JPH068789B2 - ウエハ検査装置 - Google Patents
ウエハ検査装置Info
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- JPH068789B2 JPH068789B2 JP59257607A JP25760784A JPH068789B2 JP H068789 B2 JPH068789 B2 JP H068789B2 JP 59257607 A JP59257607 A JP 59257607A JP 25760784 A JP25760784 A JP 25760784A JP H068789 B2 JPH068789 B2 JP H068789B2
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- camera
- inspection
- illumination
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95607—Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本装置は、シリコンウエハの製造過程におけるウエハの
表面のキズ、よごれ等の欠陥検査の品質の向上と省力化
自動化に好適である。
表面のキズ、よごれ等の欠陥検査の品質の向上と省力化
自動化に好適である。
半導体製品材料としてのシリコンウエハ面板、あるいは
各種金属,非金属の表面欠陥を検出する方法として従来
は人手による方法がおこなわれていた。しかし個人差が
ある上に、非能率的であるという欠点があった。
各種金属,非金属の表面欠陥を検出する方法として従来
は人手による方法がおこなわれていた。しかし個人差が
ある上に、非能率的であるという欠点があった。
また表面欠陥を検出するためにレーザ光を被検体の表面
に照射して、表面欠陥による散乱光をオプティカルファ
イバーを用いて受光したその分散パターンから欠陥を検
査する方法が知られている。それには例えば特開昭55
−17443号がある。しかしながらこの方法では装置が大
がかりになるという欠点がある。
に照射して、表面欠陥による散乱光をオプティカルファ
イバーを用いて受光したその分散パターンから欠陥を検
査する方法が知られている。それには例えば特開昭55
−17443号がある。しかしながらこの方法では装置が大
がかりになるという欠点がある。
また関連公知例としては特公昭59−34961号などがあ
る。
る。
本発明の目的は、シリコンウエハ製造過程におけるウエ
ハ表面のキズ,ヨゴレ等の欠陥を検査するウエハ検査装
置を提供することにある。
ハ表面のキズ,ヨゴレ等の欠陥を検査するウエハ検査装
置を提供することにある。
従来ウエハの検査は、目視により行われていた。ウエハ
の欠陥は、キズ,ヨゴレ等非常に多種類のものがあり、
ウエハの表面とカメラの傾斜角や照明方向などにより欠
陥部がカメラ画像に取り込めないことがある。目視の場
合は、ウエハをいろいろの姿勢にして観察することによ
り欠陥部を見出している。本発明の装置では、対象物を
各種の姿勢に制御し画像処理を行うことができ目視と同
じ状態で検査を行うことを可能とした。
の欠陥は、キズ,ヨゴレ等非常に多種類のものがあり、
ウエハの表面とカメラの傾斜角や照明方向などにより欠
陥部がカメラ画像に取り込めないことがある。目視の場
合は、ウエハをいろいろの姿勢にして観察することによ
り欠陥部を見出している。本発明の装置では、対象物を
各種の姿勢に制御し画像処理を行うことができ目視と同
じ状態で検査を行うことを可能とした。
以下、本発明の一実施例を図面により説明する。シリコ
ンウエハの製造過程において発生する欠陥は、第4図〜
第10図に示すように、欠け,すり傷,よごれ等各種の
ものがある。欠けや,すり傷については比較的に画像と
してとらえやすいが、よごれについては、ITVカメラ
とウエハ面の傾斜角や照明方向等によりよく見えたり見
えなかったりする。従来は、人間の視力によりこれらを
検査を実施していたが、自動化する場合、良い画像が得
られるかどうかが最大の問題である。本発明の装置で
は、ITVカメラ,照明とウエハ面の角度が自動的に最
適化することを考えてある。また、細かな欠陥を検出で
きるよう倍率の大きなレンズを使用した場合ウエハ全面
をスキャンすることによりもれなく欠陥部を検出できる
ように仕組んでいる。
ンウエハの製造過程において発生する欠陥は、第4図〜
第10図に示すように、欠け,すり傷,よごれ等各種の
ものがある。欠けや,すり傷については比較的に画像と
してとらえやすいが、よごれについては、ITVカメラ
とウエハ面の傾斜角や照明方向等によりよく見えたり見
えなかったりする。従来は、人間の視力によりこれらを
検査を実施していたが、自動化する場合、良い画像が得
られるかどうかが最大の問題である。本発明の装置で
は、ITVカメラ,照明とウエハ面の角度が自動的に最
適化することを考えてある。また、細かな欠陥を検出で
きるよう倍率の大きなレンズを使用した場合ウエハ全面
をスキャンすることによりもれなく欠陥部を検出できる
ように仕組んでいる。
第4図(a),(b)はいわゆるSBムラオビ(サンドブラス
トによる)の場合、(c),(d)はいわゆるSBムラ花(サ
ンドブラストによる)場合を示している。
トによる)の場合、(c),(d)はいわゆるSBムラ花(サ
ンドブラストによる)場合を示している。
第5図(a),(b)はいわゆるSBコスレ(サンドブラスト
による)の例を、第6図(a),(b)はいわゆる白汚れがあ
る場合、第7図(a),(b)はホールド汚れ、(c),(d)は雲状
汚れ、第8図(a),(b)は点状汚れ、(c)はピンセット汚
れ、第9図(a)はカケがある場合、(b)はクラックがある
場合、(c)はヒッカキがある場合、(d)は突起がある場合
を、第10図(a)はCROWが、(b)は陥没がある場合のそれ
ぞれウエハの表面状態の例を示している。なお21はウ
エハである。
による)の例を、第6図(a),(b)はいわゆる白汚れがあ
る場合、第7図(a),(b)はホールド汚れ、(c),(d)は雲状
汚れ、第8図(a),(b)は点状汚れ、(c)はピンセット汚
れ、第9図(a)はカケがある場合、(b)はクラックがある
場合、(c)はヒッカキがある場合、(d)は突起がある場合
を、第10図(a)はCROWが、(b)は陥没がある場合のそれ
ぞれウエハの表面状態の例を示している。なお21はウ
エハである。
第1図により本発明の装置について説明する。無欠陥の
ウエハ11はITBカメラ6から画像入力する。被検査
ウエハ12は、ITBカメラ7から画像入力する。2つ
の画像を比較することにより欠陥を検出する。2つのウ
エハ11,12は、同一のXYテーブル10上におかれ
ているので、カメラ6,7とウエハ11,12の位置関
係をあらかじめ調整してあるので、ウエハの同じ相対位
