JPH0673657B2

JPH0673657B2 - 噴射形超音波洗浄装置

Info

Publication number: JPH0673657B2
Application number: JP9855092A
Authority: JP
Inventors: 貞夫金井; 昌樹楠原
Original assignee: Watanabe Shoko KK
Current assignee: Watanabe Shoko KK
Priority date: 1992-03-26
Filing date: 1992-03-26
Publication date: 1994-09-21
Anticipated expiration: 2009-09-21
Also published as: JPH05269450A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は超音波洗浄装置に関し、
特に、超音波振動を加えた洗浄液を被洗浄物に噴射させ
て洗浄を行う噴射形超音波洗浄装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体関連のシリコンウエーハ，化合物
半導体ウエーハ，ガラスマスク，液晶用のガラス基板等
の精密洗浄用として１ＭＨｚ程度の高周波の超音波洗浄
装置が用いられている。洗浄を行う際の除去せねばなら
ない粒子の大きさは０．１μｍオーダであり、洗浄液中
には金属イオンの溶出があってはならない。ガラス基板
のサイズが３００×４００ｍｍ、または半導体ウエーハ
のサイズが８インチ等、表面処理や加工する工程での寸
法を大型にして生産効率を上げることが現今のエレクト
ロニクス産業のすう勢であるが、この程度の大きさにな
ると１つのキャリアに例えば２５枚ずつウエーハを入れ
て同時に各工程の処理を行うことは難しく、１枚ずつの
処理（これを枚葉処理という）で行っている。この枚葉
処理は通常コンベアでワーク（処理物）を移送し、この
過程で種々の必要な処理が行われている。この処理の形
態としては、真空も含めた空中で行われるものと、溶液
中で行われるものとがある。

【０００３】図９は上述の超音波洗浄工程の説明図であ
り、（Ａ）は洗浄槽を備えた超音波洗浄装置５１を用い
た場合の側面図を示し、（Ｂ）は洗浄液５４を吹き付け
る噴射形超音波洗浄装置５３を用いた場合の側面図を示
している。（Ａ）の場合、コンベア５２を部分的に洗浄
槽内に沈める必要があり、コンベアの動きに上下方向の
落差を設けるために構造が複雑になり、さらに、被洗浄
物に付着していた汚れが洗浄槽中に蓄積してまうという
問題がある。（Ｂ）はこのような問題点を排除した方法
であり、常に洗浄液を新しく汚れのないものにするため
にコンベア５５の進行方向に対して水平状態のまま被洗
浄物を移送し、噴射形洗浄装置５３によって洗浄を行う
方法である。

【０００４】図８は従来の噴射形超音波洗浄装置の構造
を示す斜視図（Ａ）と原理を説明する断面図（Ｂ）であ
る。図８において、４１は洗浄液を充満させる金属製の
貯液槽であり、洗浄液供給口４２から所定の圧力がかけ
られた洗浄液が供給される。４４は洗浄液の噴射口であ
り、下方の被洗浄物６に対して洗浄液を噴射して吹き付
ける。被洗浄物６は矢印方向に水平移動する。２は振動
子部であり貯液槽４１の上部にパッキン４を介して固定
されている。３は超音波発振器（図示は省略した）から
のコードである。４３はオーバフロー口であり、ここか
ら流出する液の量を加減することにより貯液槽４１内に
充満した洗浄液の圧力を調節して噴射口４４からの噴出
速度を制御する。このようにして振動子部２からの超音
波振動が噴射洗浄液に伝えられる。５は貯液槽４１の支
持具である。このような従来の噴射形超音波洗浄装置で
は、洗浄液が接する超音波振動子部の振動板や貯液槽の
材質として、ステンレス等の金属が用いられている。こ
れは超音波振動子の振動効率を高め、振動板による損失
や減衰を少なくし、またその損失や減衰によって生ずる
熱量を洗浄液で冷却して温度上昇を抑え、樹脂を用いた
場合に発生する軟化や破損を防ぐためである。

【０００５】しかしながら、洗浄の対象となる素子の記
憶容量が１６メガビット，６４メガビット用の集積回路
の場合、配線導体のパターン幅は０．２μｍ以下であ
り、付着している微粒子の大きさは０．０５μｍ以上は
許されず、洗浄時に金属イオンの溶出があってはならな
い。そこで本発明者は、振動板や貯液槽からの金属イン
オンの溶出をなくすために、貯液槽の材質を石英ガラス
とし、かつ、その内部に振動板側と噴射口側を隔離する
隔壁を設けて振動板側には振動子による発熱を抑えるた
めの冷却水を充満流通させ、噴射口側には超純水の洗浄
液を充満噴射させる構造の噴射形超音波洗浄装置を先に
提案した（特願平４−４０７２０号参照）。

