JPS61137050A - ウエハ検査装置 - Google Patents

ウエハ検査装置

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JPS61137050A
JPS61137050A JP25760784A JP25760784A JPS61137050A JP S61137050 A JPS61137050 A JP S61137050A JP 25760784 A JP25760784 A JP 25760784A JP 25760784 A JP25760784 A JP 25760784A JP S61137050 A JPS61137050 A JP S61137050A
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wafer
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camera
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陽市 高木
Toshio Usui
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    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
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    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
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    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本装置は、ノリコンウェハの製造過程におけるウェハの
表面のキズ、よごれ等の欠陥検査の品質の向上と省力化
自動化に好適である。
〔発明の背景〕
半導体製品材料としてのシリコンウェハ面板、あるいは
各種金属、非金属の表面欠陥を検出する方法として従来
は人手による方法がおこなわれていた。しかし個人差が
ある上に、非能率的であるという欠点があった。
また表面欠陥を検出するためにレーザ光を被検体の表面
に照射して、表面欠陥による散乱光をオプティカルファ
イバーを用いて受光しその分散パターンから欠陥を検査
する方法が知られている。
それには例えば特開昭55−17443号がある。
しかしながらこの方法では装置が大がかりになるという
欠点がある。
また関連公知例としては特公昭59−34961号など
がある。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、シリコンウェハ製造過程におけるウェ
ハ表面のキズ、ヨゴレ等の欠陥を検査するウェハ検査装
置を提供することにある。
〔発明の概要〕
従来ウェハの検査は、目視により行われていた。
ウェハの欠陥は、キズ、:Iゴレ等非常に多携類のもの
があυ、ウェハの表面とカメラの傾斜角や照明方向など
によυ欠陥部がカメラ画像に取り込めないことがある。
目視の場合は、ウェハをいろいろの姿勢にして観察する
ことによ)欠陥部を見出している。本発明の装置では、
対象物を各種の姿勢に制御し画像処理を行うことができ
目視と同じ状態で検査を行うことを可能とした。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面によシ説明する。
/クコ/ウェハの製造過程において発生する欠陥は、第
4図〜第10図に示すように、欠け、すυ傷、よごれ等
各種のものがある。欠けや、ナシ傷については比較的に
=yeとしてとらえやすいが、する。従来は、人間の視
力によシこれらの検査を実施していたが、自動化する場
合、良い画像が得られるかどうかが最大の問題である。
本発明の装置では、ITvカメラ、照明とウェハ面の角
度が自動的に最適化することを考えである。また、細か
な欠陥を検出できるよう倍率の大きなレンズを使用した
場合ウェハ全面をス午ヤンすることによりもれなく欠陥
