JPH0668833A - 電子ビーム中の空間的なエネルギー拡散を減少させる方法及び電子ビーム装置 - Google Patents

電子ビーム中の空間的なエネルギー拡散を減少させる方法及び電子ビーム装置

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JPH0668833A
JPH0668833A JP5024341A JP2434193A JPH0668833A JP H0668833 A JPH0668833 A JP H0668833A JP 5024341 A JP5024341 A JP 5024341A JP 2434193 A JP2434193 A JP 2434193A JP H0668833 A JPH0668833 A JP H0668833A
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electron
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dispersion
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    • H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ほぼ全ビーム電流を利用することができる電
子ビーム中の空間的なエネルギー拡散を減少させる方法
及び電子ビーム装置を提供することにある。 【構成】 本発明は電子ビームにおけるエネルギー選択
に関するものである。電子ビーム装置（１）はエネルギ
ー分散部材（２０）を具え、この分散部材（２０）は電
子ビーム（７）を発生する電子源（３）の近傍に配置す
るのが好ましい。エネルギー分散部材（２０）は電子ビ
ーム（７）を分散方向に拡大する。エネルギー選択は、
物体（１１）の結像面（２１）において局部的なエネル
ギー幅を有する多数の画素を選択することにより行な
う。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、エネルギー分散性部材
によって幅が拡大された電子ビーム中における空間的な
エネルギー拡散を減少させる方法に関するものである。
また、本発明は、この方法を実施するのに好適な電子ビ
ーム装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】上述した形式の電子ビーム装置は、特開
昭６３−２３１８５２号公報から既知である。エネルギ
ー拡散は、放出された電子の初期エネルギー拡散及びビ
ーム中の静的な相互作用（ボーシュ効果）に起因して電
子源からのビーム中で発生する。上述した電子ビーム装
置は、さらにコンデンサレンズ、及びエネルギー分散部
材、特に分散部材の分散方向と直交する方向に延在する
スリットと組み合わされたウィーンフィルタを具え、電
子ビームのエネルギー拡散を減少させている。
【０００３】上記フィルタの作用は、電界Ｅの強度と、
磁界Ｂの強度及び電子の加速電位との間の関係に基いて
いる。ウィーンフィルタにおいて、電界と磁界とは互い
に直交し、電界及び磁界は電子の伝播方向と直交してい
る。所定の速度ｖの電子が偏向されないために必要な加
速電位は上記関係に基いている。速度ｖの電子のエネル
ギーからエネルギーが偏移したエネルギーを有するフィ
ルタに入射する電子はスポクトラムに亘って分布する。
フィルタの後段に位置するスリットは偏向されなかった
電子だけを透過するので、電子ビームのエネルギー拡散
が減少する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述した既知の電子ビ
ーム装置では、エネルギー拡散を減少させることができ
るが、スリットを用いているためビーム電流の比較的大
きな量が捕獲されてしまう。すなわち、所望のエネルギ
ー窓内に位置する電子だけしか通過しない欠点があっ
た。さらに、スリットは高電圧の境界内に配置する必要
があり、高電圧雰囲気中にスリットを配置することは極
めて重大であり、構造が複雑し又製造コストも高価にな
ってしまう。
【０００５】従って、本発明の目的は、上述した欠点を
除去すると共に全ビーム電流の大部分を用いることがで
きる電子ビーム中の空間的なエネルギー拡散を減少させ
る方法及び電子ビーム装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段並びに作用】本発明の第１
の見地によれば、本発明による方法は、エネルギー分散
