴は使用しなかった。発熱
反応は還流によって冷却した。)合計の添加時間は2.
0時間であった。観察された最大還流温度は36.9℃
であり、供給の終りにおける還流温度は34.0℃であ
った。供給の完了後に反応混合物を3時間攪拌した。次
いで反応混合物を3/8インチのテフロン管から圧力フ
ィルタ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン
雰囲気下に濾過した。この濾過に2分間を要した。次い
で反応器を毎回3×50mlのペンタンで洗浄し、洗浄
液を泥に移し、この泥も洗浄液で洗い、混合し、濾過し
た。最終生成物は282.2gの無色溶液であった。分
析は、添加したt−ブチルクロライドのモル数を基準に
して88.3%の活性R−Li(16.97重量%)の
収率および89.6%全塩基(17.22重量%)の収
率であった。
【0021】実施例4 1モル%のメチルt−ブチル(MTBE)を使用するヘ
プタン中のt−ブチルリチウムの製造:実施例2で述べ
た通常の500ml Morton/Cleaved反
応器に、アルゴン雰囲気下、13.79g(1.98
m)のリチウム粉末および150mlのペンタンを加え
た。次に、10mlの1.75モルt−ブチルリチウム
溶液(ヘプタン中)を注射器から金属混合物に加え、攪
拌して反応器および金属表面をコンディショニングし
た。そのあいだに、滴下ロートに76.53g(0.8
267m)のt−ブチルクロライド、80mlのヘプタ
ン、および0.805g(0.00913m)のBTB
Eを加えた。(注:滴下ロートの内容物を十分に混合し
て均一溶液を与えることが重要である)t−ブチルクロ
ライド溶液の添加開始の直前に、リチウム金属溶媒混合
物を38.0℃に加熱した。約1mlのt−ブチルクロ
ライド溶液を加えた。これは30秒で発熱を与えた。約
3分後に反応温度が低下し始めたので、供給溶液の滴下
状添加を始めた。ドライアイスを周期的に加えたヘキサ
ンの冷却浴(−18℃)を使用して反応温度を35〜4
0℃に保った。合計の添加時間は1.7時間であった。
還流は観察されなかった。ハライド供給の完了後に反応
混合物を3 1/2時間攪拌した。この混合物を次いで
3/8インチのテフロン管から圧力フィルタ(フィルタ
助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン雰囲気下に濾過し
た。この濾過に4分間かかった。次いで反応器を毎回3
×50mlのヘプタンで洗浄し、洗浄液をフィルタタ中
の泥に移した。この泥も洗浄液で洗い、混合し、濾過し
た。最終生成物は305.2gの無色溶液であった。フ
ィルタを通過する微細固体によって僅かな曇りが生じ
た。透明溶液試料の分析は、添加したt−ブチルクロラ
イドのモル数を基準にして87.0%の活性R−Li
(15.10重量%)の収率および89.1%の全塩基
(15.46重量%)の収率を示した。
プタン中のt−ブチルリチウムの製造:実施例2で述べ
た通常の500ml Morton/Cleaved反
応器に、アルゴン雰囲気下、13.79g(1.98
m)のリチウム粉末および150mlのペンタンを加え
た。次に、10mlの1.75モルt−ブチルリチウム
溶液(ヘプタン中)を注射器から金属混合物に加え、攪
拌して反応器および金属表面をコンディショニングし
た。そのあいだに、滴下ロートに76.53g(0.8
267m)のt−ブチルクロライド、80mlのヘプタ
