JPH0667042A - 光導波路および形成方法 - Google Patents

光導波路および形成方法

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JPH0667042A
JPH0667042A JP4219034A JP21903492A JPH0667042A JP H0667042 A JPH0667042 A JP H0667042A JP 4219034 A JP4219034 A JP 4219034A JP 21903492 A JP21903492 A JP 21903492A JP H0667042 A JPH0667042 A JP H0667042A
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JP
Japan
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core
optical waveguide
optical
clad
refractive index
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JP4219034A
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English (en)
Inventor
Koji Okamura
浩司 岡村
Tadao Arima
忠夫 有馬
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 光部品の機能を集積する光導波路および形成
方法に関し、高性能で多機能な光導波路および形成方法
を得ることを目的とする。 【構成】 光導波路10のクラッド11上には、コア1
2および13が形成されている。光導波路10では、コ
ア13の曲がり部13bには、溶液6が含浸されてお
り、他の部分よりも屈折率差が大きくなっている。この
ため、曲がり部13bを通過する光の放射光損失は減少
する。一方、他のコア部分12a,12b,13c等
は、通常の比屈折率差(0.3%)のままなので、各光
ファイバ14,15,16との接続損失を増大させるこ
とはない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光部品の機能を集積する
光導波路および形成方法に関し、特に基板上にクラッド
やコアの薄膜を形成することにより構成される光導波路
および形成方法に関する。
【0002】近年、光ファイバ用の光分岐結合器(光カ
ップラ)等には、平板上の光導波路が使用されるように
なっている。
【0003】
【従来の技術】図4は従来の光導波路の形成方法を示す
図である。まず、火炎法により、シリコン基板31上に
スート状のクラッド32を形成する。このスートの堆積
は、酸水素バーナ33により、酸素(O2 )に四酸化ケ
イ素(SiCl4 )、三塩化ホスホリル(POCl3
等を混合した混合気体を水素(H2 )と反応させ、燃焼
させることにより行う(ステップS11)。
【0004】次に、スート堆積により形成したクラッド
32を加熱してガラス化し、その上からクラッド32と
同様の方法によりコア34を形成する。ただし、この場
合、酸水素バーナ33で反応させる酸素の混合気体に
は、二酸化ゲルマニウム(GeO2 )が添加されてい
る。これにより、コア34の方がクラッド32よりも屈
折率が0.3%ほど高くなる(ステップS12) 次に、こうして形成されたコア34をエッチングし、所
望のパターン341,342を形成する(ステップS1
3)。さらに、その上からクラッド32と同じ成分を持
つクラッド35を、前述同様の方法により形成する(ス
テップS14)。
【0005】図5はこのような従来の方法により形成さ
れた光導波路の平面図である。ここでは、分波器として
用いられる光導波路41の例を示す。光導波路41のク
ラッド42上には、コア43および44が形成されてい
る。このコア43の入力端43aには光ファイバ45
が、一方、出力端43bには光ファイバ46が接続され
ている。コア44は、一端44aがコア43と接近して
平行に形成されている。コア44の残りの部分は曲がり
部44bを介して逆向きになっており、他端部44cに
は光ファイバ47が接続されている。
【0006】この光導波路41には、光ファイバ45か
ら例えば波長1.30μmおよび1.55μmの2つの
光が入射される。これらの光のうち、波長1.55μm
の光はコア43の途中からコア44の一端44aに分離
して、光ファイバ47から出力される。そして、残った
波長1.30μmの光が光ファイバ46から出力され
る。
【0007】また、図5のものとは異なり、光導波路を
光増幅器に使用したものがある。これは、コアにエルビ
ウム(Er)等の希土類元素を含有させ、入力光を励起
光で増幅させるものである。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】図5の光導波路41で
は、各光ファイバ45,46,47との接続損失を少な
くするため、コア43および44の屈折率を小さくする
ことによりクラッド42との比屈折率差を小さく(約
0.3%)している。しかし、比屈折率差を小さくする
と、曲がり部44bでは逆に放射光損失が大きくなって
しまい、波長1.55μmの光の出力が大きく低下する
ことになる。このため、光導波路全体の性能が低下する