部材を電子ビームを発生する電子源の近傍に配置し、電
子ビームを前記分散部材によって電子源の直径よりも大
きくなる分散度で分散方向に幅を拡大し、局部的にエネ
ルギー拡散の多数の画素を物体の結像面で選択すること
を特徴とする。
【０００７】局部的なエネルギー拡散とは、物体の無限
に微小な点として測定した場合の入射ビームのエネルギ
ー拡散を意味するものと理解されるべきである。
【０００８】放出したエネルギーの初期エネルギー拡散
及びビーム中の電子の静的な相互作用に起因して電子ビ
ーム中の全ての電子は同一のエネルギーを有していない
から、電子ビームは分散部材を通過した後分散方向に幅
が拡大する。この結果、電子ビームの局部的なエネルギ
ー拡散は画素当りの電子のエネルギー拡散となり、この
エネルギー拡散はオリジナルのエネルギー拡散に比較し
て減少する。電子源の直径に対する分散比が十分に大き
い場合、この減少は極めて大きくなる。
【０００９】エネルギー分散に起因して、物体に沿って
測定した平均的な局部エネルギーは分散方向に沿って変
化する。最終的なエネルギーの選択は、物体の像を構成
する多数の画素を内在的に選択することによって行なわ
れる。すなわち、種々の画素の電子は撮像モード中に個
別に検出されるので、電子ビーム経路中のスリットを省
くことができる。この結果、局部的なエネルギー拡散は
大幅に減少する。
【００１０】本発明による方法の一例は、多数の画素の
選択を物体を傾動させることにより行なうことを特徴と
する。物体に入射した幅が拡大した電子ビームの平均エ
ネルギーは分散方向に変化するので、ＴＥＭ画像及びＳ
ＴＥＳ画像において物体に沿って分散方向においてデフ
ォーカスが生ずるおそれがある。しかしながら、物体を
傾けることにより十分に集束したラインを得ることがで
きる。また、通常では、このようなデフォーカス量は焦
点深度内にあるから、このディフォーカスは無視するこ
とができる。
【００１１】物体の透過型分析を行なう本発明による方
法の一例は、エネルギー拡散をパラメータとして用いる
画像処理を適用することを特徴とする。透過型電子顕微
鏡が画像処理の方法を利用して画像再生を行なう場合、
ビームのエネルギー拡散及び物体に沿うエネルギーの変
化を用いる伝達関数に取り込むことができる。
【００１２】物体の透過型分析を行なう本発明による方
法の別の実施例は、局部的にエネルギー拡散した物体の
画像部分を物体の結像面に配置した選択部材により選択
することを特徴とする。この場合、物体の結像面におい
て、画像の一部が結像面に配置した選択部材により選択
される。この選択部材は、例えばいわゆる“選択区域絞
り（SelectedArea diaphragm) のようなスリット又は他
の形態の絞りとすることができる。この選択は、検出器
自身により行なうことができ、例えば結像面の所望の位
置に位置したＣＣＤ検出器により行なうことができる。
この点に関して、イメージング電子エネルギー損失分光
計の入射絞りを用いることもできる。このように構成す
れば、画素の選択は高電圧レベルの状態で行なわれず物
体の結像面で行なわれる利点が達成される。この結果、
全ビーム電流を用いて物体を照射することができる。
【００１３】本発明の第２の見地によれば、本発明によ
る方法は、エネルギー分散部材を電子ビームを発生させ
る電子源の近傍に配置し、前記物体を、物体上で集束し
分散方向とほぼ直交する方向に延在する方向に幅が拡大
された電子ビームでステップ状に走査し、この走査ステ
ップの大きさを所望の解像度により決定することを特徴
とする。エネルギー分散に基いて電子ビームを拡大する
ことは特に有益である。電子ビームのスポットが拡大さ
れる場合、走査測定毎に物体の大部分を照射することが
できる。所望の解像度は、分散方向と直交する方向にお
ける走査ステップの大きさの関数として得ることができ
る。請求項１に記載の方法を実施するのに好適な本発明
による電子ビーム装置は、電子源と、電子光学系と、試
料ホルダと、エネルギー分散部材とを具える。
【００１４】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、物体傾動装置を具えることを特徴とする。
【００１５】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、画像処理装置を具えることを特徴とする。
【００１６】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、物体の結像面に配置した絞りを具えることを特徴と