ン、および0.805g(0.00913m)のBTB
Eを加えた。(注:滴下ロートの内容物を十分に混合し
て均一溶液を与えることが重要である)t−ブチルクロ
ライド溶液の添加開始の直前に、リチウム金属溶媒混合
物を38.0℃に加熱した。約1mlのt−ブチルクロ
ライド溶液を加えた。これは30秒で発熱を与えた。約
3分後に反応温度が低下し始めたので、供給溶液の滴下
状添加を始めた。ドライアイスを周期的に加えたヘキサ
ンの冷却浴(−18℃)を使用して反応温度を35〜4
0℃に保った。合計の添加時間は1.7時間であった。
還流は観察されなかった。ハライド供給の完了後に反応
混合物を3 1/2時間攪拌した。この混合物を次いで
3/8インチのテフロン管から圧力フィルタ(フィルタ
助剤なし)にポンプ給送し、アルゴン雰囲気下に濾過し
た。この濾過に4分間かかった。次いで反応器を毎回3
×50mlのヘプタンで洗浄し、洗浄液をフィルタタ中
の泥に移した。この泥も洗浄液で洗い、混合し、濾過し
た。最終生成物は305.2gの無色溶液であった。フ
ィルタを通過する微細固体によって僅かな曇りが生じ
た。透明溶液試料の分析は、添加したt−ブチルクロラ
イドのモル数を基準にして87.0%の活性R−Li
(15.10重量%)の収率および89.1%の全塩基
(15.46重量%)の収率を示した。
【0022】実施例5 1−モル%のジ−n−オクチルエーテル(DOE)を使
用するヘプタン中のt−ブチルリチウムの製造 窒素雰囲気下の、実施例2の反応器に、16.20g
(2.33m)のリチウム粉末および170mlのペン
タンを加えた。この反応に使用したリチウム分散液は実
施例2で使用したのと同じであった。次に、10mlの
1.8Mのt−ブチルリチウム溶液を注射器から金属混
合物に加え、攪拌して反応器および金属表面をコンディ
ショニングした。そのあいだに、滴下ロートに89.7
3g(0.969m)のt−ブチルクロライド、100
mlのペンタン、および2.275g(0.00938
m)のDOEを加えた。(注:滴下ロートの内容物を十
分に混合して均一溶液を与えることが重要である。)t
−ブチルクロライド供給溶液の添加前に、リチウム金属
を還流温度(約34℃)近くに加熱した。約1mlのt
−ブチルクロライド供給溶液を32.7℃で加えた。こ
れは3分間で発熱を与えた。約3分後に反応温度が低下
し始めたので供給溶液の滴下状添加を始めた。(注:安
全のために反応器の下に容器を置いたが、冷却浴は使用
しなかった。発熱反応は冷却フィンガーコンデンサー
(ドライアイス/ヘキサン)を還流し去ることによって
冷却した。)合計のt−ブチルクロライド添加時間は2
1/2時間であった。観察された最大還流温度は3
6.4℃であり、供給の終りにおける最終還流温度は3
4.0℃であった。供給完了後に反応混合物を1時間2
4分攪拌した。次いで混合物を3/8インチのテフロン
管から圧力フィルタ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送
し、アルゴン雰囲気下で濾過した。この濾過に2分間を
要した。次いで反応器を毎回3×50mlのペンタンで
3回洗浄し、洗浄液をフィルタ中の泥に移し、これも洗
浄液で洗って濾過した。最終生成物は309.9gの曇
った無色溶液であった。曇りはフィルタ中を通過する微
細固体によって生じた。透明試料の分析は、添加したt
−ブチルクロライドのモル数を基準にして87.5%の
活性R−Li(17.52重量%)の収率および88.
