JPH0314593A - O―シリルo、n―ケテンアセタールの調製方法 - Google Patents
O―シリルo、n―ケテンアセタールの調製方法Info
- Publication number
- JPH0314593A JPH0314593A JP1224720A JP22472089A JPH0314593A JP H0314593 A JPH0314593 A JP H0314593A JP 1224720 A JP1224720 A JP 1224720A JP 22472089 A JP22472089 A JP 22472089A JP H0314593 A JPH0314593 A JP H0314593A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkali metal
- silyl
- formula
- organohalosilane
- excess
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 31
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 28
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 3
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 20
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 abstract description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 19
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 12
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 5
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 4
- -1 N-methylphenyl-2-chloro-2methylbutyramide Chemical compound 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 3
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000573 alkali metal alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)CC BYLOHCRAPOSXLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006069 physical mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000008247 solid mixture Substances 0.000 description 2
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000528 Na alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- UCKORWKZRPKRQE-UHFFFAOYSA-N bromo(triethyl)silane Chemical compound CC[Si](Br)(CC)CC UCKORWKZRPKRQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N bromo(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)Br IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N di(propan-2-yl)azanide Chemical compound CC(C)[N-]C(C)C PBGGNZZGJIKBMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N dichloro(diphenyl)silane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 OSXYHAQZDCICNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N dichloro-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CC(C)[Si](Cl)(Cl)C(C)C GSENNYNYEKCQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-phenylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 GNEPOXWQWFSSOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 239000011874 heated mixture Substances 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N potassium hydride Chemical compound [KH] NTTOTNSKUYCDAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000105 potassium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000011085 pressure filtration Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 239000012048 reactive intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000010902 straw Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N trifluoro(methyl)silane Chemical compound C[Si](F)(F)F BHOCBLDBJFCBQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、0−シリルO,N−ケテンアセタール(S
NKA)、1−オルガノシロキシ−1−ジオルガノアく
ノー2,2−ジオルガノエチレンの製造方法に関する。
NKA)、1−オルガノシロキシ−1−ジオルガノアく
ノー2,2−ジオルガノエチレンの製造方法に関する。