【０００６】図４は先の提案の構造を示す斜視図（Ａ）
と原理を説明する断面図（Ｂ）である。図において、１
は例えば石英ガラス製の貯液槽であり、不純物の溶出が
少ない材質であれば石英ガラス以外のものでもよい。１
１は隔壁であり、液の中を進行する超音波が反射されず
に透過するように超音波伝搬方向に直角の面に対して所
定の角度を有するように斜めに設けられている。振動子
部２の冷却水は、冷却水供給口７から供給され振動子部
２と隔壁１１の間に充満し冷却水流出口８から流出す
る。超純水の洗浄液は、洗浄液供給口９から供給され隔
壁１１と噴射口１０の間に充満し噴射口１０から被洗浄
物６に噴射される。図４では噴射口１０が細長いスリッ
ト状であり、噴射される洗浄液は線状噴射となる。例え
ば、４００×３００ｍｍのガラス基板を洗浄する場合
は、噴射口１０のスリットの長さは４００ｍｍ、幅は２
ｍｍ程度に設定され、洗浄液に加える圧力は洗浄液が連
続した水流となって超音波振動が被洗浄物に伝達される
ように設定される。図５は先の提案の第２の実施例の斜
視図であり、噴射口１０は小円孔状であり、噴射される
洗浄液は点状噴射となる。図４の４及び図５の４０は貯
液槽１に振動子部２を取付けるときのパッキンである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述の先の提案による
貯液槽１の構造は、振動子部２の振動板から法線方向に
放射される超音波振動の一部が噴射口１０から噴射する
洗浄液に伝えられる構造であり、超音波振動エネルギー
の噴射液への伝達効率が低いという問題点がある。例え
ば、図４の線状噴射形洗浄装置では、噴射口１０のスリ
ット幅が２ｍｍの場合、振動子部２の振動面の幅は４０
ｍｍとなっているので伝達効率は単純計算で２／４０＝
１／２０である。また、通常の単位面積当りの超音波振
動の強度は４Ｗ／cm²程度である。また、隔壁１１から
噴射口１０にかけて貯液槽１の内壁がホーン状に狭くな
っており、超音波エネルギーが集束されるように考えら
れるが、超音波周波数が１０ｋＨｚ〜３０ｋＨｚの場合
はホーンの長さ方向の寸法を半波長の５０〜１００ｍｍ
程度とすれば集束効果が得られるが、１ＭＨｚ付近の高
周波では半波長が２〜３ｍｍとなり実用上ホーンによる
集束効果を利用することはできない。本発明の目的は、
上述の問題点を解決し振動子部から面放射される超音波
エネルギーを効率よく噴射口に集束させるようにした噴
射形超音波洗浄装置を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の噴射形超音波洗
浄装置は、超音波振動子が取付けられた振動板から面放
射される超音波エネルギーを音響レンズによって噴射口
付近に集束させ、強力で無駄のない超音波洗浄を行わし
めるようにしたものであり、その構成は、石英ガラス製
の貯液槽の内部を上下に分割し所定の傾斜角を有する隔
壁が設けられ、上の空間に該貯液槽の上部に設けられた
超音波振動子の発熱を抑えるための冷却水を充満供給
し、下の空間に該貯液槽の下端部に設けられた噴射口か
ら洗浄液を噴射させるための洗浄液を充満供給し、前記
超音波振動子からの超音波振動エネルギーを前記噴射口
から噴射する洗浄液に加えて被洗浄物に吹きつけるよう
に構成された噴射形超音波洗浄装置において、前記隔壁
は、前記超音波振動子から放射される平面波が集束され
て前記噴射口部分に焦点を結ぶような音響レンズ隔壁で
あることを特徴とするものである。

【０００９】また、石英ガラス製の貯液槽の内部を上下
に分割し所定の傾斜角を有する隔壁が設けられ、上の空
間に該貯液槽の上部に設けられた超音波振動子の発熱を
抑えるための冷却水を充満供給し、下の空間に該貯液槽
の下端部に設けられた噴射口から洗浄液を噴射させるた
めの洗浄液を充満供給し、前記超音波振動子からの超音
波振動エネルギーを前記噴射口から噴射する洗浄液に加
えて被洗浄物に吹きつけるように構成された噴射形超音
波洗浄装置において、前記隔壁にほぼ並行するように固
定され、前記超音波振動子から放射される平面波が集束
されて前記噴射口部分に焦点を結ぶ石英ガラス製の音響
レンズを備えたことを特徴とするものである。