2%のアルカリ生成物(17.67重量%)の収率を示
した。
用するヘプタン中のt−ブチルリチウムの製造 窒素雰囲気下の、実施例2の反応器に、16.20g
(2.33m)のリチウム粉末および170mlのペン
タンを加えた。この反応に使用したリチウム分散液は実
施例2で使用したのと同じであった。次に、10mlの
1.8Mのt−ブチルリチウム溶液を注射器から金属混
合物に加え、攪拌して反応器および金属表面をコンディ
ショニングした。そのあいだに、滴下ロートに89.7
3g(0.969m)のt−ブチルクロライド、100
mlのペンタン、および2.275g(0.00938
m)のDOEを加えた。(注:滴下ロートの内容物を十
分に混合して均一溶液を与えることが重要である。)t
−ブチルクロライド供給溶液の添加前に、リチウム金属
を還流温度(約34℃)近くに加熱した。約1mlのt
−ブチルクロライド供給溶液を32.7℃で加えた。こ
れは3分間で発熱を与えた。約3分後に反応温度が低下
し始めたので供給溶液の滴下状添加を始めた。(注:安
全のために反応器の下に容器を置いたが、冷却浴は使用
しなかった。発熱反応は冷却フィンガーコンデンサー
(ドライアイス/ヘキサン)を還流し去ることによって
冷却した。)合計のt−ブチルクロライド添加時間は2
1/2時間であった。観察された最大還流温度は3
6.4℃であり、供給の終りにおける最終還流温度は3
4.0℃であった。供給完了後に反応混合物を1時間2
4分攪拌した。次いで混合物を3/8インチのテフロン
管から圧力フィルタ(フィルタ助剤なし)にポンプ給送
し、アルゴン雰囲気下で濾過した。この濾過に2分間を
要した。次いで反応器を毎回3×50mlのペンタンで
3回洗浄し、洗浄液をフィルタ中の泥に移し、これも洗
浄液で洗って濾過した。最終生成物は309.9gの曇
った無色溶液であった。曇りはフィルタ中を通過する微
細固体によって生じた。透明試料の分析は、添加したt
−ブチルクロライドのモル数を基準にして87.5%の
活性R−Li(17.52重量%)の収率および88.
2%のアルカリ生成物(17.67重量%)の収率を示
した。
【0023】実施例6 メチルt−ブチルエーテルを触媒として使用するペンタ
ン中の2−エチルヘキシルリチウムの製造 0.66%の合金ナトリウムを含む粉末状のリチウム金
属(19.64g、2.83モル)を乾燥ペンタン30
0mlを使用してフラスコに移した。10mlの0.7
7M(7.7ミリモル)の2−エチルヘキシルリチウム
(ペンタン中)をコンディショナーとして加え、混合物
を30分間攪拌した。0.79gの乾燥メチルt−ブチ
ルエーテル(2−エチルヘキシルクロライドを基準にし
て0.1モル%)をフラスコに加え、内容物を還流加熱
した。次いで、123.9g(0.81モル)の2−エ
チルヘキシルクロライドの全量から2mlづつの量の2
回を加えて反応を開始した。2−エチルヘキシルクロラ
イドの残余を一定速度で155分間にわたって加えた
が、この期間中には更なる加熱を必要としなかった。ハ
ライド供給のあいだ一定速度の還流を保った。この期間
中、反応温度は35.3〜39.8℃に上昇したが、ハ
ライド添加の完了時点で低下した。次いで反応混合物を
一夜除々に攪拌し、濾過して249.9gの曇った溶液
を得た。 分析結果 全塩基=37.90重量% 活性分析=37.59重量% 収率=96.6%
ン中の2−エチルヘキシルリチウムの製造 0.66%の合金ナトリウムを含む粉末状のリチウム金
属(19.64g、2.83モル)を乾燥ペンタン30
0mlを使用してフラスコに移した。10mlの0.7
7M(7.7ミリモル)の2−エチルヘキシルリチウム
(ペンタン中)をコンディショナーとして加え、混合物
を30分間攪拌した。0.79gの乾燥メチルt−ブチ
ルエーテル(2−エチルヘキシルクロライドを基準にし
て0.1モル%)をフラスコに加え、内容物を還流加熱
した。次いで、123.9g(0.81モル)の2−エ
チルヘキシルクロライドの全量から2mlづつの量の2
回を加えて反応を開始した。2−エチルヘキシルクロラ
イドの残余を一定速度で155分間にわたって加えた
が、この期間中には更なる加熱を必要としなかった。ハ
ライド供給のあいだ一定速度の還流を保った。この期間
中、反応温度は35.3〜39.8℃に上昇したが、ハ
ライド添加の完了時点で低下した。次いで反応混合物を
一夜除々に攪拌し、濾過して249.9gの曇った溶液
を得た。 分析結果 全塩基=37.90重量% 活性分析=37.59重量% 収率=96.6%
【0024】比較例(USSN 749245からの実
験例) ナトリウムを使用する2−エチルヘキシルリチウムの製
造 実験300−58 操作法 リチウム分散液(2.16モル)をガラスフィルタロー
ト中で毎回100ml量のペンタンで2回洗浄し、50
0mlのペンタンと共に反応器に移した。n−ブチルク
ロライド(1.5g)で反応を開始させた。反応開始は
5.3℃の温度上昇で立証された。反応混合物を7分間