置の画像が取り込まれることになる。従って、2画像の
画像間演算により表面の反映光の異なる部分だけを検出
するとができる。ウエハ11は無欠陥であるから、ウエ
ハ12に欠陥があれば、その部分だけが反射光に差を生
ずるので検知できるのである。微小な欠陥を検知するに
は、入力画像は、ウエハの1部分を拡大して画像入力す
る必要がある。従ってウエハ全面を検査する為には、ウ
エハ表面全体について画像を順次取り込み欠陥を検査す
る必要がある。この為、本発明の装置では、ウエハを前
後左右に移動可能なXYテーブル10上におかれる。2
個のウエハは、同じXYテーブル上におかれるので、常
に同じ相対位置の部分の画像をとり込むことができる。
ウエハの表面を傾斜して画像入力するために、XYテー
ブル10は、回転軸9を中心に回転できる構造となって
いる。8は、フレームである。1は画像処理装置本体、
2は、画像処理内容を表示するためのモニタテレビであ
る。3は、オペレータ用のコンソールCRT、4は、ハー
ドコピー用プリンタである。5は、同上用のデスクであ
る。本発明の装置の概略は以上のようであるが、これを
ウエハ生産ラインの検査行程へ配置した場合の一実施例
を第2図に示す。13は、検査前のウエハ搬送ライン、
17は、ウエハを搬送ライン13からウエハ検査機16
へ移動するためのマテハンである。14は、検査完了後
の良品ウエハを搬送するラインで、15は、不良品を搬
送するラインである。第3図によりウエハ製造ラインに
配置した場合の詳細を説明する。検査前ウエハ21はウ
エハマテハン機構17、シリンダ18、ロット19、マ
テハンヘット20によりライン13より検査装置16に
転送する。22は、ウエハ受口である。検査終了後、合
格品は、出口23からライン14に、不合格品は、出口
24からライン26に送出される。次に第11図により
本発明の検査装置の検査方法について説明する。11は
無欠陥のウエハで、モデルとして使用する。12は、被
検査のウエハで、欠陥を含む場合がある。カメラ6はウ
エハ11の表面の1部の画像(G1部)を画像入力でき
るように調整してある。2つの画像は、2とのウエハの
同じ相対部分となるようにしてある。またカメラ7はウ
エハ12の表面の1部の画像(G2部)を画像入力でき
るように調整してある。第12図にて本発明のウエハ欠
陥部検出の画像処理の一方法について説明する。モデル
ウエハ11と被検査ウエハ12の表面の1部の画像
G1,G2について画像間演算を実施する(減算i絶対
値をとる) |G1−G2|→G3 この演算により、2つの画像G1,G2の濃度比較をと
ることができる。被検査ウエハが無欠陥ならば、2つの
ウエハは同じ反射率(ほぼ等しい)であり、照明関係も
同じ条件に設定されているので2つの画像の減算結果
は、ほぼ0に近い値となる。しかし、ウエハ12に欠陥
を含むとその部分の反射率が異なるので、演算結果は大
きな値となる。このように大きな値の発生した位置や面
積を求めることにより欠陥の有無を判定する。
ウエハ11はITBカメラ6から画像入力する。被検査
ウエハ12は、ITBカメラ7から画像入力する。2つ
の画像を比較することにより欠陥を検出する。2つのウ
エハ11,12は、同一のXYテーブル10上におかれ
ているので、カメラ6,7とウエハ11,12の位置関
係をあらかじめ調整してあるので、ウエハの同じ相対位
置の画像が取り込まれることになる。従って、2画像の
画像間演算により表面の反映光の異なる部分だけを検出
するとができる。ウエハ11は無欠陥であるから、ウエ
ハ12に欠陥があれば、その部分だけが反射光に差を生
ずるので検知できるのである。微小な欠陥を検知するに
は、入力画像は、ウエハの1部分を拡大して画像入力す
る必要がある。従ってウエハ全面を検査する為には、ウ
エハ表面全体について画像を順次取り込み欠陥を検査す
る必要がある。この為、本発明の装置では、ウエハを前
後左右に移動可能なXYテーブル10上におかれる。2
個のウエハは、同じXYテーブル上におかれるので、常
に同じ相対位置の部分の画像をとり込むことができる。
ウエハの表面を傾斜して画像入力するために、XYテー
ブル10は、回転軸9を中心に回転できる構造となって
いる。8は、フレームである。1は画像処理装置本体、
2は、画像処理内容を表示するためのモニタテレビであ
る。3は、オペレータ用のコンソールCRT、4は、ハー
ドコピー用プリンタである。5は、同上用のデスクであ
る。本発明の装置の概略は以上のようであるが、これを
ウエハ生産ラインの検査行程へ配置した場合の一実施例
を第2図に示す。13は、検査前のウエハ搬送ライン、
17は、ウエハを搬送ライン13からウエハ検査機16
へ移動するためのマテハンである。14は、検査完了後
の良品ウエハを搬送するラインで、15は、不良品を搬
送するラインである。第3図によりウエハ製造ラインに
配置した場合の詳細を説明する。検査前ウエハ21はウ
エハマテハン機構17、シリンダ18、ロット19、マ
テハンヘット20によりライン13より検査装置16に
転送する。22は、ウエハ受口である。検査終了後、合
格品は、出口23からライン14に、不合格品は、出口
24からライン26に送出される。次に第11図により
本発明の検査装置の検査方法について説明する。11は
無欠陥のウエハで、モデルとして使用する。12は、被
検査のウエハで、欠陥を含む場合がある。カメラ6はウ
エハ11の表面の1部の画像(G1部)を画像入力でき
るように調整してある。2つの画像は、2とのウエハの
同じ相対部分となるようにしてある。またカメラ7はウ
エハ12の表面の1部の画像(G2部)を画像入力でき
るように調整してある。第12図にて本発明のウエハ欠
陥部検出の画像処理の一方法について説明する。モデル
ウエハ11と被検査ウエハ12の表面の1部の画像
G1,G2について画像間演算を実施する(減算i絶対
値をとる) |G1−G2|→G3 この演算により、2つの画像G1,G2の濃度比較をと
ることができる。被検査ウエハが無欠陥ならば、2つの
ウエハは同じ反射率(ほぼ等しい)であり、照明関係も
同じ条件に設定されているので2つの画像の減算結果
は、ほぼ0に近い値となる。しかし、ウエハ12に欠陥
を含むとその部分の反射率が異なるので、演算結果は大
きな値となる。このように大きな値の発生した位置や面
積を求めることにより欠陥の有無を判定する。
第13図〜第15図により、ITVカメラとウエハ表面
の角度について述べる。ITVカメラ及び、照明を、ウ
エハ表面に対して垂直にする場合を第13図に示す。こ
の場合には、ウエハ表面の深い傷の場合によく欠陥部の
検出できる。Lは垂直照明を表わしている。第14図
は、ウエハ表面とITVカメラと照明が、勝手な向きに
ある場合を示す。このような場合、大抵欠陥部の検出は
あまりよい結果とならない。第15図は、ウエハ表面に
対して、照明とカメラが1定の関係で(ここでは、ウエ
