JPH066563B2 - 新規ジアミン化合物及びその製造法 - Google Patents
新規ジアミン化合物及びその製造法Info
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- JPH066563B2 JPH066563B2 JP9189289A JP9189289A JPH066563B2 JP H066563 B2 JPH066563 B2 JP H066563B2 JP 9189289 A JP9189289 A JP 9189289A JP 9189289 A JP9189289 A JP 9189289A JP H066563 B2 JPH066563 B2 JP H066563B2
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- JP
- Japan
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- mmol
- bis
- hydroxyisophthalamide
- phenyl
- methanol
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なジアミン化合物、特に高分子合成用モ
ノマーとして有用なジアミン化合物及びその製造法に関
する。
ノマーとして有用なジアミン化合物及びその製造法に関
する。
従来ジアミン化合物は、耐熱性を目的としたポリイミド
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の原料
として、またエポキシ化合物等の硬化剤、更には染料等
の中間体として広く利用されている。
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の原料
として、またエポキシ化合物等の硬化剤、更には染料等
の中間体として広く利用されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、現在汎用されている4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテルや4,4′−ジアミノジフェニルメタン等の芳
香族ジアミンは、これからポリイミド樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリアミドイミド樹脂等を製造した場合、得られ
る樹脂は、耐熱性は良好であるが、成形性等に難点があ
る。そこで、これらの長所、短所のバランスをとるため
にエポキシ樹脂とポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リアミドイミド樹脂等との複合化が検討されているが、
まだ不十分な状況である。その主な障害は、得られる樹
脂が溶媒に不溶もしくは溶けにくくなること、及び得ら
れる樹脂とエポキシ樹脂が所望の組成で均一に混合しな
いため期待する特性が発現しないことにあった。
ルエーテルや4,4′−ジアミノジフェニルメタン等の芳
香族ジアミンは、これからポリイミド樹脂、ポリアミド
樹脂、ポリアミドイミド樹脂等を製造した場合、得られ
る樹脂は、耐熱性は良好であるが、成形性等に難点があ
る。そこで、これらの長所、短所のバランスをとるため
にエポキシ樹脂とポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポ
リアミドイミド樹脂等との複合化が検討されているが、
まだ不十分な状況である。その主な障害は、得られる樹
脂が溶媒に不溶もしくは溶けにくくなること、及び得ら
れる樹脂とエポキシ樹脂が所望の組成で均一に混合しな
いため期待する特性が発現しないことにあった。
本発明の目的は、エポキシ化合物に対する活性点を有
し、エポキシ樹脂と複合化できるポリイミド樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の原料として有用
なジアミン化合物を提供することにある。
し、エポキシ樹脂と複合化できるポリイミド樹脂、ポリ
アミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂等の原料として有用
なジアミン化合物を提供することにある。
本発明は、一般式 (式中Zは直接結合、酸素原子、硫黄原子、基 −CH2−、−SO−又は−SO2−、R1及びR2は水素原子、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトリル基、アルコキ
シ基又は水酸基を示す)で表わされるジアミン化合物で
ある。
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトリル基、アルコキ
シ基又は水酸基を示す)で表わされるジアミン化合物で
ある。
個々のR1及びR2は同一でも異なっていてもよい。
式(1)で表わされる化合物としては、例えば下記の化合
物があげられる。N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタ
ルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルス
ルフィニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソ
フタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニ
ルスルフェニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシ
イソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフ
ェニルスルホニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキ
シイソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノ
フェニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフ
タルアミド、N,N′−〔4−(4−アミノベンゾイル)
フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノベンジル)フェニ
ル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,
N′−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕
−5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3
−(3−アミノフェニルスルフィニル)フェニル〕−5
−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−
(3−アミノフェニルスルフェニル)フェニル〕−5−
ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−(3
