JPH0672395A - 宇宙航行機器搭載用光学機器における汚染防止機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 シャッタ等を付加することなく、宇宙航行機
器に搭載される光学機器の外部からの汚染を防止し、こ
の汚染防止処理を複数回可能とする。 【構成】 ミラー回転部材２は、通常のポインティング
又はスキャンに使用している平面ミラー１を通常の使用
状態よりも大きく回転させる。そして、フード３を通
り、外部から汚染物質が侵入してきた場合、平面ミラー
１を図中破線にて示す位置に回転させることにより、フ
ード３を遮断する。これにより、この汚染物質は平面ミ
ラー１及びバッフル６により遮断され、汚染物質により
平面ミラー１の反射面及び集光光学系５等が汚染するこ
とが防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、人工衛星等の宇宙航行
機器に搭載される光学機器の汚染防止機構に関し、特
に、打上時及び軌道変更時等のエンジンからの汚染の防
止に有効で反復使用可能な汚染防止機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の汚染防止機構は、図３に示すよう
に、集光光学系５の入り口開口部にこの入り口開口部を
開閉可能にシャッタ７を設け、このシャッタ７をモータ
８により揺動駆動するように構成されている。

【０００３】この従来の汚染防止機構においては、シャ
ッタ７が開の状態で、観測対象からの光４が集光光学系
５に入射される。一方、エンジンからの汚染の影響が考
えられるときには、モータ８を駆動してシャッタ７を閉
じ、集光光学系５の入り口開口部を遮断する。

【０００４】また、打上時にフィルム等で光学系の開口
部を覆い、打ち上げ後、フィルムを破って切り離す方法
も提案されている（特開昭2-185898）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来の汚染防止技術は、いずれも欠点を有する。即
ち、前者のシャッタ７の開閉による汚染防止機構は、汚
染の防止のために専用のシャッタ機構を設ける必要があ
り、このため宇宙航行機器の重量及び寸法が増大すると
いう難点がある。

【０００６】一方、打ち上げ時にフィルムで覆う方法
は、１回の使用（打ち上げ時）しかできず、軌道変更時
等のエンジンからの汚染を有効に防止することができな
い。

【０００７】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、格別大型化及び高重量化することなく、エ
ンジンからの汚染を複数回にわたって防止することがで
きる宇宙航行機器搭載用光学機器における汚染防止機構
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明に係る宇宙航行機
器搭載用光学機器における汚染防止機構は、宇宙航行機
器の外部からの光を反射して内部の光学機器に導く平面
ミラーと、この平面ミラーを光学機器としての使用状態
の外に宇宙航行機器の外部と内部とを遮断する遮断位置
に位置させるべく回転駆動する駆動手段と、前記遮断位
置にある前記平面ミラーと機器の壁との間を封止するバ
ッフルとを有することを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明においては、平面ミラーがスキャン又は
ポィンティング等を行っている場合のように、光学機器
としての使用状態にある場合には、外部からの光はこの
平面ミラーに導かれて内部の光学機器に入射される。

【００１０】一方、打ち上げ時及び軌道変更時のよう
に、エンジンからの汚染が予想される場合には、平面ミ
ラーを遮断位置に回動させる。そうすると、この平面ミ
ラーはバッフルと共に機器の壁との間を封止し、汚染が
内部の光学機器に到達することが防止される。このよう
にして、光学機器として使用されている平面ミラーを利
用して汚染を遮断するので、格別の機器を設置する必要
がないため、装置の大型化及び高重量化を回避すること
ができる。また、複数回にわたって汚染を防止すること
ができる。

【００１１】

【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。

【００１２】図１は本発明の第１の実施例を示す模式図
である。宇宙航行機器の外部とこれに搭載される内部の
光学機器との間は、フード３により連結されている。そ
して、このフード３の直角屈曲部に、平面ミラー１が配
置されている。この平面ミラー１はその中央部でモータ
等の回転部材２により枢支されており、この回転部材２
によりフード３の中心軸（光軸）に直交する方向を回転
軸として回転駆動される。

