JPH0673573A - 腐食及び/又はスケール防止組成物 - Google Patents

腐食及び/又はスケール防止組成物

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JPH0673573A
JPH0673573A JP4350059A JP35005992A JPH0673573A JP H0673573 A JPH0673573 A JP H0673573A JP 4350059 A JP4350059 A JP 4350059A JP 35005992 A JP35005992 A JP 35005992A JP H0673573 A JPH0673573 A JP H0673573A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 腐食及び/又はスケール防止組成物を提供す
る。 【構成】 A)腐食及び/又はスケール防止剤及びB)
2−ヒドロキシホスヒノ酢酸又は2−ヒドロキシ−2−
メチルホスヒノ酢酸又はその水溶性塩を含み、成分A)
対B)の重量比は、10対90−90対10に及ぶ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、腐食及び/又はスケー
ル防止組成物に関し、特にハロゲン又はハロゲンの放出
により機能する殺生物剤を任意に含む、水中で使用され
る腐食及び/又はスケール防止剤の混合物に関する。
【0002】
【従来の技術】腐食可能な金属特に鉄含有金属と接触す
るスケール形成の工業用水で使用される腐食及びスケー
ル防止剤の一つの非常に有効な群は、ヒドロキシホスホ
ン酸を含むものである。この群の酸の中で有名なもの
は、2−ヒドロキシホスホン酢酸であり、水中の腐食防
止剤としてのその使用は、英国特許第2112370号
に記載されている。しかし、ハロゲン又はハロゲンを放
出する殺生物剤を含む水中で、防止剤として使用される
とき、ヒドロキシホスホン酸タイプを含む多くの防止剤
は、腐食及びスケール防止剤としてのそれらの活性の低
下をこうむり勝ちである。塩素含有水中の活性の損失の
この問題は、以前提起され、そして米国特許第4642
194号で提出された一つの解決策は、特定の水溶性窒
素含有化合物好ましくはスルファミン酸により水を処理
することであった。しかしながら、この解決策は、それ
らが毒性を有しそして環境の見地から許容できない点
で、望ましくないハロアミンの形成をもたらす。それら
は、又添加したハロゲンの殺生物効果の低下を生じさせ
る。
【0003】本発明者は、2種の新しいヒドロキシホス
フィンカルボン酸の両者又はその何れかが、従来の腐食
及び/又はスケール防止剤とともに使用されるとき、従
来の腐食及び/又はスケール防止剤の全ての塩素の感度
は、非常に減少し、そしてその上、新しいヒドロキシホ
スホノカルボン酸は、たとえ本質的にハロゲンのない水
性の環境で使用されたとしても、従来の腐食及び/又は
スケール防止剤と使用されるとき、相乗効果をもたらす
ように思われることを、見出した。
【0004】従って、本発明は、A)腐食及び/又はス
ケール防止剤及びB)式
【0005】
【化5】
【0006】(式中、Rは、水素又はメチル又はその
水溶性塩である)を有する化合物を含み、成分A)対成
分B)の重量比が10対90−90対10好ましくは2
0対80−80対20に及ぶ腐食及び/又はスケール防
止組成物を提供する。
【0007】本発明の防止組成物の成分A)は、例えば
【0008】
【化6】
【0009】(式中、Rは、COH、P(=O)
(OH)、CHP(=O)(OH)、CHCH
P(=O)(OH)又はNRであって、R