より詳しく述べれば、この発明は、過剰のオルガノハロ
シランの存在下でα〜ハロアミドとアルカリ金属との反
応から0−シリル○,N−ケテンアセクールを生産する
方法に関する。
シランの存在下でα〜ハロアミドとアルカリ金属との反
応から0−シリル○,N−ケテンアセクールを生産する
方法に関する。
?従来の技術〕
本発明の目的上、「O−シリルO,N一ケテンアセター
ル」とは、次の一般式、すなわち、R2C=C(OSi
R,,Xi−) (NR”■)(式中、各R及び各R1
はアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキ
ル基からなる群より独立に選択され、Xはフッ素原子、
塩素原子又は臭素原子であり、nは1〜3の整数である
)の化合物を指称する。
ル」とは、次の一般式、すなわち、R2C=C(OSi
R,,Xi−) (NR”■)(式中、各R及び各R1
はアルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキ
ル基からなる群より独立に選択され、Xはフッ素原子、
塩素原子又は臭素原子であり、nは1〜3の整数である
)の化合物を指称する。
これらの化合物は、他の手段では合成するのが難しいで
あろう有機化合物の調製に有用であるため価値がある。
あろう有機化合物の調製に有用であるため価値がある。
もう一つの最近の応用は、○−シリルO,N−ケテンア
セタールをアクリレート重合開始剤として利用するもの
である。原子団移転重合(Group Transfe
r Polymerization) (GTP)とし
て知られるこの概念は、デュポン(DuPont)社に
より開発されたものであって、次の三つの米国特許明細
書、すなわちl983年l1月8日発行のファーンハム
(Farnham) らの第4414372号明細書
、1983年l1月22日発行のウェブスター(Web
s ter )の第4417034号明細書、及び19
85年4月2日発行のウェブスターの第4508880
号明細書に開示される。
セタールをアクリレート重合開始剤として利用するもの
である。原子団移転重合(Group Transfe
r Polymerization) (GTP)とし
て知られるこの概念は、デュポン(DuPont)社に
より開発されたものであって、次の三つの米国特許明細
書、すなわちl983年l1月8日発行のファーンハム
(Farnham) らの第4414372号明細書
、1983年l1月22日発行のウェブスター(Web
s ter )の第4417034号明細書、及び19
85年4月2日発行のウェブスターの第4508880
号明細書に開示される。
本発明の目的は、高純度で単離及び分離することのでき
るO−シリル○,N−ケテンアセタールを調製するため
の経済的な手順を提供することである。
るO−シリル○,N−ケテンアセタールを調製するため
の経済的な手順を提供することである。
〔課題を解決するための手段及び作用効果〕本発明は、
弐R2C=CO(SiR−Xz−) (NRz)を有す
る0−シリル○,N−ケテンアセタールは過剰のオルガ
ノハロシランR.,Siχ4−,lの存在下にα−ハロ
アミド 0 11 R2CCNRz X’ とアルカリ金属との反応から調製することができる、と
いう予期せざる発見を基礎としている。これらの化学構
造及び本発明の詳細を以下に示す。
弐R2C=CO(SiR−Xz−) (NRz)を有す
る0−シリル○,N−ケテンアセタールは過剰のオルガ
ノハロシランR.,Siχ4−,lの存在下にα−ハロ
アミド 0 11 R2CCNRz X’ とアルカリ金属との反応から調製することができる、と
いう予期せざる発見を基礎としている。これらの化学構
造及び本発明の詳細を以下に示す。
本発明には、0−シリルO,N−ケテンアセタールを調
製するための公知の方法を上回るい《っかの利点がある
。本発明を、アミン又はアミドと適当な金属試薬との反
応で金属エノラートを生威し、続いてエノラートイオン
とオルガノクロロシランとを反応させることによって○
−シリルON−ケテンアセタールを調製する手順と比較
すれば、本発明には原料費がより低いという利点がある
。この技術は、アξン又はアミドと例えばリチ,ウムジ
イソブロピルアミド又は水素化カリウムのような金属性
試薬との反応による金属エノラートイオンの調製を教示
する。これらの金属性試薬は両方とも、本発明で利用す
るアルカリ金属よりもはるかに経費がかかる。上記の反
応は、テトラヒド口フランのような追加の試薬をも包含
しかねない。追加の試薬を必要とすることは、製造費を
更に追加させる。
製するための公知の方法を上回るい《っかの利点がある
。本発明を、アミン又はアミドと適当な金属試薬との反
応で金属エノラートを生威し、続いてエノラートイオン
とオルガノクロロシランとを反応させることによって○
−シリルON−ケテンアセタールを調製する手順と比較
すれば、本発明には原料費がより低いという利点がある
。この技術は、アξン又はアミドと例えばリチ,ウムジ
イソブロピルアミド又は水素化カリウムのような金属性
試薬との反応による金属エノラートイオンの調製を教示
する。これらの金属性試薬は両方とも、本発明で利用す
るアルカリ金属よりもはるかに経費がかかる。上記の反
応は、テトラヒド口フランのような追加の試薬をも包含
しかねない。追加の試薬を必要とすることは、製造費を
更に追加させる。
本発明によれば、ここで説明される条件下で調製される
○−シリルO,N−ケテンアセクールの調製方法が提供
される。従ってここに記載されるのは、次の式、すなわ
ち、 R2C=C(OSiRfiX3−) (NR”z)
又は?コlス=C(OSiRllX3−I,) (NR
”■)(上式中、各R及び各R′″はアルキル基、アル
ケニル基、アリール基又はアラルキル基からなる群より
独立に選択され、Xはフッ素原子、塩素原子又は臭素原
子であり、nは1.2又は3の値を有し、qは2〜22
の値を有する)を有するO−シリルO.N−ケテンアセ
タールを調製するための方法であって、次の工程(A)
及び(B)、すなわち、 (A)次の式、すなわち、 ? II R.CCNR”■ 又は x1 0 X′ を有するα−ハロアミド(式中、R , R”及びqは
上で定義されており、X”はハロゲン原子である)を、
式R,lSiX..を有する過剰のオルガノハロシラン
(式中、R,X及びnは上で定義されている)の存在下
にアルカリ金属と接触させる工程、(B)上記のα−ハ
ロアミド、アルカリ金属及びオルガノ八ロシラン間の反
応を促進してO−シリル○,N−ケテンアセクール及び
アルカリ金属ハロゲン化物を生戒する工程、 を含んでなる方法である。
○−シリルO,N−ケテンアセクールの調製方法が提供
される。従ってここに記載されるのは、次の式、すなわ
ち、 R2C=C(OSiRfiX3−) (NR”z)
又は?コlス=C(OSiRllX3−I,) (NR
”■)(上式中、各R及び各R′″はアルキル基、アル
ケニル基、アリール基又はアラルキル基からなる群より