する。本発明による電子ビーム装置の別の実施例は、請
求項５に記載の方法を実施するのに好適であり、電子源
と、電子光学計と、試料ホルダと、エネルギー分散部材
と、走査ユニットとを具える。
【００１７】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、画像分析装置を具え、物体上で集束する方向とほぼ
直交する方向におけるスペクトラム測定を行なうことが
できるように構成したことを特徴とする。この場合、分
散方向においてスペクトル情報が拡大されたスポット内
に位置する画素毎に発生するので、拡大したスポットが
移行すると、分散方向とほぼ直交する走査方向の他の画
素について同様な情報が得られる。従って、スペクトラ
ル情報は、画像列ライン状に測定される。分析すべき物
体の部分は、この分析中、局部的にエネルギー拡散した
電子ビームの一部によってだけ照射されるので、解像度
は、エネルギー分散されない電子ビームによって照射す
る場合よりもはるかに一層高くなる。
【００１８】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、色収差を補正する多重極素子を含む補正部材を具え
ることを特徴とする。電子ビームのスポットの長さ方向
の解像度は、電子プローブによって決定される。電子ビ
ームのスポットの幅方向、すなわち分散方向の解像度
は、対物レンズの色収差によって決定される。
【００１９】局部的なエネルギー拡散した区域の色収差
に起因するエネルギー偏移した電子の発生を防止するた
め、対物レンズの主要面に補正素子を配置することがで
きる。この補正素子は、分散方向における色収差を補正
するための結合４重極素子で構成することが好ましい。
【００２０】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、ネルギー分散部材を、電子源と共役な物体面との間
のビーム経路中の所定の位置に配置し、この位置を２０
ｋｖ以下の加速電位に対応させたことを特徴とする。共
役物体面とは、物体に対して等価な面を意味するものと
理解されるべきである。分散部材は加速電位が十分に低
い位置に配置されるので、電子は比較的低いエネルギー
を有し比較的容易に制御することができる。電子源とエ
ネルギー選択フィルタとの間に、所望の場合、レンズ又
は他の電子光学素子を配置することができる。
【００２１】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、エネルギー分散部材をウィーンフィルタとしたこと
を特徴とする。エネルギー分散部材の別の好適実施例
は、Ωフィルタ又は静電フィルタで構成する。これらの
フィルタは既知である。ウィーンフィルタは、“直視”
部材であるため整列性のような実際上に生ずる問題はほ
とんど生じない利点がある。ウィーンフィルタは英国特
許明細書第１３６４９３０号から既知である。
【００２２】本発明による電子ビーム装置の別の実施例
は、電子源を電界放射源（field emission source)とし
たことを特徴とする。電界放射源の真正電子源直径は、
通常の電子源の電子源直径よりも一層小さくなる。従っ
て、通常の電子源と電界放射源との相対的なエネルギー
拡散に関し、分散後に電界放射源によって生ずるスポッ
トは長さ対幅の比が一層大きくなる。以下、図面に基き
本発明を詳細に説明する。
【００２３】
【実施例】図１に線図的に示す電子ビーム装置１は電子
源３を具え、この電子源３は高電圧発生器５により制御
されて電子ビーム７を発生する。また、この電子ビーム
装置は、ビーム７を試料ホルダ１０に配置した物体１１
上に入射させる電子光学系９も具える。電子光学系９は
コンデンサと第１対物レンズで構成されるが、図面を明
瞭にするため対物レンズ１５だけを図示する。物体１１
を透過した後、電子は第２の対物レンズ系１７とレンズ
系１９によって結像面２１上に結像する。レンズ系１９
は回折レンズで、中間レンズ及び投影レンズ系（図示せ
ず）を具える。これらのレンズパワー供給装置１３によ
って付勢する。
【００２４】放射した電子の初期エネルギー拡散及びビ
ーム中の電子の静的な相互作用に起因するエネルギー拡
散（ボーシュ効果）により、電子源３から放出した電子
ビームのスポット中にエネルギー拡散が生ずる。このエ
ネルギー拡散は電子ビーム装置の解像度を制限するもの
となる。
【００２５】高解像力電子顕微鏡の場合、情報はクロマ
ティクエンベロープ関数の幅により制限される。電子ビ
ーム中の局部的なエネルギー拡散が減少する程、このエ