及びRは、同じか又は異なり、それぞれは、C
(RP(=O)(OH)又はC(RCO
H(但しRは水素又はメチルである)であり、R
は、水素、C−Cアルキル、CHCOH又はC
CHCOHであり、そしてRは、水素、ヒド
ロキシル、COH、P(=O)(OH)、CH
H又はCHCHCOHである)又はその水溶
性塩を有するホスホノカルボン酸である。好ましくは、
は、COH又はP(=O)(OH)であり、R
は、水素又はメチルであり、そしてRはヒドロキシ
ルである。
【0010】
【化7】
【0011】の化合物の特定の例は、以下のものを含
む。ホスホノ酢酸、2−ホスホノプロピオン酸、2−ホ
スホノヘプタン酸、2−ヒドロキシホスホノ酢酸、2−
ヒドロキシ−2−メチルホスホノ酢酸、2−ヒドロキシ
−2−ブチルホスホノ酢酸、3−ホスホノ−3−ヒドロ
キシ酪酸、2−ホスホノエタン−1、2−ジカルボン
酸、2−ホスホノブタン−1、2、4−トリカルボン
酸、メタンジホスホン酸、1、2−エタンジホスホン
酸、1、3−プロパンジホスホン酸、ヒドロキシメチル
ジホスホン酸、ヒドロキシルエチルジホスホン酸(HE
DP)、2−アミノ−ホスホノ酢酸、2−アミノ−2−
メチルホスホノ酢酸、ニトロ−トリス−メチレンホスホ
ン酸、メチルアミノ−ビス−メチレンホスホン酸、ホス
ホノメチルグリシン、ビス−ホスホノメチルグリシン、
ホスホノメチルイミノジ酢酸、アミノエチル−1、1−
ジホスホン酸。
【0012】
【化8】
【0013】の化合物の水溶性の塩は、例えば、アルカ
リ金属塩特にナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類
金属塩例えばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニ
ウム塩、C−Cアルキルアミン塩例えばメチルアミ
ン、エチルアミン、n−プロピルアミン、トリメチルア
ミン、トリエチルアミン、n−ブチルアミン、n−ヘキ
シルアミン塩、アルカノールアミン塩例えばエタノール
アミン、ジ−又はトリ−エタノールアミン塩又は複素環
式アミン塩例えばモルホリン塩である。
【0014】本発明の防止組成物の成分A)は、又任意
の他の従来の腐食及び/又はスケール防止剤であっても
よく、その好ましい例は、燐酸塩例えば燐酸ナトリウ
ム、アミノアルキレンホスホン酸例えばアミノトリス
(メチレンホスホン酸)及びトリアジン例えばヨーロッ
パ特許第46130号に記載されたもの例えば2、4、
6−トリス(5’−カルボキシペンチルアミノ)−1、
3、5−トリアジンを含むものである。本発明の防止組
成物の成分B)即ち式
【0015】
【化9】
【0016】の化合物は、新しい化合物であり、そして
それ自体、本発明の他の態様を形成する。式
【0017】
【化10】
【0018】の化合物は、それ自体、腐食又はスケール
防止性を示さない。それ故、周知の腐食又はスケール防
止剤とともに使用されるとき、それらは、塩素のない水
性系で従来の防止剤とともに使用されるとき、相乗的な
腐食及び/又はスケール防止とともに、上述の長い間に
わたる塩素の感度の問題を克服する腐食及び/又はスケ
ール防止組成物を提供することは、非常に驚くべきこと
である。式
【0019】
【化11】
【0020】の化合物は、従来の方法即ち次亜燐酸ナト
リウムとそれぞれグリオキシル酸又はピルビン酸とを反
応させることにより、製造できる。それぞれの反応は、
水性反応媒体中で、高温度例えば60−110℃に及ぶ
温度で、従来通り行われる。式
【0021】
【化12】
【0022】の化合物の水溶性の塩は、式
【0023】
【化13】
【0024】の化合物に関してここに記載されたものと
同じタイプのものである。酸性の水素原子の或るもの又
