JPH0692346B2 - ホモフタル酸誘導体及びその酸無水物 - Google Patents
ホモフタル酸誘導体及びその酸無水物Info
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- JPH0692346B2 JPH0692346B2 JP23981985A JP23981985A JPH0692346B2 JP H0692346 B2 JPH0692346 B2 JP H0692346B2 JP 23981985 A JP23981985 A JP 23981985A JP 23981985 A JP23981985 A JP 23981985A JP H0692346 B2 JPH0692346 B2 JP H0692346B2
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規なホモフタル酸誘導体及びその酸無水物
に関する。
に関する。
従来の技術 従来、ダウノマイシン（Daunomycin）及びアドリアマイ
シン（Adriamycin）の合成中間体〔下記一般式（１）で
表わされる化合物〕は、既にテトラヘドロン，40,4539
（1984）に報告されている。
シン（Adriamycin）の合成中間体〔下記一般式（１）で
表わされる化合物〕は、既にテトラヘドロン，40,4539
（1984）に報告されている。
〔式中R1は水素原子又は低級アルコキシ基を、R2は低級
アルカノイル基を示す。〕 しかしながら、上記文献に記載の方法では、一般式
（１）の化合物を収率よく製造し得ず、工業的に満足で
きるものではない。
アルカノイル基を示す。〕 しかしながら、上記文献に記載の方法では、一般式
（１）の化合物を収率よく製造し得ず、工業的に満足で
きるものではない。
問題点を解決するための手段 本発明者らは、ダウノマイシン及びアドリアマイシンの
合成中間体である上記一般式（１）の化合物を収率よく
製造すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式（２）で
表わされるホモフタル酸誘導体及びその酸無水物を経由
する場合に本発明の所期の効果を達成し得ることを見い
出した。本発明は斯かる知見に基づき完成されたもので
ある。
合成中間体である上記一般式（１）の化合物を収率よく
製造すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式（２）で
表わされるホモフタル酸誘導体及びその酸無水物を経由
する場合に本発明の所期の効果を達成し得ることを見い
出した。本発明は斯かる知見に基づき完成されたもので
ある。
本発明のホモフタル酸誘導体は、文献未記載の新規化合
物であつて、下記一般式（２）で表わされる。
物であつて、下記一般式（２）で表わされる。
〔式中R1は水素原子又は低級アルコキシ基を、R2は低級
アルカノイル基を示す。〕 また上記ホモフタル酸誘導体の酸無水物も、文献未記載
の新規化合物であつて、下記一般式（３）で表わされ
る。
アルカノイル基を示す。〕 また上記ホモフタル酸誘導体の酸無水物も、文献未記載
の新規化合物であつて、下記一般式（３）で表わされ
る。
〔式中R1及びR2は前記に同じ。〕 本明細書において、低級アルキル基としては、例えばメ
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基を挙げる
ことができる。
チル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、tert−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル基等の
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルキル基を挙げる
ことができる。
低級アルカノイル基としては、例えばホルミル、アセチ
ル、プロピオニル、ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノ
イル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルカノ
イル基を挙げることができる。
ル、プロピオニル、ブチリル、ペンタノイル、ヘキサノ
イル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルカノ
イル基を挙げることができる。
低級アルコキシ基としては、例えばメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルコキシ基を挙げること
ができる。
シ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブ
トキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ基等の炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状のアルコキシ基を挙げること