ンベロープ関数は一層広くなるので、制限される情報の
レベルが一層高くなり従って解像度が一層良好になる。
電子エネルギー損失分光法の場合、後述するように、一
層高いエネルギー解像力は電子ビーム中でのエネルギー
拡散をより小さくすることにより得られる。
【００２６】電子ビームのエネルギー拡散を減少させる
方法は、特開昭 63-231852号公報から既知である。エネ
ルギー拡散部材特にウィーンフィルタを用いると、電子
ビームは放散方向に幅が拡がる。次に、このビームは放
散方向と直交するように設けたスリットに入射する。所
望の局部的なエネルギー拡散が生じた電子ビームの一部
だけがスリットを経て物体に入射する。この既知の方法
の欠点は、電子ビームの強度の大部分が物体に入射しな
いことである。
【００２７】本発明では、電子ビーム中のエネルギー拡
散は、スリットを用いることなく、すなわちエネルギー
強度に損失が生ずることなく電子ビーム中のエネルギー
拡散を低減することができる。この目的を達成するた
め、エネルギー分散部材２０により、電子ビームを直交
する面内の分散方向に拡大する。電子ビーム源の直径に
対する分散比を一層大きくすれば、電子ビーム中の局部
的なエネルギー拡散は、電子源のオリジナルのエネルギ
ー拡散に比べて一層小さくなる。従って、物体１１は十
分に幅広になった電子ビームにより照射される。所定の
領域の最終的な選択は結像図２１に形成される物体の多
数の画素を選択することにより行なわれる。この理由
は、種々の画素の電子は撮像モードにおいて個別に検出
されるからである。これによる利点は、画素の選択が結
像面で行なわれ、スリットを用いる場合のように高電圧
レベルでは行なわれないことである。この選択は種々の
方法で行なうことができる。
【００２８】幅が拡大されたスポット中の平均エネルギ
ーは分散方向に局部的に偏移しているので、焦点は物体
上の位置の関数としてこの方向に変位する。十分に焦束
したラインを形成するため、電子ビーム装置１は物体傾
動装置２３を具える。電子源は、物体１１を傾けること
により前照射領域に亘って画像の全長に亘って焦束させ
ることができる。
【００２９】局部的にエネルギー拡散したビームを開い
て多数の画素の選択を行なうための第２の方法は、帯電
粒子ビーム装置が透過型電子顕微鏡である場合この帯電
粒子ビーム装置に画像再生用の画像処理を行なう画像処
理装置（図示せず）を設けることである。
【００３０】物体の位相及び振幅情報は、物体の選択し
た基準面における波動関数４の形態で規格化することが
できる。
【００３１】物体の画像再生を行なう場合、波動関数は
物体の出射面まで後方伝播される。この工程中におい
て、波動関数４に顕微鏡の反転伝達関数が乗算され、そ
の後２次元反転フーリエ変換を行なう。この反転伝達関
数を乗算することは、球面収差及びデフォーカスに起因
する位相シフトを除去することを意味する。投影される
原子構造は物体面で得られた波動関数から取り出すこと
ができる。薄い物体の場合、この投影された構造は物体
の出射面における波動関数の位相により再生させる。一
方、ゾーン軸に沿って照射される厚い結晶体物体の場
合、チャネリング理論に基くアルゴリズムを用いる。こ
のチャネリング理論は、電子ビームが原子配列に平行な
結晶に入射した場合個々の原子配列でのチャネリング意
味するものとする。電子がこれらの原子配列で捕獲され
るので、これら原子配列の領域における結晶の出射面に
おける波動関数と原子配列との間に明瞭な関係が存在す
る。従って、この関係は隣接する原子配列の組成に対し
て依存しない。この波動関数の情報によって投影原子構
造の情報が得られる。画像再生中、焦点の変化、すなわ
ち幅が拡大されたスポット中の物体に沿うエネルギーの
変化は、分散の関数として伝達関数中に含まれる。
【００３２】しかしながら、エネルギー拡散に起因する
デフォーカスは数値例で証明されるように極めて微小で
ある。
【００３３】電子ビームスポット中の典型的なエネルギ
ー拡散は、ＩｅＶ程度である。分散部材を用いる場合ス
ポットは放散方向に約５０倍増大するので、１００Åの
直径のスポットは５０００Åまで拡大される。従って、
局部的な拡散したエネルギーは1/50になる。例えば、拡
大律が５×１０5 の場合、このスポットは１０-2mmの試
料領域をしめる。この試料領域における焦点の変化は次
式で与えられる。
【化１】 ここで、Ｃｃは色収差定数である。数値は以下のように
なる。
【化２】 この式は、５０００Åの距離で１００Åの焦点変化が生