独立に選択され、Xはフッ素原子、塩素原子又は臭素原
子であり、nは1.2又は3の値を有し、qは2〜22
の値を有する)を有するO−シリルO.N−ケテンアセ
タールを調製するための方法であって、次の工程(A)
及び(B)、すなわち、 (A)次の式、すなわち、 ? II R.CCNR”■ 又は x1 0 X′ を有するα−ハロアミド(式中、R , R”及びqは
上で定義されており、X”はハロゲン原子である)を、
式R,lSiX..を有する過剰のオルガノハロシラン
(式中、R,X及びnは上で定義されている)の存在下
にアルカリ金属と接触させる工程、(B)上記のα−ハ
ロアミド、アルカリ金属及びオルガノ八ロシラン間の反
応を促進してO−シリル○,N−ケテンアセクール及び
アルカリ金属ハロゲン化物を生戒する工程、 を含んでなる方法である。
O−シリルO,N−ケテンアセタールは、例えば、
(CH.) (CHs)C=COSi (CH:l)
! .N(CHi)z (C)h) (CJs)C=COSi(CH3) 3
,N(CH:l) (CJs) (CHs) (CHi)C=COSi(CH:+) 3
,I N(CI{3)(CHZCH=CH2)(CI!) (
CzHs)C=COSi (CH3) x .N (C
Hよ)(C6}I5) (CH3) (CHz=CHCHz)C=COSi (
CH.) y ,N(CH3)Z (CH.)(CJs)C=COSt(CHz)3 ,N
(CH3) z (CH.) (CHi)C=COSi (CH3) z
c1 又はN(CI+)z 曙習了コ= COS i (CH z) 3N(CH3
)Z でよい。
! .N(CHi)z (C)h) (CJs)C=COSi(CH3) 3
,N(CH:l) (CJs) (CHs) (CHi)C=COSi(CH:+) 3
,I N(CI{3)(CHZCH=CH2)(CI!) (
CzHs)C=COSi (CH3) x .N (C
Hよ)(C6}I5) (CH3) (CHz=CHCHz)C=COSi (
CH.) y ,N(CH3)Z (CH.)(CJs)C=COSt(CHz)3 ,N
(CH3) z (CH.) (CHi)C=COSi (CH3) z
c1 又はN(CI+)z 曙習了コ= COS i (CH z) 3N(CH3
)Z でよい。
α−ハロアξドは、例えば、N,N−ジメチル2−プロ
モイソブチルアミド、N.N一エチルメチル−2−クロ
ロ−2−メチルブチルア旦ド、N,N−メチルアリルー
2−プロモイソブチルア旦ド、N.N−メチルフェニル
ー2−クロロ−2メチルブチルアミド、 0 1I (CI{3) (C.HS)CCN(C}13)2CI 0 II (CH3) (CHZ=CHCH2)CCN(CH3)
2 又はBr O CI でよい。
モイソブチルアミド、N.N一エチルメチル−2−クロ
ロ−2−メチルブチルア旦ド、N,N−メチルアリルー
2−プロモイソブチルア旦ド、N.N−メチルフェニル
ー2−クロロ−2メチルブチルアミド、 0 1I (CI{3) (C.HS)CCN(C}13)2CI 0 II (CH3) (CHZ=CHCH2)CCN(CH3)
2 又はBr O CI でよい。
オルガノ八ロシランは、例えば、メチルトリフルオロシ
ラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン
、ジエチルジク口ロシラン、トリエチルブロモシラン、
ジイソプロピルジクロロシラン、t−プチルジメチルク
口ロシラン、ビニルトリクロロシラン、メチルビニルジ
クロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、フエニル
メチルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン又は
ジフエニルジクロロシランでよい。
ラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラ
ン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン
、ジエチルジク口ロシラン、トリエチルブロモシラン、
ジイソプロピルジクロロシラン、t−プチルジメチルク
口ロシラン、ビニルトリクロロシラン、メチルビニルジ
クロロシラン、ジメチルビニルクロロシラン、フエニル
メチルジクロロシラン、フェニルトリクロロシラン又は
ジフエニルジクロロシランでよい。
アルカリ金属は、例えば、リチウム、ナトリウム、カリ
ウム又はそれらの合金でよい。好ましいアルカリ金属は
ナトリウムである。アルカリ金属は、2種又は3種以上
の金属の合金の形で使用してもよく、例えば固体又は溶
融した形態のナトリウム/カリウム合金を使用してもよ
い。アルカリ金属は、適当な不活性の液体、すなわち本
発明の反応物又は生或物に対して不活性な例えばバラフ
ィンのような液体に分散した分散液の形で使用しても差
支えない。アルカリ金属又はアルカリ金属の合金は、溶
融した粒子が不活性な液体に分散した分散系として使用
してもよい。
ウム又はそれらの合金でよい。好ましいアルカリ金属は
ナトリウムである。アルカリ金属は、2種又は3種以上
の金属の合金の形で使用してもよく、例えば固体又は溶
融した形態のナトリウム/カリウム合金を使用してもよ
い。アルカリ金属は、適当な不活性の液体、すなわち本
発明の反応物又は生或物に対して不活性な例えばバラフ
ィンのような液体に分散した分散液の形で使用しても差
支えない。アルカリ金属又はアルカリ金属の合金は、溶
融した粒子が不活性な液体に分散した分散系として使用
してもよい。
過剰のオルガノハロシランの存在下でのα−ハロア藁ド
とアルカリ金属(M)との反応は、次の全体反応により
表すことができる。
とアルカリ金属(M)との反応は、次の全体反応により
表すことができる。
0
11
R2CCNRz+RxSiX+2M−+R2C=C(O
SiRz) (NRz) 十MX’ +MXX’ α−ハロアごド及びアルカリ金属は、次の有機金属中間
体、すなわち、 0 11 [R2CCNRzl −M” を生或すると考えられる。この非常に反応性の中間体は
、所望の○−シリルO,N−ケテンアセタールを生戒す
るのに十分なだけ過剰のオルガノハロシランの存在下で
ほぼ定量的に捕捉される。過剰のオルガノ八ロシランが
上記の有機金属中間体を実質上即座に捕捉するのに十分
でない場合には、その代りとして副生物の生成が起こる
。
SiRz) (NRz) 十MX’ +MXX’ α−ハロアごド及びアルカリ金属は、次の有機金属中間
体、すなわち、 0 11 [R2CCNRzl −M” を生或すると考えられる。この非常に反応性の中間体は
、所望の○−シリルO,N−ケテンアセタールを生戒す
るのに十分なだけ過剰のオルガノハロシランの存在下で
ほぼ定量的に捕捉される。過剰のオルガノ八ロシランが
上記の有機金属中間体を実質上即座に捕捉するのに十分
でない場合には、その代りとして副生物の生成が起こる
。
α−ハロアミド、アルカリ金属及びオルガノハロシラン
間の反応は、α−ハロアミド及びオルガノハロシランの