部を検出できるように仕組んでいる。
第4図(a)、 (b)はいわゆるSBムラオビ(サン
ドブラストによる)の場合、(C) 、 (d)はいわ
ゆる8Bムラ花(サンドブラストによる)場合を示して
いる。
第5図(a)、 (b)はいわゆるSBコスレ(サンド
ブラストによる)の例を、第6図(a)、 (b)はい
わゆる白汚れがある場合、第7図(a)、 (b)はホ
ールド汚れ、(C)、 (d)は雲状汚れ、第8図(a
)、(b)は点状汚れ、(C)はビンセット汚れ、第9
図(a)はカケがある場合、伽)はクラックがある場合
、(C)はヒラカキがある場合、(d)は突起がある場
合を、第10図(a)はc′fLowが、伽)は陥没が
ある場合の、それぞれウェハの表面状態の例を示してい
る。なお21はウニノ1である。
第1図により本発明の装置について説明する。
無欠陥のウェハ11はITVカメラ6から画像入力する
。被検査ウェハ12は、ITVカメ27から画像入力す
る。2つの画像を比較することにより欠陥を検出する。
2つのウェハ11,12は、同一のXYテーブル10上
におかれているので、カメラ6.7とウェハ11,12
の位置関係をあらかじめ調整しであるので、ウェハの同
じ相対位置の画像が取り込まれることになる。従って、
2画像の画像間演算によシ表面の反映光の異なる部分だ
けを検出することができ石。ウェハ11は無欠陥である
から、ウェハ12に欠陥があれば、その部分だけが反射
光に差を生ずるので検知できるのである。微小な欠陥を
検知するには、入力画像は、ウェハの1部分を拡大して
画像入力する必要がある。従ってウェハ全面を検査する
為には、ウニ八表面全体について画像を順次取り込み欠
陥を検査する必要がある。この為、本発明の装置では、
ウェハを前後左右に移動可能なXYテーブル10上にお
かれる。2個のウェハは、同じXYテーブル上におかれ
るので、常に同じ相対位置の部分の画像をとり込むこと
ができる。ウェハの表面を傾斜して画像入力するために
、XYテーブル10は、回転軸9を中心に回転できる構
造となっている。
8は、フレームである。1は画像処理装置本体、2は、
画像処理内容を表示するためのモニタテレビである。3
は、オペV−タ用のコンソールCRT。
4は、ハードコピー用グリyりである。5は、同上用の
デスクである。本発明の装置の概略は以上のようである
が、これをウェハ生産ラインの検査工程へ設置した場合
の一実施例をg2図に示す。
13は、検査前ウェハ搬送ライ/、17は、ウェハを搬
送ライン13からウェハ検査機16へ移動するためのマ
テハンである。14は、検査完了後の良品ウェハを搬送
するラインで、15は、不良品を搬送するラインである
。第3図によりウェハ製造ラインに設置した場合の詳細
を説明する。検査前ウェハ21はウェハマテハン機構1
7、シリンダ18、ロット19、マテハンヘット20に
よりライン13より検査装置16に転送する。22は、
ウェハ受口である。検査終了後、合格品は、出口23か
らライン14に、不合格品は、出口24からライン26
に送出される。次に第11図により本発明の検査装置の
検査方法について説明する。11は無欠陥のウェハで、
モデルとして使用する。12は、被検査のウェハで、欠
陥を含む場合がある。カメラ6はウェハ11の表面の1
部の′@像(G+部)を画像入力できるように調整しで
ある。2つの画1遼は、2つのウェハの同じ相対部分と
なるようにしである。またカメラ7はウェハ12の表面
の1部の画像(Gm部)を画像入力できるように調整し
である。!12図にて本発明のウェハ欠陥部検出の画像
処理の一方法について説明fる。モデルウェハ11と被
検査ウェハ12の表面の1#の画像G、、G、について
画像間演算を実施する(減算i絶対値をとる) 1 G鳳 −01隊  1 →G3 この演算により、2つの画像Gr 、 Gtの濃度比較
をとることができる。被検査ウェハが無欠陥ならば、2
つのウェハは同じ反射率(はぼ等しい)でちゃ、照明関
係も同じ条件に設定されているので2つの画像の減算結
果は、はぼOK近い値となる。しかし、ウェハ12に欠
陥を含むとその部分の反射率が異なるので、演算結果は
大きな値となる。このように大きな値の発生した位置や
面積を求めることによシ欠陥の有無を判定する。
