JPH0668402A - 光磁気記録装置 - Google Patents
光磁気記録装置Info
- Publication number
- JPH0668402A JPH0668402A JP22286692A JP22286692A JPH0668402A JP H0668402 A JPH0668402 A JP H0668402A JP 22286692 A JP22286692 A JP 22286692A JP 22286692 A JP22286692 A JP 22286692A JP H0668402 A JPH0668402 A JP H0668402A
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- JP
- Japan
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- magnetic field
- recording
- leakage magnetic
- magneto
- optical
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Abstract
(57)【要約】
漏洩磁界による記録ピットの質の低下を防止することを
目的とする。上記目的は、漏洩磁界相殺手段と記録媒体
の径方向各位置における前記漏洩磁界相殺手段の発生磁
界の設定値を記憶する手段とを備えることによって達成
される。
目的とする。上記目的は、漏洩磁界相殺手段と記録媒体
の径方向各位置における前記漏洩磁界相殺手段の発生磁
界の設定値を記憶する手段とを備えることによって達成
される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は記録媒体に印加磁界を変
調して情報を記録する磁界変調方式の光磁気記録装置に
関するものである。
調して情報を記録する磁界変調方式の光磁気記録装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光磁気記録装置として
は、例えば図5に示すような構成のものがある。
は、例えば図5に示すような構成のものがある。
【0003】図中1は、ガラスあるいはプラスチックを
素材とした基板2に垂直磁化膜3を被着し、更にその表
面に保護膜4を形成した光磁気ディスクである。この光
磁気ディスク1は、マグネットチャッキングなどに回転
自在に支持され、中心軸0を中心として回転する構造で
ある。光ヘッド5は、光磁気ディスク1の下面に配設さ
れた情報記録再生用のヘッドであって、アクチュエータ
6、半導体レーザ7、集光レンズ8から構成される。半
導体レーザ7から照射されたレーザ光は、集光レンズ8
で集光され、光磁気ディスク1に照射される。この場
合、集光レンズ8はアクチュエータ6の制御によって光
路方向に移動し、レーザ光が垂直磁化膜3上に焦点を結
ぶように制御される。また、光ヘッド5は、光磁気ディ
スク1の半径方向に移動できる構造となっている。
素材とした基板2に垂直磁化膜3を被着し、更にその表
面に保護膜4を形成した光磁気ディスクである。この光
磁気ディスク1は、マグネットチャッキングなどに回転
自在に支持され、中心軸0を中心として回転する構造で
ある。光ヘッド5は、光磁気ディスク1の下面に配設さ
れた情報記録再生用のヘッドであって、アクチュエータ
6、半導体レーザ7、集光レンズ8から構成される。半
導体レーザ7から照射されたレーザ光は、集光レンズ8
で集光され、光磁気ディスク1に照射される。この場
合、集光レンズ8はアクチュエータ6の制御によって光
路方向に移動し、レーザ光が垂直磁化膜3上に焦点を結
ぶように制御される。また、光ヘッド5は、光磁気ディ
スク1の半径方向に移動できる構造となっている。
【0004】電磁石9は、垂直磁化膜3のレーザ光照射
部位にバイアス磁界を印加するもので、光磁気ディスク
1を狭み、光ヘッド5と対向して配設されている。電磁
石9は外周部に巻回されたコイル10を備え、このコイ
ル10に磁界変調回路11から記録信号に応じた位相の
電流が供給される。また、電磁石9は光ヘッド5と連動
して光磁気ディスク1の半径方向に移動し、逐時垂直磁
化膜3のレーザ光照射部位にバイアス磁界を印加するこ
とで、光磁気ディスク1に情報を記録する。
部位にバイアス磁界を印加するもので、光磁気ディスク