ずることを意味し、この焦点変化量は極めて微小である
から、このデフォーカス量は焦点深度の範囲内にあり、
従って無視することができる。
【００３４】電子ビーム装置が透過型電子顕微鏡の場
合、図２に示すように、選択素子２７を結像面２１に配
置して物体１１の画像の一部だけを選択することができ
る。この選択部材２７は、例えばいわゆるセレクティッ
ドエリア（ＳＡ）ダイヤフラムとすることができる。こ
のダイヤフラム２７は全画像強度の一部を通過させない
が、高電圧レベルのスリットを設けない利点がある。こ
の実施例はスペクトラム分析に特に好適である。画像の
選択された部分における電子ビームは局部的なエネルギ
ー拡散が比較的小さいので、分析されるべき放射が全ス
ペクトラムの電子ビームによって照射された画像の一部
から発生する場合よりも相当に高い解像度を得ることが
できる。
【００３５】電子ビーム装置が撮像モードの走査型顕微
鏡の場合、幅が拡大された電子ビームは、そのまま物体
を照射するために用いる場合測定毎に物体の一層大きな
部分を照射できる利点が達成される。物体は分散方向と
直交する方向に走査される。走査中、ビームが物体上で
ステップ状に変位する場合、短い期間に物体の比較的に
大きな部分が走査される。ステップの大きさによって解
像度が決定されるるこの実施例はスペクトル分析に用い
るのに有益である。比較的短い時間期間で比較的広い領
域に関する情報を得ることができる。
【００３６】このスペクトル分析は電子エネルギー損失
型の分光計（ＥＥＬＳ）で撮像モードで用いることもで
きる。図２は、この点に関して好適な電子ビーム装置の
実施例を示す。図１で用いた部材と対応する部材には同
一符号を付して説明する。結像面２１に配置した選択部
材２７は分光計２９の入射絞りで構成し、この分光計は
エネルギー分析計３１及び検出器３３で構成する。本例
によれば、電子ビーム中のエネルギー拡散の減少を利用
して、物体の照射視野の微小部分を選択することにより
エネルギーの解像度を相当増大させることができる。こ
の解像度は、小さくすべき分散に対する視野の比により
決定される。
【００３７】一方において、零損失ピークは、局部的な
エネルギー拡散が小さい電子ビームを用いて照射するこ
とにより低くなるので、情報の限界を一層高くすること
ができる。他方において、例えば分光計の入射絞りのよ
うな結像面に配置した絞りを用いることにより不適当な
電子を濾波できるので、エネルギー損失スペクトラルの
バックグランドが抑制される。
【００３８】物体上で電子ビームが集束する方向は分散
方向と一致する。スペクトラルは分散方向と直交する方
向に集束する。従って、画素毎に１方向のスペクトラル
情報が形成されるので、この方向と直交する方向におい
て同一の情報が他の画素について存在する。
【００３９】電子ビームスポットの寸法及びエネルギー
拡散は解像度を決定する。スポットの長さ方向の解像度
は電子プローブによって決定される。スポットの幅方向
の解像度、すなわち分散方向は対物レンズのクロマティ
ック収差によって決定される。エネルギーが偏位した電
子は局部的にエネルギー拡散した状態で領域に侵入しが
ちである。この効果を防止する方法は、対物レンズの主
要面に色収差補正を行なう補正素子を配置することであ
る。この素子は、例えば結合性四重極磁界を構成する多
重極素子とすることができ、少なくとも分散方向で補正
する必要がある。この理由は、注目する画像情報が分散
方向に位置するからである。
【００４０】適切な分散を達成するため、エネルギー分
散素子２０は電子源３の近傍に配置することが好まし
い。この理由は、この領域において電子は比較的低い加
速電位を有するので、電子を比較的容易に制御すること
ができる。
【００４１】分散部材２０としてウィーンフィルタを用
いるのが好ましい。このウィーンフィルタは英国特許第
１３６４９３０号明細書から既知である。このフィルタ
では、磁界と電界は互いに直交すると共に電子の走行方
向と直交する。加速電位によって決定される所定の速度
ｖを有する電子だけが偏向されず、他の全ての電子は速
度に依存する角度で偏向される。
【００４２】さらに、電界放射源の形態の電子源を用い
ることにより、極めて有益な利点が達成される。電界放
射源の真正な電子源直径は通常の電子源の電子源直径よ
りもはるかに小さい。従って、これらの電子源の相対的
なエネルギー拡散に関し、分散した後の電界放射によっ
て形成されるスポットは長さ対幅比が一層大きくなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】エネルギー分散部材を具える本発明による電子