ハ画線に対して対象)にある場合である。ウエハ表面が
鏡面仕上の場合、照明光がウエハ表面で反射されてカメ
ラに入るような角度関係にすると、欠陥のある種のもの
については良く検出可能である。本発明の装置では、第
13図及び第15図のような角度関係で、照明ITVカ
メラ,ウエハを配置できるような特徴ある構成をしてい
る。すなわち、本構成はカメラで検出するウエハ表面か
らの反射光が、カメラの光軸方向から入射するようにし
たものである。
の角度について述べる。ITVカメラ及び、照明を、ウ
エハ表面に対して垂直にする場合を第13図に示す。こ
の場合には、ウエハ表面の深い傷の場合によく欠陥部の
検出できる。Lは垂直照明を表わしている。第14図
は、ウエハ表面とITVカメラと照明が、勝手な向きに
ある場合を示す。このような場合、大抵欠陥部の検出は
あまりよい結果とならない。第15図は、ウエハ表面に
対して、照明とカメラが1定の関係で(ここでは、ウエ
ハ画線に対して対象)にある場合である。ウエハ表面が
鏡面仕上の場合、照明光がウエハ表面で反射されてカメ
ラに入るような角度関係にすると、欠陥のある種のもの
については良く検出可能である。本発明の装置では、第
13図及び第15図のような角度関係で、照明ITVカ
メラ,ウエハを配置できるような特徴ある構成をしてい
る。すなわち、本構成はカメラで検出するウエハ表面か
らの反射光が、カメラの光軸方向から入射するようにし
たものである。
第16図によりカメラとウエハ表面の角度関係を変える
一実施例について説明する。ウエハを傾斜させ、カメラ
は固定する。ウエハ表面の1点を中心としてウエハを回
転する。このようにすることによる利点は、カメラの焦
点をウエハの傾斜により調整する必要がないようにする
ための工夫である。ここで注視すべきことは、ウエハを
水平に対してα1だけ傾斜させた時、ITVカメラを垂
直に保つものとすれば、光源は、垂直から2α1だけ傾
斜させると良い角度関係になることである。このように
ウエハの回転中心と、傾斜角,光源の向きを適切に選ぶ
と常時安定な検査結果が得られる。本発明の装置は、こ
れらのことを考慮してあるので、ウエハを任意に傾斜し
た時、照明も自動的に最適の向きに決定されるような構
造となっている。第17図〜第19図によりXYテーブ
ルの構成について説明する。ウエハ表面の画像として入
力できるのは、ウエハ表面の1部にすぎない。これは、
微小な欠陥を検出するため、倍率の高いレンズを使って
画像入力するためである。ウエハ全表面を検査するため
には、カメラ又はウエハを移動してウエハの全表面の画
像を入力する必要がある。本発明の装置では、カメラを
固定しウエハをX方向,Y方向に移動することにより行
うものとする。第17図は、2個のウエハの並び方向
(X方向と定義する)にウエハを移動する方法を示す。
本発明の装置では、2個のウエハ11,12が、同じ量
だけ、X方向に移動するようにしてあるので、X方向へ
の移動により、カメラとウエハの関係は、ウエハ11,
12は全く同じように変化する。尚、27,28はウエ
ハ受け皿である。このウエハ受け皿は、ウエハの仕様の
変更をこの受け皿の取りかえで間に合うようにしたもの
である。第18図は、ウエハをY方向(前述と直角方
向)に移動する方法を示す。本発明の装置では、2個の
ウエハ11,12が同じ量だけY方向に移動するように
してあるので、Y方向の移動により、カメラとウエハの
関係は、ウエハ11,12は全く同じように変化する。
第19図は、ウエハの傾斜とY方向の移動を同時に行っ
た場合について説明している。すなわち、Y方向移動を
行った後のカメラ画像は、Y方向に移動するが相変ら
ず、カメラとウエハの距離関係は、最も焦点の合った位
置に保たれたままである。本発明の装置は、ウエハの傾
斜とXYテーブルの移動の関係が、入力画像の画質を低
下させないように配慮されているのが特徴のひとつであ
る。ウエハ検査機本体について第20図〜第28図によ
り説明する。ウエハ受け皿27,28は、ウエハ受け回
転板29,30上に取付けられている。XYテーブル
は、孫フレーム61、子フレーム62、親フレーム63
等により構成されている。ウエハ受け回転板29,30
は、軸48,49を中心に回転できる構造となってい
る。ウエハ受け回転板29,30は、同じ向きに同じ量
だけ回転するようにVベルトプーリ50,51及びVベ
ルト52により結ばれている。また軸48はウォーム5
4及びウォームウイール53を介してモーター56によ
り駆動されるようになっている。従ってウエハ受け回転
板29,30は、モータ56により、同じ向きに、同じ
量だけ回転させることができる。モータ56の回転量
は、ウエハ検査の際自由に制御可能なように仕組んであ
るから、ウエハの向きを自由に変化させることができる
ようになっている。XYテーブルのY方向の移動は、孫
フレーム61と子フレーム62間の相対運動機構により
行う。孫フレーム61の両側は、子フレーム62の凹部
溝にはまっており前後に摺動できるようになっている。
孫フレームは、スクリュー59及びナット60を介して
モータ57により駆動されてY方向に移動させられる。
モータ57は、ウエハ検査の際自由に制御可能なように
仕組んであるからXYテーブルをY方向に自由に変化さ
せることができるようになっている。XYテーブルのX
方向の移動は、子フレーム62と親フレーム63間の相
対運動機構により行う。子フレーム62の両側は親フレ
ーム63の凹部溝にはまっており前後に摺動できるよう
になっている。子フレーム62は、スクリュー67、ナ
ット68を介してモータ65により駆動されX方向に移
動させられる。モータ65は、ウエハ検査の際自由に制
御可能なように仕組んであるからXYテーブルをX方向
に自由に変化させることが可能である。親フレーム63
は軸40で支えられ、軸40は、外フレームにて支えら
れている。親フレーム63は、軸40の周りに回転運動
が可能である。親フレーム63は、Vベルトプーリ7
0,71、Vベルト72、軸47、傘歯車46,45、
軸44、ウォーム39、ウォームホイール38、軸4
1、ギヤ37,36、軸40を介してモータ69により
駆動され軸40を中心に回転させられる。この場合の回
転軸40は、ウエハの表面の1点で、ITVカメラの焦
点を合わす位置に一致させてあるので、ウエハをカメラ
に対して傾斜させることができるのである。一方、照明
装置31は、照明支持フレーム32に取り付けられてい
る。照明支持フレーム32は、照明支持フレーム受け3
3に取り付けられる。本照明装置を使わない時は、3
2,33間を切りはなすものとする。照明支持フレーム
受け33は、軸40を中心に回転できるようになってお
り、この回転により照明方向を変更することができるよ
うになっている。
一実施例について説明する。ウエハを傾斜させ、カメラ
は固定する。ウエハ表面の1点を中心としてウエハを回
