JPH0673211A - 帯電防止能を有する積層体およびその製造方法 - Google Patents
帯電防止能を有する積層体およびその製造方法Info
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- JPH0673211A JPH0673211A JP4248898A JP24889892A JPH0673211A JP H0673211 A JPH0673211 A JP H0673211A JP 4248898 A JP4248898 A JP 4248898A JP 24889892 A JP24889892 A JP 24889892A JP H0673211 A JPH0673211 A JP H0673211A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐水性に優れ、長期間の高温、高湿下にも安
定した帯電防止効果を保持する積層体を提供すること。 【構成】 高分子成形物の表面がスルトンで処理される
ことにより、表層部にスルホベタイン（分子内スルホン
酸アンモニウム塩）が形成されたアミノ基を含有する高
分子化合物の皮膜で被覆されており、その表面抵抗値が
１０14Ω／口以下である積層体。
定した帯電防止効果を保持する積層体を提供すること。 【構成】 高分子成形物の表面がスルトンで処理される
ことにより、表層部にスルホベタイン（分子内スルホン
酸アンモニウム塩）が形成されたアミノ基を含有する高
分子化合物の皮膜で被覆されており、その表面抵抗値が
１０14Ω／口以下である積層体。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、優れた帯電防止能を有
する積層体およびその製造方法に関する。
する積層体およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】フィルムやシート、その他の高分子成形
物は、その軽量性、断熱性、成形容易性などから、各種
物品の包装材、電気・電子部品、その他の成形品として
広く利用されているが、これらは一般に電気抵抗値が高
いため容易に帯電し、加工作業に支障をきたしたり、ゴ
ミやホコリを吸着して外観を損ねる欠点を有している。
物は、その軽量性、断熱性、成形容易性などから、各種
物品の包装材、電気・電子部品、その他の成形品として
広く利用されているが、これらは一般に電気抵抗値が高
いため容易に帯電し、加工作業に支障をきたしたり、ゴ
ミやホコリを吸着して外観を損ねる欠点を有している。
【０００３】高分子成形物に帯電防止能を付与する方法
としては、界面活性剤を樹脂に練り込んで成形する方
法、成形物表面に界面活性剤を塗布する方法などが知ら
れている。しかしこれらの方法では界面活性剤の流出を
抑えることができず、その効果を永続させることができ
ない。また、界面活性剤として知られるポリエチレング
リコールのアクリル酸エステルなどのポリエチレングリ
コール成分を分子中に含有する高分子化合物を成形物表
面に塗布する方法では、この高分子化合物の耐候性が低
いため、特に高温、高湿時に加水分解が発生し、白濁、
皮膜の剥離などの現象が起こる。
としては、界面活性剤を樹脂に練り込んで成形する方
法、成形物表面に界面活性剤を塗布する方法などが知ら
れている。しかしこれらの方法では界面活性剤の流出を
抑えることができず、その効果を永続させることができ
ない。また、界面活性剤として知られるポリエチレング
リコールのアクリル酸エステルなどのポリエチレングリ
コール成分を分子中に含有する高分子化合物を成形物表
面に塗布する方法では、この高分子化合物の耐候性が低
いため、特に高温、高湿時に加水分解が発生し、白濁、
皮膜の剥離などの現象が起こる。
【０００４】本発明者らは、先にこのような高温、高湿
下においても安定した帯電防止性を有する積層体を提案
した（特願平３−１７３３２３号）。しかし、この積層
体は耐候性に優れるものの、水洗処理などのように長時
間水中に曝されると表面抵抗が低下する欠点があること
が判明した。
下においても安定した帯電防止性を有する積層体を提案
した（特願平３−１７３３２３号）。しかし、この積層
体は耐候性に優れるものの、水洗処理などのように長時
間水中に曝されると表面抵抗が低下する欠点があること
が判明した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、長期間の高
温、高湿下において帯電防止性に優れ、しかも水洗処理
を受けた場合においても、常に安定した帯電防止効果を
保持することのできる皮膜を有する積層体およびその製
造方法を提供することを目的とする。