攪拌し、次いで2−エチルヘキシル(2g)を加えた。
3分後に反応の証拠(発熱)がないことを観察した後
に、2−エチルヘキシルクロライド(1g)を再び加え
た。更に3分たった後、反応の証拠がなかった(温度=
27℃)。次いで反応混合物を還流(35.9℃)にも
たらし、更に2−エチルヘキシルクロライド(2g)を
加えた。還流は迅速に静まり、更に3時間攪拌した後に
反応の証拠はなかった。2−エチルヘキシルクロライド
(3g)により反応を開始させる試みは次の2時間の期
間中失敗した。次に、油中ナトリウム分散液(0.97
モルのNaを含む)を反応器に移し、10分間加熱し
た。このとき2−エチルヘキシルクロライド(1g)の
添加は4℃の温度上昇から明らかなように迅速な反応を
もたらした。反応温度を還流に保ちながら、残余の2−
エチルヘキシルクロライド(114g)を166分間に
わたって添加した。反応混合物を更に2時間攪拌してか
ら濾過した。濾過によりペンタン中の2−エチルヘキシ
ルリチウムの黄色溶液がえられた。 分析結果: 全塩基=1.87M 活性分析=1.86M Li(ICP)=1.76M Na(ICP)=1ppm 無機クロライド=610ppm NMR=1.89M 収率=88.4%回収 この実験は合金量のナトリウム(0.75重量%)が還
流ヘプタン中で2−エチルヘキシルクロライドと反応し
ないことを示している。
験例) ナトリウムを使用する2−エチルヘキシルリチウムの製
造 実験300−58 操作法 リチウム分散液(2.16モル)をガラスフィルタロー
ト中で毎回100ml量のペンタンで2回洗浄し、50
0mlのペンタンと共に反応器に移した。n−ブチルク
ロライド(1.5g)で反応を開始させた。反応開始は
5.3℃の温度上昇で立証された。反応混合物を7分間
攪拌し、次いで2−エチルヘキシル(2g)を加えた。
3分後に反応の証拠(発熱)がないことを観察した後
に、2−エチルヘキシルクロライド(1g)を再び加え
た。更に3分たった後、反応の証拠がなかった(温度=
27℃)。次いで反応混合物を還流(35.9℃)にも
たらし、更に2−エチルヘキシルクロライド(2g)を
加えた。還流は迅速に静まり、更に3時間攪拌した後に
反応の証拠はなかった。2−エチルヘキシルクロライド
(3g)により反応を開始させる試みは次の2時間の期
間中失敗した。次に、油中ナトリウム分散液(0.97
モルのNaを含む)を反応器に移し、10分間加熱し
た。このとき2−エチルヘキシルクロライド(1g)の
添加は4℃の温度上昇から明らかなように迅速な反応を
もたらした。反応温度を還流に保ちながら、残余の2−
エチルヘキシルクロライド(114g)を166分間に
わたって添加した。反応混合物を更に2時間攪拌してか
ら濾過した。濾過によりペンタン中の2−エチルヘキシ
ルリチウムの黄色溶液がえられた。 分析結果: 全塩基=1.87M 活性分析=1.86M Li(ICP)=1.76M Na(ICP)=1ppm 無機クロライド=610ppm NMR=1.89M 収率=88.4%回収 この実験は合金量のナトリウム(0.75重量%)が還
流ヘプタン中で2−エチルヘキシルクロライドと反応し
ないことを示している。
【0025】実施例7 メチルt−ブチルエーテルを触媒として使用するイソプ
ロピルリチウムの製造:リチウム粉末(16g、2.3
1モル)を毎回100mlのペンタンを3回使用して反
応器に移し、混合物を還流加熱した。0.85(0.0
096m)のメチルt−ブチルエーテルを添加ロート中
で75.4g(0.96モル)のイソプロピルクロライ
ドと混合し、この混合物を金属懸濁液に滴下状に加え
た。還流を2.5時間にわたって保持した。一夜おだや
かに攪拌した後に、混合物を濾過し、泥をペンタンで2
回洗浄した。容量400ml(257.9g)の淡黄色
溶液をえた、分析は15.7重量%のイソプロピルリチ
ウムを示した。収率84.3%。メチルt−ブチルエー
テル触媒を使用しなかった以外はすべての他の因子を同
じに保った比較実験において、イソプロピルリチウムの
収率は79.2%にすぎなかった。
ロピルリチウムの製造:リチウム粉末(16g、2.3
1モル)を毎回100mlのペンタンを3回使用して反
応器に移し、混合物を還流加熱した。0.85(0.0
096m)のメチルt−ブチルエーテルを添加ロート中
で75.4g(0.96モル)のイソプロピルクロライ
ドと混合し、この混合物を金属懸濁液に滴下状に加え
た。還流を2.5時間にわたって保持した。一夜おだや
かに攪拌した後に、混合物を濾過し、泥をペンタンで2
回洗浄した。容量400ml(257.9g)の淡黄色
溶液をえた、分析は15.7重量%のイソプロピルリチ
ウムを示した。収率84.3%。メチルt−ブチルエー
テル触媒を使用しなかった以外はすべての他の因子を同
じに保った比較実験において、イソプロピルリチウムの
収率は79.2%にすぎなかった。
【0026】本発明の実施に有用な炭化水素は液状の脂
肪族、脂環族および芳香族の炭化水素類である。これら
