JPH067934A - 二重管の管端シール溶接方法 - Google Patents
二重管の管端シール溶接方法Info
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- JPH067934A JPH067934A JP2574592A JP2574592A JPH067934A JP H067934 A JPH067934 A JP H067934A JP 2574592 A JP2574592 A JP 2574592A JP 2574592 A JP2574592 A JP 2574592A JP H067934 A JPH067934 A JP H067934A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ブローホール欠陥の発生を的確に抑止しなが
ら良好なビードの形成を能率よく行なえる、二重管の管
端シール溶接方法を提供する。 【構成】 電極配置角を２０度〜８０度としてＴＩＧ法
の溶接電極を下り坂位置に配置し、電極配置角を５度〜
２０度としてＭＩＧ法の溶接電極を下り坂位置に配置
し、二重管の管端嵌合境界部に対しＴＩＧ法の溶接電極
で初層一周溶接を実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩ
Ｇ法の溶接電極で管表面部まで連続して実施する。
ら良好なビードの形成を能率よく行なえる、二重管の管
端シール溶接方法を提供する。 【構成】 電極配置角を２０度〜８０度としてＴＩＧ法
の溶接電極を下り坂位置に配置し、電極配置角を５度〜
２０度としてＭＩＧ法の溶接電極を下り坂位置に配置
し、二重管の管端嵌合境界部に対しＴＩＧ法の溶接電極
で初層一周溶接を実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩ
Ｇ法の溶接電極で管表面部まで連続して実施する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は石油・天然ガス採掘用の
油井管や輸送用のラインパイプ、廃液処理プラントの配
管等の分野で使用される二重管の管端部のシール溶接方
法に関するものである。
油井管や輸送用のラインパイプ、廃液処理プラントの配
管等の分野で使用される二重管の管端部のシール溶接方
法に関するものである。
【０００２】硫化水素などの腐食性ガスや強酸性・強ア
ルカリ性廃液等に曝される菅類では、製造コストを合理
的範囲内に抑えながら高い機械的強度と耐食性を確保す
るために、例えば高ニッケル合金製の内側金属管と低合
金鋼製の外側金属管を焼き嵌め法などによってメカニカ
ルに嵌合した、二重管の需要が高まりつつある。
ルカリ性廃液等に曝される菅類では、製造コストを合理
的範囲内に抑えながら高い機械的強度と耐食性を確保す
るために、例えば高ニッケル合金製の内側金属管と低合
金鋼製の外側金属管を焼き嵌め法などによってメカニカ
ルに嵌合した、二重管の需要が高まりつつある。
【０００３】
【従来の技術】二重管は施工現場で一連に接合すること
によって所要長さのパイプラインを形成するのである
が、メカニカルに嵌合された内側金属管と外側金属管の
境界部には僅かながら隙間が存在しているため、管端の
突き合わせ円周溶接時に隙間起因によるブロ−ホ−ル欠
陥が発生することがある。そのため、二重管は工場段階
で予め管端のシ−ル溶接を行ない、該溶接ビードに所要
の開先を施してから出荷されている。
によって所要長さのパイプラインを形成するのである
が、メカニカルに嵌合された内側金属管と外側金属管の
境界部には僅かながら隙間が存在しているため、管端の
突き合わせ円周溶接時に隙間起因によるブロ−ホ−ル欠
陥が発生することがある。そのため、二重管は工場段階
で予め管端のシ−ル溶接を行ない、該溶接ビードに所要
の開先を施してから出荷されている。
【０００４】管端シ−ル溶接には現在、シールドガス中
でタングステン電極と母材間にアークを発生させて、母
材と溶加材を溶融させるＴＩＧ（ティグ）法が採用され