転する。このようにすることによる利点は、カメラの焦
点をウエハの傾斜により調整する必要がないようにする
ための工夫である。ここで注視すべきことは、ウエハを
水平に対してα1だけ傾斜させた時、ITVカメラを垂
直に保つものとすれば、光源は、垂直から2α1だけ傾
斜させると良い角度関係になることである。このように
ウエハの回転中心と、傾斜角,光源の向きを適切に選ぶ
と常時安定な検査結果が得られる。本発明の装置は、こ
れらのことを考慮してあるので、ウエハを任意に傾斜し
た時、照明も自動的に最適の向きに決定されるような構
造となっている。第17図〜第19図によりXYテーブ
ルの構成について説明する。ウエハ表面の画像として入
力できるのは、ウエハ表面の1部にすぎない。これは、
微小な欠陥を検出するため、倍率の高いレンズを使って
画像入力するためである。ウエハ全表面を検査するため
には、カメラ又はウエハを移動してウエハの全表面の画
像を入力する必要がある。本発明の装置では、カメラを
固定しウエハをX方向,Y方向に移動することにより行
うものとする。第17図は、2個のウエハの並び方向
(X方向と定義する)にウエハを移動する方法を示す。
本発明の装置では、2個のウエハ11,12が、同じ量
だけ、X方向に移動するようにしてあるので、X方向へ
の移動により、カメラとウエハの関係は、ウエハ11,
12は全く同じように変化する。尚、27,28はウエ
ハ受け皿である。このウエハ受け皿は、ウエハの仕様の
変更をこの受け皿の取りかえで間に合うようにしたもの
である。第18図は、ウエハをY方向(前述と直角方
向)に移動する方法を示す。本発明の装置では、2個の
ウエハ11,12が同じ量だけY方向に移動するように
してあるので、Y方向の移動により、カメラとウエハの
関係は、ウエハ11,12は全く同じように変化する。
第19図は、ウエハの傾斜とY方向の移動を同時に行っ
た場合について説明している。すなわち、Y方向移動を
行った後のカメラ画像は、Y方向に移動するが相変ら
ず、カメラとウエハの距離関係は、最も焦点の合った位
置に保たれたままである。本発明の装置は、ウエハの傾
斜とXYテーブルの移動の関係が、入力画像の画質を低
下させないように配慮されているのが特徴のひとつであ
る。ウエハ検査機本体について第20図〜第28図によ
り説明する。ウエハ受け皿27,28は、ウエハ受け回
転板29,30上に取付けられている。XYテーブル
は、孫フレーム61、子フレーム62、親フレーム63
等により構成されている。ウエハ受け回転板29,30
は、軸48,49を中心に回転できる構造となってい
る。ウエハ受け回転板29,30は、同じ向きに同じ量
だけ回転するようにVベルトプーリ50,51及びVベ
ルト52により結ばれている。また軸48はウォーム5
4及びウォームウイール53を介してモーター56によ
り駆動されるようになっている。従ってウエハ受け回転
板29,30は、モータ56により、同じ向きに、同じ
量だけ回転させることができる。モータ56の回転量
は、ウエハ検査の際自由に制御可能なように仕組んであ
るから、ウエハの向きを自由に変化させることができる
ようになっている。XYテーブルのY方向の移動は、孫
フレーム61と子フレーム62間の相対運動機構により
行う。孫フレーム61の両側は、子フレーム62の凹部
溝にはまっており前後に摺動できるようになっている。
孫フレームは、スクリュー59及びナット60を介して
モータ57により駆動されてY方向に移動させられる。
モータ57は、ウエハ検査の際自由に制御可能なように
仕組んであるからXYテーブルをY方向に自由に変化さ
せることができるようになっている。XYテーブルのX
方向の移動は、子フレーム62と親フレーム63間の相
対運動機構により行う。子フレーム62の両側は親フレ
ーム63の凹部溝にはまっており前後に摺動できるよう
になっている。子フレーム62は、スクリュー67、ナ
ット68を介してモータ65により駆動されX方向に移
動させられる。モータ65は、ウエハ検査の際自由に制
御可能なように仕組んであるからXYテーブルをX方向
に自由に変化させることが可能である。親フレーム63
は軸40で支えられ、軸40は、外フレームにて支えら
れている。親フレーム63は、軸40の周りに回転運動
が可能である。親フレーム63は、Vベルトプーリ7
0,71、Vベルト72、軸47、傘歯車46,45、
軸44、ウォーム39、ウォームホイール38、軸4
1、ギヤ37,36、軸40を介してモータ69により
駆動され軸40を中心に回転させられる。この場合の回
転軸40は、ウエハの表面の1点で、ITVカメラの焦
点を合わす位置に一致させてあるので、ウエハをカメラ
に対して傾斜させることができるのである。一方、照明
装置31は、照明支持フレーム32に取り付けられてい
る。照明支持フレーム32は、照明支持フレーム受け3
3に取り付けられる。本照明装置を使わない時は、3
2,33間を切りはなすものとする。照明支持フレーム
受け33は、軸40を中心に回転できるようになってお
り、この回転により照明方向を変更することができるよ
うになっている。
照明装置支持フレーム受け33は、親フレーム63と同
じようにモータ69により駆動されて回転する。この場
合の動力伝達は、ギヤー34,35を使って行われる。
ここで、照明装置支持フレーム受け33とギヤー34は
1体に固定されているので、ギヤー34の回転は、33
に伝えられることになる。ここで、モータ69の駆動に
より、親フレーム63と照明装置31は、同じ方向に回
転するが、回転量は、ギヤー比により異なる。モータ回
転量をN、ギヤー36,37のギヤー比をi1、ギヤー
35,34のギヤー比をi2とすると親フレーム63の
回転量NF及び照明装置の回転量NLは次のようにな
る。
じようにモータ69により駆動されて回転する。この場
合の動力伝達は、ギヤー34,35を使って行われる。
ここで、照明装置支持フレーム受け33とギヤー34は
1体に固定されているので、ギヤー34の回転は、33
に伝えられることになる。ここで、モータ69の駆動に
より、親フレーム63と照明装置31は、同じ方向に回
転するが、回転量は、ギヤー比により異なる。モータ回
転量をN、ギヤー36,37のギヤー比をi1、ギヤー
35,34のギヤー比をi2とすると親フレーム63の
回転量NF及び照明装置の回転量NLは次のようにな
る。
NF=N・i1・i0 NL=N・i2・i0 但し、i0はウォーム比(38,39)である。
NFとNLの回転量は、カメラ,照明,ウエハ表面の角
度の関係から次のようになるとよい。
度の関係から次のようになるとよい。
従って本発明の装置では、ギヤー比の関係を上式のよう
にとることにより、カメラ,照明,ウエハの角度関係を
自動的に最適になるようにしてある。
にとることにより、カメラ,照明,ウエハの角度関係を
自動的に最適になるようにしてある。