温、高湿下において帯電防止性に優れ、しかも水洗処理
を受けた場合においても、常に安定した帯電防止効果を
保持することのできる皮膜を有する積層体およびその製
造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、高分子成形物
の表面が、表層部にスルホベタインが形成されたアミノ
基を含有する高分子化合物の皮膜で被覆されており、そ
の表面抵抗値が１０14Ω／口以下であることを特徴とす
る帯電防止能を有する積層体である。
の表面が、表層部にスルホベタインが形成されたアミノ
基を含有する高分子化合物の皮膜で被覆されており、そ
の表面抵抗値が１０14Ω／口以下であることを特徴とす
る帯電防止能を有する積層体である。
【０００７】本発明はまた、高分子成形物の表面を、
アミノ基を含有する高分子化合物で被覆し、次にその
皮膜表面をスルトンで処理し、該皮膜の表層部に構成成
分に結合したスルホベタイン（分子内スルホン酸アンモ
ニウム塩）を形成させ、その表面抵抗値を１０14Ω／口
以下とすることを特徴とする帯電防止能を有する積層体
の製造方法である。
アミノ基を含有する高分子化合物で被覆し、次にその
皮膜表面をスルトンで処理し、該皮膜の表層部に構成成
分に結合したスルホベタイン（分子内スルホン酸アンモ
ニウム塩）を形成させ、その表面抵抗値を１０14Ω／口
以下とすることを特徴とする帯電防止能を有する積層体
の製造方法である。
【０００８】本発明の高分子成形物において、高分子と
しては特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリカーボ
ネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオ
レフィン類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチ
ル（メタ）アクリレートなどのポリ（メタ）アクリル類
などが挙げられる。また成形物としては、フィルム、シ
ート、光磁気記録媒体などの各種記録媒体に用いられる
ディスク基板その他の成形物が挙げられる。
しては特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチ
レンテレフタレートなどのポリエステル類、ポリカーボ
ネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオ
レフィン類、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチ
ル（メタ）アクリレートなどのポリ（メタ）アクリル類
などが挙げられる。また成形物としては、フィルム、シ
ート、光磁気記録媒体などの各種記録媒体に用いられる
ディスク基板その他の成形物が挙げられる。
【０００９】本発明において高分子成形物の表面を被覆
する皮膜を構成するアミノ基を含有する高分子化合物
は、アミノ基を含有する単量体単位をその構成単位とし
て含む高分子化合物であり、なかでも下記一般式（Ｉ） （式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、Ｒ2 はエチ
レン基またはプロピレン基を、Ｒ3 、Ｒ4 は各々独立に
アルキル基またはＮ−アルキル置換基を有していてもよ
いアミノ基含有アルキル基またはアラルキル基を、Ｘは
酸素原子または−Ｎ（Ｒ5 ）−を示す。ここでＲ5 は水
素原子またはメチル基を示す。〕で示されるアミノ基含
有（メタ）アクリレートおよび／または（メタ）アクリ
ルアミドを重合して得られる構成単位をその構成単位と
して含む高分子化合物を好ましく挙げることができる。
する皮膜を構成するアミノ基を含有する高分子化合物
は、アミノ基を含有する単量体単位をその構成単位とし
て含む高分子化合物であり、なかでも下記一般式（Ｉ） （式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、Ｒ2 はエチ
レン基またはプロピレン基を、Ｒ3 、Ｒ4 は各々独立に
アルキル基またはＮ−アルキル置換基を有していてもよ
いアミノ基含有アルキル基またはアラルキル基を、Ｘは
酸素原子または−Ｎ（Ｒ5 ）−を示す。ここでＲ5 は水
素原子またはメチル基を示す。〕で示されるアミノ基含
有（メタ）アクリレートおよび／または（メタ）アクリ
ルアミドを重合して得られる構成単位をその構成単位と
して含む高分子化合物を好ましく挙げることができる。
【００１０】かかるアミノ基含有（メタ）アクリレート
としては、例えばジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルア
ミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリ
レートなどのジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレ
ート；エチルアミノエチルメタクリレート、メチルアミ
ノエチルメタクリレート、エチルアミノエチルアクリレ
ート、メチルアミノエチルアクリレートなどのモノアル
キルアミノエチル（メタ）アクリレート；ジメチルアミ
ノプロピルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルア
クリレートなどのアルキルアミノプロピル（メタ）アク
リレートが挙げられる。
としては、例えばジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルア
ミノエチルアクリレート、ジエチルアミノエチルアクリ
レートなどのジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレ
ート；エチルアミノエチルメタクリレート、メチルアミ
ノエチルメタクリレート、エチルアミノエチルアクリレ
ート、メチルアミノエチルアクリレートなどのモノアル
キルアミノエチル（メタ）アクリレート；ジメチルアミ
ノプロピルメタクリレート、ジメチルアミノプロピルア
クリレートなどのアルキルアミノプロピル（メタ）アク
リレートが挙げられる。
【００１１】また、アミノ基含有（メタ）アクリルアミ
ドとしては、例えばジメチルアミノエチルメタクリルア
ミド、ジエチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチ
ルアミノエチルアクリルアミド、ジエチルアミノエチル
アクリルアミドなどのジアルキルアミノエチル（メタ）
アクリルアミド；エチルアミノエチルメタクリルアミ
ド、メチルアミノエチルメタクリルアミド、エチルアミ
ノエチルアクリルアミド、メチルアミノエチルアクリル
アミドなどのモノアルキルアミノエチル（メタ）アクリ
ルアミド；ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、
ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアルキル
アミノプロピル（メタ）アウリルアミドなどが挙げられ
る。
ドとしては、例えばジメチルアミノエチルメタクリルア
ミド、ジエチルアミノエチルメタクリルアミド、ジメチ
ルアミノエチルアクリルアミド、ジエチルアミノエチル
アクリルアミドなどのジアルキルアミノエチル（メタ）
アクリルアミド；エチルアミノエチルメタクリルアミ
ド、メチルアミノエチルメタクリルアミド、エチルアミ
ノエチルアクリルアミド、メチルアミノエチルアクリル
アミドなどのモノアルキルアミノエチル（メタ）アクリ
ルアミド；ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、
ジメチルアミノプロピルアクリルアミドなどのアルキル
アミノプロピル（メタ）アウリルアミドなどが挙げられ
る。
【００１２】本発明においては、これらのアミノ基を含
有する単量体の構成単位がアミノ基を含有する高分子化
合物の構成単位中、アミノ基を基準として０．１〜４０
モル％含まれていることが好ましく、１〜３０モル％含
まれていることが更に好ましい。
有する単量体の構成単位がアミノ基を含有する高分子化
合物の構成単位中、アミノ基を基準として０．１〜４０
モル％含まれていることが好ましく、１〜３０モル％含
まれていることが更に好ましい。
【００１３】前記アミノ基を含有する単量体と共重合さ
れてアミノ基を含有する高分子化合物中に含まれ、他の
構成単位を構成する単量体としては、ビスフェノールＡ
型エポキシアクリレート、脂肪酸変性エポキシアクリレ
ート、ノボラックエポキシアクリレート、フェノールノ
ボラックエポキシアクリレート、ポリエステルオリゴウ
レタンアクリレート、多官能ヒドロキシ化合物のウレタ
ンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、（ポリ）ア
ルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートなどの脂
肪族多官能アクリレート、多官能オリゴエステルアクリ
レート、多官能ポリエステルアクリレート、ホスファゼ
ン化合物のアクリレート変性物、イソシアヌル酸の多官
能アクリレート、その他のビニル重合性化合物、メチル
メタクリレートやブチルアクリレート等の単官能のアク
リレートなどのアクリル系重合性化合物などから誘導さ
れたもの、一般的な溶剤可溶型ポリマーであるポリウレ