−アミノフェニルスルホニル)フェニル〕−5−ヒドロ
キシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−(3−アミ
ノフェニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルア
ミド、N,N′−ビス〔3−(3−アミノベンゾイル)フ
ェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−
ビス〔3−(3−アミノベンジル)フェニル〕−5−ヒ
ドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフ
タルアミド−N,N′ビス〔4−(4−アミノフェニルス
ルフィニル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルア
ミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフ
ェニル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミド、N,
N′−ビス〔4−(4−アミノフェニル)フェニル〕−
2−ヒドロキシテレフタルアミド、N,N′−ビス〔4−
(4−アミノベンゾイル)フェニル〕−2−ヒドロキシ
テレフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノベ
ンジル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)−
4−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(3−アミノ−6−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔3−(3−アミノ−6−メチルフ
ェノキシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイ
ソフタルアミド等。
物があげられる。N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタ
ルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルス
ルフィニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソ
フタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニ
ルスルフェニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシ
イソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフ
ェニルスルホニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキ
シイソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノ
フェニル)フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフ
タルアミド、N,N′−〔4−(4−アミノベンゾイル)
フェニル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノベンジル)フェニ
ル〕−4−又は5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,
N′−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕
−5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3
−(3−アミノフェニルスルフィニル)フェニル〕−5
−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−
(3−アミノフェニルスルフェニル)フェニル〕−5−
ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−(3
−アミノフェニルスルホニル)フェニル〕−5−ヒドロ
キシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔3−(3−アミ
ノフェニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルア
ミド、N,N′−ビス〔3−(3−アミノベンゾイル)フ
ェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド、N,N′−
ビス〔3−(3−アミノベンジル)フェニル〕−5−ヒ
ドロキシイソフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−
アミノフェノキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフ
タルアミド−N,N′ビス〔4−(4−アミノフェニルス
ルフィニル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルア
ミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフ
ェニル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミド、N,
N′−ビス〔4−(4−アミノフェニル)フェニル〕−
2−ヒドロキシテレフタルアミド、N,N′−ビス〔4−
(4−アミノベンゾイル)フェニル〕−2−ヒドロキシ
テレフタルアミド、N,N′−ビス〔4−(4−アミノベ
ンジル)フェニル〕−2−ヒドロキシテレフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)−
4−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔4−(3−アミノ−6−メチルフ
ェノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミ
ド、N,N′−ビス〔3−(3−アミノ−6−メチルフ
ェノキシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイ
ソフタルアミド等。
式(1)のジアミン化合物は、一般式 (式中の記号は前記の意味を有する)で表わされるニト
ロアミン化合物をジカルボン酸又はその誘導体と反応さ
せ、得られる一般式 (式中の記号は前記の意味を有する)で表わされるジニ
トロ化合物を還元することにより製造できる。
ロアミン化合物をジカルボン酸又はその誘導体と反応さ
せ、得られる一般式 (式中の記号は前記の意味を有する)で表わされるジニ
トロ化合物を還元することにより製造できる。
基Zが酸素原子又は硫黄原子である式(2)の化合物は、
