JPH0669111A - 真空排気方法 - Google Patents
真空排気方法Info
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- JPH0669111A JPH0669111A JP4221236A JP22123692A JPH0669111A JP H0669111 A JPH0669111 A JP H0669111A JP 4221236 A JP4221236 A JP 4221236A JP 22123692 A JP22123692 A JP 22123692A JP H0669111 A JPH0669111 A JP H0669111A
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】真空排気において、絞りホルダ交換後の真空立
ち上げ時に、絞りホルダの吹き飛び事故を防止する。 【構成】コラム1内の隣接する小排気容積の排気室1
5,16の間仕切り部に開閉自由な通気孔26,27を
設け、通気孔26,27は排気開始時の大気状態では開
放し、所定の真空度になったら密閉するように制御す
る。 【効果】排気室の排気容積の大小が原因で生じる排気速
度差により、絞りホルダ等の吹き飛び事故が防止でき、
効率的な真空立ち上げが可能となる。
ち上げ時に、絞りホルダの吹き飛び事故を防止する。 【構成】コラム1内の隣接する小排気容積の排気室1
5,16の間仕切り部に開閉自由な通気孔26,27を
設け、通気孔26,27は排気開始時の大気状態では開
放し、所定の真空度になったら密閉するように制御す
る。 【効果】排気室の排気容積の大小が原因で生じる排気速
度差により、絞りホルダ等の吹き飛び事故が防止でき、
効率的な真空立ち上げが可能となる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空状態を必要とする荷
電粒子線装置等の真空排気方法に関する。
電粒子線装置等の真空排気方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図2は、真空を必要とする荷電粒子線装
置を応用した電子線描画装置の一例である。コラム1の
内部は、大気と区別して、高真空状態にしておく必要が
ある。それは、電子銃2から放出された電子ビーム3を
コラム内のガス分子に衝突させることなく、有効に利用
するためである。ところで、放出された電子ビーム3
は、電子銃室4内で加速されながら、電子レンズ5,6
等によって試料7上に偏向・集束される。試料7は、X
−Y平面を自在に移動可能なステージ8上に固定されて
いる。この様な電子ビーム3は、図示しないLSIパタ
ーンデータに基づく偏向制御と、ステージ8の移動制御
の組合せにより、試料7上にLSIパターンを描く様に
制御される。
置を応用した電子線描画装置の一例である。コラム1の
内部は、大気と区別して、高真空状態にしておく必要が
ある。それは、電子銃2から放出された電子ビーム3を
コラム内のガス分子に衝突させることなく、有効に利用
するためである。ところで、放出された電子ビーム3
は、電子銃室4内で加速されながら、電子レンズ5,6
等によって試料7上に偏向・集束される。試料7は、X
−Y平面を自在に移動可能なステージ8上に固定されて
いる。この様な電子ビーム3は、図示しないLSIパタ
ーンデータに基づく偏向制御と、ステージ8の移動制御
の組合せにより、試料7上にLSIパターンを描く様に
制御される。
【0003】さて、同図のコラム1の内部を大気から真
空状態に立ち上げる手順は、まず、バルブV4とV6を
開けてから、ターボポンプ11,12を起動する。この
時、他のバルブV1〜V3及びV5は、まだ閉じたまま
にしてある。そして、ピラニーゲージPG1が10のマ
イナス2乗Pa程度になったら、V4を閉じ、V3〜V
1を開ける。次に、イオンゲージIG1をモニタ後、V
5を開けクライオポンプ10に切り換える。ついで、V
6は閉じる。一方、ピラニーゲージPG2とイオンゲー
ジIG2を順次、モニタし、IG2が10のマイナス4
乗Pa前後になったら、それぞれイオンポンプ13,1
4に切り変える。そして、バルブV1,V2を閉じる。
空状態に立ち上げる手順は、まず、バルブV4とV6を
開けてから、ターボポンプ11,12を起動する。この
時、他のバルブV1〜V3及びV5は、まだ閉じたまま
にしてある。そして、ピラニーゲージPG1が10のマ
イナス2乗Pa程度になったら、V4を閉じ、V3〜V