タンや線条ポリエステル、可溶性ナイロンなどが挙げら
れる。
れてアミノ基を含有する高分子化合物中に含まれ、他の
構成単位を構成する単量体としては、ビスフェノールＡ
型エポキシアクリレート、脂肪酸変性エポキシアクリレ
ート、ノボラックエポキシアクリレート、フェノールノ
ボラックエポキシアクリレート、ポリエステルオリゴウ
レタンアクリレート、多官能ヒドロキシ化合物のウレタ
ンアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ペンタ
エリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタ
エリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、（ポリ）ア
ルキレングリコールのジ（メタ）アクリレートなどの脂
肪族多官能アクリレート、多官能オリゴエステルアクリ
レート、多官能ポリエステルアクリレート、ホスファゼ
ン化合物のアクリレート変性物、イソシアヌル酸の多官
能アクリレート、その他のビニル重合性化合物、メチル
メタクリレートやブチルアクリレート等の単官能のアク
リレートなどのアクリル系重合性化合物などから誘導さ
れたもの、一般的な溶剤可溶型ポリマーであるポリウレ
タンや線条ポリエステル、可溶性ナイロンなどが挙げら
れる。
【００１４】このアミノ基を含有する高分子化合物は、
前記アミノ基含有（メタ）アクリレートなどのアミノ基
を含有する単量体、前記各種の単量体およびラジカル重
合開始剤の混合物を、例えば窒素雰囲気中で所定温度の
条件下に重合を行い、得ることができる。ラジカル重合
開始剤としてはベンゾイルペルオキシド、ジクミルペル
オキシド、アゾビスイソブチロニトリルなどの公知の化
合物を使用することができる。
前記アミノ基含有（メタ）アクリレートなどのアミノ基
を含有する単量体、前記各種の単量体およびラジカル重
合開始剤の混合物を、例えば窒素雰囲気中で所定温度の
条件下に重合を行い、得ることができる。ラジカル重合
開始剤としてはベンゾイルペルオキシド、ジクミルペル
オキシド、アゾビスイソブチロニトリルなどの公知の化
合物を使用することができる。
【００１５】アミノ基を含有する高分子化合物は、ま
た、前記アミノ基含有（メタ）アクリレートなどのアミ
ノ基を含有する単量体およびその他の前記各種の単量体
を含む単量体混合物に光重合開始剤を含有させた光硬化
性組成物を硬化させて得ることもできる。
た、前記アミノ基含有（メタ）アクリレートなどのアミ
ノ基を含有する単量体およびその他の前記各種の単量体
を含む単量体混合物に光重合開始剤を含有させた光硬化
性組成物を硬化させて得ることもできる。
【００１６】光硬化性組成物に含有させる光重合開始剤
としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどのベ
ンゾフェノン系開始剤、ベンジル、フェニルメトキシジ
ケトンなどのジケトン系開始剤、アセトフェノンなどの
アセトフェノン系開始剤、ベンゾインエチルエーテル、
ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系開始剤、
２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン
系開始剤、２−メチルアントラキノン、カンファーキノ
ンなどのキノン系開始剤などが好適に用いられる。光重
合開始剤の使用量は０．１〜１０phrが好ましく、１〜
５phrが特に好ましい。
としては、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトンなどのベ
ンゾフェノン系開始剤、ベンジル、フェニルメトキシジ
ケトンなどのジケトン系開始剤、アセトフェノンなどの
アセトフェノン系開始剤、ベンゾインエチルエーテル、
ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系開始剤、
２，４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン
系開始剤、２−メチルアントラキノン、カンファーキノ
ンなどのキノン系開始剤などが好適に用いられる。光重
合開始剤の使用量は０．１〜１０phrが好ましく、１〜
５phrが特に好ましい。
【００１７】本発明におけるアミノ基を含有する高分子
化合物からなる皮膜の厚みは、好ましくは、０．１〜５
０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍである。
化合物からなる皮膜の厚みは、好ましくは、０．１〜５
０μｍ、さらに好ましくは１〜２０μｍである。