第21図は側面図を、第22図(b)は第20図のA−A
矢視図を第22図(a)は第22図(b)のE−E矢視図を示
している。また第23図は第20図のB−B矢視図を、
第24図は第21図のC−C矢視図を、第25図は第2
0図のD−D矢視図をそれぞれ示す。
矢視図を第22図(a)は第22図(b)のE−E矢視図を示
している。また第23図は第20図のB−B矢視図を、
第24図は第21図のC−C矢視図を、第25図は第2
0図のD−D矢視図をそれぞれ示す。
次にウエハを装置に取り込む場合の一実施例を第26図
により説明する。ウエハ21は、マテハンにより移動し
て、ウエハ投入口22の上方に来る。そして、フロア8
0上にウエハをのせる。ウエハは、プッシャシリンダ7
3、プッシャヘッド74により押し出され、ウエハ受け
皿29上にのせるように仕組んである。
により説明する。ウエハ21は、マテハンにより移動し
て、ウエハ投入口22の上方に来る。そして、フロア8
0上にウエハをのせる。ウエハは、プッシャシリンダ7
3、プッシャヘッド74により押し出され、ウエハ受け
皿29上にのせるように仕組んである。
最後にウエハ検査完了後、ウエハ送出機構について第2
7図により説明する。ウエハは、ウエハ吸引盤75で吸
引し、アーム76は、支点77を中心に回転し、良品出
口孔78又は、不良品出口孔79からウエハを送出する
ようにする。第28図はウエハテーブルの傾斜と取付ア
ームの説明図である。
7図により説明する。ウエハは、ウエハ吸引盤75で吸
引し、アーム76は、支点77を中心に回転し、良品出
口孔78又は、不良品出口孔79からウエハを送出する
ようにする。第28図はウエハテーブルの傾斜と取付ア
ームの説明図である。
ウエハ全面を検査する場合の方法について第29図〜第
34図により説明する。第29図は、ウエハの検査走査
方式について示している。ウエハをXY方向に1定量ピ
ッチで移動することにより(第29図(a))全面を走査
する方法と、ウエハ受け回転板と回転、画像中心と回転
中心の差(Rとする)を変化させる方法(第29図
(b))がある。第30図(a)〜()は、ウエハを回転し
て画像入力した場合の画像位置を示す。第31図は、こ
れらの画像入力部分をまとめて表示したものである。半
径R上に入力画像G1〜G12が分散しており、Rを変化
させることにより全面を走査できる。ウエハに回転を与
える場合の回転ピッチは、第32図のようにして求める
ことができる。
34図により説明する。第29図は、ウエハの検査走査
方式について示している。ウエハをXY方向に1定量ピ
ッチで移動することにより(第29図(a))全面を走査
する方法と、ウエハ受け回転板と回転、画像中心と回転
中心の差(Rとする)を変化させる方法(第29図
(b))がある。第30図(a)〜()は、ウエハを回転し
て画像入力した場合の画像位置を示す。第31図は、こ
れらの画像入力部分をまとめて表示したものである。半
径R上に入力画像G1〜G12が分散しており、Rを変化
させることにより全面を走査できる。ウエハに回転を与
える場合の回転ピッチは、第32図のようにして求める
ことができる。
また、R方向のピッチΔRは、第33図から求められ
る。
る。
R0=/2 ΔR= :画像サイズ 回転とRを変化させる方式をR,θ変化方式と以下称す
ることにする。
ることにする。
次にXYの直流移動によりウエハ全面を走査する方法、
XY座標方式について第34図にて説明する。まずY座
標を決定し、Y座標から、X方向の範囲を計算し、X方
向に一定ピッチ(ΔXとする)ずつ移動する。
XY座標方式について第34図にて説明する。まずY座
標を決定し、Y座標から、X方向の範囲を計算し、X方
向に一定ピッチ(ΔXとする)ずつ移動する。
X方向の範囲は として計算される。
Xが、X2をこえるとY方向にΔYだけずらして、再び
上述の処理をくり返す。このようにして、XYテーブル
を移動しつつ、画像をとり込むので、全面にわたって欠
陥を調べることができるのである。
上述の処理をくり返す。このようにして、XYテーブル
を移動しつつ、画像をとり込むので、全面にわたって欠
陥を調べることができるのである。
次に処理の制御方法について第35図〜第43図により
説明する。ウエハ検査のトップレベルフローを第35図
に示す。まず、ウエハ検知器81によりウエハを検知す
ると検査装置READY状態であるかどうかをみる。READY状
態でないというのは、現在処理中又はウエハ検査機がス
タートできる状態にないのであるから次処理を行わな
い、次のウエハ検知を待つ。READYの時は、マテハン1
7を動作させラインからウエハをウエハ検査機16に移
動させる。ウエハ検査機16は、ウエハをプッシャーシ
リンダ73により移動し、所定の位置のセットする。準
備が完了するとウエハの検査動作を実行する(ウエハの
検査動作の詳細は、第36図で説明)。検査を完了する
と良品,不良品それぞれの動作を行い、次処理準備を行
う。
説明する。ウエハ検査のトップレベルフローを第35図
に示す。まず、ウエハ検知器81によりウエハを検知す
ると検査装置READY状態であるかどうかをみる。READY状
態でないというのは、現在処理中又はウエハ検査機がス
タートできる状態にないのであるから次処理を行わな
い、次のウエハ検知を待つ。READYの時は、マテハン1
7を動作させラインからウエハをウエハ検査機16に移
動させる。ウエハ検査機16は、ウエハをプッシャーシ
リンダ73により移動し、所定の位置のセットする。準
備が完了するとウエハの検査動作を実行する(ウエハの
検査動作の詳細は、第36図で説明)。検査を完了する
と良品,不良品それぞれの動作を行い、次処理準備を行
う。
次に第36図により検査動作について説明する。まず、
処理モードの選択を行う。処理モードとしては、あらか
じめ、次のようなモードを準備しておく。
処理モードの選択を行う。処理モードとしては、あらか
じめ、次のようなモードを準備しておく。
モード1:垂直照明で回転及び半径モード(200) モード2:垂直照明でXY座標モード(300) モード3:斜方照明(固定方向) 回転及び半径モード(400) モード4:斜方照明(固定方向) XY座標モード(500) モード5:斜方照明(変化)回転及び半径モード(60
0) モード6:斜方照明(変化)XY座標モード(700) これらのモードは、任意に設定できるものとする。以
下、各モードについて説明する。
0) モード6:斜方照明(変化)XY座標モード(700) これらのモードは、任意に設定できるものとする。以
下、各モードについて説明する。
まず第37図によりモード1について説明する。このモ
ードは、照明及びITVカメラをウエハ真上方向とし、
半径Rと、ウエハの回転により全面走査する方式であ
る。まず、回転角θと回転半径Rの初期値を与える。次
に、初期値状態における画像処理を実行する。不良を検