ウイリアムソンの方法(例えばジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイエティー61巻2764
頁以下1939年に記載の方法)により製造できる。
ウイリアムソンの方法(例えばジャーナル・オブ・ザ・
アメリカン・ケミカル・ソサイエティー61巻2764
頁以下1939年に記載の方法)により製造できる。
基Zが−SO−又は−SO2−である式(2)の化合物は、Zが
硫黄原子である式(2)の化合物を酸化することにより得
られる。酸化剤としては例えば過酸化水素、過沃素酸ナ
トリウム等が用いられる。Zが−SO−である式(2)の化
合物は例えば過酸化水素水を用い、低温で酸化すること
により得られる。Zが−SO2−である化合物は、高温で
酸化することにより得られる。
硫黄原子である式(2)の化合物を酸化することにより得
られる。酸化剤としては例えば過酸化水素、過沃素酸ナ
トリウム等が用いられる。Zが−SO−である式(2)の化
合物は例えば過酸化水素水を用い、低温で酸化すること
により得られる。Zが−SO2−である化合物は、高温で
酸化することにより得られる。
基Zが直接結合、−CO−又は−CH2−である式(2)の化合
物は、フリーデルークラフツの方法〔例えばヘーミッシ
ェ・ベリヒテ17巻419頁以下及び2320頁以下
(1884年)に記載の方法〕により製造できる。
物は、フリーデルークラフツの方法〔例えばヘーミッシ
ェ・ベリヒテ17巻419頁以下及び2320頁以下
(1884年)に記載の方法〕により製造できる。
基Zが酸素原子である式(2)の化合物は例えばアミノフ
ェノール誘導体をハロゲン化ニトロベンゼン誘導体と反
応させることにより得られる。
ェノール誘導体をハロゲン化ニトロベンゼン誘導体と反
応させることにより得られる。
アミノフェノール誘導体の例としては、o−、m−又は
p−アミノフェノール、2−、3−又は5−メチル−4
−アミノフェノール、4−メチル−3−アミノフェノー
ル、3,5−又は2,6−ジメチル−4−アミノフェノール、
3−又は5−n−ブチル−4−アミノフェノール、5−
アミノ−2−メチルフェノール及びその誘導体等であ
る。
p−アミノフェノール、2−、3−又は5−メチル−4
−アミノフェノール、4−メチル−3−アミノフェノー
ル、3,5−又は2,6−ジメチル−4−アミノフェノール、
3−又は5−n−ブチル−4−アミノフェノール、5−
アミノ−2−メチルフェノール及びその誘導体等であ
る。
ハロゲン化ニトロベンゼン誘導体の例としては、o−、
m−又はp−クロロニトロベンゼン、2−又は3−メチ
ル−4−クロロニトロベンゼン、3−、4−、5−又は
6−メチル−2−クロロニトロベンゼン、2,6−又は3,5
−ジメチル−4−クロロニトロベンゼン、2−又は3−
n−ブチル−4−クロロニトロベンゼン、2−クロロ−
4−ニトロトルエン及びその誘導体等である。
m−又はp−クロロニトロベンゼン、2−又は3−メチ
ル−4−クロロニトロベンゼン、3−、4−、5−又は
6−メチル−2−クロロニトロベンゼン、2,6−又は3,5
−ジメチル−4−クロロニトロベンゼン、2−又は3−
n−ブチル−4−クロロニトロベンゼン、2−クロロ−
4−ニトロトルエン及びその誘導体等である。
アミノフェノール誘導体とハロゲン化ニトロベンゼン誘
導体との反応は、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、ナトリウムアミド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、トリエチルアミン、酸化バリウム、酸化銀、水素化
ナトリウム等の塩基の存在下に溶媒中で行うことが好ま
しい。またアミノフェノール誘導体をフェノキシドと
し、これとハロゲン化ニトロベンゼン誘導体とを溶媒中
で反応させることもできる。
導体との反応は、通常、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、ナトリウムアミド、炭酸カリウム、炭酸ナトリウ
ム、トリエチルアミン、酸化バリウム、酸化銀、水素化
ナトリウム等の塩基の存在下に溶媒中で行うことが好ま
しい。またアミノフェノール誘導体をフェノキシドと
し、これとハロゲン化ニトロベンゼン誘導体とを溶媒中
で反応させることもできる。
溶媒としては、トルエン、ベンゼン、テトラヒドロフラ
ン、アセトン、エーテル、水、メタノール、エタノー
ル、ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド等が用いられる。
ン、アセトン、エーテル、水、メタノール、エタノー
ル、ブタノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド等が用いられる。
反応温度は、通常室温ないし還流温度の範囲であればよ
く、特に80〜130℃の範囲が好ましい。
く、特に80〜130℃の範囲が好ましい。
反応は通常数分ないし24時間で終了する。
生成したニトロアミン化合物は、反応混合物を濃縮後、
水中に注ぎ入れることによって、沈殿物として単離する
ことができ、単離後、洗浄、乾燥等を行うことができ
る。
水中に注ぎ入れることによって、沈殿物として単離する
ことができ、単離後、洗浄、乾燥等を行うことができ
る。
ニトロアミン化合物(2)をジカルボン酸又はその誘導体
と反応させるとジニトロ化合物(3)が得られる。
と反応させるとジニトロ化合物(3)が得られる。
ジカルボン酸又はその誘導体としては、次式 で表わされる芳香族ジカルボン酸例えば2−ヒドロキシ
イソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、5−ヒド
ロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸、3
−ヒドロキシフタル酸、4−ヒドロキシフタル酸及びこ
れらの誘導体例えば酸ハロゲン化物、エステル等があげ
られる。
イソフタル酸、4−ヒドロキシイソフタル酸、5−ヒド
ロキシイソフタル酸、2−ヒドロキシテレフタル酸、3
−ヒドロキシフタル酸、4−ヒドロキシフタル酸及びこ
れらの誘導体例えば酸ハロゲン化物、エステル等があげ
られる。
ジカルボン酸とニトロアミンとの反応は、通常は縮合剤
は存在下に溶媒中で行われる。
は存在下に溶媒中で行われる。
溶媒としては、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン、アセトニトリル、ピリジン、テトラ
ヒドロフラン、無水酢酸、ジクロロメタン、ヘキサン、
シクロヘキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等が用いられ
る。
ジクロロベンゼン、アセトニトリル、ピリジン、テトラ
ヒドロフラン、無水酢酸、ジクロロメタン、ヘキサン、
シクロヘキサン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−ピ
ロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等が用いられ
る。
必要に応じて、プロトン性溶媒の溶媒和力を増加させる