第13図〜第15図により、ITVカメラとウェハ表面
の角度について述べる。ITVカメラ及び、照明を、ウ
ェハ表面に対して垂直にする場合を第13図に示す。こ
の場合には、ウェハ表面の深い傷の場合によく欠陥部の
検出できる。Lは垂直照明を表わしている。第14図は
、ウェハ表面とITVカメラと照明が、勝手な向きにあ
る場合を示す。このような場合、大抵欠陥部の検出はあ
まりよい結果とならない。第15図は、ウェハ表面に対
して、照明とカメラが1定の関係(ここでは、ウェハ画
線に対して対象)にある場合である。
ウェハ表面が鏡面仕上の場合、照明光がウェハ表面で反
射されてカメラに入−るような角度関係にすると、欠陥
のめる種のものについては良く検出可能である。本発明
の装置では、第13図及び第15図のような角度関係で
、照明ITVカメラ。
ウェハを配置できるような特徴ある構成をしている。
第16図によシカメラとウェハ表面の角度関係を変える
一実施例について説明する。ウェハを傾斜させ、カメラ
は固定すする。ウニノS表面の1点を中心としてウニノ
・を回転する。このようにすることによる利点は、カメ
ラの焦点をウニノ1の傾斜によりfA整する必装がない
ようにするための工夫である。ここで注視すべきことは
、ウェハを水平に対してαlだけ傾斜させた時、■TV
カメラを垂直に保つものとすれば、光源は、垂直から2
αだけ傾斜させると良い角度関係になることである。
このようにウェハの回転中心と、傾斜角、光源の卯きを
適切に選ぶと常時安定な検査結果が得られる。本発明の
装置は、これらのことを考慮しであるので、ウェハを任
意に傾斜した時、照明も自動的に最適の向きに決定され
るような構造となっている。第17図〜第19図により
XYテーブルの構成について説明する。ウェハ表面の画
像として入力できるのは、ウェハ表面の1部にすぎない
これは、微小な欠陥を検出するため、倍率の高いレンズ
を使って画]家入力する丸めである。ウェハ全表面を検
査するためには、カメラ又はウニノ・を移動してウェハ
の全表面の画像を入力する必要がある。本発明の装置で
は、カメラを固定しウェハをX方向、Y方向に移動する
ことにより行うものとする。第17図は、2個のウェハ
の並び方向(X方向と定義する)にウェハを移動する方
法を示す。本発明の装置では、2個のウェハ11゜12
が、同じ量だけ、X方向に移動するようにしであるので
、X方向への移動によシ、カメラとウェハの関係は、ウ
ェハ11.12は全く同じように変化する。尚、27.
28はウェハ受は皿である。このウェハ受は皿は、ウェ
ハの仕様の変更をこの受は皿の取シかえで間に会うよう
にしたものである。第18図は、ウェハをY方向(前述
と直角方向)に移動する方法を示す。本発明の装置では
、2個のウェハ11,12が同じ量だけY方向に移動す
るようにしであるので、Y方向の移動によシ、カメラと
ウェハの関係は、ウェハ11゜12は全く同じように変
化する。第1・9図は、ウェハの傾斜とY方向の移動を
同特に行った場合について説明している。すなわち、Y
方向移動を行つた後のカメラ画渾は、Y方向に移動する
が相変らず、カメラとウェハの距離関係は、最も焦点の
合った位置に保たれたままである。本発明の装置は、ウ
ェハの傾斜とXYテーブルの移動の関係が、入力画像の
画質を低下させないように配慮されているのが特徴のひ
とつである。ウェハ検査機本体について第20図〜第2
8図により説明する。ウェハ受は皿27.28は、ウェ
ハ受は回転板29゜30上に取付けられている。XYテ
ーブルは、孫フレーム61、子フレーム62、親フレー
ム63等によりm成されている。ウェハ受は回転板29
゜30は、$49.50を中心に回転できる構造となっ
ている。ウェハ受は回転板29.30は、同じ向きに同
じ量だけ回転するようにVベルトプーリ50.51及び
Vベルト52により結ばれている。また軸48はウオー
ム54及びウオームウィール53を介してモーター56
により駆動されるようになっている。従ってウェハ受は
回転板29゜30は、モータ56によシ、同じ向きに、
同じ量だけ回転させることができる。モータ56の回転
量は、ウェハ=歪の際自由に制御可能なように仕組んで
あるから、ウェハの向きを自由に変化させることができ