出の場合は、不良品処理をして処理を終了する。不良を
検出しない時は、θを更新して再び画像処理を実行する
が、θを更新の際、R=0又は、θ≧360°の時は、
Rを更新する。RがRmax(最大値)をこえなければ、
画像処理を実行する。このようにして、Rとθを1定ピ
ッチで更新をくり返して全面走査完了するまで実行す
る。この間不良を検出の場合には、処理を打ち切る。
ードは、照明及びITVカメラをウエハ真上方向とし、
半径Rと、ウエハの回転により全面走査する方式であ
る。まず、回転角θと回転半径Rの初期値を与える。次
に、初期値状態における画像処理を実行する。不良を検
出の場合は、不良品処理をして処理を終了する。不良を
検出しない時は、θを更新して再び画像処理を実行する
が、θを更新の際、R=0又は、θ≧360°の時は、
Rを更新する。RがRmax(最大値)をこえなければ、
画像処理を実行する。このようにして、Rとθを1定ピ
ッチで更新をくり返して全面走査完了するまで実行す
る。この間不良を検出の場合には、処理を打ち切る。
次に第38図により画像処理の詳細について説明する。
まず、モデルウエハと被検査ウエハの画像の取込を行
い、G1とG2の画像メモリに格納する。G1,G2は
濃淡画像で1画素当り8ビットで、画素の数は、例えば
256×240,512×480等である。濃淡画像G1
とG2の間で、各対応画素間で演算を行い結果を濃淡画
像G3に格納する。
まず、モデルウエハと被検査ウエハの画像の取込を行
い、G1とG2の画像メモリに格納する。G1,G2は
濃淡画像で1画素当り8ビットで、画素の数は、例えば
256×240,512×480等である。濃淡画像G1
とG2の間で、各対応画素間で演算を行い結果を濃淡画
像G3に格納する。
上記画像演算により、2つのウエハの表面に差異がない
時は、0に近い値がG3に入り、欠陥のために差異があ
る場合、大きな値が入る。このようにして欠陥が被検査
ウエハに存在する所と、存在しない所は容易に区別がつ
けられる。濃淡画像G3をあるしきい値で2値化する
と、被検査ウエハの表面に欠陥がある時は、ビットON
となり、無欠陥の時はビットOFFとなる。2値化画像
B1のONとなっている画素の数を数える(面積計算)
することにより欠陥部の有無や欠陥部の大きさがわか
る。
時は、0に近い値がG3に入り、欠陥のために差異があ
る場合、大きな値が入る。このようにして欠陥が被検査
ウエハに存在する所と、存在しない所は容易に区別がつ
けられる。濃淡画像G3をあるしきい値で2値化する
と、被検査ウエハの表面に欠陥がある時は、ビットON
となり、無欠陥の時はビットOFFとなる。2値化画像
B1のONとなっている画素の数を数える(面積計算)
することにより欠陥部の有無や欠陥部の大きさがわか
る。
次に第39図によりモード2について説明する。モード
2は、モード1と同じようにITV、照明は、ウエハの
真上方向であり、XYテーブルを、X方向Y方向に移動
してウエハの全面を走査する。まず、Yの初期値(YM
IN:Yの最小値とする)を与える。次にYに対するX
の範囲X1,X2を計算し、Xの初期値も設定する。
X,Y方向に移動をくり返し、その間、画像処理を行
い、ウエハの全面にわたって走査するものとする。その
他、不良品発生時の処理は、モード1と同じである。モ
ード1とモード2は、ウエハ表面を走査するのに回転を
使うか、直線運動を使うかの差である。
2は、モード1と同じようにITV、照明は、ウエハの
真上方向であり、XYテーブルを、X方向Y方向に移動
してウエハの全面を走査する。まず、Yの初期値(YM
IN:Yの最小値とする)を与える。次にYに対するX
の範囲X1,X2を計算し、Xの初期値も設定する。
X,Y方向に移動をくり返し、その間、画像処理を行
い、ウエハの全面にわたって走査するものとする。その
他、不良品発生時の処理は、モード1と同じである。モ
ード1とモード2は、ウエハ表面を走査するのに回転を
使うか、直線運動を使うかの差である。
次にモード3について第40図により説明する。モード
3は、照明及びITVカメラは、ウエハ面に対して垂直
ではないが、あらかじめ設定した値を用い、あとは変更
しない方式である。
3は、照明及びITVカメラは、ウエハ面に対して垂直
ではないが、あらかじめ設定した値を用い、あとは変更
しない方式である。
まず、ウエハの傾斜角の諸位置αを設定する。以降αは
変更しない。次に、θ,Rの初期値を設定し、以下、
θ,Rを変更をくり返し、ウエハ全面について走査し、
検査する。不良品,画像処理等については、モード1,
モード2と同じである。
変更しない。次に、θ,Rの初期値を設定し、以下、
θ,Rを変更をくり返し、ウエハ全面について走査し、
検査する。不良品,画像処理等については、モード1,
モード2と同じである。
次に、モード4について第41図により説明する。モー
ド4は、XY移動により全面走査する以外は、モード3
と同じである。
ド4は、XY移動により全面走査する以外は、モード3
と同じである。
モード5について第42図により説明する。
モード5は、αを変化させる以外、モード3と全く同じ
である。但し、αを変化させる分だけ処理時間はかか
る。
である。但し、αを変化させる分だけ処理時間はかか
る。
モード6について第43図により説明する。
モード6は、αを変化させる以外は、モード4と全く同
じである。但し、αを変化させるだけ処理時間はかか
る。
じである。但し、αを変化させるだけ処理時間はかか
る。
ここで、各モードの使用特徴について述べると次のよう
になる。
になる。
モード1及び2は、ウエハ表面の深いキズの検出には適
用できるが、モゴレ等のうすい表面についた膜の検出は
できないことがある。
用できるが、モゴレ等のうすい表面についた膜の検出は
できないことがある。
モード1,2の使い分けは、回転を使うかどうかだけ
で、質的な差はないが、処理時間の差はでると思われ
る。
で、質的な差はないが、処理時間の差はでると思われ
る。
モード3,4は、斜方照明であり、深いキズはもちろん
よごれ等の検出も大抵は検出できる。但し、傾斜角は、
適切なものを選ばなければならない。傾斜角をいろいろ
変えてみる必要がある場合にはモード5,6を採用す
る。モード5,6は、処理時間が、モード3,4に比べ
て、2倍以上かかるので性能は高いが、処理時間的には
不利である。
よごれ等の検出も大抵は検出できる。但し、傾斜角は、
適切なものを選ばなければならない。傾斜角をいろいろ
変えてみる必要がある場合にはモード5,6を採用す
る。モード5,6は、処理時間が、モード3,4に比べ
て、2倍以上かかるので性能は高いが、処理時間的には
不利である。
本発明の装置は以上のように構成されているのでウエハ
をどのような姿勢における検査も自動的に行うことがで
き、ほとんど人間の手と視覚による検査と同じように細
かなしかもわずかの欠陥ものがすことなく検査すること