ができる。
上記一般式（２）及び一般式（３）で表わされる本発明
の化合物は、例えば下記反応行程式−１に示す方法によ
り製造される。
の化合物は、例えば下記反応行程式−１に示す方法によ
り製造される。
反応行程式−１ 〔式中R1及びR2は前記に同じ。R3及びR4は各々低級アル
キル基を、R5は水素原子、低級アルキル基又はトリ（低
級アルキル）シリル基を、Ｘは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子を示す。〕 反応行程式−１によれば、公知の一般式（４）で表わさ
れる化合物に公知の一般式（５）で表わされる化合物を
反応させることにより一般式（６）で表わされる化合物
が製造され、次いで該化合物（６）を酸化することによ
り一般式（２）で表わされる本発明の化合物が製造さ
れ、更に該化合物（２）に一般式（７）で表わされる化
合物を作用させることにより一般式（３）で表わされる
本発明の化合物が製造される。
キル基を、R5は水素原子、低級アルキル基又はトリ（低
級アルキル）シリル基を、Ｘは塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子を示す。〕 反応行程式−１によれば、公知の一般式（４）で表わさ
れる化合物に公知の一般式（５）で表わされる化合物を
反応させることにより一般式（６）で表わされる化合物
が製造され、次いで該化合物（６）を酸化することによ
り一般式（２）で表わされる本発明の化合物が製造さ
れ、更に該化合物（２）に一般式（７）で表わされる化
合物を作用させることにより一般式（３）で表わされる
本発明の化合物が製造される。
化合物（４）と化合物（５）との反応は、適当な不活性
溶媒中、強塩基性化合物の存在下、−80℃〜室温程度の
温度条件下に30〜４時間程度で実施される。使用される
不活性溶媒としては、特に限定されるものではなく、反
応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を広く使用でき、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類を挙げることができる。また強塩基性
化合物としても、特に限定されるものではなく、例えば
ｎ−ブチルリチウム等の低級アルキルリチウム、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化ナ
トリウム等の水素化アルカリ金、リチウムジイソプロピ
ルアミド等の通常の強塩基性化合物を例示できる。使用
される化合物（５）及び強塩基性化合物の量としては、
それぞれ化合物（４）に対して通常少なくとも３倍モル
量程度、好ましくは３〜４倍モル量程度とするのがよ
い。
溶媒中、強塩基性化合物の存在下、−80℃〜室温程度の
温度条件下に30〜４時間程度で実施される。使用される
不活性溶媒としては、特に限定されるものではなく、反
応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を広く使用でき、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル等のエーテル類を挙げることができる。また強塩基性
化合物としても、特に限定されるものではなく、例えば
ｎ−ブチルリチウム等の低級アルキルリチウム、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化ナ
トリウム等の水素化アルカリ金、リチウムジイソプロピ
ルアミド等の通常の強塩基性化合物を例示できる。使用
される化合物（５）及び強塩基性化合物の量としては、
それぞれ化合物（４）に対して通常少なくとも３倍モル
量程度、好ましくは３〜４倍モル量程度とするのがよ
い。
化合物（６）の酸化反応は、適当な不活性溶媒中、酸化
剤の存在下、０〜70℃程度、好ましくは室温の温度条件
下に１〜６時間程度で実施される。使用される不活性溶
媒としては、特に限定されるものでなく、反応に悪影響
を及ぼさない通常の溶媒を広く使用でき、例えばテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエー
テル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を挙げること
ができる。酸化剤としては、低級アルカノイル基を付加
し得るものである限り従来公知の酸化剤を広く使用で
き、例えば四酢酸鉛等の四（低級アルカン酸）鉛、三酢
酸マンガン等の三（低級アルカン酸）マンガン等が挙げ
られる。使用される酸化剤の量としては、化合物（６）
に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは等モ
ル〜２倍モル量程度とするのがよい。斯して一般式
（２）の本発明化合物が製される。
剤の存在下、０〜70℃程度、好ましくは室温の温度条件
下に１〜６時間程度で実施される。使用される不活性溶
媒としては、特に限定されるものでなく、反応に悪影響