【００１８】本発明の積層体は、まずアミノ基を含有
する高分子化合物で被覆されて製造される。前記のよう
にして得られたアミノ基を含有する高分子化合物は、塗
布性の改善、作業性の向上などのため、必要に応じて適
当な溶媒で希釈して被覆される。
する高分子化合物で被覆されて製造される。前記のよう
にして得られたアミノ基を含有する高分子化合物は、塗
布性の改善、作業性の向上などのため、必要に応じて適
当な溶媒で希釈して被覆される。
【００１９】被覆の方法としては、公知のスピンコーテ
イング法、浸漬物コーテイング法、ドクターナイフによ
るコーテイング、バーコーターによる方法或いは、スプ
レイコーティングなどを挙げることができる。
イング法、浸漬物コーテイング法、ドクターナイフによ
るコーテイング、バーコーターによる方法或いは、スプ
レイコーティングなどを挙げることができる。
【００２０】アミノ基を含有する高分子化合物による被
覆はまた、前記光硬化性組成物を高分子成形物の表面に
前記手段により塗布したのち、紫外線などの光線を照射
して硬化させ、アミノ基を含有する高分子化合物の皮膜
を形成させる方法によることもできる。
覆はまた、前記光硬化性組成物を高分子成形物の表面に
前記手段により塗布したのち、紫外線などの光線を照射
して硬化させ、アミノ基を含有する高分子化合物の皮膜
を形成させる方法によることもできる。
【００２１】本発明の積層体は、次いで前記アミノ基
を含有する高分子化合物からなる皮膜表面を、スルトン
で処理し、該表面に構成成分に結合したスルホベタイン
（分子内スルホン酸アンモニウム塩）を形成させ、その
表面抵抗値を１０14Ω／口以下としたものである。
を含有する高分子化合物からなる皮膜表面を、スルトン
で処理し、該表面に構成成分に結合したスルホベタイン
（分子内スルホン酸アンモニウム塩）を形成させ、その
表面抵抗値を１０14Ω／口以下としたものである。
【００２２】本発明で使用するスルトンとしては、プロ
パンスルトン、ブタンスルトンおよび１〜数個のメチル
基、エチル基により置換されたこれらの化合物を挙げる
ことができる。これらは単独で使用することも２種以上
を混合して使用することもできる。
パンスルトン、ブタンスルトンおよび１〜数個のメチル
基、エチル基により置換されたこれらの化合物を挙げる
ことができる。これらは単独で使用することも２種以上
を混合して使用することもできる。
【００２３】スルトンによる皮膜表面の処理は、これら
の化合物を有機溶媒、例えばエタノールに溶解して得ら
れた溶液を室温で皮膜表面に塗工し、または該溶液中に
成形物を浸漬して行うことができる。この処理により、
アミノ基を含有する高分子化合物の皮膜の表層部に存在
するアミノ基とスルトンとを反応させ、該表層部に分子
内スルホン酸の四級アンモニウム塩であるスルホベタイ
ンを形成させることができる。反応は一般に室温または
加熱下で行われる。一般に高分子成形物の変形温度以
下、例えばポリエステルフィルムでは１５０℃以下、ポ
リカーボネートデイスクでは１００℃以下に加熱するこ
とにより、該反応を促進することができる。スルトンの
使用量を厳密に規定することは困難であるが、前記のア
ミノ基を含有する高分子化合物よりなる皮膜表面を一様
に覆う量であればよい。
の化合物を有機溶媒、例えばエタノールに溶解して得ら
れた溶液を室温で皮膜表面に塗工し、または該溶液中に
成形物を浸漬して行うことができる。この処理により、
アミノ基を含有する高分子化合物の皮膜の表層部に存在
するアミノ基とスルトンとを反応させ、該表層部に分子
内スルホン酸の四級アンモニウム塩であるスルホベタイ
ンを形成させることができる。反応は一般に室温または
加熱下で行われる。一般に高分子成形物の変形温度以
下、例えばポリエステルフィルムでは１５０℃以下、ポ
リカーボネートデイスクでは１００℃以下に加熱するこ
とにより、該反応を促進することができる。スルトンの
使用量を厳密に規定することは困難であるが、前記のア
ミノ基を含有する高分子化合物よりなる皮膜表面を一様
に覆う量であればよい。
【００２４】本発明の積層体は、その表面抵抗値を１０
14Ω／口以下とすることが必要である。表面抵抗値が１
０14Ω／口を超えると帯電防止効果が低下する。積層体
の表面抵抗値は、膜厚、アミノ基の含有量、スルトンの
使用量などにより調整することができる。
14Ω／口以下とすることが必要である。表面抵抗値が１
０14Ω／口を超えると帯電防止効果が低下する。積層体
の表面抵抗値は、膜厚、アミノ基の含有量、スルトンの
使用量などにより調整することができる。
【００２５】本発明の積層体は、帯電防止に有効な第四
級アンモニウム塩が分子内塩として皮膜の表層部に結合