は全てがそれぞれの陽イオンにより置換された式
【0025】
【化14】
【0026】又は式
【0027】
【化15】
【0028】の化合物の塩は、式
【0029】
【化16】
【0030】又は式
【0031】
【化17】
【0032】の化合物の水溶液又はアルコール性溶液
と、化学量論的必要量より過剰、それに等しい又はそれ
より少ない量の適切な塩基とを混合することにより製造
できる。溶媒は、次に例えば蒸発により除去できる。
【0033】本発明による組成物により処理されるべき
水性系の多くは、式
【0034】
【化18】
【0035】又は式
【0036】
【化19】
【0037】の化合物の酸性の形を加えたとき、それが
その場で金属の塩の形に転換されるように、酸性化合物
の中和を行うのに系それ自体が充分に適切である程塩基
性である。既に示したように、本発明の防止組成物は、
腐食可能な金属の表面特に鉄含有金属特に鉄と接触する
水性系に配合されるとき、優れた腐食防止をもたらす。
防止組成物は、又スケール形成塩特にカルシウム、マグ
ネシウム、バリウム及びストロンチウムの塩特に炭酸カ
ルシウムを含む水性系に配合されるとき、優れたスケー
ル防止性を与える。従って、本発明は、又水性系に、腐
食及び/又はスケール防止量の前記の成分A)及びB)
を含む腐食及び/又はスケール防止組成物を配合するこ
とを含む水性系中の腐食及び/又はスケールを防止する
方法を提供する。実際には、加えられる防止組成物の量
は、防止組成物が実施することを要求されている1種以
上の機能に応じて、変化できる。スケール防止処理を任
意に組み合せた腐食防止保護処理に関し、水性系に加え
られる防止組成物の量は、好都合には、水性系の量に基
づいて、0.1−50000ppm(0.00001−
5重量%)好ましくは1−500ppm(0.0001
−0.05重量%)に及ぶ。抗スケールのみの目的で
は、加えられる防止組成物の量は、好都合には、水性系
の量に基づいて、1−200ppm好ましくは1−30
ppmに及ぶ。
【0038】本発明の方法により処理される水性系は、
完全な水性媒体又は部分的な水性媒体である。本発明に
より有効に処理できる水性系は、例えば、冷却水系、水
蒸気発生系、海水蒸発器、逆浸透装置、瓶洗浄プラン
ト、製紙装置、砂糖蒸発装置、土壌潅水系、水圧クッカ
ー、ガス洗浄系、閉回路加熱系、水性冷凍系、ダウンウ
エル系、水性加工流体フォミュレーション(例えば中ぐ
り、フライス削り、リーマ仕上げ、ブローチ削り、引抜
き、旋削、切削、のこ引き、研削、並びにねじ切り操作
又は非切削成形、スピニング、延伸又は圧延操作におけ
る使用)、水性精錬系、水性グリコール不凍系、水/グ
リコール作動液又は水性重合体表面コーティング系を含
む。本発明の防止組成物は、本発明の方法において、そ
れ単独、又は水処理に有用であることが知られている他
の物質とともに使用できる。
【0039】完全な水性の系例えば冷却水系、水蒸気発
生系、海水蒸発系、水圧クッカー及び閉回路加熱系の処
理において、他の水処理添加物の例は、1種以上の他の
腐食防止剤、金属不活性化剤、スケール防止剤/分散
剤、しきい剤、沈殿剤、酸素スカベンジャー、金属イオ
ン封鎖剤、泡止め剤及び殺生物剤を含む。もしそれらが
既に成分A)として存在しないならば、使用できる他の
腐食防止剤は、水溶性亜鉛塩、燐酸塩、ポリ燐酸塩、ホ
スホン酸又はそれらの塩、硝酸塩例えば硝酸ナトリウ
ム、亜硝酸塩例えば亜硝酸ナトリウム、タングステン酸
塩及びモリブデン酸塩例えばタングステン酸ナトリウム
又はモリブデン酸ナトリウム、珪酸塩例えば珪酸ナトリ
ウム、N−アシルサルコシン、N−アシルアミノジ酢
酸、エタノールアミン、脂肪族アミン、並びにポリカル