という問題点があった。
【0009】一方、光導波路を光増幅器として使用する
場合には、入力光と励起光の合波部まで希土類を含有さ
せると効率が悪くなるので、従来の技術では、合波部と
増幅部とを別々に形成して接合させる必要があった。こ
のため製造効率および品質の低下を招いていた。
【0010】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、高性能で多機能な光導波路および形成方法を
提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】図1は上記目的を達成す
る本発明の光導波路の原理図である。本発明の光導波路
は、コア13の曲がり部分13bに屈折率がコア13の
他の部分よりも大きくなるようなドープ材が含浸されて
いる。
【0012】図3は本発明の光導波路の他の原理図であ
る。光増幅路となるコア21bのみに希土類元素が含有
されている。図2は本発明の光導波路の形成方法を示す
原理図である。クラッド2上に火炎堆積されたスート状
のコア3の所定範囲部分3aに、ドープ材を含む溶液を
含浸させ(ステップS1)、スート状のコア3全体をガ
ラス化する(ステップS2)。
【0013】
【作用】コア13の曲がり部分13aに屈折率がコア1
3の他の部分よりも大きくなるようなドープ材が含浸さ
れることにより、光ファイバとの接続損失を増大させる
ことなく曲がり部分13aの放射損失を低下させること
ができる。
【0014】また、光増幅路となるコアのみに希土類元
素が含有されることにより、希土類元素を必要としない
部分も一体に形成することができる。また、スート状の
コア3の所定範囲部分3aにドープ材を含む溶液を含浸
させることにより、他の部分と異なる成分のコアを容易
にかつ正確に形成することができる。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図2は本実施例の光導波路の形成方法を示す図
である。ステップS1では、まず、シリコン基板1上に
形成されたクラッド2を形成する。これは、図示されて
いない酸水素バーナにより、酸素(O2 )に四酸化ケイ
素(SiCl4 )、三塩化ホスホリル(POCl3 )等
を混合した混合気体を水素(H2 )と反応させ、燃焼さ
せながらシリコン基板1に吹き付けてスート堆積させ、
これを1200°Cぐらいの高温で加熱してガラス化す
ることにより行う。
【0016】次に、形成されたクラッド2の上にクラッ
ド2と同様の方法によってスート状のコア3を形成す
る。ただし、この場合、酸水素バーナで反応させる酸素
の混合気体には、二酸化ゲルマニウム(GeO2 )が添
加されている。これにより、クラッド2よりもコア3の
方が屈折率が0.3%ほど高くなる。
【0017】スート状のコア3の上からは、所定部分に
開口部4aの形成されたマスク4が被せられる。そし
て、マスク4の上からは、組成変化用の溶液6がスプレ
ー5によって霧状に吹き付けられる。溶液6は、ゲルマ
ニウム(Ge)を含んだアルコキシド溶液、例えばアル
コールに四メチル酸ゲルマニウム(Ge(OC
3 4)を1000ppm程溶かした溶液であり、ス
ート状のコア3には約1ccが吹き付けられ、含浸され
る。
【0018】ステップS2では、コア3をガラス化す
る。ガラス化されたコア3では、溶液6が含浸した含浸
部分3aの二酸化ゲルマニウムの濃度が、コア3の他の
部分よりも高くなっている。これにより、クラッド2と
比べた屈折率が0.7%程度に高くなる。
【0019】こうして、コア3が形成された光導波路
は、コア3を所望の形状にパターン化し、その上からク
ラッドを形成することにより完成する。このように、本
実施例では、スート状のコア3に成分の異なる溶液6を
吹き付けるようにしたので、バーナ送りの時点で混合気
体の組成変化を行う必要がない。このため、性質の異な
る含浸部分3aを容易に形成することができる。
【0020】また、本実施例では、含浸部分3aを形成
する際にマスク4を使用したので、所望の部分のみに確
実に溶液6を吹き付けることができる。このため、高品
質が得られる。
【0021】図1は本実施例の方法で形成した光導波路
の一例を示す平面図である。分波器として用いられる光
導波路10のクラッド11上には、コア12および13
が形成されている。このコア12の入力端12aには光
ファイバ14が、出力端12bには光ファイバ15が接
続されている。コア13は、一端13aがコア12と平
行にかつ接近するように形成されている。コア13の残
りの部分は曲がり部13bを介して逆向きになってお
り、その他端部13cには光ファイバ16が接続されて
いる。
【0022】この光導波路10には、光ファイバ14か
ら例えば波長1.30μmおよび1.55μmの2つの
光が入射される。これらの光のうち、波長1.55μm
の光はコア12の途中からコア13の一端13aに分離
して、光ファイバ16から出力される。そして、残った
波長1.30μmの光が光ファイバ15から出力され
る。
【0023】ところで、光導波路10では、所定範囲1
0a内のコア部分のみに図2で示したマスク処理がなさ
れている。すなわち、コア12の中心部12cとコア1
3の曲がり部13bには、溶液6が含浸されており、他
の部分よりも屈折率差が大きくなっている。このため、
曲がり部13bを通過する光の放射光損失は減少する。
一方、他のコア部分12a,12b,13c等は、通常
の比屈折率差(0.3%)のままなので、各光ファイバ
