JP7521979B2 - 基板検査装置 - Google Patents
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Description
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の基板検査装置であって、前記テレセントリック光学系は単一の光軸を有する。
9 基板
31 基板保持部
33 基板回転機構
35 基板昇降機構
61 上反射ミラー部
62 横反射ミラー部
63 下反射ミラー部
64 照明部
65 テレセントリック光学系
66 撮像部
67 観察系保持部
68 観察系移動機構
71 上面周縁像
72 端面像
73 下面周縁像
91 上面
92 端面
93 下面
641 上照明部
642 横照明部
643 下照明部
802 位置補正部
914 ベベル部
934 ベベル部
A1 照明範囲
J1 中心軸
N1,N2 直線
P1 上基準位置
P2 横基準位置
P3 下基準位置
R1 上反射光
R2 横反射光
R3 下反射光
Claims (11)
- 基板の表面状態を検査する基板検査装置であって、
基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部の周方向の一の位置である検査位置において、前記基板の一方の主面の周縁部および前記基板の端面に光を照射する照明部と、
前記検査位置における前記基板の前記一方の主面の前記周縁部からの反射光である第1反射光を導く第1反射ミラー部と、
前記検査位置における前記基板の前記端面からの反射光である第2反射光を導く第2反射ミラー部と、
少なくとも物体側がテレセントリックであり、前記第1反射ミラー部により導かれた前記第1反射光および前記第2反射ミラー部により導かれた前記第2反射光が入射する単一のテレセントリック光学系と、
直線状に配列された複数の撮像素子を含み、前記テレセントリック光学系を通過した前記第1反射光および前記第2反射光を受光することにより、前記基板の前記一方の主面の前記周縁部の像である第1像および前記基板の前記端面の像である第2像が結像する撮像部と、
を備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1に記載の基板検査装置であって、
前記テレセントリック光学系は単一の光軸を有することを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1または2に記載の基板検査装置であって、
前記第1反射光の前記基板から前記テレセントリック光学系に至る光路長と、前記第2反射光の前記基板から前記テレセントリック光学系に至る光路長との差は、前記テレセントリック光学系の被写界深度以下であることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし3のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記基板を前記テレセントリック光学系に対して前記基板の厚さ方向に相対的に移動する第1移動機構と、
前記撮像部における前記第2像の位置が、前記第2像の基準位置である第2基準位置からずれている場合、前記第2基準位置からの前記第2像の位置のずれ量に基づいて前記基板の前記周縁部の厚さ方向のずれ量を求め、前記基板の前記周縁部の厚さ方向の前記ずれ量に基づいて前記第1移動機構を駆動することにより、前記基板の前記テレセントリック光学系に対する厚さ方向の相対位置を補正する位置補正部と、
をさらに備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし4のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記基板を前記テレセントリック光学系に対して径方向に相対的に移動する第2移動機構と、
前記撮像部における前記第1像の位置が、前記第1像の基準位置である第1基準位置からずれている場合、前記第1基準位置からの前記第1像の位置のずれ量に基づいて前記基板の前記端面の径方向のずれ量を求め、前記基板の前記端面の径方向の前記ずれ量に基づいて前記第2移動機構を駆動することにより、前記基板の前記テレセントリック光学系に対する径方向の相対位置を補正する位置補正部と、
をさらに備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし5のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記撮像部はラインセンサを備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし6のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記撮像部において前記第1像と前記第2像とは離間していることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし7のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記基板の前記一方の主面の前記周縁部は、前記一方の主面の中央部および前記基板の前記端面に対して傾斜するベベル部を含み、
前記照明部は、前記基板の前記ベベル部に光を照射する照明要素を備え、
前記照明要素による照明範囲は、前記検査位置における前記ベベル部の内縁および外縁から前記照明要素まで前記ベベル部の法線方向に延びる2本の直線を含むことを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし8のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記照明部、前記第1反射ミラー部、前記第2反射ミラー部、前記テレセントリック光学系および前記撮像部を一体的に保持する観察系保持部をさらに備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし9のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記基板の厚さ方向に延びる中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転することにより、前記基板上において前記検査位置を変更する基板回転機構をさらに備えることを特徴とする基板検査装置。 - 請求項1ないし10のいずれか1つに記載の基板検査装置であって、
前記照明部は、前記検査位置において前記基板の他方の主面の周縁部にも光を照射し、
前記基板検査装置は、前記検査位置における前記基板の前記他方の主面の前記周縁部からの反射光である第3反射光を導く第3反射ミラー部をさらに備え、
前記テレセントリック光学系には前記第3反射ミラー部により導かれた前記第3反射光が入射し、
前記撮像部では、前記テレセントリック光学系を通過した前記第3反射光が受光され、前記基板の前記他方の主面の前記周縁部の像である第3像が結像することを特徴とする基板検査装置。
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