ボン酸例えばポリマレイン酸及びポリアクリル酸(及び
それらのそれぞれのアルカリ金属塩)、無水マレイン酸
と例えばヒドロキシアルキレート化アクリル酸との共重
合体、及びポリマレイン酸及びポリアクリル酸の置換誘
導体及びそれらの共重合体を含む。特に銅用の金属不活
性化剤は、ベンゾトリアゾール、ビスベンゾトリアゾー
ル又はベンゾトリアゾール或はトルトリアゾールの銅不
活性化誘導体、又はそれらのマンニッヒ誘導体又はメル
カプトベンゾチアゾールを含む。
【0040】スケール防止剤/分散剤は、重合化アクリ
ル酸(又はその塩)、ホスヒノポリカルボン酸(例えば
英国特許第1458235号に記載されたもの)、ヨー
ロッバ特許第0150706号に記載されたコテロマ
ー、加水分解されたポリアクリルニトリル、重合化メタ
クリル酸及びその塩、ポリアクリルアミド及びアクリル
アイミドとアクリル酸及びメタクリル酸との共重合体、
リグリンスルホン酸及びその塩、タンニン、ナフタレン
スルホン酸/ホルムアルゲヒド縮合生成物、澱粉及びそ
の誘導体、セルロース、アクリル酸/低級アルキルヒド
ロキシアクリレート共重合体(例えば米国特許第402
9577号に記載されたもの)、スチレン/無水マレイ
ン酸共重合体及びスルホン化スチレンホモ重合体(例え
ば米国特許第4374733号及びこれらの組み合せ)
を含む。特定のしきい剤は、加水分解されたポリ無水マ
レイン酸及びその塩、アルキルホスホン酸及びそれらの
塩、及びアルカリ金属ポリホスホネートを含む。或る添
加化合物例えばホスホノカルボン酸がスケール防止剤と
してそして腐食防止剤として両方に機能することは、上
記のリストから明らかだろう。
【0041】使用できる沈殿剤共添加物は、アルカリ金
属のオルトホスフェート又はカーボネートであり、酸素
スカベンジャーは、アルカリ金属サルファイト及びヒド
ラジンを含み、金属イオン封鎖剤は、ニトリロ三酢酸及
びその塩であり、泡止め剤は、シリコーン例えばポリジ
メチルシロキサン、ジステアリルセバカミド、ジステア
リルアジパミド及びエチレンオキシド及び/又はプロピ
レンオキシド縮合から誘導された関連する生成物、さら
に脂肪族アルコール例えばカプリルアルコール及びその
エチレンオキシド縮合物である。使用できる殺生物剤
は、例えばアミン、第四級アンモニウム化合物、m−ク
ロロフェノール、硫黄含有化合物例えばスルホン、メチ
レンビスチオシアネート及びカーボネート、イソチアゾ
リン、臭素化プロピオンアミド、トリアジン、ホスホニ
ウム化合物、塩素及び塩素放出剤、臭素及び臭素放出
剤、及び有機金属化合物例えばトリブチル酸化錫であ
る。もし本発明により処理されるべき系は、完全に水性
例えば水性加工流体フォミュレーションでないならば、
それは例えば水で希釈可能な切削又は研削流体である。
本発明の水性加工流体フォミュレーションは、例えば金
属加工フォミュレーションである。「金属加工」によ
り、リーマ仕上げ、ブローチ削り、引抜き、旋削、切
削、のこ引き、研削、ねじ切り、非切削成形、スピニン
グ、延伸又は圧延を意味する。本発明の防止組成物が配
合できる水で希釈可能な切削又は研削流体は、以下のも
のを含む。 a)通常研削流体として使用される、1:50−1:1
00の希釈で用いられる、1種以上の腐食防止剤の水性
濃縮物及び任意の1種以上の耐摩耗性添加物。 b)切削操作では1:20−1:40そして研削では
1:60−1:80の希釈で使用される、ポリグリコー
ル含有殺生物剤、腐食防止剤及び耐摩耗性添加物。 c)水希釈生成物を半透明にするのに充分な乳化剤を含
む、b)に類似しているがしかし10−25%の油をさ
らに含む半合成切削流体。 d)例えば乳化剤、腐食防止剤、極圧/耐摩耗性添加
物、殺生物剤、泡止め剤、カップリング剤などを含む乳
