JPH0675188B2 - ペリクル着脱機構 - Google Patents
ペリクル着脱機構Info
- Publication number
- JPH0675188B2 JPH0675188B2 JP4412288A JP4412288A JPH0675188B2 JP H0675188 B2 JPH0675188 B2 JP H0675188B2 JP 4412288 A JP4412288 A JP 4412288A JP 4412288 A JP4412288 A JP 4412288A JP H0675188 B2 JPH0675188 B2 JP H0675188B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- photomask
- lever
- main body
- holder main
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は半導体（IC）の製造におけるフォトリソグラフ
ィ工程で用いるフォトマスクに異物付着防止用のペリク
ルを貼り合わせる装置に関するものである。
ィ工程で用いるフォトマスクに異物付着防止用のペリク
ルを貼り合わせる装置に関するものである。
［従来技術と問題点］ 従来のペリクル取付装置は、垂直層流方式のクリーンベ
ンチ内でフォトマスクとペリクルを水平な状態で貼り合
わせる機構であったので、異物がフォトマスク上面およ
びペリクル上面に落下して表面に付着するという欠点が
あった。
ンチ内でフォトマスクとペリクルを水平な状態で貼り合
わせる機構であったので、異物がフォトマスク上面およ
びペリクル上面に落下して表面に付着するという欠点が
あった。
［発明の目的］ 本発明は前記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、クリーンベンチの層流方式が垂直・水平のいずれの
方式であっても、清浄空気をフォトマスク両面およびペ
リクル両面に対して平行な層流状態としてフォトマスク
およびペリクル表面への異物の付着を防止しフォトマス
クとペリクルを清浄空気流と平行な状態で保持しながら
貼り合わせかつ自動的に離脱できるペリクル着脱機構の
提供を目的とする。
て、クリーンベンチの層流方式が垂直・水平のいずれの
方式であっても、清浄空気をフォトマスク両面およびペ
リクル両面に対して平行な層流状態としてフォトマスク
およびペリクル表面への異物の付着を防止しフォトマス
クとペリクルを清浄空気流と平行な状態で保持しながら
貼り合わせかつ自動的に離脱できるペリクル着脱機構の
提供を目的とする。
［実施例］ 以下図面に基づいて本発明の実施例について説明する。
第１図に本発明に係るペリクル着脱機構の構成を示す。
ペリクル枠１はホルダ６に保持される。ホルダ６はホル
ダ本体6aとペリクル枠１を把持するためのレバー４から
なる。レバー４はホルダ本体６に枢着されている。レバ
ー４はペリクル枠１に係止してこれを固定するためのピ
ン３を有する。このホルダ６はペリクル枠１を取付ける
べきフォトマスク５に対し平行に配設される。これらの
フォトマスク５およびペリクル枠１はクリーンベンチ
（図示しない）内に清浄空気流と平行（図の例では鉛
直）に配設される。
第１図に本発明に係るペリクル着脱機構の構成を示す。
ペリクル枠１はホルダ６に保持される。ホルダ６はホル
ダ本体6aとペリクル枠１を把持するためのレバー４から
なる。レバー４はホルダ本体６に枢着されている。レバ
ー４はペリクル枠１に係止してこれを固定するためのピ
ン３を有する。このホルダ６はペリクル枠１を取付ける
べきフォトマスク５に対し平行に配設される。これらの
フォトマスク５およびペリクル枠１はクリーンベンチ
（図示しない）内に清浄空気流と平行（図の例では鉛
直）に配設される。
第１図において、ピン付きレバー４を矢印Ａの方向に回
転させることによりペリクル枠１を把持してこれをホル
ダ本体6a上に確実に固定する。このペリクル枠把持手段
の詳細を第４図に示す。ペリクル枠１にはレバー４のピ
ン３が係入する穴２（または溝）が形成されている。ピ
ン３を穴２内に係入してペリクル枠１を把持した状態で
はレバー４の先端部がペリクル枠１よりフォトマスク側
に突出している。
転させることによりペリクル枠１を把持してこれをホル
ダ本体6a上に確実に固定する。このペリクル枠把持手段
の詳細を第４図に示す。ペリクル枠１にはレバー４のピ
ン３が係入する穴２（または溝）が形成されている。ピ
ン３を穴２内に係入してペリクル枠１を把持した状態で
はレバー４の先端部がペリクル枠１よりフォトマスク側
に突出している。
次に第２図に示すように、ペリクル枠１をフォトマスク
５上に圧接させて貼り合せる。このときレバー４の先端
部がフォトマスク５に当接して矢印Ｂのようにペリクル
枠把持を解除する方向に押戻されて回転する。従って、
レバー４のピン３がペリクル枠１の穴２から抜けてペリ
クル枠１を解放した状態になる。
５上に圧接させて貼り合せる。このときレバー４の先端
部がフォトマスク５に当接して矢印Ｂのようにペリクル
枠把持を解除する方向に押戻されて回転する。従って、
レバー４のピン３がペリクル枠１の穴２から抜けてペリ
クル枠１を解放した状態になる。
この状態で第３図に示すように、ホルダ６をフォトマス
ク５から離隔させる。これによりペリクル枠１はフォト
マスク５に接着された状態でホルダ６から取外される。
ク５から離隔させる。これによりペリクル枠１はフォト
マスク５に接着された状態でホルダ６から取外される。
ペリクル枠の把持手段の別の例を第５図に示す。この例
ではペリクル枠１にピン３が係入する穴または溝を形成
せずにペリクル枠１の表面にピン３を係合させて把持し
ている。
ではペリクル枠１にピン３が係入する穴または溝を形成
せずにペリクル枠１の表面にピン３を係合させて把持し
ている。
レバー４の回転駆動用に電動モータ、磁力手段、スプリ
ング手段等を付加してもよい。
ング手段等を付加してもよい。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明においては、ホルダに保持