1を開ける。次に、イオンゲージIG1をモニタ後、V
5を開けクライオポンプ10に切り換える。ついで、V
6は閉じる。一方、ピラニーゲージPG2とイオンゲー
ジIG2を順次、モニタし、IG2が10のマイナス4
乗Pa前後になったら、それぞれイオンポンプ13,1
4に切り変える。そして、バルブV1,V2を閉じる。
【0004】このような装置の従来例としては、マイク
ロエレクトロニック・エンジニアリング・第5巻・12
3頁から131頁(1986)(Microelectronic Enginee
ring5(1986)123−131)がある。
ロエレクトロニック・エンジニアリング・第5巻・12
3頁から131頁(1986)(Microelectronic Enginee
ring5(1986)123−131)がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図2中に示した絞りホ
ルダ17または18は、りん青銅またはアルミニウム製
で、その内部に図示しないMo製絞り(通常、穴径は1
mmφ以下を使用)を固定した一体構造で用いることが多
い。絞りホルダ17または18は、電子ビーム3を適宜
カットしたり、散乱電子を取り除くために所定の場所に
配置される。その結果、絞りは電子ビーム3の頻繁なる
照射を受けて、水素炭化物等の付着による汚染がおびた
だしい。このため、これらの絞りホルダは図3に示した
ように、一体ごとに、コラム1の側面に設けたのぞき窓
19(ガラス製)を外せば、ピンセット20等で容易に
交換可能にしてある。これは、絞りホルダ21程度の交
換であれば、わざわざコラム1の全体を解体しなくても
済むというメンテナンス時間の節約を意図したものであ
る。従って、この種の絞りホルダ21は、図示のよう
に、仕切り板22の中心穴に嵌合を利用して載せている
だけである。
ルダ17または18は、りん青銅またはアルミニウム製
で、その内部に図示しないMo製絞り(通常、穴径は1
mmφ以下を使用)を固定した一体構造で用いることが多
い。絞りホルダ17または18は、電子ビーム3を適宜
カットしたり、散乱電子を取り除くために所定の場所に
配置される。その結果、絞りは電子ビーム3の頻繁なる
照射を受けて、水素炭化物等の付着による汚染がおびた
だしい。このため、これらの絞りホルダは図3に示した
ように、一体ごとに、コラム1の側面に設けたのぞき窓
19(ガラス製)を外せば、ピンセット20等で容易に
交換可能にしてある。これは、絞りホルダ21程度の交
換であれば、わざわざコラム1の全体を解体しなくても
済むというメンテナンス時間の節約を意図したものであ
る。従って、この種の絞りホルダ21は、図示のよう
に、仕切り板22の中心穴に嵌合を利用して載せている
だけである。
【0006】ここで従来は、図2のターボポンプ11を
起動させる時、バルブV4と同時にV3〜V1を開けら
れない理由があった。それは、絞りホルダ17,18の
ある排気室15や同16側の排気容積が、試料室9側の
それに比べて非常に小さいからである。つまり、排気室
15や同16側は試料室9側より高真空が必要なため、
絞りホルダ17や18の絞りに差動排気効果を持たせて
いる。その結果、大気状態からV4とV3〜V1とを同
時に開ける排気手順では図4に示したように、試料室9
側からの排気速度S3よりも排気室15,16側の排気
速度S1及びS2の方が早くなるため、両室間の急峻な
圧力差によって絞りホルダ17または18は矢印M,N
のように引き上げられてしまう。こうした場合には、再
び、コラム1内部全体を大気に戻した後、のぞき窓19
を外し、絞りホルダ17または18を設定し直さなけれ
ばならない。このことは、メンテナンス後の装置の真空
立ち上げ時間を著しく冗長にし、且つ効率を非常に低下
させることになる。従って、オペレータは、その手順に
注意しながらバルブ操作をすることが必要であった。こ
れは誰にも簡単に操作できることではなく、熟練者に限
られる欠点もあった。この間の時間ロスは非常に大き
く、トラブルの発生に気付かないと再生には数時間にも
及ぶことがある。
起動させる時、バルブV4と同時にV3〜V1を開けら
れない理由があった。それは、絞りホルダ17,18の
ある排気室15や同16側の排気容積が、試料室9側の
それに比べて非常に小さいからである。つまり、排気室
15や同16側は試料室9側より高真空が必要なため、
絞りホルダ17や18の絞りに差動排気効果を持たせて
いる。その結果、大気状態からV4とV3〜V1とを同
時に開ける排気手順では図4に示したように、試料室9