の例としてイソペンタン、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ペンタン、2−エチルヘキサン、オクタンお
よびそれらの混合物があげられるが、これらに限定され
ない。
肪族、脂環族および芳香族の炭化水素類である。これら
の例としてイソペンタン、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン、ペンタン、2−エチルヘキサン、オクタンお
よびそれらの混合物があげられるが、これらに限定され
ない。
【0027】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 31/12 X 8017−4G C07B 61/00 300 (72)発明者 ジェームス アンソニー シュワインドマ ン アメリカ合衆国ノース カロライナ州 28269 チャーロット メルシャイア レ ーン 3913 (72)発明者 コンラド ウィリアム カミンスキー アメリカ合衆国ノース カロライナ州 28054 ガストニア イーストウッド ド ライブ 516 (72)発明者 ジョン フランシス エンジェル アメリカ合衆国ノース カロライナ州 28012 ベルモント ピンクニィー ドラ イブ 5024 (72)発明者 ビー トロイ ドーバー アメリカ合衆国ノース カロライナ州 28086 キングス マウンティン ロング ブランチ ロード 214
Claims (13)
- 【請求項1】 リチウム、ナトリウムおよびカリウムか
らえらばれたアルカリ金属を3〜20個の炭素原子を含
むアルキルハライドでアルキル化する接触法において、
該反応を炭化水素溶媒中で次式 (R、R1およびR2は独立に水素、ハロゲン、1〜1
3個の炭素原子を含むアルキルおよびアルケニル基、3
〜10個の炭素原子を含むシクロアルキル基、6〜18
個の炭素原子を含むアリール基からえらばれ;R3は独
立に6〜18個の炭素原子を含むアリール基、酸素、窒
素および硫黄からえらばれた1〜2個のヘテロ原子をも
つ4〜6員複素環炭素含有基、2〜13個の炭素原子を
含むヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、モノア
ルキルアミノアルキルおよびジアルキルアミノアルキル
の基からえらばれ;Mはケイ素、炭素、ゲルマニウムお
よびスズからえらばれ;Aは酸素および窒素からえらば
れ、そしてxおよびyは独立に0〜3の値をもつ、ただ
しAが酸素であるときはx+y=2であり、Aが窒素で
あるときはx+y=3である)によって表される触媒化
合物の存在下で行うことを特徴とする方法。 - 【請求項2】 触媒化合物 がAが酸素でありR3がテトラメチレン基である環状エ
ーテルであることを特徴とする請求項1の方法。 - 【請求項3】 環状エーテルがテトラヒドロフランおよ
びメチルテトラヒドロフランから成る群から選ばれるこ
とを特徴とする請求項2の方法。 - 【請求項4】 触媒化合物 がMが炭素でありAが酸素でありx+yが2であるビス
−ハイドロカルビルエーテルであることを特徴とする請
求項1の方法。 - 【請求項5】 ビス−ハイドロカルビルエーテルがジエ
チルエーテル、ジメチルエーテル、メチル−t−ブチル
エーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジ−アミルエーテ
ル、ジ−n−ヘキシルエーテル、ジ−n−オクチルエー
テル、およびジエチレングリコールのジメチルエーテル
から成る群からえらばれることを特徴とする請求項4の
方法。 - 【請求項6】 触媒化合物 がR、R1、R2およびR3が前記と同じ意味をもちM
がケイ素でありAが酸素でありxおよびyが1である混
合ハイドロカルビルシリルエーテルであることを特徴と
する請求項4の方法。 - 【請求項7】 ハイドロカルビルシリルエーテルがクロ
ロジメチルイソプロポキシシラン、トリメチルイソプロ
ポキシシラン、メチルジクロロイソプロポキシシラン、
およびt−ブチルジメチルイソプロポキシシランから成
る群からえらばれることを特徴とする請求項6の方法。 - 【請求項8】 触媒化合物 がMが炭素でありAが窒素でありx+yが3であるトリ
ス−ハイドロカルビルアミンであることを特徴とする請
求項1の方法。 - 【請求項9】 トリス−ハイドロカルビルアミンがトリ
エチルアミン、トリブチルアミン、トリヘキシルアミ
ン、トリメチルアミン、メチル−ジブチルアミン、テト
ラメチルエチレンジアミン、およびペンタメチルエチレ
ントリアミンから成る群から選ばれることを特徴とする
請求項8の方法。 - 【請求項10】 障害アルキル基がt−ブチル基および
2−エチルヘキシル基からえらばれる障害アルキルクロ
ライドをリチウムと0.02〜5.0モル%の2〜16
個の炭素原子を含むハイドロカルビルエーテルからえら
ばれる化合物の存在下に炭化水素溶媒中で反応させるこ
とを特徴とするアルキルリチウムの製造方法。 - 【請求項11】 障害アルキルハライドがt−ブチルク