1を狭み、光ヘッド5と対向して配設されている。電磁
石9は外周部に巻回されたコイル10を備え、このコイ
ル10に磁界変調回路11から記録信号に応じた位相の
電流が供給される。また、電磁石9は光ヘッド5と連動
して光磁気ディスク1の半径方向に移動し、逐時垂直磁
化膜3のレーザ光照射部位にバイアス磁界を印加するこ
とで、光磁気ディスク1に情報を記録する。
【0005】次に、情報の記録動作について図6を参照
しながら説明する。
しながら説明する。
【0006】まず、情報を記録する場合、光ヘッド5か
ら光磁気ディスク1の垂直磁化膜3に局所的に、一定強
度のレーザ光が連続的に照射される。これにより、垂直
磁化膜3の照射部分の温度がキュリー点近傍、あるいは
キュリー点以上に上昇される。
ら光磁気ディスク1の垂直磁化膜3に局所的に、一定強
度のレーザ光が連続的に照射される。これにより、垂直
磁化膜3の照射部分の温度がキュリー点近傍、あるいは
キュリー点以上に上昇される。
【0007】同時に、図6(a)に示すような記録信号
を記録しようとすると、記録信号に対応して図6(b)
に示すような磁界が垂直磁化膜3のレーザ光照射部位に
印加される。即ち、記録信号が“1”の場合、+Hの磁
界が印加され、記録信号が“0”の場合は、逆極性の−
Hの磁界が印加される。この場合、電磁石9の印加磁界
は、極性が反対の極性であって、磁界の強さは同じであ
る。
を記録しようとすると、記録信号に対応して図6(b)
に示すような磁界が垂直磁化膜3のレーザ光照射部位に
印加される。即ち、記録信号が“1”の場合、+Hの磁
界が印加され、記録信号が“0”の場合は、逆極性の−
Hの磁界が印加される。この場合、電磁石9の印加磁界
は、極性が反対の極性であって、磁界の強さは同じであ
る。
【0008】このように、記録信号に対応して磁界を変
調することで、垂直磁化膜3の情報記録点であるレーザ
照射部位の磁化の方向が記録信号に応じて変化する。従
って、磁化の方向を記録信号の“1”、“0”に対応さ
せることによって、2値化データを記録することができ
る。図6(c)は、実際に垂直磁化膜3に印加される磁
界を示したもので、アクチュエータなどから発生する漏
洩磁界Hiを含んでおり、後述するように、記録ピット
に影響を与えることになる。図6(d)は、前述のよう
なレーザ光の照射、バイアス磁界の印加によって、垂直
磁化膜3上に形成された記録パターンを模式的に示した
ものである。図中、白抜きで示す部分は、磁化の方向を
上向きと定め、記録信号“1”が記録されている。ま
た、斜線で示す部分は、磁化の方向が反転した下向きで
あって、記録信号“0”が記録されている。従って、バ
イアス磁界の極性を記録信号に応じて変調するため、光
磁気ディスク1の垂直磁化膜3に、前にどのような情報
が書込まれていても、その上に重ね書きをすれば、新し
い情報を記録することができる。
調することで、垂直磁化膜3の情報記録点であるレーザ
照射部位の磁化の方向が記録信号に応じて変化する。従
って、磁化の方向を記録信号の“1”、“0”に対応さ
せることによって、2値化データを記録することができ
る。図6(c)は、実際に垂直磁化膜3に印加される磁
界を示したもので、アクチュエータなどから発生する漏
洩磁界Hiを含んでおり、後述するように、記録ピット
に影響を与えることになる。図6(d)は、前述のよう
なレーザ光の照射、バイアス磁界の印加によって、垂直
磁化膜3上に形成された記録パターンを模式的に示した
ものである。図中、白抜きで示す部分は、磁化の方向を
上向きと定め、記録信号“1”が記録されている。ま
た、斜線で示す部分は、磁化の方向が反転した下向きで
あって、記録信号“0”が記録されている。従って、バ
イアス磁界の極性を記録信号に応じて変調するため、光
磁気ディスク1の垂直磁化膜3に、前にどのような情報
が書込まれていても、その上に重ね書きをすれば、新し
い情報を記録することができる。
【0009】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、こ
のような光磁気記録装置では、図7に示すように、漏洩
磁界の発生源となるマグネットチャッキング13の永久
磁石14、アクチュエータ6の永久磁石15を有する。
そのため、電磁石9の印加磁界が零であっても、垂直磁
化膜3の記録ピット形成部位に磁界が印加された状態と
なり、悪影響を与えることになる。
