JPH0675047B2 - 手洗いモニタ−装置 - Google Patents

手洗いモニタ−装置

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JPH0675047B2
JPH0675047B2 JP27243885A JP27243885A JPH0675047B2 JP H0675047 B2 JPH0675047 B2 JP H0675047B2 JP 27243885 A JP27243885 A JP 27243885A JP 27243885 A JP27243885 A JP 27243885A JP H0675047 B2 JPH0675047 B2 JP H0675047B2
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JP
Japan
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hand
washing
pure water
hand washing
water tank
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JP27243885A
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JPS62132161A (ja
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基典 柳
隼明 福本
正治 浜
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体工場等高清浄な雰囲室に入室する際
に行う手洗いにおいて、その効果の確認に関するもので
ある。
〔従来の技術〕
従来は手を洗うだけで、その効果の確認については実施
されていなかつた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
半導体工場では、その製造に悪影響を及ぼすじん埃はミ
クロフイルターによる集塵で高清浄度が保たれており、
また、人体から分泌するあせ、あか等に含まれるNa,K,C
a,Clなども悪影響があるので、工場に入る前には必ず手
洗いが実施されている。しかしながら、その結果の確認
がなされていないため、手洗い不充分のまま工場に入り
トラブルになることがしばしばあつた。
この発明はこのような問題点を解決するためになされた
もので、手洗いによる付着物の除去が充分か否かを簡単
に確認できる装置を提供することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は上記のような問題点を解決するためになされ
たもので、 (1)使用する洗浄水は、比抵抗値が1MΩcm以上の純水
であること、 (2)手洗いを行う水洗槽を備えていること、 (3)純水の比抵抗値を測定するセンサーを手洗槽の純
水排水管中に備えていること、 を特徴とする手洗いモニター装置を提供するものであ
る。
〔作用〕
人体から分泌されるあせ、あか等にはNa,K,Ca,Cl等が含
まれている。これ等は水中に溶け込むとイオン化し水に
比抵抗値を低下させるので、この発明による装置は上記
原理を利用して、手洗いの効果を確認しうるようにした
ものである。
〔発明の実施例〕
以下この発明の実施例を図により説明する。第1図は本
装置の側面図である。(1)は手洗い水槽、2は手洗い
水槽(1)に純水を供給するため純水供給配管、(3)
は手動弁、(4)は自動弁で、共に純水供給量を調整す
る。(5)は手洗い水槽(1)の下方に取り付けられた
排水配管、(6)はエアー開放口で、サイフオン現象の
発生防止装置である。(7)は純水の比抵抗値を測定す
る比抵抗計セル、(8)は比抵抗計本体である。(9)
は本装置を稼動させるためのフツトスイツチ、(10)は
純水供給用自動弁(4)、比抵抗計セル(7)、比抵抗
計本体(8)、フツトスイツチ(9)の制御を行うため
の制御部である。また手洗い効果の判定はブザーによつ
て行う。(11)は手洗いの架台である。なお、比抵抗計
セル(7)、比抵抗計本体(8)は人的イオン成分とし
てNa+イオン電極やK+イオン電極と置きかえることも可
能である。
まず、本装置の手洗い水槽(1)の構造について説明す
る。手洗い水槽(1)は、第1図に示すように中央底部
を高くしたW構造で、第2図に示すよう槽内の純水の置
換効率を向上させるため、ひし形構造をあわせもつた構
造とした。本構造をとることにより、手洗い実施後、手
の付着物が溶け込んだ純水が効率よく下流方向に流れ、
手洗い水槽(1)の中の純水の置換効率の向上と検出時
間の短縮がはかられる。また、水面を一定高さに保持す
るため排水配管は逆u字形とし、かつサイフオン現象の
発生を防ぐためエアー開放口(6)を設けた。
次に、手洗い効果確認を実施するための本装置の動作に
ついて、第3図のフローチヤートにより説明する。先
ず、本装置の初期状態(装置が作動していない状態)を
示すと、自動弁(4)は閉、手動弁(3)は開で、常時
1/min以上の純水が手洗い水槽(1)に供給され、中
の純水が少しづつ置換される状態となつている。この場
合手洗い水槽の容量15l以上である。なお、供給する純
水の比抵抗値は1MΩcm以上のものとする。初期状態から
フツトスイツチをONすること装置が測定状態に入り、こ
の時点で自動弁(4)が開き手洗い水槽(1)に5l/min
以上の純水が供給される。これと並行して手洗い水槽
(1)の中で、手洗いを終了した手を20秒〜30秒つけて
おく。この時、手の付着物が純水中に溶け込むことで比
抵抗値が徐々に低下していく。ここで比抵抗値が下限設
定値より低下するとブザーが鳴り、手洗い不足であると
いう判定を下す。この下限設定値については任意設定で
き使用条件によつて定めることとする。
なお、上記実施例では、手洗い水槽(1)を槽内の純水
の置換効率のよい形状としたが、手洗い水槽(1)の形
状については限定しない。
〔発明の効果〕
この発明によれば、手洗い水槽の排水管中に比抵抗値セ
ンサーを取付けた構造であり、安価に簡単に作成するこ
とができ、従来実施されていない手洗い後の清浄度の確
認が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による手洗いモニター装置
を示す側面図、第2図はこの発明の一実施例による手洗
いモニター装置を示す平面図、第3図はこの発明の一実
施例による手洗いモニター装置の制御用フローチャート
である。 図において(1)……手洗い水槽、(2)……純水供給
配管、(3)……手動弁、(4)……自動弁、(5)…
…排水管、(6)……エアー開放口、(7)……比抵抗
計セル、(8)……比抵抗計本体(9)……フツトスイ
ツチ、(10)……制御部、(11)架台で、同一符号は同
一、又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】クリーンルーム入室直前に行う手洗いの効
    果を確認するモニター装置において、使用洗浄水として
    比抵抗値が1MΩcm以上の純水を供給する手段と、前記純
    水で手洗いを行うための水洗槽と、前記水洗槽から排出
    される純水の比抵抗値を測定するセンサーとを備えたこ
    とを特徴とする手洗いモニター装置。
JP27243885A 1985-12-05 1985-12-05 手洗いモニタ−装置 Expired - Lifetime JPH0675047B2 (ja)

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JP27243885A JPH0675047B2 (ja) 1985-12-05 1985-12-05 手洗いモニタ−装置

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JP27243885A JPH0675047B2 (ja) 1985-12-05 1985-12-05 手洗いモニタ−装置

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JPS62132161A JPS62132161A (ja) 1987-06-15
JPH0675047B2 true JPH0675047B2 (ja) 1994-09-21

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JP2782133B2 (ja) * 1991-12-20 1998-07-30 土井 哲夫 遠隔操作テレビカメラ装置
US7755494B2 (en) 2007-06-08 2010-07-13 University Of Florida Research Foundation, Inc. Hand washing compliance detection system
US9000930B2 (en) 2010-05-24 2015-04-07 Georgia-Pacific Consumer Products Lp Hand hygiene compliance system
US9672726B2 (en) 2010-11-08 2017-06-06 Georgia-Pacific Consumer Products Lp Hand hygiene compliance monitoring system

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