【００１０】さらに、石英ガラス製の貯液槽の内部を上
下に分割し所定の傾斜角を有する隔壁が設けられ、上の
空間に該貯液槽の上部に設けられた超音波振動子の発熱
を抑えるための冷却水を充満供給し、下の空間に該貯液
槽の下端部に設けられた噴射口から洗浄液を噴射させる
ための洗浄液を充満供給し、前記超音波振動子からの超
音波振動エネルギーを前記噴射口から噴射する洗浄液に
加えて被洗浄物に吹きつけるように構成された噴射形超
音波洗浄装置において、前記超音波振動子が取付けられ
前記貯液槽の内部に面する振動板の材質を石英ガラスと
し、前記隔壁の代わりに、前記超音波振動子から放射さ
れる平面波が集束されて前記噴射口部分に焦点を結ぶ石
英ガラス製の音響レンズを備えたことを特徴とするもの
である。

【００１１】すなわち、前述の先に提案した構成におけ
る貯液槽内の隔壁を音響レンズとすることによって、ス
リット状または小円孔状をなす噴射口に超音波エネルギ
ーを集束させ、強力で無駄ない超音波洗浄が行われるよ
うにしたものである。ここで音響レンズとは、光に対す
る幾何光学の原理に従い、音波を屈折させるように形成
した物質である。音速を集束させるには、構成体の屈折
率ｎがｎ＞１のとき凸レンズ、ｎ＜１のとき凹レンズと
なる。この音響レンズの材質は、例えば石英ガラスのよ
うに音速が洗浄液中の音速と異なればよく、不純物の溶
出が極めて少なく熱的にも安定したものであればよい。

【００１２】さらに、立方体または円筒形状の貯液槽に
洗浄液を供給充満し、該貯液槽の上部に設けられた超音
波振動子からの超音波振動エネルギーを前記洗浄液に与
えて前記貯液槽の下端部に設けられたスリット状または
小孔状の噴射口から前記洗浄液を被洗浄物に吹きつける
ことによって被洗浄物を洗浄する噴射形超音波洗浄装置
において、前記貯液槽の中間部分の側壁に、前記超音波
振動子から放射される平面波を透過させるために所定の
傾斜角を有し、かつ、前記平面波が集束されて前記噴射
口部分に線状または小円状の焦点を結ぶような音響レン
ズが固定され、該音響レンズによって区切られた上の空
間に前記超音波振動子の温度上昇を抑えるための冷却水
を供給充満させる供給口と流出口が設けられ、下の空間
に前記噴射口から洗浄液を噴射させるための洗浄液を供
給充満させる供給口が設けられたことを特徴とするもの
である。

【００１３】一般に、空気中の光の速度（Ｃ_A）と光学
ガラス中の光の速度（Ｃ_G）の比はＣ_A／Ｃ_G＝１．５
〜１．７であり、これを屈折率と呼び平行光を集束させ
るには凸レンズが用いられる。本発明の場合、水中の音
の速度（Ｖ_W＝１５００ｍ／ｓｅｃ）と石英ガラス中の
横波の速度（Ｖ_G＝３７６０ｍ／ｓｅｃ）の比Ｖ_W／Ｖ
_G≒０．４が屈折率であり、これは１より小さいので、
音を集束させるには凹レンズを用いることになる。他の
材質では音速によって屈折率が異なるため、その屈折率
によってレンズの曲率を決め、音速が水よりも小さい場
合は凸レンズを用いればよい。