化可能な鉱油濃縮物(それらは一般に水により1:10
−1:50に希釈されて白色の不透明なエマルションと
なる)。 e)1:50−1:100の範囲で希釈するとき、切削
又は研削操作用の半透明のエマルションを与える、d)
に類似しているが油を少なくしかも乳化剤を多く含む生
成物。
【0042】亜硝酸ナトリウム及びトリエタノールアミ
ンの混合物を使用して、金属の加工における腐食を防止
しているが、しかし、例えばN−ニトロソアミンを形成
する危険による関連する毒性の問題のためそして流出物
に関する或る国における法的規制により、亜硝酸ナトリ
ウムの使用に代わるものが求められている。水性の系の
成分が水性の加工流体フォミュレーションである部分的
に水性の系では、本発明の防止組成物は、単独で、又は
他の添加物例えば周知の他の腐食防止剤及び/又は極圧
添加物との混合で使用できる。本発明の防止組成物に加
えて、これらの水性系で使用できる他の腐食防止剤の例
は、以下の群を含む。 a)有機酸、それらのエステル又はアンモニュウム、ア
ミン、アルカノールアミン及び金属塩、例えば安息香
酸、p−第三級−ブチル安息香酸、セバシン酸二ナトリ
ウム、ラウリン酸トリエタノールアミン、イソ−ノナン
酸、(p−トルエンスルホンアミドカプロン酸)のトリ
エタノールアミン塩、ナトリウムN−ラウロイルサルコ
シン又はノニルフェノキシ酢酸。 b)窒素含有物質例えば以下のタイプ、脂肪酸アルカノ
ールアミド、イミダゾリン例えば1−ヒドロキシエチル
−2−オレイル−イミダゾリン、オキサゾリン、トリア
ゾール例えばベンゾトリアゾール、トリエタノールアミ
ン、脂肪族アミン及び無機塩例えば硝酸ナトリウム。 c)燐含有物質例えば以下のタイプ、燐酸アミン、ホス
ホン酸又は無機塩例えば燐酸二水素ナトリウム又は燐酸
亜鉛。 d)硫黄含有化合物例えば以下のタイプ、ナトリウム、
カルシウム又はバリウム石油スルホネート、又は複素環
式化合物例えばナトリウムメルカプトベンゾチアゾー
ル。 窒素含有物質特にトリエタノールアミンが好ましい。
【0043】本発明により処理される水性系に存在する
ことのできる極圧添加物の例は、硫黄及び/又は燐及び
/又はハロゲン含有物質例えば硫黄化まっこう鯨油、硫
黄化脂肪、燐酸トリトリル、塩素化パラフィン又はエト
キシル化燐酸エステルを含む。トリエタノールアミンが
本発明により処理される水性系に存在するとき、それ
は、式
【0044】
【化20】
【0045】の化合物対トリエタノールアミンの比が
2:1−1:20であるような量で好ましくは存在す
る。本発明の方法により処理される部分的に水性の系
は、又金属性基体用の水性の表面コーティング組成物例
えばプライマーエマルションペイント並びに水性粉末コ
ーティング組成物である。水性の表面コーティング組成
物は、例えばペイント例えばスチレン−アクリル共重合
体ペイント、樹脂、ラテックス、又は他の水性に基づく
重合体表面コーティング系である。亜硝酸ナトリウム及
び安息香酸ナトリウムは、水性に基づくプライマーペイ
ントのフラッシュさびを防止するために使用されてきた
が、関連する毒性の問題並びに使用する高イオン濃度で
のエマルションの安定性の問題のために、企業は、亜硝
酸ナトリウム及び安息香酸ナトリウムから離れつつあ
る。本発明により処理される水性の表面コーティング組
成物では、本発明の防止組成物は、単独で、又は他の添
加物例えば周知の腐食防止剤、殺生物剤、乳化剤及び/
又は顔料と混合して使用できる。使用できる他の周知の
腐食防止剤は、例えば以前に規定された群a)、b)、
c)及びd)のものである。式
【0046】
【化21】
【0047】の化合物に加えて、これらの水性系で使用