るようになっている。XYテーブルのY方向の移動は、
孫フレーム61と子フレーム62間の相対運動機構によ
シ行う。孫フレーム610両側は、子フレーム62の凹
部溝にはまっており前後に摺動できるようになっている
。孫フレームは、スクリュー59及びナツト6oを介し
てモータ57によシ駆動されてY方向に移動させられる
。モータ57は、ウェハ検査の際自由に制御可能なよう
に仕組んであるからXYテーブルをY方向に自由に変化
させることができるようになっている。XYテーブルの
X方向の移動は、子フレーム62と親フレーム63間の
相対運動機構により行う。子フレーム620両側は親フ
レーム63の凹部溝にはまっておシ前後に摺動できるよ
うになっている。子フレーム62は、スクリュー67、
ナツト68を介してモータ65によシ駆動されX方向に
移動させられる。モータ65は、ウェハ検査の際自由に
制御可能なように仕組んであるからXYテーブルをX方
向に自由に変化させることが可能である。親フレーム6
3は軸40で支えられ、@40は、外フレームにて支え
られている。親フレーム63は、軸40の回りに回転運
動が可能である。親フレーム63tJ:、Vベルトプー
リ70,71、Vベルト72、軸47、傘歯車46.4
5、@44、ウオーム39、ウオームホイール38、軸
41、ギヤ37,36、軸4oを介してモータ69によ
り駆動され軸40を中心に回転させられる。この場合の
回転軸4oは、ウェハの表面の1点で、ITvカメラの
焦点を合わす位置に一致させであるので、ウェハをカメ
ラに対゛して傾斜させることができるのである。一方、
照明装置31は、照明支持フレーム32に取り付けられ
ている。照明支持フレーム32は、照明支持フレーム受
け33に取り付けられる。本照明装置tubない時は、
32.33間を切りはなすものとする。照明支持フレー
ム受け33は、軸4oを中心に回転できるようになって
おシ、この回転により照明方向を変更することができる
ようになっている。
照明装置支持フレーム受け33は、親フレーム63と同
じようにモータ69により駆動されて回転する。この場
合の動力伝達は、ギヤー34゜35を便って行われる。
ここで、照明装置支持フレーム受け33とギヤー34は
1体に固定されているので、ギヤー34の回転は、33
に伝えられることになる。ここで、モータ69の駆動に
よシ、親フレーム63と照明装置31は、同じ方向く回
転するが、回転量は、ギヤー比により異なる。モータ回
転量をN1ギヤー36.37のギヤー比をIts ギヤ
ー35.34のギヤー比をitとすると親フレーム63
0回転量Nr及び照明装置の回転量NLは次のようにな
る。
N、=N−i、’i。
NL =N−1s  ・f。
但し、i(、はウオーム比(38,39)である。
NpとNLの回転量は、カメラ、照明、ウニ凸表面の角
度の関係から次のようになるとよい。
従って本発明の装置では、ギヤー比の関係を上式のよう
にとることによシ、カメラ、照明、ウェハの角度関係を
自動的に最適になるようにしである。
第21図は測面図を、第22図(b)は第20図のA−
A矢視図を、(b)は第22図(υのE−E矢視図を示
している。また第23図は第20図のB−B矢視図を、
第24図は第21図のC−C矢視図を、第25図は第2
0図のD−D矢視図をそれぞれ示す。
次にウェハを装置に取9込む場合の一実施例を第26図
により説明する。ウェハ21は、マテハンにより#動し
て、ウニ八投入口22の上方に来る。そして、フロア8
0上にウェハをのせる。ウェハは、ブツシャシリンダ7
3、ブツシャヘッド74により押し出され、ウェハ受は
皿2B上にのせるように仕組んである。
最後にウェハ検量完了後、ウニノ1送出機構について第
27図により説明する。ウェハは、ウェハ吸引盤75で
吸引し、アーム76は、支点77を中心に回転し、良品
出口孔78又は、不良品出口孔79からウェハを送出す
るようにする。第28図はウェハテーブルの傾斜と取付
アームの説明図である。
ウェハ全面を検査する場合の方法について第29図〜第
34図によシ説明する。第29図は、ウェハの検査走査
方式について示している。ウェハをXY方向に1定量ピ
ツチで移動することにより(第29図(a))全面を走
査する方法と、ウェハ受は回転板と回転、画像中心と回