側からの排気速度S3よりも排気室15,16側の排気
速度S1及びS2の方が早くなるため、両室間の急峻な
圧力差によって絞りホルダ17または18は矢印M,N
のように引き上げられてしまう。こうした場合には、再
び、コラム1内部全体を大気に戻した後、のぞき窓19
を外し、絞りホルダ17または18を設定し直さなけれ
ばならない。このことは、メンテナンス後の装置の真空
立ち上げ時間を著しく冗長にし、且つ効率を非常に低下
させることになる。従って、オペレータは、その手順に
注意しながらバルブ操作をすることが必要であった。こ
れは誰にも簡単に操作できることではなく、熟練者に限
られる欠点もあった。この間の時間ロスは非常に大き
く、トラブルの発生に気付かないと再生には数時間にも
及ぶことがある。
【0007】また、前述した排気手順は、バルブV4と
V3の制御は電磁弁を用いたシーケンス制御で行なえる
が、図2の電子銃室4の真空度が10のマイナス8乗P
aくらいの超高真空を必要とする装置の場合には、バル
ブV1およびV2には気密性不足で電磁弁が使えない。
従って、この種の装置の場合には、V1やV2用として
耐熱性が有り、気密性の高いメタルバルブを用いること
が一般的である。このような事情から、絞りホルダの吹
き飛び事故を防止する必要性が、依然として残されてい
た。
V3の制御は電磁弁を用いたシーケンス制御で行なえる
が、図2の電子銃室4の真空度が10のマイナス8乗P
aくらいの超高真空を必要とする装置の場合には、バル
ブV1およびV2には気密性不足で電磁弁が使えない。
従って、この種の装置の場合には、V1やV2用として
耐熱性が有り、気密性の高いメタルバルブを用いること
が一般的である。このような事情から、絞りホルダの吹
き飛び事故を防止する必要性が、依然として残されてい
た。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の問題は、絞りホル
ダの絞りに依る差動排気効果が原因である。これによ
り、大気からの排気開始時にだけ、前記絞りホルダのあ
る小排気室側と大排気容積を有する試料室側との間に大
きな圧力差が生じてしまう。従って、排気開始時にだけ
この急峻な圧力差を軽減するために、前記絞りホルダが
搭載されている固定用仕切り板の周囲に複数の通気孔を
設ける。更に、前記固定用仕切り板に密接して、やはり
複数の通気孔がある回転用仕切り板を設ける。両者の孔
数等は、対応する場所に配置して設ける。またこの回転
用仕切り板は、真空度に連動して、大気側から遠隔駆動
される。大気状態では両者の孔位置が一致した貫通状態
で排気動作が行われ、試料室側真空度が10のマイナス
2乗Pa程度になると回転用仕切り板が自動的に回転さ
れ複数の通気孔を塞ぎ、密閉した本来の仕切り板を形成
する。
ダの絞りに依る差動排気効果が原因である。これによ
り、大気からの排気開始時にだけ、前記絞りホルダのあ
る小排気室側と大排気容積を有する試料室側との間に大
きな圧力差が生じてしまう。従って、排気開始時にだけ
この急峻な圧力差を軽減するために、前記絞りホルダが
搭載されている固定用仕切り板の周囲に複数の通気孔を
設ける。更に、前記固定用仕切り板に密接して、やはり
複数の通気孔がある回転用仕切り板を設ける。両者の孔
数等は、対応する場所に配置して設ける。またこの回転
用仕切り板は、真空度に連動して、大気側から遠隔駆動
される。大気状態では両者の孔位置が一致した貫通状態
で排気動作が行われ、試料室側真空度が10のマイナス
2乗Pa程度になると回転用仕切り板が自動的に回転さ
れ複数の通気孔を塞ぎ、密閉した本来の仕切り板を形成
する。
【0009】
【作用】大気から排気するスタート時点で、絞りホルダ
側に生じる大きな排気速度を軽減し、絞りホルダの吹き
飛び事故が防止できるようになる。これにより、メンテ
ナンス後の装置の真空立ち上げ時間を効率的に短縮す
る。また、この真空排気操作が、熟練者に限られるとい
う欠点も改善できる。
側に生じる大きな排気速度を軽減し、絞りホルダの吹き
飛び事故が防止できるようになる。これにより、メンテ
ナンス後の装置の真空立ち上げ時間を効率的に短縮す
る。また、この真空排気操作が、熟練者に限られるとい
う欠点も改善できる。
【0010】
【実施例】図1には、本発明による排気方法の様子を示
した。前述のように、圧力差により、排気室15,16
における排気速度S1およびS2は、試料室9側からの
排気速度S3に比べて非常に速い。そこで大気状態から
の排気操作は、絞りホルダ17,18側の排気速度S
1,S2を軽減するために、以下の手順で行う。絞りホ