できる殺生物剤の例は、以下のものを含む。フェノール
及びアルキル−及びハロゲン化フェノール例えばペンタ
クロロフェノール、o−フェニルフェノール、o−フェ
ノキシフェノール及び塩素化o−フェノキシフェノー
ル、及びサリチルアニリド、ジアミン、トリアジン及び
有機金属化合物例えば有機水銀化合物及び有機錫化合
物。式
【0048】
【化22】
【0049】の化合物に加えてこれらの水性系で使用さ
れる顔料の例は、二酸化チタン、クロム酸亜鉛、酸化鉄
及び有機顔料例えばフタロシアニンを含む。
【0050】
【実施例】以下の実施例は、さらに本発明を説明する。
【0051】実施例 1 44gの次亜燐酸ナトリウム、37gのグリオキシル酸
(そのモノナトリウム塩として)及び500mLの蒸留
水を、還流条件下で102℃の温度に加熱した反応器に
入れた。反応をその還流温度に維持し、反応の進行をP
31NMR分析によりモニターした。反応を、9時間後
に停止し、そのとき、31PNMR分析は、以下を含む
反応混合物を示す。 16.5% PO(次亜燐酸ナトリウム) 74.0% 2−ヒドロキシホスヒノ酢酸(ナトリウム塩) 5.0% PO イオン 4.5% ホスホン物質(2−ヒドロキシホスヒノ酢酸) 反応生成物の固体含量は、13%である。
【0052】実施例 2 8.8gの次亜燐酸ナトリウム、8.8gのピルビン酸
及び50gの蒸留水を、反応器に入れ、そして撹拌しつ
つ還流に加熱した。反応混合物を96℃の還流温度に保
ち、そして反応の進行をP31NMR分析によりモニタ
ーした。11時間後、反応を停止し、そのとき、31
NMR分析は、反応混合物が以下のものを含むことを示
した。 11.6% PO 8.2% PO イオン 75.0% 2−ヒドロキシ−2−メチルホスヒノ酢酸 残りは、ジ付加生成物である。
【0053】実施例 3 11gの次亜燐酸ナトリウム、11.6gのグリオキシ
ル酸(そのモノナトリウム塩として)及び30.1gの
蒸留水を、還流条件下で75−80℃の温度に加熱した
反応器に入れた。反応混合物をその温度範囲に維持し、
反応の進行をP31NMR分析によりモニターした。反
応を、4.75時間後に停止し、そのとき、31PNM
R分析は、反応混合物が以下のものを含むことを示す。 11.1% PO 72.0% 2−ヒドロキシホスヒノ酢酸(ナトリウム塩として) 1.0% PO イオン 残りは、ジ付加生成物である。反応生成物の固体含量
は、42.2%w/wである。
【0054】実施例 4 炭酸カルシウム(冷却水)しきいテスト
【0055】
【表1】
【0056】これは、CaCOスケール形成を防止す
る添加物の能力が、長期にわたって測定できるスケール
テストである。使用されるテストの水は、冷却水系に見
出される水のタイプをシミュレートする。同様に、テス
ト水の温度は、冷却水系の熱交換器に近い代表的な温度
を示す。テストの厳格さは、空気を吹き込み、そして系
にNaOClを加えることにより増大し、そして溶液中
の粒子の一定の混合物は、テスト水を撹拌することによ
り得られた。対照実験は、NaOClの添加をすること
なく行われる。
【0057】上記の割合の塩化カルシウム及び塩化マグ
ネシウムを含む溶液500mLを、既にテストする添加
物を含む上記の割合の炭酸ナトリウム及び重炭酸ナトリ
ウムを含む溶液500mLと混合する。空気をL/分で
得られる溶液に吹き込み、そして混合した溶液を30分
間70℃に維持する。30分のテスト期間後、50mL
のサンプルをそれぞれのテスト溶液から取り出す。サン
プルを吸引漉過し、漉液に残るカルシウムをEDTA滴
定により求める。
【0058】
【数1】
【0059】標準のテスト溶液は、500mLの蒸留水
中の11.0g/5LのCaCl・2HO及び7.