しており、長期にわたり安定的に効果を保持する。ま
た、該分子内第四級アンモニウム塩は高温高湿雰囲気中
においても安定であり、かかる雰囲気下で積層体を長期
間使用してもその表面抵抗は安定している。
級アンモニウム塩が分子内塩として皮膜の表層部に結合
しており、長期にわたり安定的に効果を保持する。ま
た、該分子内第四級アンモニウム塩は高温高湿雰囲気中
においても安定であり、かかる雰囲気下で積層体を長期
間使用してもその表面抵抗は安定している。
【００２６】さらにまた、本発明において、第四級アン
モニウム塩は分子内塩を形成しているため、対イオンが
他イオンに交換することがなく、通常の第四級アンモニ
ウム塩を形成させた場合に比べ、より一層その表面抵抗
は安定しており、長時間水中に曝されても帯電防止能を
保持できる。
モニウム塩は分子内塩を形成しているため、対イオンが
他イオンに交換することがなく、通常の第四級アンモニ
ウム塩を形成させた場合に比べ、より一層その表面抵抗
は安定しており、長時間水中に曝されても帯電防止能を
保持できる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。なお、実施例中、「％」および「部」は、重
量基準を表す。また、表面抵抗値および耐候性試験は下
記に従った。表面抵抗値 ：ＪＩＳ Ｋ−６９１１に準拠して測定し
た。耐候性試験 ：８０℃、８５％ＲＨ雰囲気中で５００時間
保持した。耐水性試験 ：ｐＨ８の水中に室温で２４時間浸漬した後
蒸留水で洗浄し、８０℃で２４時間乾燥させた。
説明する。なお、実施例中、「％」および「部」は、重
量基準を表す。また、表面抵抗値および耐候性試験は下
記に従った。表面抵抗値 ：ＪＩＳ Ｋ−６９１１に準拠して測定し
た。耐候性試験 ：８０℃、８５％ＲＨ雰囲気中で５００時間
保持した。耐水性試験 ：ｐＨ８の水中に室温で２４時間浸漬した後
蒸留水で洗浄し、８０℃で２４時間乾燥させた。
【００２８】実施例１〜３、比較例１〜６ 下記表１処方の混合物Ａ、ＢまたはＣを、それぞれチッ
素ガス雰囲気中で８０℃で６時間攪拌下に重合を行い、
ジメチルアミノエチルメタクリレートをそれぞれ約１
０、２０、３０部含むメタアクリル系重合体溶液を作成
した。この溶液をトルエンで各々固形分含量が１０％と
なるように希釈し、それぞれ塗工液Ａ、Ｂ、Ｃとした。
素ガス雰囲気中で８０℃で６時間攪拌下に重合を行い、
ジメチルアミノエチルメタクリレートをそれぞれ約１
０、２０、３０部含むメタアクリル系重合体溶液を作成
した。この溶液をトルエンで各々固形分含量が１０％と
なるように希釈し、それぞれ塗工液Ａ、Ｂ、Ｃとした。
【００２９】
【表１】
【００３０】次に、各溶液を厚さ５０μｍのポリエチレ
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にバーコーター
を使用して、塗膜の膜厚が約１０μｍになるように塗工
した（各々の塗工面を塗膜Ａ、塗膜Ｂ、塗膜Ｃと略記す
る）。各塗膜Ａ、Ｂ、Ｃにプロパンスルトンを表２記載
濃度のエタノール溶液としてスピンコートし、自然乾燥
後、８０℃の乾燥炉中で約１０分間加熱した。このよう
にして得られた積層体の表面抵抗ならびに耐候性試験後
および耐水試験後の表面抵抗値を測定した。結果を表２
に示す。比較例１〜６は表２記載のように、プロパンス
ルトンにかえてジエチル硫酸で同様に処理、または処理
しなかった場合の結果である。
ンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上にバーコーター
を使用して、塗膜の膜厚が約１０μｍになるように塗工
した（各々の塗工面を塗膜Ａ、塗膜Ｂ、塗膜Ｃと略記す
る）。各塗膜Ａ、Ｂ、Ｃにプロパンスルトンを表２記載
濃度のエタノール溶液としてスピンコートし、自然乾燥
後、８０℃の乾燥炉中で約１０分間加熱した。このよう
にして得られた積層体の表面抵抗ならびに耐候性試験後
および耐水試験後の表面抵抗値を測定した。結果を表２
に示す。比較例１〜６は表２記載のように、プロパンス
ルトンにかえてジエチル硫酸で同様に処理、または処理
しなかった場合の結果である。
【００３１】
【表２】
【００３２】実施例４〜９ 下記表３処方の混合物のように、ジメチルアミノプロピ
ルメタクリルアミドをそれぞれ約１０、２０、３０部含
むＵＶ硬化性組成物Ｄ、Ｅ、Ｆを調製した。このＵＶ硬
化性組成物Ｄ、Ｅ、Ｆをそれぞれ厚さ１．２ｍｍ、直径
１３０ｍｍの光デイスク用ポリカーボネート基板上に膜
厚が約１０μｍになるようにスピンコートし、続いて高
圧水銀灯を照射して硬化させた。このようにして作成し
たデイスクを各々ＵＶ硬化デイスクＤ、Ｅ、Ｆとした。
ルメタクリルアミドをそれぞれ約１０、２０、３０部含