ルダ17を載せた固定用仕切り板23の周囲には、複数
の通気孔26を設けている。これに対して、回転用仕切
り板24は、固定用仕切り板23の下部(上部でも可
能)にスペーサ等を介して密接するように支持されてい
る。この回転用仕切り板24には、モータ28からの回
転駆動をかさ歯車25bを介して与えるため、もう一つ
のかさ歯車25aが一体化して形成してある。そこで、
図2の試料室9の内部にあるピラニーゲージPG1から
の真空状態信号Sに応じて、モータ28を駆動し、大気
状態では、固定用仕切り板23の通気孔26と一致する
ように回転用仕切り板24側の通気孔27を回転移動さ
せる。これにより、絞りホルダ17,18を含む排気容
積は実質的に二つの排気室15,16の和となり、試料
室9側のそれとの差を減少させたことになる。この状態
で排気開始後、試料室9側の真空度が10のマイナス2
乗Pa程度になったら、固定用仕切り板23の通気孔2
6に対して回転用仕切り板24側の通気孔27が不一致
状態と成るように、PG1からの状態信号Sに基づきモ
ータ28を駆動する。そして、かさ歯車25bを介し
て、相手のかさ歯車25aを回転させる。勿論、モータ
28は、図示しないリミッタ位置で停止させる。この場
合、通気孔27の開閉に伴う回転移動量は、図から明ら
かなように、複数の通気孔があるため数十゜程度のわず
かな量で済む。以上によって、複数の通気孔26と27
は相互に塞がれて、二つの仕切り板23および24は、
密閉された本来の仕切り部を形成する。
した。前述のように、圧力差により、排気室15,16
における排気速度S1およびS2は、試料室9側からの
排気速度S3に比べて非常に速い。そこで大気状態から
の排気操作は、絞りホルダ17,18側の排気速度S
1,S2を軽減するために、以下の手順で行う。絞りホ
ルダ17を載せた固定用仕切り板23の周囲には、複数
の通気孔26を設けている。これに対して、回転用仕切
り板24は、固定用仕切り板23の下部(上部でも可
能)にスペーサ等を介して密接するように支持されてい
る。この回転用仕切り板24には、モータ28からの回
転駆動をかさ歯車25bを介して与えるため、もう一つ
のかさ歯車25aが一体化して形成してある。そこで、
図2の試料室9の内部にあるピラニーゲージPG1から
の真空状態信号Sに応じて、モータ28を駆動し、大気
状態では、固定用仕切り板23の通気孔26と一致する
ように回転用仕切り板24側の通気孔27を回転移動さ
せる。これにより、絞りホルダ17,18を含む排気容
積は実質的に二つの排気室15,16の和となり、試料
室9側のそれとの差を減少させたことになる。この状態
で排気開始後、試料室9側の真空度が10のマイナス2
乗Pa程度になったら、固定用仕切り板23の通気孔2
6に対して回転用仕切り板24側の通気孔27が不一致
状態と成るように、PG1からの状態信号Sに基づきモ
ータ28を駆動する。そして、かさ歯車25bを介し
て、相手のかさ歯車25aを回転させる。勿論、モータ
28は、図示しないリミッタ位置で停止させる。この場
合、通気孔27の開閉に伴う回転移動量は、図から明ら
かなように、複数の通気孔があるため数十゜程度のわず
かな量で済む。以上によって、複数の通気孔26と27
は相互に塞がれて、二つの仕切り板23および24は、
密閉された本来の仕切り部を形成する。
【0011】
【発明の効果】本発明によれば、二つの絞りホルダ1
7,18の吹き飛び事故はなくなった。これにより、排
気操作のやり直し等による無駄時間がなくなり、真空装
置の効率的な立ち上げが可能となった。また、前述した
操作は、熟練者以外にも幅広く操作可能となった。その
他、通気孔を有する回転用仕切り板への駆動伝達手段
は、回転用仕切り板自体の外周に歯車用の歯を直接加工
してもよく、更には側方からのスライドシャッタ式や、
回転シャッタ式など、多様な手法で実現できる。
7,18の吹き飛び事故はなくなった。これにより、排
気操作のやり直し等による無駄時間がなくなり、真空装
置の効率的な立ち上げが可能となった。また、前述した
操作は、熟練者以外にも幅広く操作可能となった。その
他、通気孔を有する回転用仕切り板への駆動伝達手段
は、回転用仕切り板自体の外周に歯車用の歯を直接加工
してもよく、更には側方からのスライドシャッタ式や、
回転シャッタ式など、多様な手法で実現できる。
【図1】本発明における真空排気方法の説明図。
【図2】真空排気装置における従来例の説明図。
【図3】従来例における絞りホルダの設定方法の説明
図。
図。
【図4】従来例における絞りホルダの吹き飛び事故例の