が可能である。人間の場合は、見落しや、見逃しが発生
するが、本装置では、ウエハ全表面にわたってくまなく
検査するのでそのようなこともない。また、画像処理に
は画像処理専用のVLSIや専用プロセッサを使用する
ので高速に実行でき、それでも処理時間がラインに間に
合わない時には、同一ラインに本発明の装置を複数台設
備することも容易に行うことができ、ウエハ製造ライン
の検査工程の無人化に寄与できる。尚、本発明の装置の
説明の中で、XYテーブルの移動をモータとスクリュ
ー、ナットを使用しているが、XYテーブルの機能を果
す機構であれば、どのような機構を使ってもよい。たと
えば、油圧シリンダ,ラックとピニオン,チェーン等が
考えられ、これらの全ての構造についての説明は省いた
が、本特許の本質にかかわるものではなく、どのような
手段であれ、XYテーブルの機能を果すものであればど
の方式にせよ本発明に含まれる。同じく、ウエハの回転
についてもモータとウォーム機構、Vベルト等を使った
一実施例を示したが、これと同じ目的を果す機構であれ
ば他の手段によってもよい。例えば、モータ直結方式や
ラックとピニオンを使ったもの等各種の方式が考えられ
これらの方式のどれを選定するかは本発明の基本的な事
柄ではない。どの方式をとるかは、経済的,機構学的に
最適の方式を選定することになるが、二つのウエハを同
期して回転させるという目的は同じであれば本特許に含
まれるのである。また、照明装置の自動位置調整につい
ても同じで、モータと傘歯車,ウォーム機構を使ってい
るが、これを実現する方式は各種のものがあるが、同じ
目的であれば、いずれの方式をとっても本発明に含まれ
るのである。また、ウエハ傾斜のための機構について
も、本文に説明でもモータ,傘歯車,ウォームを使って
いるが、その他の機構が各種考えられるが、同じ目的で
あればどの方式を選んでも本発明に含まれるのである。
をどのような姿勢における検査も自動的に行うことがで
き、ほとんど人間の手と視覚による検査と同じように細
かなしかもわずかの欠陥ものがすことなく検査すること
が可能である。人間の場合は、見落しや、見逃しが発生
するが、本装置では、ウエハ全表面にわたってくまなく
検査するのでそのようなこともない。また、画像処理に
は画像処理専用のVLSIや専用プロセッサを使用する
ので高速に実行でき、それでも処理時間がラインに間に
合わない時には、同一ラインに本発明の装置を複数台設
備することも容易に行うことができ、ウエハ製造ライン
の検査工程の無人化に寄与できる。尚、本発明の装置の
説明の中で、XYテーブルの移動をモータとスクリュ
ー、ナットを使用しているが、XYテーブルの機能を果
す機構であれば、どのような機構を使ってもよい。たと
えば、油圧シリンダ,ラックとピニオン,チェーン等が
考えられ、これらの全ての構造についての説明は省いた
が、本特許の本質にかかわるものではなく、どのような
手段であれ、XYテーブルの機能を果すものであればど
の方式にせよ本発明に含まれる。同じく、ウエハの回転
についてもモータとウォーム機構、Vベルト等を使った
一実施例を示したが、これと同じ目的を果す機構であれ
ば他の手段によってもよい。例えば、モータ直結方式や
ラックとピニオンを使ったもの等各種の方式が考えられ
これらの方式のどれを選定するかは本発明の基本的な事
柄ではない。どの方式をとるかは、経済的,機構学的に
最適の方式を選定することになるが、二つのウエハを同
期して回転させるという目的は同じであれば本特許に含
まれるのである。また、照明装置の自動位置調整につい
ても同じで、モータと傘歯車,ウォーム機構を使ってい
るが、これを実現する方式は各種のものがあるが、同じ
目的であれば、いずれの方式をとっても本発明に含まれ
るのである。また、ウエハ傾斜のための機構について
も、本文に説明でもモータ,傘歯車,ウォームを使って
いるが、その他の機構が各種考えられるが、同じ目的で
あればどの方式を選んでも本発明に含まれるのである。
本発明によれば、シリコンウエハの姿勢を自在に制御し
ながら画像処理により表面の欠陥を検査し、全表面にわ
たって自動的に検査するので検査品質の向上と省力化の
効果がある。
ながら画像処理により表面の欠陥を検査し、全表面にわ
たって自動的に検査するので検査品質の向上と省力化の
効果がある。
第1図は、本発明のウエハ検査装置の1実施例である。
第2図及び第3図は、ウエハ製造ラインへの適用実施の
1例を示す。第4図〜第10図は、ウエハの表面欠陥の
1例を示す。第11図,第12図は、ウエハ検査の基本
原理を示している。第13図〜第15図は、ウエハとI
TVカメラ,照明の角度の関係について説明している。
第16図は、ウエハ傾斜角と光源の方向について説明し
ている。第17図,第18図は、XYテーブルの動作に
ついて説明している。第19図は、傾斜とY方向移動を
同時に行った時の説明を示している。第20図〜第28
図は、ウエハ検査装置本体の詳細を示し、第20図は、
正面図、第21図は、側面図を、第22図は、A−A矢
視図、E−E矢視図を、第23図は、B−B矢視図、第
24図は、C−C矢視図、第25図は、D−D矢視図を
示す。第26図は、ウエハ入力機構の1実施例で、第2
7図は、ウエハの送出機構の1実施例である。第28図
は、ウエハテーブルの傾斜と照明取付アームの関係を示
している。第29図〜第34図は、ウエハ走査説明図
で、第29図は、ウエハの検査走査方式、第30図は、
R一定θ変化の走査を、第31図は、R一定、θ変化の
時の入力画像を、第32図は、R,θ変化方式のΔθの
決定方法を、第33図は、R,θ変化方式のΔR,R0
決定方式、第34図は、XY座標方式について説明して
いる。第35図〜第43図は、ウエハ検査処理制御の内
容を流れ図で示している。 1…画像処理装置本体、2…モニタテレビ、3…コンソ
ールCRT、4…ハードコピー用タイプライター、6…
モデルウエハ画像入力用ITVカメラ、7…被検査ウエ
ハ画像入力用ITVカメラ、8…回転テーブル、9…回
転テーブル9の中心軸、10…XYテーブル、11…モ
デルウエハ、12…被検査ウエハ、13…検査前ウエハ
搬入ライン、14…良品ウエハ搬出ライン、15…不良
品ウエハ搬出ライン、16…ウエハ検査機本体、17…
ウエハマテハン機構、22…ウエハ投入口、23…良品
搬出口、24…不良品搬出口、25…良品ウエハシュー
ター、26…不良品ウエハシューター、27…ウエハ受
け皿(モデルウエハ用)、28…ウエハ受け皿(被検査
ウエハ用)、29…ウエハ受け回転板(モデルウエハ
用)、30…ウエハ受け回転板(被検査ウエハ用)、3
1…照明装置、32…照明装置支持フレーム、33…照
明装置支持フレーム受け、38…ウォームホイール、3
9…ウォーム、42…カップリング、43…カップリン
グ、45…笠歯車、46…笠歯車、57…モーター、5
8…カップリング、59…スクリュー、60…ナット、