転中心の差(Rとする)t−変化させる方法(第29図
Φ))がある。
第30図(a)〜(至)は、ウェハを回転して画像入力
した場合の画像位置を示す。第31図は、これらの画像
入力部分をまとめて表示したものである。半径R上に入
力画像Gl ”’G1mが分布しておシ、几を変化させ
ることにより全面を走査できる。ウェハに回転を与える
場合の回転ピッチは、第32図のようにして求めること
ができる。
L :画像サイズ R:回転半径 ΔR,二几方向ピッチ また、几方向のピッチΔBは、第33図から求められる
几◎;t/2 ΔB+冨t t:mI像サイズ 回転とRを変化させる方式をR1θ変化方式と以下称す
ることにする。
次にXYの直流移動によシウニノ・全面を走査する方法
、XY座標方式について第34図にて説明する。lずY
座標を決定し、Yffl標から、X方向の範曲を計算し
、X方向に一定ピッチ(ΔXとする)ずつ移動する。
X方向の範囲は x1=−v’肌ViJコ17 X・=  Ro%Ro−Y*Y として計算される。
Xが、X鵞をこえると次にY方向にΔYだけずらして、
再び上述の処理をくり返す。このようにして、XYテー
ブルを移動しつつ、ll1ii像をとシ込むので、全面
にわたって欠陥を調べることができるのである。
次に処理の制御方法について第35図〜第43図によシ
説明する。ウェハ検査のトップレベルフローを第35図
に示す。まず、ウェハ検知器81によりウェハを検知す
ると検査装置がREADY状態であるかどうかをみる。
READY状態でないというのは、現在処理中又はウェ
ハ検査機がスタートできる状態にないのであるから次処
理を行わない、次のウェハ検知を待つ。READYの時
は、マテハン17を動作させラインからウェハをウェハ
検査機16に移動させる。ウェハ検査機16は、ウェハ
をブツシャシリンダ73により移動し、所定の位置にセ
ットする。準備が完了するとウェハの検査動作を実行す
る(クエ只の検査動作の詳細は、第36図で説明)。検
査を完了すると良品。
不良品それぞれの動作を行い、次処理準備を行う。
次に第36図によシ検査動作について説明する。
まず、処理モードの選択を行う。処理モードとしては、
あらかじめ、次のようなモードを準備しておく。
モード1:垂直照明で回転及び半径モード(200)゛ モード2:垂直照明でXY座標モード(300)モード
3:斜方照明(固定方向) 回転及び半径モート責400) モード4:斜方照明(固定方向) XY座標モード(SOO) モード5:斜方照明(変化)回転及び半径モード(60
0) モード6:斜方照明(変化)XY座標モードこれらのモ
ードは、任意に設定できるものとする。以下、各モード
について説明する。
まず第37図によりモード1について説明する。
このモードは、照明及びITVカメラをウェハ真上方向
とし、半径Rと、ウェハの回転により全面走査する方式
である。まず、回転角θと回転半径孔の初期値を与える
。次に、初期値状態における両峰処理を実行する。不良
を検出の場合は、不良品処理をして処理を終了する。不
良を検出しない時は、θを更新し文再び画像処理を実行
するが、θを更新の際、R=0又は、θ≧360°の時
は、几を更新する。几がR,、、(最大値)をこえなけ
れば、画像処理を実行する。このようにして、凡とθを
1定ピツチで更新をくり返して全面走査完了するまで実
行する。この間不良を検出の場合には、処理を打ち切る
次に第38図により画像処理の詳細について説明する。
まず、モデルウェハと被検査ウェハの画像の取込を行い
、GIとG!の画像メモリに格納する。GI 、G*は
濃淡画像で1画素当98ビットで、画素の数は、例えば
256X240,512×480等である。濃淡画像G
+ とG!の間で、各対応画素間で演算を行い結果を濃
淡画像G3に格納する。
→Gs(i、j)) 上記画像演算によシ、2つのウェハの表面に差、異がな
い時は、0に近い値が03に入シ、欠陥のために差異が
ある場合、大きな値が入る。このようにして欠陥が被検
査ウェハに存在する所と、存在しない所は容易に区別が
つけられる。濃淡画像G3をあるしきい値で2値化する
と、被検査つエ〆1の表面に欠陥がある時は、ピッ)O
Nとなシ、無欠陥の時はピッ)OFFとなる。2値化画