のような光磁気記録装置では、図7に示すように、漏洩
磁界の発生源となるマグネットチャッキング13の永久
磁石14、アクチュエータ6の永久磁石15を有する。
そのため、電磁石9の印加磁界が零であっても、垂直磁
化膜3の記録ピット形成部位に磁界が印加された状態と
なり、悪影響を与えることになる。
【0010】図8は、図6(c)に示す光磁気ディスク
上の印加磁界を詳細に示したもので、図中〇で囲んだ部
分を拡大したものである。ここで示した実際に光磁気デ
ィスクに印加される磁界は、漏洩磁気Hiを含んだ磁界
である。以下、漏洩磁界が与える影響について説明す
る。
上の印加磁界を詳細に示したもので、図中〇で囲んだ部
分を拡大したものである。ここで示した実際に光磁気デ
ィスクに印加される磁界は、漏洩磁気Hiを含んだ磁界
である。以下、漏洩磁界が与える影響について説明す
る。
【0011】図8から明らかなように、漏洩磁界Hiが
発生すると、電磁石9のバイアス磁界±Hと打消し合う
現象が生じる。そのため、光磁気ディスク1における情
報記録点の印加磁界の零になる時刻が、本来零になるべ
き時刻に対し、ずれを生じる。これにより、実際の印加
磁界の零になる点が一方向にシフトし、通常印加磁界が
零の点を記録ピットの境界とみなせるため、ピットの長
さが記録信号の“1”と“0”で異なってしまう。図8
の例では、記録信号“1”のピットがL+L′の分だけ
短かくなり、記録信号“0”のピットはL+L′の分だ
け長くなる。また、実際に記録点に印加される磁界のピ
ーク値も、H−Hi,−H−Hiというように記録信号
によって異なってしまう。このように、記録信号の
“1”と“0”でピットの長さ、磁界の強さが異なって
しまい、記録ピットの質の低下を生じる問題があった。
発生すると、電磁石9のバイアス磁界±Hと打消し合う
現象が生じる。そのため、光磁気ディスク1における情
報記録点の印加磁界の零になる時刻が、本来零になるべ
き時刻に対し、ずれを生じる。これにより、実際の印加
磁界の零になる点が一方向にシフトし、通常印加磁界が
零の点を記録ピットの境界とみなせるため、ピットの長
さが記録信号の“1”と“0”で異なってしまう。図8
の例では、記録信号“1”のピットがL+L′の分だけ
短かくなり、記録信号“0”のピットはL+L′の分だ
け長くなる。また、実際に記録点に印加される磁界のピ
ーク値も、H−Hi,−H−Hiというように記録信号
によって異なってしまう。このように、記録信号の
“1”と“0”でピットの長さ、磁界の強さが異なって
しまい、記録ピットの質の低下を生じる問題があった。
【0012】そこでこの問題を解決するために漏洩磁界
を相殺するための一定磁界を印加したり、漏洩磁界を検
知してこれを相殺する磁界を与える(例えば、特開平3
−134803号公報)ことが提案されている。
を相殺するための一定磁界を印加したり、漏洩磁界を検
知してこれを相殺する磁界を与える(例えば、特開平3
−134803号公報)ことが提案されている。
【0013】しかし漏洩磁界の値は光ヘッド位置により
変化する。前述したように漏洩磁界はマグネットチャッ
キングに影響を受けるがこの影響は当然ディスク内周側
の方が大きい。又、ローディング機構等に用いられてい
る周囲の鋼板の形状等によっても変化する。従って一定
磁界を印加するだけでは漏洩磁界を相殺するには不十分
である。
変化する。前述したように漏洩磁界はマグネットチャッ
キングに影響を受けるがこの影響は当然ディスク内周側
の方が大きい。又、ローディング機構等に用いられてい
る周囲の鋼板の形状等によっても変化する。従って一定
磁界を印加するだけでは漏洩磁界を相殺するには不十分
である。
【0014】この点は漏洩磁界を精度よく検知できれば
解決できるが、通常漏洩磁界は10〜50ガウス程度で
あり、この程度の磁界を精度よく検知できる安価で小型
の手段は現実には存在しない。
解決できるが、通常漏洩磁界は10〜50ガウス程度で
あり、この程度の磁界を精度よく検知できる安価で小型
の手段は現実には存在しない。
【0015】本発明はこのような問題点に着目してなさ
れたもので、その目的は漏洩磁界の影響を安価な手段で
完全になくし、もって記録データの信頼性を高めるよう
にした光磁気記録装置を提供することにある。
れたもので、その目的は漏洩磁界の影響を安価な手段で
完全になくし、もって記録データの信頼性を高めるよう