61…孫フレーム、62…子フレーム63…親フレー
ム、64…外フレーム、70…Vベルトプーリー、71
…Vベルトプーリー、72…Vベルト、73…プッシャ
ーシリンダー、74…プッシャーヘッド、75…ウエハ
吸引盤。
第2図及び第3図は、ウエハ製造ラインへの適用実施の
1例を示す。第4図〜第10図は、ウエハの表面欠陥の
1例を示す。第11図,第12図は、ウエハ検査の基本
原理を示している。第13図〜第15図は、ウエハとI
TVカメラ,照明の角度の関係について説明している。
第16図は、ウエハ傾斜角と光源の方向について説明し
ている。第17図,第18図は、XYテーブルの動作に
ついて説明している。第19図は、傾斜とY方向移動を
同時に行った時の説明を示している。第20図〜第28
図は、ウエハ検査装置本体の詳細を示し、第20図は、
正面図、第21図は、側面図を、第22図は、A−A矢
視図、E−E矢視図を、第23図は、B−B矢視図、第
24図は、C−C矢視図、第25図は、D−D矢視図を
示す。第26図は、ウエハ入力機構の1実施例で、第2
7図は、ウエハの送出機構の1実施例である。第28図
は、ウエハテーブルの傾斜と照明取付アームの関係を示
している。第29図〜第34図は、ウエハ走査説明図
で、第29図は、ウエハの検査走査方式、第30図は、
R一定θ変化の走査を、第31図は、R一定、θ変化の
時の入力画像を、第32図は、R,θ変化方式のΔθの
決定方法を、第33図は、R,θ変化方式のΔR,R0
決定方式、第34図は、XY座標方式について説明して
いる。第35図〜第43図は、ウエハ検査処理制御の内
容を流れ図で示している。 1…画像処理装置本体、2…モニタテレビ、3…コンソ
ールCRT、4…ハードコピー用タイプライター、6…
モデルウエハ画像入力用ITVカメラ、7…被検査ウエ
ハ画像入力用ITVカメラ、8…回転テーブル、9…回
転テーブル9の中心軸、10…XYテーブル、11…モ
デルウエハ、12…被検査ウエハ、13…検査前ウエハ
搬入ライン、14…良品ウエハ搬出ライン、15…不良
品ウエハ搬出ライン、16…ウエハ検査機本体、17…
ウエハマテハン機構、22…ウエハ投入口、23…良品
搬出口、24…不良品搬出口、25…良品ウエハシュー
ター、26…不良品ウエハシューター、27…ウエハ受
け皿(モデルウエハ用)、28…ウエハ受け皿(被検査
ウエハ用)、29…ウエハ受け回転板(モデルウエハ
用)、30…ウエハ受け回転板(被検査ウエハ用)、3
1…照明装置、32…照明装置支持フレーム、33…照
明装置支持フレーム受け、38…ウォームホイール、3
9…ウォーム、42…カップリング、43…カップリン
グ、45…笠歯車、46…笠歯車、57…モーター、5
8…カップリング、59…スクリュー、60…ナット、
61…孫フレーム、62…子フレーム63…親フレー
ム、64…外フレーム、70…Vベルトプーリー、71
…Vベルトプーリー、72…Vベルト、73…プッシャ
ーシリンダー、74…プッシャーヘッド、75…ウエハ
吸引盤。
Claims (1)
- 【請求項1】ウエハ検査装置であって、ウエハを照明す
る光源と、該光源による照明光のウエハ面における反射
光を検出してウエハの画像を入力するカメラと、該画像
に基づいてウエハの欠陥を検出する画像処理装置と、ウ
エハを移動するXYテーブルと、ウエハ面を傾斜させる
手段と、ウエハ面の傾斜に応じて、前記カメラが検出す
る反射光がカメラの光軸方向より入射するように前記カ
メラと光源およびウエハの配置を調整する手段とを備え
ることを特徴とするウエハ検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59257607A JPH068789B2 (ja) | 1984-12-07 | 1984-12-07 | ウエハ検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59257607A JPH068789B2 (ja) | 1984-12-07 | 1984-12-07 | ウエハ検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61137050A JPS61137050A (ja) | 1986-06-24 |
JPH068789B2 true JPH068789B2 (ja) | 1994-02-02 |
Family
ID=17308614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59257607A Expired - Lifetime JPH068789B2 (ja) | 1984-12-07 | 1984-12-07 | ウエハ検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH068789B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP4939843B2 (ja) * | 2006-06-07 | 2012-05-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 欠陥検査方法及びその装置 |
US8038897B2 (en) | 2007-02-06 | 2011-10-18 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and system for wafer inspection |
US8223327B2 (en) | 2009-01-26 | 2012-07-17 | Kla-Tencor Corp. | Systems and methods for detecting defects on a wafer |
JP2012137350A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 |
CN117470871B (zh) * | 2023-12-25 | 2024-03-08 | 苏州赛腾精密电子股份有限公司 | 检测设备 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61128221A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-16 | Toshiba Corp | 半導体検査用顕微鏡装置 |
-
1984
- 1984-12-07 JP JP59257607A patent/JPH068789B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPS61137050A (ja) | 1986-06-24 |
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