説明図。
説明図。
1…コラム、15,16…排気室、17,18…絞りホ
ルダ、23…固定用仕切り板、24…回転用仕切り板、
25a、25b…かさ歯車、26,27…通気孔、28
…モータ。
ルダ、23…固定用仕切り板、24…回転用仕切り板、
25a、25b…かさ歯車、26,27…通気孔、28
…モータ。
Claims (4)
- 【請求項1】荷電粒子線を試料面上へ所望の形状に収束
させ、前記試料面上にパターンを形成あるいは加工する
荷電粒子線装置用真空排気装置において、前記排気装置
の一部を成すコラム内の前記荷電粒子線の通過部にある
絞りホルダの搭載用仕切り板に開閉自在な通気孔を具備
したことを特徴とする真空排気方法。 - 【請求項2】請求項1において、前記通気孔形成部は、
前記通気孔のある一方の固定用の仕切り板に他方の通気
孔のある回転用仕切り板を密接して固定し、適宜、前記
両通気孔を塞ぐために、前記回転用仕切り板は外部駆動
力を授受可能な形状に形成されている真空排気方法。 - 【請求項3】請求項1において、前記通気孔形成部は、
前記排気室より相対的に大きな排気容積を有する他の排
気室の真空度をモニタすることにより、開閉制御される
真空排気方法。 - 【請求項4】請求項1において、前記通気孔形成部は、
電子線描画装置に設けた真空排気方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4221236A JPH0669111A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 真空排気方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4221236A JPH0669111A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 真空排気方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0669111A true JPH0669111A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16763606
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4221236A Pending JPH0669111A (ja) | 1992-08-20 | 1992-08-20 | 真空排気方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0669111A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007019045A (ja) * | 2003-09-10 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | 小型電子銃 |
US7435973B2 (en) | 2002-02-25 | 2008-10-14 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Material processing system and method |
JP2013093566A (ja) * | 2011-10-04 | 2013-05-16 | Nuflare Technology Inc | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 |
JP2013544031A (ja) * | 2010-11-13 | 2013-12-09 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 中間チャンバを備えた荷電粒子リソグラフィシステム |
-
1992
- 1992-08-20 JP JP4221236A patent/JPH0669111A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7435973B2 (en) | 2002-02-25 | 2008-10-14 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Material processing system and method |
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