ハロゲン原子が同じであるかあるいは異なるかどうかに
よって結果として単一のアルカリ金属ハロゲン化物又は
複数のアルカリ金属ハロゲン化物(MX’及びMX)の
混合物を生成することができる。このように、本発明の
目的上、「アルカリ金属ハロゲン化物」という用語は単
一のアルカリ金属ハロゲン化物又は異種のアルカリ金属
ハロゲン化物の混合物を指称する。これらの金属塩は、
反応物が金属の表面と接触するのを妨げる大量の細かい
粒子を生或する。過剰のオルガノハロシラン又は不活性
液体での希釈及び撹拌は、反応物の接触を助ける。反応
の速度は、一般に金属の露出表面及び金属の表面の状態
に影響される。
間の反応は、α−ハロアミド及びオルガノハロシランの
ハロゲン原子が同じであるかあるいは異なるかどうかに
よって結果として単一のアルカリ金属ハロゲン化物又は
複数のアルカリ金属ハロゲン化物(MX’及びMX)の
混合物を生成することができる。このように、本発明の
目的上、「アルカリ金属ハロゲン化物」という用語は単
一のアルカリ金属ハロゲン化物又は異種のアルカリ金属
ハロゲン化物の混合物を指称する。これらの金属塩は、
反応物が金属の表面と接触するのを妨げる大量の細かい
粒子を生或する。過剰のオルガノハロシラン又は不活性
液体での希釈及び撹拌は、反応物の接触を助ける。反応
の速度は、一般に金属の露出表面及び金属の表面の状態
に影響される。
溶融したアルカリ金属は液体媒体に容易に分敗して、大
きな非常に反応性の露出領域を提供する。
きな非常に反応性の露出領域を提供する。
反応物間の接触は、α−ハロア稟ドとアルカリ金属が反
応する間に十分なだけ過剰のオルガノハロシランが存在
するという必要条件が満たされる限りは、多くの様式で
行うことができる。接触の様式の第一の例は、バッチ反
応器へ全ての反応物をバッチ式に加えるものであって、
オルガノハロシランはO−シリル○,N−ケテ,ンアセ
タールの生産を最大限にし且つ結果として生ずる液体/
固体混合物のための希釈剤として役立つように十分過剰
に存在している。接触様弐の第二の例は、αーハロアξ
ドとオルガノハロシランの混合物すなわち本質的に等モ
ル混合物を、不活性液体中の過剰のオルガノハロシラン
及び溶融アルカリ金属に加えるものである。第三の可能
性ある接触様式は、過剰のオルガノハロシランと溶融ア
ルカリ金属の加熱混合物へα−ハロアミドを加えるもの
である。
応する間に十分なだけ過剰のオルガノハロシランが存在
するという必要条件が満たされる限りは、多くの様式で
行うことができる。接触の様式の第一の例は、バッチ反
応器へ全ての反応物をバッチ式に加えるものであって、
オルガノハロシランはO−シリル○,N−ケテ,ンアセ
タールの生産を最大限にし且つ結果として生ずる液体/
固体混合物のための希釈剤として役立つように十分過剰
に存在している。接触様弐の第二の例は、αーハロアξ
ドとオルガノハロシランの混合物すなわち本質的に等モ
ル混合物を、不活性液体中の過剰のオルガノハロシラン
及び溶融アルカリ金属に加えるものである。第三の可能
性ある接触様式は、過剰のオルガノハロシランと溶融ア
ルカリ金属の加熱混合物へα−ハロアミドを加えるもの
である。
α−ハロアミド、オルガノハロシラン及びアルカリ金属
の接触は、標準的なバッチ化学反応装置で実施すること
ができる。反応器には、アルカリ金属が液体反応媒体に
分散するのを確実にするように撹拌のための適切な手段
を準備すべきである。
の接触は、標準的なバッチ化学反応装置で実施すること
ができる。反応器には、アルカリ金属が液体反応媒体に
分散するのを確実にするように撹拌のための適切な手段
を準備すべきである。
本発明の目的上、「反応を促進する」とは、反応器が、
液体の反応物及び生或物と固体のアルカリハロゲン化物
の塩とにより形或されるスラリーが処理しやすい物理的
混合物になるのを確実にするのに十分な液状内容物を十
分に撹拌し、必要に応じて加熱及び冷却するような用意
を有するべきであることを意味する。
液体の反応物及び生或物と固体のアルカリハロゲン化物
の塩とにより形或されるスラリーが処理しやすい物理的
混合物になるのを確実にするのに十分な液状内容物を十
分に撹拌し、必要に応じて加熱及び冷却するような用意
を有するべきであることを意味する。
反応物、生或物及び固体の混合物が反応物の十分な接触
を可能にするための処理しやすい物理的混合物になるの
を確実にするのに十分な体の存在は、過剰のオルガノハ
ロシランを希釈剤として使用することによって容易にす
ることができる。更に、不活性の液体すなわち反応物及
び生戒物に対して不活性な液体を希釈剤として利用して
もよい。
を可能にするための処理しやすい物理的混合物になるの
を確実にするのに十分な体の存在は、過剰のオルガノハ
ロシランを希釈剤として使用することによって容易にす
ることができる。更に、不活性の液体すなわち反応物及
び生戒物に対して不活性な液体を希釈剤として利用して
もよい。
そのような不活性液体の例は、脂肪族炭化水素、エーテ
ル、芳香族炭化水素及び鉱油である。
ル、芳香族炭化水素及び鉱油である。
上に概説したように、α−ハロアξドに対するオルガノ
八ロシランの総括的な化学量論的量は1.0:1である
。やはり上で言及したように、十分なだけ過剰のオルガ
ノハロシランの存在は○シリル○,N−ケテンアセクー
ルの収量を最大にするために必要である。全ての反応物
が同時に接触するバッチ様式においては、α−ハロアミ
ドに対するオルガノハロシランの相対モル比はおよそ2
.0:1より大きく、すなわち化学量論上約100バー
セントよりも多く過剰にすぺきである。好ましくは、こ
の化学量論上の過剰は約100パーセントから400バ
ーセントまでの範囲にあるべきである。化学量論上の過
剰を100%より少なくしてもよいが、液体及び固体の
非常に濃厚なスラリーの如き反応の問題の結果として付
加的な処理上の問題が生じるかもしれない。オルガノハ
ロシランの化学量論上の過剰を上に開示したものよりも
多くしても差支えない。けれども、そのような過剰のオ
ルガノハロシランを使用することでそれ以上の利益は得
られないと発明者らは信じる。
八ロシランの総括的な化学量論的量は1.0:1である
。やはり上で言及したように、十分なだけ過剰のオルガ
ノハロシランの存在は○シリル○,N−ケテンアセクー
ルの収量を最大にするために必要である。全ての反応物
が同時に接触するバッチ様式においては、α−ハロアミ
ドに対するオルガノハロシランの相対モル比はおよそ2
.0:1より大きく、すなわち化学量論上約100バー
セントよりも多く過剰にすぺきである。好ましくは、こ
の化学量論上の過剰は約100パーセントから400バ
ーセントまでの範囲にあるべきである。化学量論上の過
剰を100%より少なくしてもよいが、液体及び固体の
非常に濃厚なスラリーの如き反応の問題の結果として付
加的な処理上の問題が生じるかもしれない。オルガノハ
ロシランの化学量論上の過剰を上に開示したものよりも
多くしても差支えない。けれども、そのような過剰のオ
ルガノハロシランを使用することでそれ以上の利益は得