像BIのONとなっている画素の数を数える(面積計算
)することによシ欠陥部の有無や欠陥部の大きさがわか
る。
次に第38図によりモード2について説明する。
モード2は、モード1と同じようにITv、照明は、ウ
ェハの真上方向であ!0、XYテーブルを、X方向Y方
向に移動してウェハの全面を走査する。
まず、Yの初期値(YMIN:Yの最小値とする)を与
える。次にYに対するX?範囲XI、X!を計算し、X
の初期値も設定する。X、Y方向に移動をくシ返し、そ
の間、画像処理を行い、ウニノ・の全面にわたって走査
するものとする。その他、不良品発生時の処理は、モー
ド1と同じである。
モード1とモード2は、ウェハ表面を走査するのに回転
を使うか、直線運動を使うかの差である。
次にモード3について第40図により説明する。
モード3は、照明及びITVカメラは、ウエノ1面に対
して垂直ではないが、あらかじめ設定した値を用い、あ
とは変更しない方式である。
まず、ウェハの傾斜角の初期値αを設定する。
以降αは変更しない。次に、θ、Rの初期値を設定し、
以下、θ、Rを変更をくり返し、ウェハ全面について走
査し、検査する。不−良品9画像′処理等については、
モード1.モード2と同じである。
次に、モード4について第41図によ)説明する。モー
ド4は、XY移動により全面走査する以外は、モード3
と同じである。
モード5について第42図により説明する。
モード5は、αを変化させる以外、モード3と全く同じ
である。但し、αを変化させる分だけ処理時間はかかる
モード6について第43図により説明する。
モード6は、αを変化させる以外は、モード4と全く同
じである。但し、αを変化させるだけ処理時間はかかる
ここで、各モードの使用特徴について述べると次のよう
になる。
モード1及び2は、ウェハ表面の深いキズの検出大は適
用できるが、モゴレ等のうすい表面についた膜の検出は
できないことがある。
モード1,2の使い分けは、回転を使うかどうかだけで
、質的な差はないが、処理時間の差はでると思われる。
モード3.4は、斜方照明であり、深いキズはもちろん
よごれ等の検出も大抵は検出できる。但し、傾斜角は、
適切なものを選ばなければならない。傾斜角をいろいろ
変えてみる必要がある場合にはモード5.6を採用する
。モード5.6は、処理時間が、モード3.4に比べて
、2倍以上かかるので性能は高いが、処理時間的には不
利でちる。
本発明の装置は以上のように構成されているのでウェハ
をどのような姿勢における検査も自動的に行うことがで
き、はとんど人間の手と視覚による検査と同じように細
かなしかもわずかの欠陥ものがすことなく検査すること
が可能である。人間の場合は、見落しや、見逃しが発生
するが、本装置では、ウェハ全表面にわたってくまなく
検査するのでそのようなこともない。また、画像処理に
は画像処理専用のVL8Iや専用プロセッサを使用する
ので高速に実行でき、それでも処理時間がラインに間に
合わない時には、同一ラインに本発明の装置を複数台設
備することも容易に行うことができ1、ウェハ製造ライ
ンの検査工程の無人化に寄与できる。尚、本発明の詳細
な説明の中で、XYテーブルの移動をモータとスクリュ
ー、ナツトを使用しているが、XY≠−プルの機能を果
す機構であれば、どのような機構を使ってもよい。
たとえば、油圧シリンダ、ラックとビニオ/、チェーン
等が考えられ、これらの全ての構造についての説明は省
いたが、本特許の本質にかかわるものではなく、どのよ
うな手段であれ、XYテーブルの機能を果すものであれ
ばどの方式にせよ本発明に含まれる。同じく、ウェハの
回転についてもモータとウオーム機構、Vベルト等を使
った一実施例を示したが、これと同じ目的を果す機構で
あれば他の手段によってもよい。例えば、モータ直は本
発明の基本的な事柄ではない。どの方1式をとるかは、
経済的1機構学的に最適の方式を選定することになるが
、二つのウェハを同期して回転させるという目的は同じ
であれば本特許に含まれるのでるる。また、照明装置の
自動位置調整についても同じで、モータと傘歯車、ウオ
ーム機構を使っているが、これを実現する方式は各種の
ものがあるが、同じ目的であれば、いずれの方式をとっ
ても本発明に含まれるのである。また、ウェハ傾斜のた