50g/5LのMgCl・6HOを含む500mL
を含む。ブランクテスト溶液は、500mLの標準テス
ト溶液及び1.80g/5LのNaCO及び7.4
0g/5LのNaHCOを含む500mLの蒸留水を
含む。結果を表2に示す。HEDP及び式
【0060】
【化23】
【0061】の化合物の混合物が、式
【0062】
【化24】
【0063】の化合物が、非常に小さい固有の炭酸カル
シウムスケール防止性を有するという事実にかかわら
ず、同じ量の上記で使用したHEDPにより達成可能な
それよりも遥かに大きいレベルの、塩素を含む水中の炭
酸カルシウムスケール防止をもたらすことは、明らかで
ある。
【0064】実施例 5−16 本発明の種々の防止組成物の腐食防止の性能は、以下の
標準の腐食水の1種以上を使用する、Rotating
Coupon Testにより評価される。
【0065】
【表3】
【0066】上記の水組成物で、PHは、永久硬度を表
し、PAは、永久アルカリ度を表し、TAは、一時硬度
を表し、そしてTHは、全硬度を表す。テスト水の一つ
の1L貯槽で、2個の予めきれいにしたそして予め計量
した可鍛性の鋼クーポンを、毎秒61cmのクーポン速
度で回転する。テストは、特定量のテストの腐食防止剤
を使用して、40℃で酸素化水中で48時間行う。クー
ポンを取りだし、軽石で擦り、塩酸に1分間浸漬し、1
重量%のヘキサアミンにより防止し、次に洗浄し、乾燥
し、そして再計量する。重量の或る損失及び或る寸法の
損失が、生じたであろう。ブランク(対照)テスト即ち
テスト腐食防止剤を全く含まないテスト水中の可鍛性の
鋼クーポンの浸漬は、それぞれの一連のテストで行われ
る。腐食率は、重量の損失(mg)/平方デシm/日
(m.d.d.)そして又はmm/年(m.p.y.)
で計算される。
【0067】結果は、
【0068】
【表4】
【0069】及び
【0070】
【表5】
【0071】に示される。
【0072】
【表6】
【0073】の結果は、塩素又は塩素生成剤を含む水中
で行われたテストに関し、
【0074】
【表7】
【0075】のそれらは、塩素又は塩素生成剤を含まな
い水で行われたテストに関する。
【0076】
【表8】
【0077】
【表9】
【0078】実施例12−16のそれぞれにおいて、関
連する周知の腐食防止剤を含む式
【0079】
【化25】
【0080】の化合物の腐食防止効果は、単独で使用さ
れたそれぞれの周知の腐食防止剤により達成されるそれ
より遥かに大きい。
【0081】
【表10】
【0082】において、HPAAは、2−ヒドロキシホ
スホノ酢酸を示し、HEDPは、ヒドロキシエチルジホ
スホン酸を示し、PBSAMは、2−ホスホノブタン−
1、2、4−トリカルボン酸を示し、AMPは、アミノ
トリスホスホン酸を示し、そしてTCPATは、2、
4、6−トリス(5’−カルボキシベンチルアミノ)−
1、3、5−トリアジンを示す。
【0083】実施例5−11のそれぞれにおいて、式
【0084】
【化26】
【0085】の化合物及び従来の腐食防止剤の組み合せ
は、式
【0086】
【化27】
【0087】の化合物の何れも有用な固有の腐食防止性
を全く有しなかったにかかわらず、腐食防止剤のみの使
用に対し非常に改善された、塩素含有水で腐食防止の性
能を与えた。
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャン リードアウト イギリス国ランカシャー ボルトン ホー ルウィッチサリースバリー ロード 6

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 A)腐食及び/又はスケール防止剤及び
    B)式 【化1】 (式中、Rは、水素又はメチル又はその水溶性塩であ
    る)を有する化合物を含み、成分A)対成分B)の重量
    比が10対90−90対10に及ぶ腐食及び/又はスケ
    ール防止組成物。
  2. 【請求項2】 成分A)対成分B)の重量比が20対8
    0−80対20に及ぶ請求項1の組成物。
  3. 【請求項3】 成分A)対成分B)の重量比が40対6
    0−60対40に及ぶ請求項2の組成物。
  4. 【請求項4】 成分A)は、式 【化2】 (式中、Rは、COH、P(=O)(OH)、C