ているが、ＴＩＧ溶接は溶着速度が低いため、内管表面
から外管表面まで、即ち外管の全肉厚にわたって積層す
るには、表１に示したように非常に時間が掛っている。
このように管端処理ための溶接能率が悪いので、二重管
全体の生産性が著しく阻害されている。
でタングステン電極と母材間にアークを発生させて、母
材と溶加材を溶融させるＴＩＧ（ティグ）法が採用され
ているが、ＴＩＧ溶接は溶着速度が低いため、内管表面
から外管表面まで、即ち外管の全肉厚にわたって積層す
るには、表１に示したように非常に時間が掛っている。
このように管端処理ための溶接能率が悪いので、二重管
全体の生産性が著しく阻害されている。
【表１】
【０００５】一方、溶加材ともなる消耗電極ワイヤを定
速度送給し、シールドガス中で消耗電極ワイヤと母材間
にアークを発生させて、消耗電極ワイヤと母材を溶融さ
せるＭＩＧ（ミグ）法は、ＴＩＧ溶接よりも高い溶着速
度を期待できるが、使用する溶接入力が大きくなって隙
間起因によるブロ−ホ−ル欠陥が初層に多発するため、
現在は二重管の管端シール溶接には採用されていない。
速度送給し、シールドガス中で消耗電極ワイヤと母材間
にアークを発生させて、消耗電極ワイヤと母材を溶融さ
せるＭＩＧ（ミグ）法は、ＴＩＧ溶接よりも高い溶着速
度を期待できるが、使用する溶接入力が大きくなって隙
間起因によるブロ−ホ−ル欠陥が初層に多発するため、
現在は二重管の管端シール溶接には採用されていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は管端嵌合境界
部における溶接形態について各方面からの分析を行な
い、溶接諸条件等について種々の研究を重ねることによ
って得られたものであり、本発明の目的はＴＩＧ法とＭ
ＩＧ法の適用順序を特定することによって両溶接法の長
所を有効利用し、ブローホール欠陥の発生を的確に抑止
しながら良好なビードの形成を能率よく行なえる管端シ
ール溶接方法を提供することである。
部における溶接形態について各方面からの分析を行な
い、溶接諸条件等について種々の研究を重ねることによ
って得られたものであり、本発明の目的はＴＩＧ法とＭ
ＩＧ法の適用順序を特定することによって両溶接法の長
所を有効利用し、ブローホール欠陥の発生を的確に抑止
しながら良好なビードの形成を能率よく行なえる管端シ
ール溶接方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】以下、図示の参照符号を
用いて説明すると、二種類の金属管１，２をメカニカル
に嵌合した二重管３の管端シール溶接を行う本発明方法
の要旨は、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用し、ＭＩＧ法に先
行してＴＩＧ法を実施することである。すなわち、二重
管３の管端嵌合境界部４に対しＴＩＧ法で初層一周溶接
を実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩＧ法で管表面部
まで連続して実施する。
用いて説明すると、二種類の金属管１，２をメカニカル
に嵌合した二重管３の管端シール溶接を行う本発明方法
の要旨は、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用し、ＭＩＧ法に先
行してＴＩＧ法を実施することである。すなわち、二重
管３の管端嵌合境界部４に対しＴＩＧ法で初層一周溶接
を実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩＧ法で管表面部
まで連続して実施する。
【０００８】初層溶接によるビード５と第２層以降の積
層溶接による各ビード６を良好に形成するためには、二
重管３の管端の外側空間に配置されるＴＩＧ法の溶接電
極８とＭＩＧ法の溶接電極１０は、通常は下り坂側の位
置、すなわち管回転方向Ｒにおいて見たとき管頂点Ｐよ
りも後方側に配置される。
層溶接による各ビード６を良好に形成するためには、二
重管３の管端の外側空間に配置されるＴＩＧ法の溶接電