むＵＶ硬化性組成物Ｄ、Ｅ、Ｆを調製した。このＵＶ硬
化性組成物Ｄ、Ｅ、Ｆをそれぞれ厚さ１．２ｍｍ、直径
１３０ｍｍの光デイスク用ポリカーボネート基板上に膜
厚が約１０μｍになるようにスピンコートし、続いて高
圧水銀灯を照射して硬化させた。このようにして作成し
たデイスクを各々ＵＶ硬化デイスクＤ、Ｅ、Ｆとした。
【００３３】
【表３】
【００３４】次に、各ＵＶ硬化デイスクＤ、Ｅ、Ｆに下
記表４記載濃度のスルトンをエタノール溶液としてスピ
ンコートし自然乾燥後、８０℃の乾燥炉中で約１０分間
加熱した。このようにして得られたデイスクの表面抵抗
値ならびに耐候性試験後および耐水試験後の表面抵抗値
を測定した。結果を表４に示す。
記表４記載濃度のスルトンをエタノール溶液としてスピ
ンコートし自然乾燥後、８０℃の乾燥炉中で約１０分間
加熱した。このようにして得られたデイスクの表面抵抗
値ならびに耐候性試験後および耐水試験後の表面抵抗値
を測定した。結果を表４に示す。
【００３５】
【表４】
【００３６】
【発明の効果】本発明によれば、長期間の高温、高湿下
にも帯電防止効果に優れ、しかも水洗処理においても安
定してその効果を保持することのできる耐水性に優れた
皮膜を有する積層体を提供することができる。
にも帯電防止効果に優れ、しかも水洗処理においても安
定してその効果を保持することのできる耐水性に優れた
皮膜を有する積層体を提供することができる。
Claims (4)
- 【請求項１】 高分子成形物の表面が、表層部にスルホ
ベタインが形成されたアミノ基を含有する高分子化合物
の皮膜で被覆されており、その表面抵抗値が１０14Ω／
口以下であることを特徴とする帯電防止能を有する積層
体。 - 【請求項２】 アミノ基を現有する高分子化合物が、下
記一般式（Ｉ）で示されるアミノ基含有（メタ）アクリ
レートおよび／または（メタ）アクリルアミドを重合さ
せて得られる構成単位をその構成単位として含むアミノ
基を含有する高分子化合物である請求項１記載の帯電防
止能を有する積層体。 〔式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、Ｒ2 はエチ
レン基またはプロピレン基を、Ｒ3 、Ｒ4 は各々独立に
アルキル基またはＮ−アルキル置換基を有していてもよ
いアミノ基含有アルキル基またはアラルキル基を、Ｘは
酸素原子または−Ｎ（Ｒ5 ）−を示す。ここでＲ5 は水
素原子またはメチル基を示す。〕 - 【請求項３】 アミノ基を含有する高分子化合物が、請
求項２記載の一般式（Ｉ）で示されるアミノ基含有（メ
タ）アクリレートおよび／または（メタ）アクリルアミ
ドおよびその他の単量体を含む単量体混合物に光重合開
始剤を含有させた光硬化性組成物を硬化させて得られる
高分子化合物である請求項１記載の帯電防止能を有する
積層体。 - 【請求項４】 高分子成形物の表面を、アミノ基を含
有する高分子化合物で被覆し、次にその皮膜表面をス
ルトンで処理し、該皮膜の表層部に構成成分に結合した
スルホベタインを形成させ、その表面抵抗値を１０14Ω
／口以下とすることを特徴とする帯電防止能を有する積
層体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248898A JPH0673211A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 帯電防止能を有する積層体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4248898A JPH0673211A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 帯電防止能を有する積層体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673211A true JPH0673211A (ja) | 1994-03-15 |
Family
ID=17185080
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4248898A Pending JPH0673211A (ja) | 1992-08-26 | 1992-08-26 | 帯電防止能を有する積層体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0673211A (ja) |
-
1992
- 1992-08-26 JP JP4248898A patent/JPH0673211A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010703 |