を及ぼさない通常の溶媒を広く使用でき、例えばテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエー
テル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を挙げること
ができる。酸化剤としては、低級アルカノイル基を付加
し得るものである限り従来公知の酸化剤を広く使用で
き、例えば四酢酸鉛等の四（低級アルカン酸）鉛、三酢
酸マンガン等の三（低級アルカン酸）マンガン等が挙げ
られる。使用される酸化剤の量としては、化合物（６）
に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは等モ
ル〜２倍モル量程度とするのがよい。斯して一般式
（２）の本発明化合物が製される。
一般式（２）の化合物と一般式（７）の化合物との反応
は、適当な不活性溶媒中、０〜80℃程度、好ましくは室
温付近の温度条件下に５分〜12時間程度で実施される。
使用される不活性溶媒としては、特に限定されるもので
はなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を広く使
用でき、例えばクロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエ
ステル類等を挙げるとができる。使用される化合物
（７）の量としては、化合物（２）に対して通常少なく
とも等モル量程度、好ましくは等モル〜２倍モル量程度
とするのがよい。斯くして一般式（３）の本発明化合物
が製造される。
は、適当な不活性溶媒中、０〜80℃程度、好ましくは室
温付近の温度条件下に５分〜12時間程度で実施される。
使用される不活性溶媒としては、特に限定されるもので
はなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を広く使
用でき、例えばクロロホルム、塩化メチレン、1,2−ジ
クロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル
類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエ
ステル類等を挙げるとができる。使用される化合物
（７）の量としては、化合物（２）に対して通常少なく
とも等モル量程度、好ましくは等モル〜２倍モル量程度
とするのがよい。斯くして一般式（３）の本発明化合物
が製造される。
斯くして製造された一般式（３）の本発明化合物は、下
記反応行程式−２に示す方法により一般式（１）の化合
物を誘導され得る。
記反応行程式−２に示す方法により一般式（１）の化合
物を誘導され得る。
反応行程式−２ 〔式中R1及びR2は前記に同じ。Ｙは塩素原子、臭素原
子、沃素原子等のハロゲン原子又は水素原子を示す。〕 化合物（３）と公知の一般式（８）で表わされる化合物
との反応は、適当な不活性溶媒中、強塩基性化合物の存
在下、−80〜50℃程度、好ましくは室温付近の温度条件
下に10分〜６時間程度、好ましくは15〜30分間程度で実
施される。使用される不活性溶媒としては、特に限定さ
れるものではなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶
媒を広く使用でき、例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、シ
クロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベンゼン等の芳香族
炭化水素類等を挙げることができる。また強塩基性化合
物としても、特に限定されるものではなく、例えばｎ−
ブチルリチウム等の低級アルキルリチウム、リチウム、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、リチウムジイソプロピルアミド等の通常の強
塩基性化合物を例示できる。使用される化合物（８）の
量としては、化合物（３）に対して通常少なくとも等モ
ル量程度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度とする
のがよく、また強塩基性化合物の量としては、化合物
（３）に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましく
は１〜２倍モル量程度とするのがよい。
子、沃素原子等のハロゲン原子又は水素原子を示す。〕 化合物（３）と公知の一般式（８）で表わされる化合物
との反応は、適当な不活性溶媒中、強塩基性化合物の存
在下、−80〜50℃程度、好ましくは室温付近の温度条件
下に10分〜６時間程度、好ましくは15〜30分間程度で実
施される。使用される不活性溶媒としては、特に限定さ
れるものではなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶
媒を広く使用でき、例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、シ
クロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベンゼン等の芳香族
炭化水素類等を挙げることができる。また強塩基性化合
物としても、特に限定されるものではなく、例えばｎ−
ブチルリチウム等の低級アルキルリチウム、リチウム、
ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、水素化ナトリ
ウム、水素化カリウム、水素化リチウム等の水素化アル
カリ金属、リチウムジイソプロピルアミド等の通常の強
塩基性化合物を例示できる。使用される化合物（８）の
量としては、化合物（３）に対して通常少なくとも等モ
ル量程度、好ましくは等モル〜1.5倍モル量程度とする
のがよく、また強塩基性化合物の量としては、化合物
（３）に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましく
は１〜２倍モル量程度とするのがよい。
上記反応行程式−１及び−２に示す方法により、化合物
（４）から本発明化合物（２）及び（３）を経て化合物
（１）を簡便な操作により好収率で工業的に有利に製造
し得る。
（４）から本発明化合物（２）及び（３）を経て化合物
（１）を簡便な操作により好収率で工業的に有利に製造
し得る。
更にダウノマイシン及びアドリアマイシン合成中間体と
して下記一般式（９）の化合物が知られている〔ジヤー
ナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサイエテイ
ー，98,1967（1946）、ジヤーナル オブ ザ ケミカ
ル ソサイエテイー パーキン トランザクシヨンI,19
81,689参照〕。
して下記一般式（９）の化合物が知られている〔ジヤー
ナル オブ ザ アメリカン ケミカル ソサイエテイ
ー，98,1967（1946）、ジヤーナル オブ ザ ケミカ
ル ソサイエテイー パーキン トランザクシヨンI,19
81,689参照〕。
〔式中R1′は低級アルコキシ基を示す。〕 しかしながら、上記文献に記載の方法では、一般式
（９）の化合物を収率よく製造し得ず、工業的に満足で
きるものではない。
（９）の化合物を収率よく製造し得ず、工業的に満足で
きるものではない。
本発明者らは、下記一般式（10）で表わされる新規化合
物を経由する場合に上記一般式（９）で表わされる化合
物を好収率で製造し得ることをも見い出した。
物を経由する場合に上記一般式（９）で表わされる化合
物を好収率で製造し得ることをも見い出した。
〔式中R1′は前記に同じ。R6は低級アルキル基を示
す。〕 上記一般式（10）の化合物は、例えば反応行程式−３に
示す方法により、一般式（1a）の化合物〔R1が低級アル
コキシ基である一般式（１）の化合物〕から工業的規模
で好収率にて製造し得る。
す。〕 上記一般式（10）の化合物は、例えば反応行程式−３に
示す方法により、一般式（1a）の化合物〔R1が低級アル
コキシ基である一般式（１）の化合物〕から工業的規模
で好収率にて製造し得る。
反応行程式−３ 〔式中R1′、R2及びR6は前記に同じ。〕 一般式（1a）の化合物の加水分解は、例えば適当な溶媒
中酸の存在下に行なわれる。用いられる溶媒としては、
通常の溶媒を広く使用でき、例えば水、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類やこれらの混
合溶媒等を挙げることができる。また酸としては、特に
制限されず、従来公知の酸を広く使用でき、例えば塩
酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、トリフルオロ酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等の有機酸等が挙げられる。斯か
る酸の使用量としては、通常化合物（1a）に対して大過
剰量とするのがよい。上記反応は、通常室温〜100℃程
度、好ましくは室温〜80℃程度にて行なわれ、一般に１
〜10時間程度で該反応は完結する。
中酸の存在下に行なわれる。用いられる溶媒としては、
通常の溶媒を広く使用でき、例えば水、メタノール、エ
タノール、イソプロパノール等のアルコール類、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類やこれらの混
合溶媒等を挙げることができる。また酸としては、特に
制限されず、従来公知の酸を広く使用でき、例えば塩
酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸、トリフルオロ酢酸、ｐ
−トルエンスルホン酸等の有機酸等が挙げられる。斯か
る酸の使用量としては、通常化合物（1a）に対して大過
剰量とするのがよい。上記反応は、通常室温〜100℃程
度、好ましくは室温〜80℃程度にて行なわれ、一般に１
〜10時間程度で該反応は完結する。
斯くして得られる化合物（11）と化合物（12）との反応
は、適当な不活性溶媒中、−80℃〜室温程度、好ましく
は−80〜−50℃の温度条件下に１〜６時間程度で実施さ
れる。使用される不活性溶媒としては、特に限定される
ものではなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を
広く使用でき、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を挙
げることができる。使用される化合物（12）の量として
は、化合物（11）に対して通常少なくとも等モル量程
度、好ましくは５〜20倍モル量程度とするのがよい。
は、適当な不活性溶媒中、−80℃〜室温程度、好ましく
は−80〜−50℃の温度条件下に１〜６時間程度で実施さ
れる。使用される不活性溶媒としては、特に限定される
ものではなく、反応に悪影響を及ぼさない通常の溶媒を
広く使用でき、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン
等のエーテル類、ベンゼン等の芳香族炭化水素類等を挙
げることができる。使用される化合物（12）の量として
は、化合物（11）に対して通常少なくとも等モル量程
度、好ましくは５〜20倍モル量程度とするのがよい。
化合物（10）の水和反応及び／又は脱シリレーシヨン反
応は、適当な不活性溶媒中、触媒及び酸の存在下に行な
われる。溶媒としては、通常の溶媒を広く使用でき、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエチレングリコール等のエーテル類、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベンゼン
等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。また触
媒としては、この種の反応に通常使用されている公知の
触媒を広く使用でき、例えば酸化水銀（HgO）等が挙げ
られる。酸としては、特に制限がなく、従来公知の酸を
広く使用でき、例えば硫酸、塩酸等を挙げこるとができ
る。斯かる酸の濃度としては、20％前後が好ましく、酸
の使用量は、化合物（10）に対して大過剰量とするのが
よい。また使用される触媒の量としては、化合物（10）
に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは１〜
５倍モル程度とするのがよい。上記反応は、通常０〜10
0℃程度、好ましくは50〜70℃程度にて行なわれ、一般
に１〜２時間程度で該反応は終了する。
応は、適当な不活性溶媒中、触媒及び酸の存在下に行な
われる。溶媒としては、通常の溶媒を広く使用でき、例
えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、ジメトキシエチレングリコール等のエーテル類、ヘ
キサン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類、ベンゼン
等の芳香族炭化水素類等を挙げることができる。また触
媒としては、この種の反応に通常使用されている公知の
触媒を広く使用でき、例えば酸化水銀（HgO）等が挙げ
られる。酸としては、特に制限がなく、従来公知の酸を
広く使用でき、例えば硫酸、塩酸等を挙げこるとができ
る。斯かる酸の濃度としては、20％前後が好ましく、酸
の使用量は、化合物（10）に対して大過剰量とするのが
よい。また使用される触媒の量としては、化合物（10）
に対して通常少なくとも等モル量程度、好ましくは１〜
５倍モル程度とするのがよい。上記反応は、通常０〜10
0℃程度、好ましくは50〜70℃程度にて行なわれ、一般
に１〜２時間程度で該反応は終了する。
上記各々の行程で得られる目的化合物は、通常の分離手
段により反応混合物から容易に単離、精製される。斯か
る分離手段としては、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、
再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテイブ
薄層クロマトグラフイー等を挙げることができる。
段により反応混合物から容易に単離、精製される。斯か
る分離手段としては、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、
再結晶法、カラムクロマトグラフイー、プレパラテイブ
薄層クロマトグラフイー等を挙げることができる。
発明の効果 本発明の化合物は、化合物（１）を合成するための中間
体として有用な化合物である。本発明の化合物を経由す
れば、工業的な規模で化合物（１）を収率よく、しかも
高純度で製造し得る。
体として有用な化合物である。本発明の化合物を経由す
れば、工業的な規模で化合物（１）を収率よく、しかも
高純度で製造し得る。
実施例 以下に実施例及び参考例を掲げるが、本発明はこれらに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例１ ホモフタル酸180mgのテトラヒドロフラン（THF）8ml溶
液に−78℃で30分間リチウムジイソプロピルアミド342m
gを反応させた。次いでこの溶液にトリメチルシリルク