極８とＭＩＧ法の溶接電極１０は、通常は下り坂側の位
置、すなわち管回転方向Ｒにおいて見たとき管頂点Ｐよ
りも後方側に配置される。
【０００９】電極配置角とは溶接電極の狙い位置と管頂
点Ｐが管中心Ｏに対してなす角度のことであるが、ＴＩ
Ｇ法の溶接電極８については、望ましい電極配置角βは
２０度〜８０度の範囲内である。電極配置角βが２０度
未満であるときには、溶接電極８がＭＩＧ法の溶接電極
１０と干渉することになり、８０度を越えるときにはビ
ード５の形状が劣化する。
点Ｐが管中心Ｏに対してなす角度のことであるが、ＴＩ
Ｇ法の溶接電極８については、望ましい電極配置角βは
２０度〜８０度の範囲内である。電極配置角βが２０度
未満であるときには、溶接電極８がＭＩＧ法の溶接電極
１０と干渉することになり、８０度を越えるときにはビ
ード５の形状が劣化する。
【００１０】ＭＩＧ法の溶接電極１０については、望ま
しい電極配置角αは５度〜２０度の範囲内である。電極
配置角αが５度未満であるときには、ビ−ドが山型にな
ったり、溶融金属が後方に流れ落ちたりする。電極配置
角αが２０度を越えると溶融プ−ルヘッドが大きくなり
過ぎて、溶け込み不足や溶融金属の前方流れ落ちといっ
た問題が生じる。
しい電極配置角αは５度〜２０度の範囲内である。電極
配置角αが５度未満であるときには、ビ−ドが山型にな
ったり、溶融金属が後方に流れ落ちたりする。電極配置
角αが２０度を越えると溶融プ−ルヘッドが大きくなり
過ぎて、溶け込み不足や溶融金属の前方流れ落ちといっ
た問題が生じる。
【００１１】ＴＩＧ法で初層溶接を実施するときには、
典型的には高合金製の内側金属管１とビード５との融合
性を良くするために溶加材として高合金ワイヤ１１を用
いる。また、ＭＩＧ法で第２層以降の積層溶接を実施す
るときには、該ビード５と上乗せビード６との融合性を
良くするために溶接電極１０として同種の高合金ワイヤ
を用いる。
典型的には高合金製の内側金属管１とビード５との融合
性を良くするために溶加材として高合金ワイヤ１１を用
いる。また、ＭＩＧ法で第２層以降の積層溶接を実施す
るときには、該ビード５と上乗せビード６との融合性を
良くするために溶接電極１０として同種の高合金ワイヤ
を用いる。
【００１２】高能率化の面だけから見れば、初層から最
終層まで積層溶接を全てＭＩＧ法で実施することが考え
られるが、高合金ワイヤをＭＩＧ法による初層溶接に適
用した場合には、以下に示すようにブロ−ホ−ル欠陥の
発生抑制と良好なビ−ド形成を両立させることが困難で
あり、そのため本発明方法では初層溶接をＴＩＧ法で実
施する。
終層まで積層溶接を全てＭＩＧ法で実施することが考え
られるが、高合金ワイヤをＭＩＧ法による初層溶接に適
用した場合には、以下に示すようにブロ−ホ−ル欠陥の
発生抑制と良好なビ−ド形成を両立させることが困難で
あり、そのため本発明方法では初層溶接をＴＩＧ法で実
施する。
【００１３】すなわち、ＭＩＧ法で消耗電極として用い
る高合金ワイヤ（例えばINCO.625など）は低合金に比較
して電気抵抗が著しく高いため、ワイヤ突き出し部分で
のジュ−ル発熱分が大きく、ワイヤが高温に予熱され、
図６に示したように低合金ワイヤに比べ、同一溶接電流
でもワイヤ溶融効率が高くなり、少ない溶接入力でも多
量のワイヤが溶融する。その結果、ワイヤ溶着量当りの
入熱が少なくなり、熱不足によるビ−ド不良を起こし易
いため、良好なビ−ド形状を得るにはある程度以上溶接
入力を高める必要がある。
る高合金ワイヤ（例えばINCO.625など）は低合金に比較
して電気抵抗が著しく高いため、ワイヤ突き出し部分で
のジュ−ル発熱分が大きく、ワイヤが高温に予熱され、
図６に示したように低合金ワイヤに比べ、同一溶接電流
でもワイヤ溶融効率が高くなり、少ない溶接入力でも多
量のワイヤが溶融する。その結果、ワイヤ溶着量当りの
入熱が少なくなり、熱不足によるビ−ド不良を起こし易
いため、良好なビ−ド形状を得るにはある程度以上溶接
入力を高める必要がある。
【００１４】しかしながら、溶接入力が大きくなるにつ
れて溶融プ−ル量が増え、プールも長くなり、また、低