られないと発明者らは信じる。
α−ハロアミドとオルガノハロシランとの混合物がオル
ガノハロシランと溶融アルカリ金属との混合物に加えら
れる接触様式においては、α−ハロアミド及びアルカリ
金属は非常に急速に反応し、モして生或された有機金属
中間体は過剰のオルガノハロシランと反応して○−シリ
ルO,N−ケテンアセタールを生戒する。反応器内の過
剰オルガノハロシランは、α−八ロアミドと共に加えら
れるオルガノ八ロシランにより補充される。発明者らは
、オルガノハロシランの総括的な過剰がα−ハロアミド
に関してモル基準で約10パーセントよりも多いものは
α−ハロアξドの0−シリルO,N−ケテンアセタール
への最大限の転化を果すのに十分なだけの過剰であると
信じる。
ガノハロシランと溶融アルカリ金属との混合物に加えら
れる接触様式においては、α−ハロアミド及びアルカリ
金属は非常に急速に反応し、モして生或された有機金属
中間体は過剰のオルガノハロシランと反応して○−シリ
ルO,N−ケテンアセタールを生戒する。反応器内の過
剰オルガノハロシランは、α−八ロアミドと共に加えら
れるオルガノ八ロシランにより補充される。発明者らは
、オルガノハロシランの総括的な過剰がα−ハロアミド
に関してモル基準で約10パーセントよりも多いものは
α−ハロアξドの0−シリルO,N−ケテンアセタール
への最大限の転化を果すのに十分なだけの過剰であると
信じる。
上に概説したように、α−ハロアミドに対するアルカリ
金属の総括的な化学量論的量は2.o:iである。発明
者らは、5パーセント又は2.to:t程度の少しの化
学量論上の過剰でα−ハロア飽ドの全部をO−シリル○
,N−ケテンアセタールへ本質的に転化させるのに十分
であると信じる。とは言うものの、α−ハロアミドに関
するアルカリ金属の量は、α−ハロア旦ドに関して過剰
のオルガノハロシランが存在するということを条件とし
て、重要ではない。化学量論上の量より少量のアルカリ
金属は結果として未反応のα−ハロアミドを残し、そし
てそれは所望のO−シリルO.N−ケテンアセタールか
ら分離することができよう。
金属の総括的な化学量論的量は2.o:iである。発明
者らは、5パーセント又は2.to:t程度の少しの化
学量論上の過剰でα−ハロア飽ドの全部をO−シリル○
,N−ケテンアセタールへ本質的に転化させるのに十分
であると信じる。とは言うものの、α−ハロアミドに関
するアルカリ金属の量は、α−ハロア旦ドに関して過剰
のオルガノハロシランが存在するということを条件とし
て、重要ではない。化学量論上の量より少量のアルカリ
金属は結果として未反応のα−ハロアミドを残し、そし
てそれは所望のO−シリルO.N−ケテンアセタールか
ら分離することができよう。
オルガノハロシランのほかに不活性の液体を利用する場
合には、上で概説したオルガノハロシランの化学量論上
の過剰をα−ハロア稟ドの転化を最大限にするのに十分
なだけの水準まで比例して低下させることができる。
合には、上で概説したオルガノハロシランの化学量論上
の過剰をα−ハロア稟ドの転化を最大限にするのに十分
なだけの水準まで比例して低下させることができる。
反応物間の接触温度は反応速度に影響を及ぼす。
しかしながら、上で言及したように、α−ハロアミドの
○−シリル○,N−ケテンアセタールへの転化の度合は
十分なだけ過剰のオルガノハロシランの関数である。温
度は、アルカリ金属又はアルカリ金属合金を溶融状態に
維持することが所望される場合に影響を与える。接触の
温度には、不活性の液体を加え又は圧力を適用してそこ
まで液体l昆合物を加熱することのできる温度を上昇さ
せることによって影響を及ぼすことができる。一例とし
て、接触及び反応は周囲温度からオルガノハロシランの
大気沸騰温度又は還流温度までの温度で行うことができ
、還流条件でのトリメチルクロロシランは温度を約58
“Cよりも高くする。不活性液体とオルガノハロシラン
との混合物を利用して温度をアルカリ金属の融点よりも
高くすることができ、例えば、オクタンとトリメチルク
ロロシランとの混合物はナトリウムの融点(97.5゜
C)よりも高い還流温度を提供するように配合すること
ができる。
○−シリル○,N−ケテンアセタールへの転化の度合は
十分なだけ過剰のオルガノハロシランの関数である。温
度は、アルカリ金属又はアルカリ金属合金を溶融状態に
維持することが所望される場合に影響を与える。接触の
温度には、不活性の液体を加え又は圧力を適用してそこ
まで液体l昆合物を加熱することのできる温度を上昇さ
せることによって影響を及ぼすことができる。一例とし
て、接触及び反応は周囲温度からオルガノハロシランの
大気沸騰温度又は還流温度までの温度で行うことができ
、還流条件でのトリメチルクロロシランは温度を約58
“Cよりも高くする。不活性液体とオルガノハロシラン
との混合物を利用して温度をアルカリ金属の融点よりも
高くすることができ、例えば、オクタンとトリメチルク
ロロシランとの混合物はナトリウムの融点(97.5゜
C)よりも高い還流温度を提供するように配合すること
ができる。
プロセスを完了するのに必要とされる時間は、反応混合
物の温度とアルカリ金属の形態とによって確定される。
物の温度とアルカリ金属の形態とによって確定される。
例えば、反応物及び溶媒の両方としてトリメチルクロロ
シランを使用すれば、還流時の温度は約50〜60゜C
になり、そしてα−ハロアミドの本質的に完全な反応を
果すのに必要とされる接触時間は2時間よりも長く、し
ばしば約IO時間よりも長くなる。更に別の例として、
オクタンどトリメチルク口ロシランとの沸点が約105
゜Cの混合物を作って反応混合物中に溶融ナトリウムを
用意することができる。これらの後者の条件下では、α
−八ロアミドを本質的に完全に消費するための時間は1
時間以下にすることができよう。
シランを使用すれば、還流時の温度は約50〜60゜C
になり、そしてα−ハロアミドの本質的に完全な反応を
果すのに必要とされる接触時間は2時間よりも長く、し
ばしば約IO時間よりも長くなる。更に別の例として、
オクタンどトリメチルク口ロシランとの沸点が約105
゜Cの混合物を作って反応混合物中に溶融ナトリウムを
用意することができる。これらの後者の条件下では、α
−八ロアミドを本質的に完全に消費するための時間は1
時間以下にすることができよう。
本発明の方法は更に、O−シリル○.N−ケテンアセタ
ールを単離及び分離することを包含する.○−シリル○
,N−ケテンアセクールの分離及び単離は、液体/固体
混合物からO−シリル○.N一ケテンアセタールを蒸留
することにより果すことができる。より好ましくは、0
−シリルO,N−ケテンアセタールを分離及び単離する
ことには、最初にアルカリ金属ハロゲン化物の塩を除去
し、次いで蒸留によってO−シリル0,N−ケテンアセ
タールを回収することが包含される.上記の塩は、1モ
ルのO−シリルO.N−ケテンアセタールにつき2モル
の量で発生する。これらの塩は、粗反応混合物から塩を
ろ過するような公知の技術により取除くことができる。