ビーム装置を示す線図である。
【図２】電子エネルギー損失分光器を具える本発明によ
る電子ビーム装置を示す線図である。
【符号の説明】
３ 電子源 ５ 高電圧発生器 ９ 電子光学計 10 試料ホルダ 11 物体 15，17 対物レンズ 20 エネルギー分散部材 21 結像面 23 傾動装置

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 エネルギー分散性部材によって幅が拡大
    された電子ビーム中における空間的なエネルギー拡散を
    減少させるに際し、 前記エネルギー分散部材を電子ビームを発生する電子源
    の近傍に配置し、電子ビームを前記分散部材によって電
    子源の直径よりも大きくなる分散度で分散方向に幅を拡
    大し、局部的にエネルギー拡散の多数の画素を物体の結
    像面で選択することを特徴とする電子ビーム中の空間的
    なエネルギー拡散を減少させる方法。
  2. 【請求項２】 請求項１に記載の方法において、前記画
    素数の選択を物体を傾けることにより行なうことを特徴
    とする方法。
  3. 【請求項３】 物体を透過型で分析する請求項１に記載
    の方法において、エネルギー拡散をパラメータとして用
    いる画像処理を行なうことを特徴とする方法。
  4. 【請求項４】 物体を透過型で分析する請求項１に記載
    の方法において、局部的にエネルギー拡散した物体の画
    像部分を物体の結像面に配置した選択部材により選択す
    ることを特徴とする方法。
  5. 【請求項５】 エネルギー分散部材により電子ビームの
    エネルギー幅を拡大するに際し、 前記エネルギー分散部材を電子ビームを発生させる電子
    源の近傍に配置し、前記物体を、物体上で集束し分散方
    向とほぼ直交する方向に延在する方向に幅が拡大された
    電子ビームでステップ状に走査し、この走査ステップの
    大きさを所望の解像度により決定することを特徴とする
    電子ビーム中のエネルギー幅を拡大する方法。
  6. 【請求項６】 電子源と、電子光学系と、試料ホルダ
    と、エネルギー分散部材とを具え、請求項１に記載の方
    法を実施するのに好適な電子ビーム装置。
  7. 【請求項７】 請求項６に記載の電子ビーム装置におい
    て、物体傾動装置を具えることを特徴とする電子ビーム
    装置。
  8. 【請求項８】 電子ビーム装置を透過型電子顕微鏡とし
    た請求項６又は７に記載の電子ビーム装置において、画
    像処理装置を具えることを特徴とする電子ビーム装置。
  9. 【請求項９】 電子ビーム装置を透過型電子顕微鏡とし
    た請求項６，７又は８において、物体の結像面に配置し
    た絞りを具えることを特徴とする電子ビーム装置。
  10. 【請求項１０】 電子源と、電子光学系と、試料ホルダ
    と、エネルギー分散部材と、走査ユニットとを具え、請
    求項５に記載の方法を実施するのに好適な電子ビーム装
    置。
  11. 【請求項１１】 請求項１０に記載の電子ビーム装置に
    おいて、画像分析装置を具え、物体上で集束する方向と
    ほぼ直交する方向におけるスペクトラム測定を行なうこ
    とができるように構成したことを特徴とする。
  12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の電子ビーム装置に
    おいて、色収差を補正するための多重極素子を含む補正
    部材を具えることを特徴とする電子ビーム装置。
  13. 【請求項１３】 請求項６から１２までのいずれか１項
    に記載の電子ビーム装置において、前記エネルギー分散
    部材を、共役な物体面と電子源との間のビーム経路中の
    所定の位置に配置し、この位置を２０ｋｖ以下の加速電
    位に対応させたことを特徴とする電子ビーム装置。
  14. 【請求項１４】 請求項６から１３までのいずれか１項
    の電子ビーム装置において、前記エネルギー分散部材を
    ウィーンフィルタとしたことを特徴とする電子ビーム装
    置。
  15. 【請求項１５】 請求項６から１４までのいずれか１項
    に記載の電子ビーム装置において、前記電子源を電界放
    射源としたことを特徴とする電子ビーム装置。
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