合金鋼に比べて凝固温度が１５０℃程度低く、溶融金属
の滞留時間も長くなるので、ブロ−ホ−ルが生長し易い
環境が醸成されることになり、結局、ブロ−ホ−ル欠陥
発生の抑制と良好なビ−ドの形成という要請を同時に満
足させることは困難である。一方、ＴＩＧ法の溶接で
は、溶加ワイヤと溶接入力を独立して制御できるので、
溶融プ−ルを小さくしてブロ−ホ−ル生成のない良好な
ビ−トを形成するのに適している。
れて溶融プ−ル量が増え、プールも長くなり、また、低
合金鋼に比べて凝固温度が１５０℃程度低く、溶融金属
の滞留時間も長くなるので、ブロ−ホ−ルが生長し易い
環境が醸成されることになり、結局、ブロ−ホ−ル欠陥
発生の抑制と良好なビ−ドの形成という要請を同時に満
足させることは困難である。一方、ＴＩＧ法の溶接で
は、溶加ワイヤと溶接入力を独立して制御できるので、
溶融プ−ルを小さくしてブロ−ホ−ル生成のない良好な
ビ−トを形成するのに適している。
【００１５】
【作用】図１のＭＩＧ法とＴＩＧ法の複合溶接装置にお
いて、水平に横倒し配置された二重管３は左右一対のタ
ーニングロール１２，１２に載置され、矢視Ｒ方向に回
転させられる。ＴＩＧ法の溶接トーチ７の狙い位置には
ワイヤ送給器１３から溶加材の高合金ワイヤ１１が順次
送給され、ＭＩＧ法の溶接トーチ９には溶加材と消耗電
極を兼ねる高合金ワイヤ１０がワイヤ送給器１４から所
定速度で送給される。
いて、水平に横倒し配置された二重管３は左右一対のタ
ーニングロール１２，１２に載置され、矢視Ｒ方向に回
転させられる。ＴＩＧ法の溶接トーチ７の狙い位置には
ワイヤ送給器１３から溶加材の高合金ワイヤ１１が順次
送給され、ＭＩＧ法の溶接トーチ９には溶加材と消耗電
極を兼ねる高合金ワイヤ１０がワイヤ送給器１４から所
定速度で送給される。
【００１６】ＭＩＧ法の溶接トーチ９とＴＩＧ法の溶接
トーチ７を所要の電極配置角α，βに設定する。次に溶
接速度を設定し、タ−ニングロ−ル１２を回転させると
同時に、高合金ワイヤ１１を用いてＴＩＧ溶接のみを開
始し、管端嵌合境界部４を初層一周だけ溶接を行う。そ
して、ＴＩＧ溶接を停止した後、タ−ニングロ−ル１２
の回転速度を上昇させ、管端嵌合境界部をシ−ル溶接し
たＴＩＧ法のビ−ド５の上に高合金ワイヤ１０を用いて
管表面までＭＩＧ法によって連続積層溶接を行う。
トーチ７を所要の電極配置角α，βに設定する。次に溶
接速度を設定し、タ−ニングロ−ル１２を回転させると
同時に、高合金ワイヤ１１を用いてＴＩＧ溶接のみを開
始し、管端嵌合境界部４を初層一周だけ溶接を行う。そ
して、ＴＩＧ溶接を停止した後、タ−ニングロ−ル１２
の回転速度を上昇させ、管端嵌合境界部をシ−ル溶接し
たＴＩＧ法のビ−ド５の上に高合金ワイヤ１０を用いて
管表面までＭＩＧ法によって連続積層溶接を行う。
【００１７】図５に示したように管表面部まで積層溶接
が実施された後、鎖線で例示したように施工現場での突
き合わせ円周溶接のための開先加工が、ビード５と複数
のビード６の集成体に対して施され、管端処理済みの二
重管として施工現場へ出荷される。
が実施された後、鎖線で例示したように施工現場での突
き合わせ円周溶接のための開先加工が、ビード５と複数
のビード６の集成体に対して施され、管端処理済みの二
重管として施工現場へ出荷される。
【００１８】
【実施例】本発明方法が適用される二重管３の典型例
は、高合金製の内側金属管１と低合金鋼製の外側金属管
２を焼き嵌めしたものであり、内側金属管１と外側金属
管２の各端部の性状に応じて、二重管３の管端には図３
に示したようにシール溶接のための開先が施される。
は、高合金製の内側金属管１と低合金鋼製の外側金属管
２を焼き嵌めしたものであり、内側金属管１と外側金属
管２の各端部の性状に応じて、二重管３の管端には図３
に示したようにシール溶接のための開先が施される。
【００１９】ＭＩＧ法の溶接電極１０の電極配置角αと
ＴＩＧ法の溶接電極８の電極配置角βは前記範囲内で選
定されるが、溶接電極１０と溶接電極８はいずれも管表
面の狙い位置に立てた法線、すなわち溶接電極の狙い位