ロライド0.75mlを−78℃で1.5時間、室温で30分間反応
させた。次にこの溶液に四酢酸鉛（90％）550mgの乾燥
ベンゼン4ml溶液を室温で２時間反応させ、定量的に
２′−アセトキシホモフタル酸を得た。
液に−78℃で30分間リチウムジイソプロピルアミド342m
gを反応させた。次いでこの溶液にトリメチルシリルク
ロライド0.75mlを−78℃で1.5時間、室温で30分間反応
させた。次にこの溶液に四酢酸鉛（90％）550mgの乾燥
ベンゼン4ml溶液を室温で２時間反応させ、定量的に
２′−アセトキシホモフタル酸を得た。
収量:232mg（収率100％）1 H−NMR（アセトン−d6）：δ 2.12（3H、ｓ、OCOOH3） 6.8（2H、brs、COOH×２） 7.18（1H、ｓ、CH） 7.2〜7.8（3H、ｍ、ArH） 7.9〜8.15（1H、ｍ、ArH） IR（KCl）cm-1: 3070、3020、2920、2850、 2630、1755、1720、1675、 1600、1580 実施例２ ６−メトキシホモフタル酸210mgから実施例１と同様に
して２′−アセトキシ−６−メトキシホモフタル酸を定
量的に得た。
して２′−アセトキシ−６−メトキシホモフタル酸を定
量的に得た。
収量:261mg（収率97％）1 H−NMR（アセトン−d6）：δ 2.09（3H、ｓ、OCOOH3） 3.87（3H、ｓ、OCH3） 6.21（1H、ｓ、CH） 6.30（2H、brs、COOH×２） 6.95〜7.55（3H、ｍ、ArH） IR（CHCl3）cm-1: 3300〜2800、1760〜1710 実施例３ ２′−アセトキシホモフタル酸80mg及びトリメチルシリ
ルエトキシアセチレン65mgを塩化メチレン1.5ml中にて
室温で４時間反応させて、定量的に４−アセトキシホモ
フタル酸無水物を得た。
ルエトキシアセチレン65mgを塩化メチレン1.5ml中にて
室温で４時間反応させて、定量的に４−アセトキシホモ
フタル酸無水物を得た。
収量:74mg（収率100％）1 H−NMR（CDCl3）：δ 2.31（3H、ｓ、OCOOH3） 6.53（1H、ｓ、CH） 7.3〜7.9（3H、ｍ、ArH） 8.05〜8.3（1H、ｍ、ArH） IR（CHCl3）cm-1: 1805、1765、1600 実施例４ ２′−アセトキシ−６−メトキシホモフタル酸80mgから
実施例３と同様にして４−アセトキシ−８−メトキシホ
モフタル酸無水物を得た。
実施例３と同様にして４−アセトキシ−８−メトキシホ
モフタル酸無水物を得た。
収量:74mg（収率99％）1 H−NMR（CDCl3）：δ 2.32（3H、ｓ、OCOOH3） 4.00（3H、ｓ、OCH3） 6.51（1H、ｓ、CH） 6.9〜7.2（2H、ｍ、ArH） 7.70（1H、ｔ、ArH） IR（CHCl3）cm-1: 1815、1765、1600 参考例１ ４−アセトキシ−８−メトキシホモフタル酸無水物86mg
を15分間室温にてTHF4ml中水素化ナトリウム17mgで処理
した後、約20時間室温にて２−クロロ−6,6−エチレン
ジオキシ−5,6,7,8−テトラヒドロ−1,4−ナフトキノン
87mgと反応させ、塩化メチレン−エタノールより再結晶
して11−アセトキシ−2,2−エチレンジオキシ−６−ヒ
ドロキシ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5,1
2−ナフタセンキノン90mgを得た。
を15分間室温にてTHF4ml中水素化ナトリウム17mgで処理
した後、約20時間室温にて２−クロロ−6,6−エチレン
ジオキシ−5,6,7,8−テトラヒドロ−1,4−ナフトキノン
87mgと反応させ、塩化メチレン−エタノールより再結晶
して11−アセトキシ−2,2−エチレンジオキシ−６−ヒ
ドロキシ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5,1
2−ナフタセンキノン90mgを得た。
収率62％、融点248〜253℃ 参考例２ 11−アセトキシ−2,2−エチレンジオキシ−６−ヒドロ
キシ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5,12−
ナフタセンキノン40mgのトリフルオロ酢酸4mg溶液に水2
mlを滴下し、50℃で３時間加熱した。冷却後、溶媒を減
圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー（溶出液；ベンゼン：エチルエーテル＝10:1）
で精製した。酢酸で再結晶し、5,12−ジヒドロキシ−２
−オキソ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6,1
1−ナフタセンキノン28mgを得た。
キシ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−5,12−
ナフタセンキノン40mgのトリフルオロ酢酸4mg溶液に水2
mlを滴下し、50℃で３時間加熱した。冷却後、溶媒を減
圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフイー（溶出液；ベンゼン：エチルエーテル＝10:1）
で精製した。酢酸で再結晶し、5,12−ジヒドロキシ−２
−オキソ−７−メトキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−6,1
1−ナフタセンキノン28mgを得た。
収率88％、融点252〜256℃ 参考例３ ２−トリメチルシリルエチニルリチウム101mg及び塩化
第一セリウム370mgをTH5ml中−78℃で３時間反応させて
トリメチルシリルエチニルセリウムクロライドを予め合
成しておいた。
第一セリウム370mgをTH5ml中−78℃で３時間反応させて
トリメチルシリルエチニルセリウムクロライドを予め合
成しておいた。
5,12−ジヒドロキシ−２−オキソ−７−メトキシ−1,2,
3,4−テトラヒドロ−6,11−ナフタセンキノン22mgトリ
メチルシリルエチニルセリウムクロライドで処理し、ク
ロロホルムで再結晶して４−メトキシ−6,9,11−トリヒ
ドロキシ−９−トリメチルシリルエチニル−7,8,9,10−
テトラヒドロ−5,12−ナフタセンキノン19.5gを得た。
3,4−テトラヒドロ−6,11−ナフタセンキノン22mgトリ
メチルシリルエチニルセリウムクロライドで処理し、ク
ロロホルムで再結晶して４−メトキシ−6,9,11−トリヒ
ドロキシ−９−トリメチルシリルエチニル−7,8,9,10−
テトラヒドロ−5,12−ナフタセンキノン19.5gを得た。
収率69％、融点262〜264.5℃1 H−NMR（CDCl3）：δ 0.16（9H、ｓ、（CH3）3Si） 2.13（2H、brt、C8−CH2） 3.02（2H、brt、C7−CH2） 3.15（2H、brs、C10−CH2） 4.10（3H、ｓ、OCH3） 7.38（1H、dd、C3−Ｈ） 7.76（1H、ｔ、C2−Ｈ） 8.04（1H、dd、C1−Ｈ） 13.48（1H、ｓ、OH） 13.85（1H、ｓ、OH） IR（CHCl3）cm-1: 1605、1580 参考例４ ４−メトキシ−6,9,11−トリヒドロキシ−９−トリメチ
ルシリルエチニル−7,8,9,10−テトラヒドロ5,12−ナフ
タセンキノン8.8mgをTHF1mg中、1.5時間70℃にて、触媒
として酸化水銀13mgを用い、20％硫酸0.3mlにより加水
分解し、酢酸エチル−THFより再結晶して（±）−７−
デオキシダウノマイシン6.6mgを得た。
ルシリルエチニル−7,8,9,10−テトラヒドロ5,12−ナフ
タセンキノン8.8mgをTHF1mg中、1.5時間70℃にて、触媒
として酸化水銀13mgを用い、20％硫酸0.3mlにより加水
分解し、酢酸エチル−THFより再結晶して（±）−７−
デオキシダウノマイシン6.6mgを得た。
収率86％、融点229〜233.5℃
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 〔式中R1は水素原子又は低級アルコキシ基を、R2は低級
アルカノイル基を示す。〕 で表わされるホモフタル酸誘導体又はその酸無水物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23981985A JPH0692346B2 (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | ホモフタル酸誘導体及びその酸無水物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23981985A JPH0692346B2 (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | ホモフタル酸誘導体及びその酸無水物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6299343A JPS6299343A (ja) | 1987-05-08 |
| JPH0692346B2 true JPH0692346B2 (ja) | 1994-11-16 |
Family
ID=17050316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23981985A Expired - Lifetime JPH0692346B2 (ja) | 1985-10-25 | 1985-10-25 | ホモフタル酸誘導体及びその酸無水物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0692346B2 (ja) |
-
1985
- 1985-10-25 JP JP23981985A patent/JPH0692346B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6299343A (ja) | 1987-05-08 |
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