ールを単離及び分離することを包含する.○−シリル○
,N−ケテンアセクールの分離及び単離は、液体/固体
混合物からO−シリル○.N一ケテンアセタールを蒸留
することにより果すことができる。より好ましくは、0
−シリルO,N−ケテンアセタールを分離及び単離する
ことには、最初にアルカリ金属ハロゲン化物の塩を除去
し、次いで蒸留によってO−シリル0,N−ケテンアセ
タールを回収することが包含される.上記の塩は、1モ
ルのO−シリルO.N−ケテンアセタールにつき2モル
の量で発生する。これらの塩は、粗反応混合物から塩を
ろ過するような公知の技術により取除くことができる。
加圧ろ過のようないずれの工業的ろ過方法を利用しても
よい。
よい。
塩を除去する前又は後の粗生戒物混合物からの所舅のO
−シリルO.N−ケテンアセクールの回収は、蒸留の如
き公知の技術により果すことができる.下記の例では、
本発明の方法により調製されたO−シリル○.N−ケテ
ンアセタールは蒸留によって約80重量%よりも高い純
度まで回収することができる、ということが示された.
更に、過剰のオルガノハロシランも蒸留により単離及び
分離して、可能な再循環によるプロセスへの戻しを容易
にすることができる。
−シリルO.N−ケテンアセクールの回収は、蒸留の如
き公知の技術により果すことができる.下記の例では、
本発明の方法により調製されたO−シリル○.N−ケテ
ンアセタールは蒸留によって約80重量%よりも高い純
度まで回収することができる、ということが示された.
更に、過剰のオルガノハロシランも蒸留により単離及び
分離して、可能な再循環によるプロセスへの戻しを容易
にすることができる。
当業者が本発明をよりよく理解できるように、以下の例
を提供する。この例は例示として提供するものであって
、特許請求の範囲に記載される本発明を限定するものと
解すべきではない。
を提供する。この例は例示として提供するものであって
、特許請求の範囲に記載される本発明を限定するものと
解すべきではない。
班土
0−シリルO,N−ケテンアセタールをα−ハロアξド
、アルカリ金属及びオルガノハロシランの反応から調製
した。
、アルカリ金属及びオルガノハロシランの反応から調製
した。
機械式撹拌機と還流冷却器とを取付けた50dフラスコ
へ、トリメチルクロロシラン28.0 g (0.25
8グラムモル)及び切断して約0.2gの小片にされた
金属ナトリウム2.67 g (0.116グラム原子
)を入れた。還流冷却器にアルゴンの入口を取付けた。
へ、トリメチルクロロシラン28.0 g (0.25
8グラムモル)及び切断して約0.2gの小片にされた
金属ナトリウム2.67 g (0.116グラム原子
)を入れた。還流冷却器にアルゴンの入口を取付けた。
10 g ( 0.0515グラムモル)のN,N−ジ
メチル−2−プロモイソブチルアミドを分割せずに加え
た。
メチル−2−プロモイソブチルアミドを分割せずに加え
た。
このN,N−ジメチル−2−プロモイソブチルアミドは
、この反応のために下記において説明するように調製し
た. 反応の過程を通じて上記のフラスコをアルゴンでパージ
した。上記の混合物を還流温度まで加熱し、そして20
時間保持した.液体試料を採取し、ガスクロマトグラフ
ィー技術により分析した。フレームイオン化検出器を用
いる毛管クロマトグラフを利用して分析中の生戒物の分
解を最小限にした。分析によって、出発α−プロモアミ
ドのおおよそ87.0パーセントの転化率が示され、そ
して消費されたα−ブロモアごドの73.5パーセント
が〇一シリルO,N−ケテンアセタール、すなわち、(
CI13) 2C = C [OSi (CI+2)
zl [N (CH3) 2]に転化されたことが示さ
れた。
、この反応のために下記において説明するように調製し
た. 反応の過程を通じて上記のフラスコをアルゴンでパージ
した。上記の混合物を還流温度まで加熱し、そして20
時間保持した.液体試料を採取し、ガスクロマトグラフ
ィー技術により分析した。フレームイオン化検出器を用
いる毛管クロマトグラフを利用して分析中の生戒物の分
解を最小限にした。分析によって、出発α−プロモアミ
ドのおおよそ87.0パーセントの転化率が示され、そ
して消費されたα−ブロモアごドの73.5パーセント
が〇一シリルO,N−ケテンアセタール、すなわち、(
CI13) 2C = C [OSi (CI+2)
zl [N (CH3) 2]に転化されたことが示さ
れた。
フラスコ内の混合物を還流条件に保持し続けた。
還流下で合計して40時間後に別の試料を採取した。
分析から、95.3バーセントのプロモアミドが消費さ
れており、○−シリルO,N−ケテンアセクールの収率
は80.6パーセントであることが示された.反応混合
物から吸引ろ過により固形物を除去した。ろ液を減圧下
で蒸留した.生戒物の沸点は20IIIIIIHgで6
5〜67゜Cであった。回収された生或物のガスクロマ
トグラフィーによる分析の結果、この生或物は80パー
セントより多くがO−シリルO,N−ケテンアセタール
であることが示された。
れており、○−シリルO,N−ケテンアセクールの収率
は80.6パーセントであることが示された.反応混合
物から吸引ろ過により固形物を除去した。ろ液を減圧下
で蒸留した.生戒物の沸点は20IIIIIIHgで6
5〜67゜Cであった。回収された生或物のガスクロマ
トグラフィーによる分析の結果、この生或物は80パー
セントより多くがO−シリルO,N−ケテンアセタール
であることが示された。
上記のN,N−ジメチル−2−プロモイソブチルアミド
は、2−プロモイソブチリルプロミドとジメチルアミン
との反応から調製された。この2一プロモイソブチリル
ブロミドは、米国ウィスコンシン州ミルウォーキーのア
ルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Chemi
cal)より購入した。
は、2−プロモイソブチリルプロミドとジメチルアミン
との反応から調製された。この2一プロモイソブチリル
ブロミドは、米国ウィスコンシン州ミルウォーキーのア
ルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Chemi
cal)より購入した。
乾燥したジメチルアξンをヘキサンに加えた。
このアミン/ヘキサン混合物へ、2−プロモイソブチリ
ルブロミドを混合物が決して40″Cを超えないような
速度で加えた。この酸性臭化物の添加には約1時間を要
した。系全体はアルゴン雰囲気下に保持した。反応混合
物を一晩混合させた。この混合物を実験室用吸引ろ過器
でろ過した。固形物を追加のヘキサンで洗浄した。ろ液
及び洗浄ヘキサンを一緒にし、そしてこの一緒にした混
合物をガスクロマトグラフィー及び質量分析により分析
した。所望のN,N−ジメチル−2−プロモイソブチル
アミドが主要戒分であることが確認された。
ルブロミドを混合物が決して40″Cを超えないような
速度で加えた。この酸性臭化物の添加には約1時間を要
した。系全体はアルゴン雰囲気下に保持した。反応混合