したペリクルをフォトマスクに圧着させることにより自
動的にペリクルが解放され取外し可能になりペリクル取
付け作業が容易に行なわれる。またペリクルおよびフォ
トマスクを縦に（鉛直に）配設しかつクリーンベンチの
清浄空気流と平行に配設することができるためペリクル
およびフォトマスク表面への塵埃の落下、付着が防止さ
れる。
したペリクルをフォトマスクに圧着させることにより自
動的にペリクルが解放され取外し可能になりペリクル取
付け作業が容易に行なわれる。またペリクルおよびフォ
トマスクを縦に（鉛直に）配設しかつクリーンベンチの
清浄空気流と平行に配設することができるためペリクル
およびフォトマスク表面への塵埃の落下、付着が防止さ
れる。
またペリクル枠の保持機構を別に設ける必要がないた
め、貼り合わせ装置の機構が簡単になり操作も簡単にな
る。さらに水平保持構造と比較してペリクルの上側に動
く機構がないため、発塵異物がペリクル膜に落下付着し
ない効果がある。
め、貼り合わせ装置の機構が簡単になり操作も簡単にな
る。さらに水平保持構造と比較してペリクルの上側に動
く機構がないため、発塵異物がペリクル膜に落下付着し
ない効果がある。
第１図から第３図までは各々本発明に係るペリクル着脱
機構の動作を順番に示す説明図、第４図はペリクル把持
手段の詳細図、第５図はペリクル把持手段の別の例の詳
細図である。 1:ペリクル枠、 3:ピン、 4:レバー 5:フォトマスク、 6:ホルダ、 6a:ホルダ本体。
機構の動作を順番に示す説明図、第４図はペリクル把持
手段の詳細図、第５図はペリクル把持手段の別の例の詳
細図である。 1:ペリクル枠、 3:ピン、 4:レバー 5:フォトマスク、 6:ホルダ、 6a:ホルダ本体。
Claims (3)
- 【請求項１】ペリクルを取付けるべきフォトマスク面に
平行に該ペリクルを保持するホルダ本体と、該ホルダ本
体にペリクルを固定して把持するための把持手段とを具
備し、該把持手段はペリクルをフォトマスク面に圧接さ
せることによりペリクルの把持状態が解除されるように
構成したことを特徴とするペリクル着脱機構。 - 【請求項２】前記把持手段はホルダ本体に枢着したレバ
ーからなり、該レバーはペリクルを把持するためのピン
を有し、ペリクル把持状態では該レバーの一部がペリク
ル取付面方向に突出し、ペリクルをフォトマスクに圧接
させることにより該突出したレバーの一部が押圧されて
該レバーがペリクル把持解除方向に回転するように構成
したことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のペリ
クル着脱機構。 - 【請求項３】前記フォトマスクおよびホルダ本体はクリ
ーンベンチ内に配設され、フォトマスクおよびペリクル
の両表面は清浄空気流方向と平行に設けられたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記または第２項記載のペ
リクル着脱機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4412288A JPH0675188B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | ペリクル着脱機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4412288A JPH0675188B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | ペリクル着脱機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01219750A JPH01219750A (ja) | 1989-09-01 |
| JPH0675188B2 true JPH0675188B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=12682799
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4412288A Expired - Lifetime JPH0675188B2 (ja) | 1988-02-29 | 1988-02-29 | ペリクル着脱機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0675188B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6239863B1 (en) | 1999-10-08 | 2001-05-29 | Silicon Valley Group, Inc. | Removable cover for protecting a reticle, system including and method of using the same |
| US7304720B2 (en) | 2002-02-22 | 2007-12-04 | Asml Holding N.V. | System for using a two part cover for protecting a reticle |
-
1988
- 1988-02-29 JP JP4412288A patent/JPH0675188B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01219750A (ja) | 1989-09-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070921 Year of fee payment: 13 |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080921 Year of fee payment: 14 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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