ロライドであり、ハイドロカルビルエーテルがジ−n−
オクチルエーテルであることを特徴とする請求項10の
方法。 - 【請求項12】 障害アルキルハライドがt−ブチルク
ロライドであり、ハイドロカルビルエーテルがテトラヒ
ドロフランであることを特徴とする請求項10の方法。 - 【請求項13】 障害アルキルハライドがt−ブチルク
ロライドであり、ハイドロカルビルエーテルがメチル−
t−ブチルエーテルであり、そして炭化水素溶媒がヘキ
サン、ペンタンまたはヘプタンであることを特徴とする
請求項10の方法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US73666091A | 1991-07-26 | 1991-07-26 | |
US736660 | 1992-02-27 | ||
US842944 | 1992-02-27 | ||
US07/842,944 US5211888A (en) | 1991-07-26 | 1992-02-27 | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05202066A JPH05202066A (ja) | 1993-08-10 |
JPH0692418B2 true JPH0692418B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=27113072
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4231251A Expired - Lifetime JPH0692418B2 (ja) | 1991-07-26 | 1992-07-16 | 接触ハイドロカルビルリチウム法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5211888A (ja) |
EP (1) | EP0525881B1 (ja) |
JP (1) | JPH0692418B2 (ja) |
CA (1) | CA2074618C (ja) |
DE (1) | DE69226005T2 (ja) |
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US5340507A (en) * | 1991-07-26 | 1994-08-23 | Fmc Corporation | Catalyzed hydrocarbyllithium process |
US5976159A (en) * | 1995-02-24 | 1999-11-02 | Heartport, Inc. | Surgical clips and methods for tissue approximation |
US5523447A (en) * | 1995-06-07 | 1996-06-04 | Fmc Corporation | Organolithium process |
US5626798A (en) * | 1996-01-05 | 1997-05-06 | Fmc Corporation | Aryllithium products and processes |
WO2000050478A1 (en) * | 1999-02-25 | 2000-08-31 | Fmc Corporation | Novel formulations of alkyllithiums with improved thermal stability, processes to produce these formulations and processes for using the same to improve stability of living polymer chain ends |
GB9921639D0 (en) * | 1999-09-15 | 1999-11-17 | Secr Defence Brit | New organotellurium compound and new method for synthesising organotellurium compounds |
JP4987212B2 (ja) * | 2000-08-08 | 2012-07-25 | ケメトール フット コーポレイション | アルキルリチウム化合物の製造方法 |
JP6500014B2 (ja) | 2013-09-27 | 2019-04-10 | レール・リキード−ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード | 蒸着用前駆体およびその作製方法 |
US9777025B2 (en) | 2015-03-30 | 2017-10-03 | L'Air Liquide, Société pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Si-containing film forming precursors and methods of using the same |