【００１４】

【実施例】図１は本発明の第１の実施例を示す斜視図
（Ａ）と原理を説明する断面図（Ｂ）及び要部を示す部
分斜視図（Ｃ）である。図において、１は貯液槽、２は
振動子部、３は発振器（図示は省略した）からのコー
ド、４はパッキン、５は貯液槽１の支持具、６は矢印方
向に水平移動する被洗浄物、７は超音波媒体液（冷却
水）の供給口、８は冷却水の流出口、９は洗浄液（例え
ば純水）の供給口、１０は洗浄液の噴出口である。１２
は音響レンズ隔壁であり、洗浄液と冷却水を完全に隔離
するとともに、超音波伝搬方向の直角面に対して約１５
°〜３０°の傾斜角θを有しており、更に噴射口１０ま
での距離５０〜１００ｍｍを焦点距離とした凹レンズの
機能を備えている。この音響レンズ１２の形状は、同図
（Ｃ）に示したように、方形状の一辺すなわち噴射口１
０のスリットの長手方向と並行する方向の断面は細長矩
形状をなし、それと直角をなす他辺の断面は凹レンズの
断面形状となるように形成され、振動子部から放射され
る平面波の一方向のみが集束されて噴射口１０のスリッ
ト付近が線状焦点となるように形成されている。このよ
うな形状の音響レンズ隔壁１２が貯液槽１の内部に傾斜
状態で設けられる。傾斜角θは、例えば音の屈折率が
０．４で焦点距離が７５ｍｍの場合θ＝１５°〜２８°
であり角度の許容範囲は広い。

【００１５】洗浄液供給口９から供給される洗浄液の単
位時間当りの流量は、洗浄液が槽内に充満し、かつ洗浄
液の噴射水圧を制御するように決められる。例えば噴射
口１０のスリット幅が２ｍｍの場合、スリットの長さ１
０ｍｍ当りの流量は毎分０．５〜１リットルであり、ス
リットの長さが４００ｍｍの場合では毎分２０〜４０リ
ットルとなる。冷却水は、振動子部２の放射面との間に
充満して超音波エネルギーの媒体液となるように供給さ
れ、振動子部２の温度上昇を抑制する。例えば前記の噴
射口の大きさで振動子の電気的入力が５００Ｗの場合、
水温が１０℃〜２５℃の市水が毎分２〜４リットルの流
量で供給される。

【００１６】図２は本発明の第２の実施例を示す断面図
である。振動素子の取付けは図１（Ｂ）の第１の実施例
と同じ金属板とし、隔壁１１とほぼ平行に石英ガラス製
の音響レンズ１３が超音波透過率が最大となる角度θで
取付けられている。音響レンズ１３と隔壁１１はそれぞ
れ異なる機能を分担し、音響レンズ１３は音響エネルギ
ーを集束させ、隔壁１１は貯液槽を２つに隔離する機能
を果たす。音響レンズ１３と隔壁１１は横波を利用した
斜め入射とすることにより、超音波透過率を最大にして
いる。

【００１７】図３は本発明の第３の実施例を示す断面図
である。振動素子を石英ガラス板製振動板１４に接着剤
で取付けてイオンの溶出をなくし、音響レンズ１３は貯
液槽１にスポット溶接等の簡易的な方法で固定する。こ
の音響レンズ１３は超音波エネルギーを効率良く透過し
て集束させるために設けられ、洗浄液と媒体液との隔離
は完全でなくてよい。

【００１８】図５は本発明の第４の実施例を示す仰角斜
視図（Ａ）と内部レンズの断面図（Ｂ）である。内部の
音響レンズは円形である。全体の構造が円筒形であり、
内部構造は図１（Ｂ），図２または図３と同じである。

【００１９】図６は図１（Ｂ）の第１の実施例、図２の
第２の実施例、図３の第３の実施例の応用例を示す平面
図（Ａ）と側面図（Ｂ）である。被洗浄物６がガラス板
等の板状の場合であり、ガラス板６を垂直にして搬送用
ローラ５６でガラス板６の上端と下端を挟みローラ５６
を回転させてガラス板６を矢印の方向へ移動させ、その
両側面の所定の位置に配置した箱形貯液槽を有する線噴
射形超音波洗浄装置５３から斜めに洗浄液５４を噴射し
て洗浄が行われる。噴射方向を斜めにすることによって
剥離した汚れが再付着することはない。

【００２０】図７は図５の第４の実施例の応用例を示す
斜視図である。被洗浄物５９が半導体ウエーハのような
円板状の場合、ウエーハ５９を回転台６０の上に載置し
て回転させ、上方に配置した円筒形貯液槽を有する点噴
射形超音波洗浄装置５７から洗浄液５８を斜めに噴射し
て洗浄が行われる。この場合、回転しているウエーハ５
９に向って洗浄装置５７の先端を左右に振って均一な洗
浄を行う。なお、図７，図８は説明のために主要部のみ
を画き他は図示を省略した。また、噴出口は点噴射形で
は中央に、線噴射形では線方向の中央にしてあるが、斜
め入射のレンズの場合、音の進行方向が若干屈折するた
め、レンズの曲率の補正が必要である。レンズの曲率を
補正する代りに噴射口の位置を音の進行方向の屈折分だ
け偏らせればよい。