置と管中心Ｏを通る直線上にあることに限定されず、図
２に示したように一定の後退角γ，θの範囲内において
法線に対し傾けて配置することもできる。
ＴＩＧ法の溶接電極８の電極配置角βは前記範囲内で選
定されるが、溶接電極１０と溶接電極８はいずれも管表
面の狙い位置に立てた法線、すなわち溶接電極の狙い位
置と管中心Ｏを通る直線上にあることに限定されず、図
２に示したように一定の後退角γ，θの範囲内において
法線に対し傾けて配置することもできる。
【００２０】一周溶接して次層の積層を開始するときに
は、図４に示したように溶接電極１０の狙い位置の高さ
をビ−ド５，６の厚さｈ分だけ高めて、溶接電極１０を
構成するワイヤの突き出し長さＬを一定にする。また、
開先壁１５からワイヤ先端までの距離ｘが一定になるよ
うに開先角度に見合った分だけ開先壁１５側に溶接電極
１０を移動させる制御を行う。このような積層移行時に
おける電極の位置制御によって、ＭＩＧア−クを中断せ
ずに連続的に管表面部まで積層溶接することができ、溶
け込み不良欠陥発生の危険を回避できる。
は、図４に示したように溶接電極１０の狙い位置の高さ
をビ−ド５，６の厚さｈ分だけ高めて、溶接電極１０を
構成するワイヤの突き出し長さＬを一定にする。また、
開先壁１５からワイヤ先端までの距離ｘが一定になるよ
うに開先角度に見合った分だけ開先壁１５側に溶接電極
１０を移動させる制御を行う。このような積層移行時に
おける電極の位置制御によって、ＭＩＧア−クを中断せ
ずに連続的に管表面部まで積層溶接することができ、溶
け込み不良欠陥発生の危険を回避できる。
【００２１】低合金鋼(API X60) 製で外径が２２０mm、
肉厚が１２mmの外側金属管２と高合金材(ALLOY 825) 製
で肉厚が２mmの内側金属管１とから成る二重管３を９本
用意し、各二重管３の管端に図３に示した角度の開先を
施した。ＴＩＧ法のみを使用するもの（Ａ） 、ＭＩＧ法
だけを使用するもの（Ｂ）、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用
してＭＩＧ法の電極配置角を小さく設定するもの
（Ｃ）、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用してＭＩＧ法の電極
配置角を大きく設定するもの（Ｄ）を比較例として、各
管端に積層溶接を実施した。また、ＴＩＧ法とＭＩＧ法
を併用してＴＩＧ法とＭＩＧ法の各電極配置角を種々変
更したもの（Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉ）を本発明例として、
各管端に積層溶接を実施した。各比較例と本発明例の溶
接条件は表２に示した通りである。
肉厚が１２mmの外側金属管２と高合金材(ALLOY 825) 製
で肉厚が２mmの内側金属管１とから成る二重管３を９本
用意し、各二重管３の管端に図３に示した角度の開先を
施した。ＴＩＧ法のみを使用するもの（Ａ） 、ＭＩＧ法
だけを使用するもの（Ｂ）、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用
してＭＩＧ法の電極配置角を小さく設定するもの
（Ｃ）、ＴＩＧ法とＭＩＧ法を併用してＭＩＧ法の電極
配置角を大きく設定するもの（Ｄ）を比較例として、各
管端に積層溶接を実施した。また、ＴＩＧ法とＭＩＧ法
を併用してＴＩＧ法とＭＩＧ法の各電極配置角を種々変
更したもの（Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ，Ｉ）を本発明例として、
各管端に積層溶接を実施した。各比較例と本発明例の溶
接条件は表２に示した通りである。
【表２】
【００２２】高合金ワイヤ１０，１１には、INCO.625(J
IS Z3334 YNiCrMo-3相当) の１．２mm径のものを使用し
た。ＴＩＧ法のシ−ルドガスには純アルゴンガス（Ar）
を使用し、ＭＩＧ法のシールドガスには炭酸ガスとアル
ゴンガスの混合ガス（20%CO2+80%Ar）を使用し、各シー