物を一晩混合させた。この混合物を実験室用吸引ろ過器
でろ過した。固形物を追加のヘキサンで洗浄した。ろ液
及び洗浄ヘキサンを一緒にし、そしてこの一緒にした混
合物をガスクロマトグラフィー及び質量分析により分析
した。所望のN,N−ジメチル−2−プロモイソブチル
アミドが主要戒分であることが確認された。
回転蒸発器でもって混合物からヘキサンを除去した。残
りの粗生底物を真空下で蒸留した。この生或物の沸点は
1mmHgで59〜60゜Cであった。蒸留収率は出発
酸性臭化物を基準として90パーセントであった。
りの粗生底物を真空下で蒸留した。この生或物の沸点は
1mmHgで59〜60゜Cであった。蒸留収率は出発
酸性臭化物を基準として90パーセントであった。
上記の結果は、α−ハロア旦ドとアルカリ金属及び過剰
のオルガノハロシランとの反応から高収率の0−シリル
○,N−ケテンアセタールを調製することができるとい
うことを示している。
のオルガノハロシランとの反応から高収率の0−シリル
○,N−ケテンアセタールを調製することができるとい
うことを示している。
手続補正書(方式)
平或2年1月18日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、次の式、すなわち、 R_2C=C(OSiR_nX_3_−_n)(NR^
a_2)又は▲数式、化学式、表等があります▼ (上式中、各R及び各R^2はアルキル基、アルケニル
基、アリール基又はアラルキル基からなる群より独立に
選択され、Xはフッ素原子、塩素原子又は臭素原子であ
り、nは1、2又は3の値を有し、qは2〜22の値を
有する)を有するO−シリルO,N−ケテンアセタール
を調製するための方法であって、次の工程(A)及び(
B)、すなわち、 (A)次の式、すなわち、 ▲数式、化学式、表等があります▼又は ▲数式、化学式、表等があります▼ を有するα−ハロアミド(式中R、R^aおよびqは上
で定義されており、X^iはハロゲン原子である)を、
式R_nSiX_4_−_nを有する過剰のオルガノハ
ロシラン(式中、R、X及びnは上で定義されている)
の存在下にアルカリ金属と接触させる工程、(B)上記
のα−ハロアミド、アルカリ金属及びオルガノハロシラ
ン間の反応を促進してO−シリルO,N−ケテンアセタ
ール及びアルカリ金属ハロゲン化物を生成する工程、 を含んでなる、上記の方法。 2、当該O−シリルO,N−ケテンアセタールを単離及
び分離することを更に包含している、請求項1記載の方
法。 3、当該O−シリルO,N−ケテンアセタールを単離及
び分離することに蒸留するより前に前記アルカリ金属ハ
ロゲン化物を除去することが更に含まれている、請求項
2記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US239917 | 1988-09-02 | ||
US07/239,917 US4824980A (en) | 1988-09-02 | 1988-09-02 | Process to produce O-silyl O,N-ketene acetals |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0314593A true JPH0314593A (ja) | 1991-01-23 |
JPH0670071B2 JPH0670071B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=22904303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1224720A Expired - Lifetime JPH0670071B2 (ja) | 1988-09-02 | 1989-09-01 | O―シリルo、n―ケテンアセタールの調製方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4824980A (ja) |
EP (1) | EP0357450B1 (ja) |
JP (1) | JPH0670071B2 (ja) |
CA (1) | CA1332613C (ja) |
DE (1) | DE68914551T2 (ja) |
ES (1) | ES2055080T3 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL111793A (en) * | 1993-11-30 | 1998-12-06 | Lilly Co Eli | Process for the preparation of 2, 2 - difluoroctane silyl acetals and streams of A, A - difluoro - B - silyloxy - 1, 3 dioxanol - 4 - propanoic acid |
US5428176A (en) * | 1994-04-14 | 1995-06-27 | Eli Lilly And Company | Process for preparing 2,2-difluoroketene silyl O,S-acetals and α,α-difluoro-β-silyloxy-1,3-dioxolane-4-propanoic acid O,S-esters |
DE10138348A1 (de) * | 2001-08-03 | 2003-02-27 | Schering Ag | Geschützte 3,5-Dihydroxy-2,2-dimethyl-valeroamide für die Synthese von Epothilonen und Derivaten und Verfahren zur Herstellung und die Verwendung |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1668365A1 (de) * | 1967-07-15 | 1971-05-06 | Merck Patent Gmbh | Keten-trialkylsilyl-acetale und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US4417034A (en) * | 1981-06-30 | 1983-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Living polymers and process for their preparation |
US4508880A (en) * | 1981-06-30 | 1985-04-02 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | "Living" polymers and process for their preparation |