    P(=O)(OH)、CHCHP(=O)
    (OH)又はNRであって、R及びRは、
    同じか又は異なり、それぞれは、C(RP(=
    O)(OH)又はC(RCOH(但しR
    水素又はメチルである)であり、Rは,水素、C
    アルキル、CHCOH又はCHCHCO
    Hであり、そしてRは、水素、ヒドロキシル、CO
    H、P(=O)(OH)、CHCOH又はCH
    CHCOHである)又はその水溶性塩を有するホス
    ホノカルボン酸である請求項1−3の何れか一つの項の
    組成物。
  5. 【請求項5】 Rは、COH又はP(=O)(O
    H)であり、Rは、水素であり、そしてRは、ヒ
    ドロキシルである請求項4の組成物。
  6. 【請求項6】 式 【化3】 の化合物は、ホスホノ酢酸、2−ホスホノプロビオン
    酸、2−ホスホノヘプタン酸、2−ヒドロキシホスホノ
    酢酸、2−ヒドロキシ−2−メチルホスホノ酢酸、2−
    ヒドロキシ−2−ブチルホスホノ酢酸、3−ホスホノ−
    3−ヒドロキシ酪酸、2−ホスホノエタン−1、2−ジ
    カルホン酸、2−ホスホノブタン−1、2、4−トリカ
    ルホン酸、メタンジホスホン酸、1、2−エタンジホス
    ホン酸、1、3−プロパンジホスホン酸、ヒドロキシメ
    チルジホスホン酸、ヒドロキシルエチルジホスホン酸
    (HEDP)、2−アミノ−ホスホノ酢酸、2−アミノ
    −2−メチルホスホノ酢酸、ニトロ−トリス−メチレン
    ホスホン酸、メチルアミノ−ビス−メチレンホスホン
    酸、ホスホノメチルグリシン、ビス−ホスホノメチルグ
    リシン、ホスホノメチルイミノジ酢酸、アミノエチル−
    1、1−ジホスホン酸である請求項4の組成物。
  7. 【請求項7】 成分A)は、燐酸塩、アミノポリホスホ
    ン酸又はトリアジンである請求項1−3の何れか一つの
    項の組成物。
  8. 【請求項8】 燐酸塩は、燐酸ナトリウムであり、アミ
    ノポリホスホン酸は、アミノトリス(ホスホン酸)であ
    り、そしてトリアジンは、2、4、6−トリス(5’−
    カルボキシペンチルアミノ)−1、3、5−トリアジン
    である請求項7の組成物。
  9. 【請求項9】 水性系に、腐食及び/又はスケール防止
    量の請求項1−8の何れか一つの項の防止組成物を配合
    することを含む水性系中の腐食及び/又はスケールを防
    止する方法。
  10. 【請求項10】 防止組成物は、水性系の重量に基づい
    て、0.1−50000ppm(0.00001−5重
    量%)の量で加えられる請求項9の方法。
  11. 【請求項11】 防止組成物は、水性系の重量に基づい
    て、1−500ppm(0.0001−0.05重量
    %)の量で加えられる請求項9の方法。
  12. 【請求項12】 処理される水性系は、冷却水系、水蒸
    気発生系、海水蒸発器、逆浸透装置、瓶洗浄プラント、
    製紙装置、砂糖蒸発装置、土壌潅水系、水圧クッカー、
    ガス洗浄系、閉回路加熱系、水性冷凍系、ダウンウエル
    系、水性加工流体フォミュレーション、水性精錬系、水
    性グリコール不凍系、水/グリコール作動液又は水性重
    合体表面コーティング系に含まれるものである請求項9
    −11の何れか一つの項の方法。
  13. 【請求項13】 防止組成物は、1種以上の他の腐食防
    止剤、金属不活性化剤、スケール防止剤/分散剤、しき
    い剤、沈殿剤、酸素スカベンジャー、金属イオン封鎖
    剤、泡止め剤及び殺生物剤とともに使用される請求項9
    −11の何れか一つの項の方法。
  14. 【請求項14】 水性系は、塩素又は塩素生成剤を含む
    請求項9−13の何れか一つの項の方法。
  15. 【請求項15】 請求項9−14の何れか一つの項の方
    法により腐食及び/又はスケールの沈着に対して防止す
    るときの水性系。
  16. 【請求項16】 式 【化4】 (式中、Rは、水素又はメチル又はその水溶性の塩であ
    る)を有する化合物。
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