ルドガスの流量は20 1/minに設定した。溶接状況を観察
し、溶接後にビ−ドの外観検査と溶接部全周のＸ線検査
を行ない、ビ−ドの良否の判定とピットやブローホール
の有無を判定した。この結果を表３に示す。
IS Z3334 YNiCrMo-3相当) の１．２mm径のものを使用し
た。ＴＩＧ法のシ−ルドガスには純アルゴンガス（Ar）
を使用し、ＭＩＧ法のシールドガスには炭酸ガスとアル
ゴンガスの混合ガス（20%CO2+80%Ar）を使用し、各シー
ルドガスの流量は20 1/minに設定した。溶接状況を観察
し、溶接後にビ−ドの外観検査と溶接部全周のＸ線検査
を行ない、ビ−ドの良否の判定とピットやブローホール
の有無を判定した。この結果を表３に示す。
【表３】
【００２３】比較例Ａでは溶接ビ−ドは良好であるが、
溶接時間が長いので溶接能率の向上は期待できない。比
較例Ｂでは溶接能率は比較例Ａの３倍以上に向上するけ
れども、初層にはピットが発生し、Ｘ線検査ではブロ−
ホ−ル欠陥が多数発見された。比較例ＣではＭＩＧ法の
電極配置角が小さ過ぎるため、溶融金属の後方への流れ
落ちなどが発生し、不安定なビ−ドになった。比較例Ｄ
ではＭＩＧ法の電極配置角が大き過ぎるため、溶融金属
の前方への流れ落ちが発生し、Ｘ線検査で溶け込み不足
による融合不良が発見された。
溶接時間が長いので溶接能率の向上は期待できない。比
較例Ｂでは溶接能率は比較例Ａの３倍以上に向上するけ
れども、初層にはピットが発生し、Ｘ線検査ではブロ−
ホ−ル欠陥が多数発見された。比較例ＣではＭＩＧ法の
電極配置角が小さ過ぎるため、溶融金属の後方への流れ
落ちなどが発生し、不安定なビ−ドになった。比較例Ｄ
ではＭＩＧ法の電極配置角が大き過ぎるため、溶融金属
の前方への流れ落ちが発生し、Ｘ線検査で溶け込み不足
による融合不良が発見された。
【００２４】一方、本発明例Ｅ，Ｆ，Ｇ，Ｈ及びＩでは
ビ−ドはいずれも安定しており、アーク時間も１４〜１
６分であり、溶接能率はＴＩＧ法だけによる従来方法よ
り２倍以上に向上している。
ビ−ドはいずれも安定しており、アーク時間も１４〜１
６分であり、溶接能率はＴＩＧ法だけによる従来方法よ
り２倍以上に向上している。
【００２５】
【発明の効果】以上のように本発明の二重管の管端シー
ル溶接方法では、管端嵌合境界部に対し初層一周溶接を
ＴＩＧ法で実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩＧ法で
管表面部まで連続して実施するものであり、ＴＩＧ法と
ＭＩＧ法の適用順序を特定することによって両溶接法の
長所が有効に発揮されるので、ブローホール欠陥の発生
を的確に抑止しながら良好なビードの形成を能率よく行
なうことができる。
ル溶接方法では、管端嵌合境界部に対し初層一周溶接を
ＴＩＧ法で実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩＧ法で
管表面部まで連続して実施するものであり、ＴＩＧ法と
ＭＩＧ法の適用順序を特定することによって両溶接法の
長所が有効に発揮されるので、ブローホール欠陥の発生
を的確に抑止しながら良好なビードの形成を能率よく行
なうことができる。
【００２６】本発明方法では初層溶接にのみＴＩＧ法を
用いているので全体としての能率低下はさしたる問題に
はならず、溶加材や電極配置角、溶接電流等の溶接条件
を適宜選択することによって従来方法の２倍以上の溶接
能率で管端をシール溶接できるものであり、これによっ
て管端処理された二重管の生産性を大幅に向上させるこ
とができ、コストの相当な節減が可能である。
用いているので全体としての能率低下はさしたる問題に
はならず、溶加材や電極配置角、溶接電流等の溶接条件
を適宜選択することによって従来方法の２倍以上の溶接
能率で管端をシール溶接できるものであり、これによっ
て管端処理された二重管の生産性を大幅に向上させるこ
とができ、コストの相当な節減が可能である。
【００２７】このように管端のシール溶接が万全になさ
れているため、施工現場での管端開先の点検補修作業は