【００２１】以上の説明は音響レンズが一枚の場合につ
いてなされた。しかし、本発明はそれに限定されること
なく音響レンズが複数枚の場合にも適用されることは勿
論である。また複数枚の音響レンズとして凹レンズと凸
レンズ等を組合せて使用する場合にも当然適用される。
例えば凹レンズと凸レンズとを組合せ、振動子からの距
離に対し振動エネルギーの強さがほぼ一定に保たれるビ
ーム状の音場を形成する等の場合にも適用されることは
勿論である。

【００２２】以上の第１〜第４の実施例は、洗浄対象と
して半導体ウエーハ等の超純水洗浄を行う場合に用いら
れるが、１Ｍビット未満のＩＣやディスクリート（個別
半導体）のトランジスタ、またはダイオード用のウエー
ハあるいは一部のガラス基板等を洗浄する場合は、金属
イオンの溶出を厳密に抑える必要がないので、洗浄槽は
従来の金属製のものを用いることができる。しかし、従
来の装置では超音波振動エネルギーが噴射口に集束され
ないため洗浄効率は低い。そこで、本発明の音響レンズ
を装着し、かつ、超音波透過率を向上するために所定の
傾斜角をもたせて取付ける。図１０は本発明の第５の実
施例を示す部分断面図である。この第５の実施例は図１
（Ａ）に示す線噴射形超音波洗浄装置の石英ガラス製の
貯液槽１を金属製貯液槽２０にしたものである。図１０
（Ａ）は貯液槽２０の断面図、（Ｂ），（Ｃ）は貯液槽
２０の内部に装着する音響レンズ１５の取付け部分の拡
大部分断面図である。図１０の符号２，４，６，７，
８，９，１０は図１（Ｂ）と同じ部分を示す。１５は音
響レンズであり、超音波振動の透過率がほぼ１００％に
なるような所定の傾斜角θをもたせ、かつ、噴射口１０
に振動エネルギーが集中するように貯液槽２０内壁に取
付けられている。図１０（Ｂ）は音響レンズ１５の取付
け構造を示しており、１６は貯液槽２０の内壁にスポッ
ト溶接された取付具、１７はパッキンである。１８はね
じであり、音響レンズ１５に設けられた孔を貫通して取
付具１６に設けられたタップに締め付け固定される。図
１０（Ｃ）の１９は抑え具であり、音響レンズ１５には
孔がなく、音響レンズの縁部を挟んでねじ１８で固定さ
れている。本実施例の場合、洗浄液と冷却水は同じもの
でよいが、内部に液体を充満させるためそれぞれの供給
口７及び９から供給される。音響レンズ１５の取付け部
分から多少のリーク（漏れ）があってもよく、その漏れ
量を利用して水圧を加減することもできる。また、音響
レンズの材質は、冷却水（洗浄液）と音速（屈折率）が
異なり音響的に透明であり、比較的堅い物質であれば良
く、例えば石英ガラスでなくても一般の光学ガラスが用
いられる。図１０の第５の実施例は、線噴射形超音波洗
浄装置について示したが、図５に示す点噴射形洗浄装置
にも適用できることはいうまでもない。

【００２３】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明を実
施することにより、洗浄液に金属イオンが溶出する恐れ
はなく、超音波エネルギーが集束されるため、洗浄効率
が上昇し、半導体製造関連の洗浄装置として実用上極め
て大きい効果がある。さらに、一般の洗浄の場合も洗浄
効率が著しく向上される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す斜視図（Ａ），断
面図（Ｂ）と本発明の構成要素となる音響レンズの斜視
図（Ｃ）である。

【図２】本発明の第２の実施例の断面図である。

【図３】本発明の第３の実施例の断面図である。

【図４】先に提案した発明の実施例を示す斜視図
（Ａ），断面図（Ｂ）である。

【図５】本発明の第４の実施例を示す斜視図（Ａ）と本
発明の構成要素となる音響レンズの断面図（Ｂ）であ
る。

【図６】図１〜図３の応用例を示す平面図（Ａ）と側面
図（Ｂ）である。

【図７】図５の応用例を示す斜視図である。

【図８】従来構造の斜視図（Ａ）と断面図（Ｂ）であ
る。

【図９】洗浄工程を説明する側面図である。

【図１０】本発明の第５の実施例を示す断面図である。

【符号の説明】

１貯液槽２振動子部３コード４パッキン５支持具６被洗浄物７冷却水供給口８冷却水流出口９洗浄液供給口１０噴射口１１隔壁１２音響レンズ隔壁１３音響レンズ１４石英ガラスの振動板１５音響レンズ１６取付具１７パッキン１８ねじ１９抑え具２０貯液槽４１貯液槽４２洗浄液供給口４３オーバーフロー口４４噴射口５１洗浄槽を備えた超音波洗浄装置５２コンベア５３線状噴射式超音波洗浄装置５４洗浄液５５コンベア５６ローラ５７点状噴射式洗浄装置５８洗浄液５９半導体ウエーハ６０回転台