にした光磁気記録装置を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、移動可
能な光ヘッドにより光磁気記録媒体にレーザ光を照射
し、この照射位置に記録信号に応じて変調したバイアス
磁界を印加して記録ピットを形成し、情報を記録する光
磁気記録装置において、媒体に印加される漏洩磁界を相
殺する手段と上記光ヘッドの少なくとも複数の走査位置
と、その各々の走査位置における上記漏洩磁界相殺手段
の設定値を記憶する手段を有することにより、安価な手
段で漏洩磁界の影響を完全になくした光磁気記録装置を
与えるものである。
能な光ヘッドにより光磁気記録媒体にレーザ光を照射
し、この照射位置に記録信号に応じて変調したバイアス
磁界を印加して記録ピットを形成し、情報を記録する光
磁気記録装置において、媒体に印加される漏洩磁界を相
殺する手段と上記光ヘッドの少なくとも複数の走査位置
と、その各々の走査位置における上記漏洩磁界相殺手段
の設定値を記憶する手段を有することにより、安価な手
段で漏洩磁界の影響を完全になくした光磁気記録装置を
与えるものである。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【0018】図1は本発明の光磁気記録装置の一実施例
を示すブロック図である。なお、図1では、従来装置と
同一部分は同一符号を付してある。
を示すブロック図である。なお、図1では、従来装置と
同一部分は同一符号を付してある。
【0019】図1において、1は基板2の表面に垂直磁
化膜3を被着し、更にその表面に保護膜4を形成した光
磁気ディスクである。光磁気ディスク1の下面には、光
ヘッド5が配設され、上面には光ヘッド5と相対向して
電磁石9が配設されている。電磁石9は、浮上ヘッド2
2に固定され、光磁気ディスク1に対して一定距離を保
つようになっている。また、光磁気ディスク1は、その
中心がマグネットチャッキングなどに回転自在に支持さ
れ、中心軸を中心に回転する構造である。
化膜3を被着し、更にその表面に保護膜4を形成した光
磁気ディスクである。光磁気ディスク1の下面には、光
ヘッド5が配設され、上面には光ヘッド5と相対向して
電磁石9が配設されている。電磁石9は、浮上ヘッド2
2に固定され、光磁気ディスク1に対して一定距離を保
つようになっている。また、光磁気ディスク1は、その
中心がマグネットチャッキングなどに回転自在に支持さ
れ、中心軸を中心に回転する構造である。
【0020】光ヘッド5は、アクチュエータ6、半導体
レーザ7、集光レンズ8から構成され、半導体レーザ7
からのレーザ光が垂直磁化膜3上に焦点を結ぶように、
アクチュエータ6により集光レンズ8が制御される。電
磁石9のコイル10には、磁界変調回路11から電流が
供給され、この電流の位相を記録信号に応じて反転する
ことで、垂直磁化膜3上のレーザ照射部位に印加するバ
イアス磁界を変調する構成である。このように、垂直磁
化膜3に局所的にレーザを照射し、このレーザ照射部位
に記録信号に応じて変調した磁界を印加することで、情
報を記録することができる。光ヘッド5と電磁石9は、
リニアモータ(不図示)により光磁気ディスク1の半径
方向に連動して移動する構造となっており、光磁気ディ
スク1が回転し、かつ光ヘッド5、電磁石9が移動する
ことで、光磁気ディスク1の指定アドレスに情報を記録
することができる。
レーザ7、集光レンズ8から構成され、半導体レーザ7
からのレーザ光が垂直磁化膜3上に焦点を結ぶように、
アクチュエータ6により集光レンズ8が制御される。電
磁石9のコイル10には、磁界変調回路11から電流が
供給され、この電流の位相を記録信号に応じて反転する
ことで、垂直磁化膜3上のレーザ照射部位に印加するバ
イアス磁界を変調する構成である。このように、垂直磁
化膜3に局所的にレーザを照射し、このレーザ照射部位
に記録信号に応じて変調した磁界を印加することで、情
報を記録することができる。光ヘッド5と電磁石9は、
リニアモータ(不図示)により光磁気ディスク1の半径
方向に連動して移動する構造となっており、光磁気ディ
スク1が回転し、かつ光ヘッド5、電磁石9が移動する
ことで、光磁気ディスク1の指定アドレスに情報を記録
することができる。
【0021】アドレスは光磁気ディスク1の作成時にあ
らかじめピット情報として成形されており、これを光ヘ
ッドによって読み出すことにより、光ヘッドの現在位置
を知ることができる。