一切不要となり、二重管の突き合わせ円周溶接を高い信
頼性のもとに省力化して行なうことができ、石油採掘や
輸送施設の構築等において有用性が高いものである。
れているため、施工現場での管端開先の点検補修作業は
一切不要となり、二重管の突き合わせ円周溶接を高い信
頼性のもとに省力化して行なうことができ、石油採掘や
輸送施設の構築等において有用性が高いものである。
【図１】本発明方法の実施に使用されるＭＩＧ法とＴＩ
Ｇ法の複合溶接装置の模式図である。
Ｇ法の複合溶接装置の模式図である。
【図２】ＭＩＧ法とＴＩＧ法の各溶接電極が管表面に対
してとり得る後退角を示す模式図である。
してとり得る後退角を示す模式図である。
【図３】シール溶接のために開先された二重管の管端拡
大図である。
大図である。
【図４】第２層まで積層溶接が実施された二重管の管端
拡大図である。
拡大図である。
【図５】管表面部まで積層溶接が実施された二重管の管
端拡大図である。
端拡大図である。
【図６】ＭＩＧ法における溶接電流とワイヤ溶着量との
関係を示すグラフである。
関係を示すグラフである。
１ 内側金属管 ２ 外側金属管 ３ 二重管 ４ 管端嵌合境界部 ５ ビード ６ ビード ７ ＴＩＧ法の溶接トーチ ８ ＴＩＧ法の溶接電極 ９ ＭＩＧ法の溶接トーチ １０ ＭＩＧ法の溶接電極 １１ 高合金ワイヤ １２ ターニングロール １３ ワイヤ送給器 １４ ワイヤ送給器 １５ シール溶接用開先 Ｌ ワイヤ突き出し長さ Ｏ 管中心 Ｐ 管頂点 Ｒ 管回転方向 ｈ ビード厚さ ｘ 開先壁とワイヤ先端間の距離 α ＭＩＧ法の電極配置角 β ＴＩＧ法の電極配置角
Claims (3)
- 【請求項１】 二種類の金属管がメカニカルに嵌合され
た二重管の管端嵌合境界部に対しＴＩＧ法で初層一周溶
接を実施し、第２層以降の積層溶接をＭＩＧ法で管表面
部まで連続して実施する二重管の管端シール溶接方法。 - 【請求項２】 電極配置角を２０度〜８０度にしてＴＩ
Ｇ法の溶接電極を下り坂位置に配置し、電極配置角を５
度〜２０度にしてＭＩＧ法の溶接電極を下り坂位置に配
置し、初層溶接と第２層以降の積層溶接を実施すること
を特徴とする請求項１に記載の管端シール溶接方法。 - 【請求項３】 溶加材として高合金ワイヤを用いてＴＩ
Ｇ法による初層溶接を実施し、同種の高合金ワイヤを用
いてＭＩＧ法による第２層以降の積層溶接を実施するこ
とを特徴とする請求項１に記載の管端シール溶接方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2574592A JPH067934A (ja) | 1992-01-16 | 1992-01-16 | 二重管の管端シール溶接方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2574592A JPH067934A (ja) | 1992-01-16 | 1992-01-16 | 二重管の管端シール溶接方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH067934A true JPH067934A (ja) | 1994-01-18 |
Family
ID=12174366
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2574592A Withdrawn JPH067934A (ja) | 1992-01-16 | 1992-01-16 | 二重管の管端シール溶接方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH067934A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1992
- 1992-01-16 JP JP2574592A patent/JPH067934A/ja not_active Withdrawn
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