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US3193590A (en) * | 1961-08-10 | 1965-07-06 | Phillips Petroleum Co | Method of preparing organolithium polymerization initiators |
US3293313A (en) * | 1962-05-01 | 1966-12-20 | Foote Mineral Co | Method of making organic lithium compounds |
US3452112A (en) * | 1963-12-27 | 1969-06-24 | Lithium Corp | Preparation of solutions of lithiumhydrocarbon compounds |
DE1668436A1 (de) * | 1966-11-28 | 1971-08-05 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur Herstellung von t-Butyllithium |
US3420903A (en) * | 1967-02-07 | 1969-01-07 | Foote Mineral Co | Method of making t-butyllithium |
US3446860A (en) * | 1967-06-29 | 1969-05-27 | Foote Mineral Co | Method of making phenyllithium |
US3632658A (en) * | 1968-08-16 | 1972-01-04 | Firestone Tire & Rubber Co | Lithiated organic compounds and their production |
US3694516A (en) * | 1970-10-05 | 1972-09-26 | Lithium Corp | Preparation of hydrocarbon solvent solutions of organolithium compounds |
JPS60222492A (ja) * | 1984-04-17 | 1985-11-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 第3級炭化水素シリル化合物の製造方法 |
US4976886A (en) * | 1987-03-30 | 1990-12-11 | Lithium Corporation Of America | Preparation of organometallic and organobimetallic compounds |
JPH0637503B2 (ja) * | 1987-07-09 | 1994-05-18 | 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 | t−アルキルジメチルハロゲノシランの製造方法 |
-
1992
- 1992-02-27 US US07/842,944 patent/US5211888A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-16 JP JP4231251A patent/JPH0692418B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-20 EP EP92202236A patent/EP0525881B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-20 DE DE69226005T patent/DE69226005T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-24 CA CA002074618A patent/CA2074618C/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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DE69226005D1 (de) | 1998-07-30 |
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CA2074618C (en) | 1995-10-31 |
DE69226005T2 (de) | 1998-12-03 |
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