US4414372A (en) * | 1982-06-17 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Process for preparing living polymers |
GB8500180D0 (en) * | 1985-01-04 | 1985-02-13 | Ici Plc | Chemical process |
US4692536A (en) * | 1985-10-21 | 1987-09-08 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the preparation of hemiaminals, and the use thereof |
FR2612190B1 (fr) * | 1987-03-13 | 1989-06-16 | Rhone Poulenc Chimie | Procede de preparation de cetenes acetals silyles |
US4783543A (en) * | 1987-11-23 | 1988-11-08 | Dow Corning Corporation | Process to produce silyl ketene acetals |
-
1988
- 1988-09-02 US US07/239,917 patent/US4824980A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-08-03 CA CA000607443A patent/CA1332613C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-09-01 ES ES89308870T patent/ES2055080T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 EP EP89308870A patent/EP0357450B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 JP JP1224720A patent/JPH0670071B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-01 DE DE68914551T patent/DE68914551T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0670071B2 (ja) | 1994-09-07 |
DE68914551T2 (de) | 1994-10-06 |
ES2055080T3 (es) | 1994-08-16 |
EP0357450B1 (en) | 1994-04-13 |
DE68914551D1 (de) | 1994-05-19 |
EP0357450A2 (en) | 1990-03-07 |
EP0357450A3 (en) | 1990-08-29 |
CA1332613C (en) | 1994-10-18 |
US4824980A (en) | 1989-04-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04288089A (ja) | メタクリルオキシ基またはアクリルオキシ基を有するオルガノシランの製造法 | |
EP0870769B1 (en) | Hot oil process for producing isocyanato organosilanes | |
JPH05194551A (ja) | シリルオルガノアミンの製造方法 | |
US4593112A (en) | Method for the preparation of a tert-hydrocarbyl silyl compound | |
JPH0458478B2 (ja) | ||
US5235083A (en) | Bis(silyl)alkanes and method for their preparation | |
JPS58126857A (ja) | オキシミノシランの製造法 | |
EP0305855B1 (en) | Synthesis of silyl ketene acetal from allyl 2-organoacrylates | |
US4778908A (en) | Process for preparing disilylmethanes | |
JPH0314593A (ja) | O―シリルo、n―ケテンアセタールの調製方法 | |
EP0298363B1 (en) | A process to produce silyl ketene acetals | |
US5599892A (en) | Preparation of polysilanes | |
US6160151A (en) | Process for production of diphenyl-dialkoxysilane, phenylalkyl-dialkoxysilane, octaphenylcyclotetrasilozane and sym-tetraalkyltetraphenyl-cyclotetrasiloxane | |
US4783543A (en) | Process to produce silyl ketene acetals | |
US7456308B2 (en) | Grignard processes with improved yields of diphenylchlorosilanes as products | |
JPS5970691A (ja) | 水素含有シリルカ−バメ−ト | |
CA1301185C (en) | 1-1-dichloro-1,2,2-trimethyl-2-phenyldisilane and method for producing the same | |
JP3291081B2 (ja) | 環状オルガノヒドロシロキサンの調製方法 | |
JP2001294596A (ja) | トリフルオロチミジン誘導体の製造法 | |
US5606088A (en) | Process for preparation of organodisilanes | |
JPH10218883A (ja) | N,n−ビス(トリメチルシリル)アリルアミンの製造方法 | |
JP2793008B2 (ja) | ヘキサメチルシクロトリシラザンの製造方法 | |
EP1437357B1 (en) | Process for production of alkoxysilane-based compound | |
US6462214B1 (en) | Method of preparing silacycloalkanes | |
JPH05271247A (ja) | 水素化ホウ素ナトリウムで触媒したシクロオルガノシランの不均化 |