らかじめピット情報として成形されており、これを光ヘ
ッドによって読み出すことにより、光ヘッドの現在位置
を知ることができる。
【0022】21は漏洩磁界を相殺するための電磁石で
あり19は電磁石21のコイル20に供給する電流を発
生する相殺磁界発生回路である。
あり19は電磁石21のコイル20に供給する電流を発
生する相殺磁界発生回路である。
【0023】漏洩磁界の大きさは前述したように光ヘッ
ドのディスク半径方向の位置によって異なり、例えば図
2に示すような分布となる。この漏洩磁界を相殺するた
めには図3に示した漏洩磁界と極性が反転した相殺磁界
を与えればよい。図3の相殺磁界分布を与えるために
は、例えば図4に示すような印加電流をコイル20に印
加すればよい。相殺磁界の大きさと印加電流との関係は
電磁石21の特性によって決まるが、磁界が飽和する領
域でなければリニアな関係である。
ドのディスク半径方向の位置によって異なり、例えば図
2に示すような分布となる。この漏洩磁界を相殺するた
めには図3に示した漏洩磁界と極性が反転した相殺磁界
を与えればよい。図3の相殺磁界分布を与えるために
は、例えば図4に示すような印加電流をコイル20に印
加すればよい。相殺磁界の大きさと印加電流との関係は
電磁石21の特性によって決まるが、磁界が飽和する領
域でなければリニアな関係である。
【0024】従って図2のような漏洩磁界に分布を、例
えば装置の出荷前に精密に測定しておけば図4の印加電
流とディスク半径位置つまりアドレスとの関係が決定で
きる。この関係が出荷時にメモリ18に記憶されてい
る。
えば装置の出荷前に精密に測定しておけば図4の印加電
流とディスク半径位置つまりアドレスとの関係が決定で
きる。この関係が出荷時にメモリ18に記憶されてい
る。
【0025】ディスク上に情報の記録を行なうには光ヘ
ッド5が所定のアドレス位置に移動するとともにメモリ
18より該当アドレスに対応する電流値を読み出し、こ
の値が相殺磁界発生回路19に伝えられる。
ッド5が所定のアドレス位置に移動するとともにメモリ
18より該当アドレスに対応する電流値を読み出し、こ
の値が相殺磁界発生回路19に伝えられる。
【0026】例えば図2〜図4におけるディスク半径位
置A点に記録を行なうとする。A点での漏洩磁界の大き
さを−HAとすると相殺磁界の大きさはHAとなる。メモ
リ18よりA点のアドレスに対応する印加電流IAが読
み出され相殺磁界発生回路19に伝えられる。
置A点に記録を行なうとする。A点での漏洩磁界の大き
さを−HAとすると相殺磁界の大きさはHAとなる。メモ
リ18よりA点のアドレスに対応する印加電流IAが読
み出され相殺磁界発生回路19に伝えられる。
【0027】相殺磁界発生回路19がコイル20に電流
IAを流し、電磁石21に相殺磁界HAを発生させた後に
情報の記録が開始される。
IAを流し、電磁石21に相殺磁界HAを発生させた後に
情報の記録が開始される。
【0028】この相殺磁界により光ヘッドの位置にかか
わらず漏洩磁界は完全に打ち消され、その影響を防止す
ることができる。
わらず漏洩磁界は完全に打ち消され、その影響を防止す
ることができる。
【0029】なお漏洩磁界の測定値は1機種について一
つの代表的な分布値を全台数に用いてもよいし、出荷時
に1台、1台測定すればさらに相殺の精度を高めること
ができる。又、本装置をコンピュータなどに内蔵して使
用する場合には内蔵させた状態で測定した方が精度を高
めることができる。
つの代表的な分布値を全台数に用いてもよいし、出荷時
に1台、1台測定すればさらに相殺の精度を高めること
ができる。又、本装置をコンピュータなどに内蔵して使
用する場合には内蔵させた状態で測定した方が精度を高
めることができる。
【0030】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば安価
な手段により光ヘッドがどのような位置にあってもその
位置での漏洩磁界を打ち消す相殺磁界を与えられるよう
にしたので、光ヘッドの位置にかかわらずバイアス磁界
が無印加の時には記録媒体上の磁界を0にすることがで
きる。従ってバイアス磁界の正負の極性の磁界強度を同
じになるように補正できるため、従来のような記録信号
の“1”、“0”によって記録ピットの長さが異なると
いう問題点を解決でき、記録信号を正確に記録ピットと
して形成できる効果がある。
な手段により光ヘッドがどのような位置にあってもその