14,15,16との接続損失を増大させることはな
い。
【0024】図3は本発明の他の実施例を示す平面図で
ある。光導波路20は、光増幅器として用いられるもの
であり、クラッド27上にはコア21および22が形成
されている。これらクラッド27、コア21および22
は、概ね図2の方法と同様の方法により形成されてい
る。コア21の入力側端部21aには光ファイバ23が
接続されている。また、コア21の出力側は、3本の出
力用コア21c,21d,21eに分かれており、それ
ぞれ光ファイバ24,25,26が接続されている。コ
ア22は励起光の導入路であり、コア21に励起光LD
を与える。
【0025】光導波路20では、その中央部分20aに
図2で示したマスク処理がなされている。ただし、ここ
で使用する溶液6には、ゲルマニウムの代わりにエルビ
ウム(Er)等の希土類を含む溶液、例えば三塩化エル
ビウム(ErCl3 )のアルコール溶液が使用されてい
る。これにより、コア21の中央部21bには、数千p
pmのエルビウムが含浸されている。
【0026】このように構成される光導波路20では、
光ファイバ23から入力側端部21aに波長1.55μ
mの信号光が入力され、一方コア22からは波長1.4
8μmの励起光LDが入力される。信号光はコア21内
で励起光LDにより励起される。そして、エルビウムが
含浸されている中央部21cでは励起光LDが吸収さ
れ、増幅された信号光だけが出力用コア21c,21
d,21eに分配され各光ファイバ24,25,26に
出力される。
【0027】このように、希土類を含むアルコール溶液
をコア21の一部に含有させることにより、分波器と一
体化した導波路型増幅デバイスを形成することができ
る。
【0028】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、コアの
曲がり部分に屈折率が他の部分よりも大きくなるような
ドープ材を含浸するようにしたので、光ファイバとの接
続損失を増大させることなく曲がり部分の放射損失を低
下させることができる。したがって、光導波路の性能を
保持できる。
【0029】また、光増幅路となるコアのみに希土類元
素を含有するようにしたので、希土類元素を必要としな
い部分も一体に形成することができる。したがって、製
造効率および品質が向上する。
【0030】また、スート状のコアの所定範囲部分にド
ープ材を含む溶液を含浸させることにより、他の部分と
異なる成分のコアを容易にかつ正確に形成することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光導波路の原理図である。
【図2】本発明の光導波路の形成方法を示す原理図であ
る。
【図3】本発明の他の実施例を示す平面図である。
【図4】従来の光導波路の形成方法を示す図である。
【図5】従来の方法により形成された光導波路の平面図
である。
【符号の説明】
1 基板 2,11 クラッド 3,12,13 コア 4 マスク 5 スプレー 6 溶液 10 光導波路

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光部品の機能を集積する光導波路におい
    て、 コア(13)の曲がり部分(13b)に屈折率が前記コ
    ア(13)の他の部分よりも大きくなるようなドープ材
    が含浸されている、 ことを特徴とする光導波路。
  2. 【請求項2】 前記ドープ材はアルコキシド溶液である
    ことを特徴とする請求項1記載の光導波路。
  3. 【請求項3】 光部品の機能を集積する光導波路におい
    て、 光増幅路となるコア(21b)のみに希土類元素が含有
    されていることを特徴とする光導波路。
  4. 【請求項4】 前記希土類元素はエルビウム(Er)で
    あることを特徴とする請求項3記載の光導波路。
  5. 【請求項5】 光部品の機能を集積する光導波路の形成
    方法において、 クラッド(2)上に火炎堆積されたスート状のコア
    (3)の所定範囲部分(3a)にドープ材を含む溶液を
    含浸させ(ステップS1)、 前記スート状のコア(3)全体をガラス化する(ステッ
    プS2)、 ことを特徴とする光導波路の形成方法。
  6. 【請求項6】 前記所定範囲部分(3a)以外の部分に
    はマスク(4)をして前記溶液を含浸させるようにした
    ことを特徴とする請求項5記載の光導波路の形成方法。
JP4219034A 1992-08-18 1992-08-18 光導波路および形成方法 Withdrawn JPH0667042A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2767927A1 (fr) * 1997-08-26 1999-03-05 Samsung Electronics Co Ltd Guide d'ondes optique hybride et son procede de fabrication
JP2013181283A (ja) * 2012-02-29 2013-09-12 Hideaki Yamagishi 摩擦低減金属シートユニット、構造躯体、構造躯体を使用したケーソン工法および構造躯体を使用したアンダーパス工法

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Effective date: 19991102