【００１３】この平面ミラー１よりも機器の内側の部分
には、光学機器の集束光学系５が配置されている。ま
た、平面ミラー１が、その鏡面がフード３の直角に曲が
る内側角部を向いている状態（使用状態；図の実線にて
示す）に直交する状態（遮断位置；図中、破線にて示
す）にある場合に、その平面ミラー４の縁部に密着する
ように、バッフル６がフード３の内面に設けられてい
る。これにより、平面ミラー１が遮断状態にあるときに
は、平面ミラー１とこの平面ミラー１に密着するバッフ
ル６とによりフード３が遮断される。

【００１４】このように構成された機構においては、平
面ミラー１がその鏡面をフード３の屈曲中心側に向けて
いる使用状態で揺動する等して、スキャン又はポインテ
ィング動作することにより外部の光を集束光学系５に導
く。一方、人工衛星の打ち上げ時又は軌道修正時におい
ては、回転部材２が平面ミラー１を時計方向に回転させ
て、図１に破線にて示す遮断位置に位置させる。そうす
ると、フード３はこの平面ミラー１及びバッフル６によ
り遮断されて、内側の光学機器（集束光学系５等）が外
部から遮蔽される。また、平面ミラー１は時計方向に回
転して遮断位置に移動するので、この遮断位置にて平面
ミラー１の反射面は機器の内側を向く。このため、反射
面が汚染物質に曝されて汚染されることもない。

【００１５】図２は本発明の第２の実施例を示す模式図
である。本実施例においては、モータ等の回転部材２は
その回転軸を集束光学系５の光軸に一致させて配置され
ており、この回転軸の先端に平面ミラー１がその反射面
を前記回転軸に対して４５゜傾斜させて固定されてい
る。その他の構成は第１の実施例と同様である。

【００１６】本実施例においては、平面ミラー１がその
反射面の中央垂線がフード３の内側角部に向く使用状態
において、回転部材２の回転軸が適宜の角度で正逆回転
することにより、スキャン又はポインティング動作す
る。一方、汚染物質の流入が予想される場合には、回転
部材２は平面ミラー１を図中破線にて示す遮断位置に１
８０゜回動させ、フード３を平面ミラー１及びバッフル
６により遮断する。これにより、内部の光学機器及び平
面ミラー１の反射面が汚染から防止される。

【００１７】上記各実施例においては、平面ミラー１が
フード３の途中で遮断することにより、内部が汚染物質
から遮蔽されると共に、外部の観測対象物からの光も遮
断されるので、これらの実施例における平面ミラーは、
シャッタとしての機能も有する。

【００１８】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
学機器として本来具備するスキャン又はポインティング
用のミラーを、通常の使用状態から大きく動かすだけ
で、この平面ミラーをバッフルと併用することにより光
学機器の汚染を確実に防止することができる。本発明に
おいては、現状の機器に付加する部分が少ないため、重
量及び寸法の増加なしに効果的に汚染防止が可能とな
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例を示す模式図である。

【図２】本発明の第２の実施例を示す模式図である。

【図３】従来技術を示す模式図である。

【符号の説明】

１；平面ミラー ２；ミラー回転部材 ３；フード ４；観測対象からの光 ５；集光光学系 ６；バッフル ７；シャッタ ８；シャッタ駆動モータ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 宇宙航行機器の外部からの光を反射して
   内部の光学機器に導く平面ミラーと、この平面ミラーを
   光学機器としての使用状態の外に宇宙航行機器の外部と
   内部とを遮断する遮断位置に位置させるべく回転駆動す
   る駆動手段と、前記遮断位置にある前記平面ミラーと機
   器の壁との間を封止するバッフルとを有することを特徴
   とする宇宙航行機器搭載用光学機器における汚染防止機
   構。
2. 【請求項２】 前記遮断位置にて、前記平面ミラー及び
   バッフルは、汚染の遮断に加えて、外光も遮断すること
   を特徴とする請求項１に記載の宇宙航行機器搭載用光学
   機器における汚染防止機構。