位置での漏洩磁界を打ち消す相殺磁界を与えられるよう
にしたので、光ヘッドの位置にかかわらずバイアス磁界
が無印加の時には記録媒体上の磁界を0にすることがで
きる。従ってバイアス磁界の正負の極性の磁界強度を同
じになるように補正できるため、従来のような記録信号
の“1”、“0”によって記録ピットの長さが異なると
いう問題点を解決でき、記録信号を正確に記録ピットと
して形成できる効果がある。
【図1】本発明の光磁気記録装置の一例を示すブロック
図。
図。
【図2】ディスクの径方向における漏洩磁界の大きさを
示す図。
示す図。
【図3】ディスクの径方向における相殺磁界の大きさを
示す図。
示す図。
【図4】ディスクの径方向における漏洩磁界相殺手段へ
の印加電流の大きさを示す図。
の印加電流の大きさを示す図。
【図5】従来の光磁気記録装置を示すブロック図。
【図6】図5図示の装置の記録動作を説明する図。
【図7】図5図示の装置の漏洩磁界発生源を説明する
図。
図。
【図8】漏洩磁界による影響を説明する図。
Claims (1)
- 【請求項1】 移動可能な光ヘッドにより光磁気記録媒
体にレーザ光を照射し、この照射位置に記録信号に応じ
て変調したバイアス磁界を印加して記録ピットを形成
し、情報を記録する光磁気記録装置において、 媒体に印加される漏洩磁界を相殺する手段と上記光ヘッ
ドの少なくとも複数の走査位置と、その各々の走査位置
における上記漏洩磁界相殺手段の設定値を記憶する手段
を有することを特徴とする光磁気記録装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22286692A JPH0668402A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 光磁気記録装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22286692A JPH0668402A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 光磁気記録装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0668402A true JPH0668402A (ja) | 1994-03-11 |
Family
ID=16789121
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22286692A Pending JPH0668402A (ja) | 1992-08-21 | 1992-08-21 | 光磁気記録装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0668402A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0817183A2 (en) * | 1995-04-07 | 1998-01-07 | Discovision Associates | Method and apparatus for controlling bias levels in a magneto-optical recording device |
-
1992
- 1992-08-21 JP JP22286692A patent/JPH0668402A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0817183A2 (en) * | 1995-04-07 | 1998-01-07 | Discovision Associates | Method and apparatus for controlling bias levels in a magneto-optical recording device |
EP0817183A3 (en) * | 1995-04-07 | 1998-02-11 | Discovision Associates | Method and apparatus for controlling bias levels in a magneto-optical recording device |
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