フロントページの続き (56)参考文献特開平１−95521（ＪＰ，Ａ) 特開平３−222419（ＪＰ，Ａ) 実公昭40−13382（ＪＰ，Ｙ２) 特開平２−240926（ＪＰ，Ａ) 特開平２−12202（ＪＰ，Ａ) 実公昭41−128（ＪＰ，Ｙ１)

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】石英ガラス製の貯液槽の内部を上下に分
割し所定の傾斜角を有する隔壁が設けられ、上の空間に
該貯液槽の上部に設けられた超音波振動子の発熱を抑え
るための冷却水を充満供給し、下の空間に該貯液槽の下
端部に設けられた噴射口から洗浄液を噴射させるための
洗浄液を充満供給し、前記超音波振動子からの超音波振
動エネルギーを前記噴射口から噴射する洗浄液に加えて
被洗浄物に吹きつけるように構成された噴射形超音波洗
浄装置において、前記隔壁は、前記超音波振動子から放射される平面波が
集束されて前記噴射口部分に焦点を結ぶような音響レン
ズ隔壁であることを特徴とする噴射形超音波洗浄装置。
【請求項２】石英ガラス製の貯液槽の内部を上下に分
割し所定の傾斜角を有する隔壁が設けられ、上の空間に
該貯液槽の上部に設けられた超音波振動子の発熱を抑え
るための冷却水を充満供給し、下の空間に該貯液槽の下
端部に設けられた噴射口から洗浄液を噴射させるための
洗浄液を充満供給し、前記超音波振動子からの超音波振
動エネルギーを前記噴射口から噴射する洗浄液に加えて
被洗浄物に吹きつけるように構成された噴射形超音波洗
浄装置において、前記隔壁にほぼ並行するように固定され、前記超音波振
動子から放射される平面波が集束されて前記噴射口部分
に焦点を結ぶ石英ガラス製の音響レンズを備えたことを
特徴とする噴射形超音波洗浄装置。
【請求項３】石英ガラス製の貯液槽の内部を上下に分
割し所定の傾斜角を有する隔壁が設けられ、上の空間に
該貯液槽の上部に設けられた超音波振動子の発熱を抑え
るための冷却水を充満供給し、下の空間に該貯液槽の下
端部に設けられた噴射口から洗浄液を噴射させるための
洗浄液を充満供給し、前記超音波振動子からの超音波振
動エネルギーを前記噴射口から噴射する洗浄液に加えて
被洗浄物に吹きつけるように構成された噴射形超音波洗
浄装置において、前記超音波振動子が取付けられ前記貯液槽の内部に面す
る振動板の材質を石英ガラスとし、前記隔壁の代わりに、前記超音波振動子から放射される
平面波が集束されて前記噴射口部分に焦点を結ぶ石英ガ
ラス製の音響レンズを備えたことを特徴とする噴射形超
音波洗浄装置。
【請求項４】立方体または円筒形状の貯液槽に洗浄液
を供給充満し、該貯液槽の上部に設けられた超音波振動
子からの超音波振動エネルギーを前記洗浄液に与えて前
記貯液槽の下端部に設けられたスリット状または小孔状
の噴射口から前記洗浄液を被洗浄物に吹きつけることに
よって被洗浄物を洗浄する噴射形超音波洗浄装置におい
て、前記貯液槽の中間部分の側壁に、前記超音波振動子から
放射される平面波を透過させるために所定の傾斜角を有
し、かつ、前記平面波が集束されて前記噴射口部分に線
状または小円状の焦点を結ぶような音響レンズが固定さ
れ、該音響レンズによって区切られた上の空間に前記超音波
振動子の温度上昇を抑えるための冷却水を供給充満させ
る供給口と流出口が設けられ、下の空間に前記噴射口か
ら洗浄液を噴射させるための洗浄液を供給充満させる供
給口が設けられたことを特徴とする噴射形超音波洗浄装
置。