めの機構についても、本文に説明でもモータ、傘歯車、
ウオームを使っているが、その他の機構が各種考えられ
るが、同じ目的であればどの方式を選んでも本発明に含
まれるのであ°る。
〔発明の効果〕
本発明によれば、シリコンウェハの姿勢を自在に制御し
ながら画像処理により表面の欠陥を検査し、全表面にわ
たって自動的に検査するので検査品質の向上と省力化の
効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明のウェハ検査装置の1実施例である。 第2図及び第3図は、ウェハ製造ラインへの適用実施の
1例を示す。第4図〜第10図は、ウェハの表面欠陥の
1例を示す。第11図、第12図は、ウェハ検査の基本
原理を示している。 第13図〜第15図は、ウェハとITVカメラ。 照明の角度の関係について説明している。第16図は、
ウェハ煩斜角と光源の方向について説明している。第1
7図、第18図は、XYテーブルの動作について説明し
ている。第19図は、傾斜とY方向移動を同時に行った
時の説明を示している。 第2011〜第28図は、ウェハ検査装置本体の詳細を
示し、         −第20図は、正面図、第2
1図は、側面図を、t42z図は、A−人矢視図、E−
E矢視図を、第23図は、B−B矢視図、@24図は、
C−C矢視図、第25図は、D−D矢視図を示す。第2
6図は、ウニ八入力機構のl実施例で、第27図は、ウ
ェハの送出機構の1実施例である。第28図は、ウェハ
テーブルの傾斜と照明取付アームの関係を示している。 第29図〜第34図は、ウェハ走査説明図で、第29図
は、ウェハの検査走査方式、第30図は、凡一定θ変化
の走査を、第31図は、几一定、θ変化の時の入力画像
を、第32図は、R9θ変化方式のdθの決定方法を、
第33図は、几、θ変化方式のΔ几I Ro決定方式、
第34図は、XY座標方式について説明している。第3
5図〜第43図は、ウェハ検査処理制御の内容を流れ図
で示している。 1・・・画像処理装置本体、2・・・モニタテレビ、3
・・・コンソールC几T、4・・・ハードコピー用タイ
プライタ−16・・・モデルウェハ画像入力用ITVカ
メラ、7・・・被検査つェハ画像入力用ITvカメラ、
訃・・回転テーブル、9・・・回転テーブル9の中心軸
、10・・・XYテーブル、11・・・モデルウェハ、
12・・・被検査ウェハ、13・・・検量前ウェハ搬入
ライン、14・・・良品ウェハ搬出ライン、15・・・
不良品ウェハ搬出ライン、16・・・ウェハ検査機本体
、17・・・ウェハマテハン機構、22・・・ウェハ投
入口、23・・・良品搬出口、24・・・不良品搬出口
、25・・・良品ウェハシュータ−126・・・不良品
ウェハシュータ、27・・・ウェハ受は皿(モデルウェ
ハ用)、28・・・ウェハ受は皿(被検査ウェハ用)、
29・・・ウェハ受は回転板(モデルウェハ用)、30
・・・ウェハ受は回転板(被検査ウェハ用)、31・・
・照明装置、32・・・照明装置支持7レーム、33・
・・照明装置支持フレーム受け、38・・・ウオームホ
イール、39・・・ウオーム、42・・・カップリング
、43・・・カップリング、45・・・笠歯車、46・
・・笠歯車、57・・・モーター、58・・・カップリ
ング、59・・・スクリュー、60・・・ナツト、61
・・・孫フレーム、62・・・子フレーム、63・・・
親フレーム、64・・・外フレーム、70・・・vベル
ト7’−!j−171・・・Vベルトフ−IJ−172
・・・Vベルト、73・・・プツシャーシ!ノングー、
74・・・プッシャーヘッド、75・・・フェノ1吸引
盤。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、ウェハの検査装置において、モデルのウェハと被検
    査ウェハの表面光の反射光を比較する比較手段と、XY
    テーブルとウェハ面を傾斜する為のXYテーブルを回転
    する回転手段と、ウェハ表面を垂直及び傾斜した状態で
    カメラに画像入力する手段、とを備えたことを特徴とす
    るウェハ検査装置。
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