ために、また副反応を抑制するために、塩化リチウム、
塩化カルシウム等の無機塩類を反応系に添加することも
できる。
ために、また副反応を抑制するために、塩化リチウム、
塩化カルシウム等の無機塩類を反応系に添加することも
できる。
縮合剤としては、亜リン酸トリフェニル、亜リン酸ジフ
ェニル、亜リン酸トリ−o−トリル、亜リン酸ジ−o−
トリル、亜リン酸トリ−m−トリル、亜リン酸ジ−m−
トリル、亜リン酸トリ−p−トリル、亜リン酸ジ−p−
トリル、亜リン酸ジ−o−クロロフェニル、亜リン酸ト
リ−p−クロロフェニル、亜リン酸ジ−p−クロロフェ
ニル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、リン酸トリフ
ェニル、ホスホン酸ジフェニル等が用いられる。
ェニル、亜リン酸トリ−o−トリル、亜リン酸ジ−o−
トリル、亜リン酸トリ−m−トリル、亜リン酸ジ−m−
トリル、亜リン酸トリ−p−トリル、亜リン酸ジ−p−
トリル、亜リン酸ジ−o−クロロフェニル、亜リン酸ト
リ−p−クロロフェニル、亜リン酸ジ−p−クロロフェ
ニル、ジシクロヘキシルカルボジイミド、リン酸トリフ
ェニル、ホスホン酸ジフェニル等が用いられる。
反応温度は、60〜150℃の範囲が好ましい。反応は
通常、数分間ないし24時間で終了する。
通常、数分間ないし24時間で終了する。
場合によっては、過剰のニトロアミンを用いたり、反応
溶液を高温に加熱したり、あるいは生成する水を除去し
て、平衡を生成系にずらす反応条件を用いてもよい。
溶液を高温に加熱したり、あるいは生成する水を除去し
て、平衡を生成系にずらす反応条件を用いてもよい。
生成したジニトロ化合物(3)は、反応混合液をメタノー
ル中に注ぎ入れることによって、沈殿物として単離する
ことができ、単離後、洗浄、乾燥等を行うことができ
る。
ル中に注ぎ入れることによって、沈殿物として単離する
ことができ、単離後、洗浄、乾燥等を行うことができ
る。
ニトロ化合物(3)の還元には、接触還元法(接触水素添
加法)、酸性還元法、塩基性還元法などが用いられる。
加法)、酸性還元法、塩基性還元法などが用いられる。
接触水素添加法による還元は、水素雰囲気下、触媒の存
在下に溶媒中で行われる。
在下に溶媒中で行われる。
触媒としては、パラジウム付活性炭、パラジウム付炭酸
ストロンチウム、パラジウム付水素化ホウ素ナトリウ
ム、酸化白金(IV)、ラネーニッケル、酸化レニウム等の
金属触媒が用いられる。金属触媒の使用量は、前記ジニ
トロ化合物の5〜10重量%が好ましい。
ストロンチウム、パラジウム付水素化ホウ素ナトリウ
ム、酸化白金(IV)、ラネーニッケル、酸化レニウム等の
金属触媒が用いられる。金属触媒の使用量は、前記ジニ
トロ化合物の5〜10重量%が好ましい。
溶媒としては、エタノール、メタノール、酢酸、ジオキ
サン、シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、ジメチルホルムアミド等が用いられる。特にジ
メチルホルムアミドが好ましい。
サン、シクロヘキサン、水、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、ジメチルホルムアミド等が用いられる。特にジ
メチルホルムアミドが好ましい。
反応温度は、通常室温ないし還流温度の範囲であればよ
く、特に25〜50℃が好ましい。反応は、通常4〜4
8時間で終了する。
く、特に25〜50℃が好ましい。反応は、通常4〜4
8時間で終了する。
生成したジアミンは、水溶液中で沈殿物として得ること
ができ、エタノールを用いて再結晶することにより精製
できる。
ができ、エタノールを用いて再結晶することにより精製
できる。
本発明のジアミン化合物は、特にエポキシ化合物等に対
する活性点を必要とする高分子材料用のモノマーとして
有用である。
する活性点を必要とする高分子材料用のモノマーとして
有用である。
実施例1 (A)ナトリウムp−アミノフェノキシド42.7g(326
ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.8g(81ミ
リモル)の水200ml水溶液を、8時間還流した。水蒸
気蒸留でp−クロロニトロベンゼンを除去した後、析出
した固形物を別し、メタノールを用いて再結晶し、4
−ニトロ−4′−アミノジフェニルエーテルを14.5g
(収率;78%)得た。
ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.8g(81ミ
リモル)の水200ml水溶液を、8時間還流した。水蒸
気蒸留でp−クロロニトロベンゼンを除去した後、析出
した固形物を別し、メタノールを用いて再結晶し、4
−ニトロ−4′−アミノジフェニルエーテルを14.5g
(収率;78%)得た。
元素分析値:C12H10N2として C H N 計算値(%) 62.61 4.38 12.17 実測値(%) 65.59 4.41 12.12 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1524、13481 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 3.50(2H、s) 6.52〜8.23(8H、m) (B)4−ニトロ−4′−アミノジフェニルエーテル46
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールで洗浄した後、乾燥し、N,
N′−ビス〔4−(4−ニトロフェノキシ)フェニル〕
−5−ヒドロキシイソフタルアミドを51.6g(収率;8
5%)得た。
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールで洗浄した後、乾燥し、N,
N′−ビス〔4−(4−ニトロフェノキシ)フェニル〕
−5−ヒドロキシイソフタルアミドを51.6g(収率;8
5%)得た。
元素分析値:C32H22N4として C H N 計算値(%) 63.37 3.56 9.24 実測値(%) 63.31 3.48 9.33 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3255、1667、1520、13481 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 6.46〜8.81(19H、m) 11.10(2H、s) (C)N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェノキシ)フェニ
ル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド29g(48ミ
リモル)、パラジウム付活性炭2gとジメチルホルムア
ミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、50℃で12時
間加熱した。パラジウム付活性炭を別後、液を水1
000ml中に注ぎ入れた。析出した固形物を別し、乾
燥後、メタノールを用いてソックスレー抽出を行った。
抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、N,N′−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−5−ヒド
ロキシイソフタルアミドを17.8g(収率;68%)得
た。
ル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド29g(48ミ
リモル)、パラジウム付活性炭2gとジメチルホルムア
ミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、50℃で12時
間加熱した。パラジウム付活性炭を別後、液を水1
000ml中に注ぎ入れた。析出した固形物を別し、乾
燥後、メタノールを用いてソックスレー抽出を行った。
抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、N,N′−ビス
〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕−5−ヒド
ロキシイソフタルアミドを17.8g(収率;68%)得
た。
元素分析値:C32H26N4として C H N 計算値(%) 70.32 4.79 10.25 実測値(%) 70.25 4.71 10.19 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3213、16591 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 3.46(4H、s) 6.41〜8.33(19H、m) 9.98(2H、s) 実施例2 (A)ナトリウムp−アミノチオフェノキシド48g(3
26ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.8g(8
1ミリモル)の水200ml水溶液を、8時間還流した。
水蒸気蒸留でp−クロロニトロベンゼンを除去した後、
析出した固形物を別し、メタノールを用いて再結晶
し、4−ニトロ−4′−アミノジフェニルスルフィドを
16g(収率;80%)得た。
26ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.8g(8
1ミリモル)の水200ml水溶液を、8時間還流した。
水蒸気蒸留でp−クロロニトロベンゼンを除去した後、
析出した固形物を別し、メタノールを用いて再結晶
し、4−ニトロ−4′−アミノジフェニルスルフィドを
16g(収率;80%)得た。
元素分析値:C12H10N2として C H N 計算値(%) 58.52 4.09 11.38 実測値(%) 58.60 3.99 11.34 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1550、13381 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.83(2H、s) 6.55〜8.00(8H、m) (B)4−ニトロ−4′−アミノジフェニルスルィド45.2
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間撹拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間撹拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルェニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを5
1g(収率;80%)をた。
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間撹拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間撹拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルェニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを5
1g(収率;80%)をた。
元素分析値:C32H22N2として C H N 計算値(%) 60.18 3.47 8.77 実測値(%) 60.22 3.39 8.82 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3230、1661、1520、13331 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 6.98〜8.22(19H、m) 10.92(2H、s) (C)N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルフェニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド30.6
g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジメチ
ルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、50
℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別後、
液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形物を
別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー抽出
を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、N,
N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフェニル)
フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド16.7g
(収率;60%)得た。
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド30.6
g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジメチ
ルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、50
℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別後、
液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形物を
別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー抽出
を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、N,
N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフェニル)
フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド16.7g
(収率;60%)得た。
元素分析値:C32H26N4として C H N 計算値(%) 66.42 4.53 9.68 実測値(%) 66.37 4.45 9.74 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3241、16591 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.69(4H、bs) 6.88〜8.25(19H、m) 10.01(2H、s) 実施例3 (A)実施例2で得られた4−ニトロ−4′−アミノジフ
ェニルスルフィド24.6g(100ミリモル)と31%過
酸化水素17g(155ミリモル)とアセトン50mlの
混合溶液を60時間室温で放置した。アセトンを減圧下
で除去した後、析出した固形物を別し、得られた固形
物を熱水を用いて洗浄した後、乾燥し、4−ニトロ−
4′−アミノジフェニルスルホキシドを16g(収率;
61%)得た。
ェニルスルフィド24.6g(100ミリモル)と31%過
酸化水素17g(155ミリモル)とアセトン50mlの
混合溶液を60時間室温で放置した。アセトンを減圧下
で除去した後、析出した固形物を別し、得られた固形
物を熱水を用いて洗浄した後、乾燥し、4−ニトロ−
4′−アミノジフェニルスルホキシドを16g(収率;
61%)得た。
元素分析値:C12H10N2として C H N 計算値(%) 54.59 3.84 10.68 実測値(%) 54.50 3.99 10.69 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1559、13251 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.92(2H、s) 6.85〜8.42(8H、m) (B)4−ニトロ−4′−アミノジフェニルスルホキシド5
2.5g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル
酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリ
ドン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリ
フェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6
g(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪
拌した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入
れ室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得
られた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルフィ
ニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを
53g(収率;79%)得た。
2.5g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル
酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリ
ドン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリ
フェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6
g(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪
拌した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入
れ室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得
られた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルフィ
ニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを
53g(収率;79%)得た。
元素分析値:C32H22N4として C H N 計算値(%) 57.31 3.31 8.35 実測値(%) 57.37 3.39 8.41 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3256、1639、1528、13371 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 6.95〜8.33(19H、s) 11.02(2H、s) (C)N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルフィニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド32.2
g(48ミリモル)、パラジウム付活性炭2.1gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフィ
ニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを
17g(収率;58%)得た。
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド32.2
g(48ミリモル)、パラジウム付活性炭2.1gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルフィ
ニル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを
17g(収率;58%)得た。
元素分析値:C32H26N4として C H N 計算値(%) 62.94 4.29 9.17 実測値(%) 63.11 4.34 9.09 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3230、16581 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.88(4H、s) 6.90〜8.20(19H、m) 10.11(2H、s) 実施例4 (A)実施例2で得られた4−ニトロ−4′−アミノジフ
ェニルスルフィド24.6g(100ミリモル)を氷酢酸2
00mlに溶解し、31%過酸化水素水250mlを加え、
1時間加熱還流した。放冷後、過剰の氷を加えた。析出
した固形物を別し、得られた固形物を熱水を用いて洗
浄した後、乾燥し、4−ニトロ−4′−アミノジフェニ
ルスルホンを23.7g(収率;85%)得た。
ェニルスルフィド24.6g(100ミリモル)を氷酢酸2
00mlに溶解し、31%過酸化水素水250mlを加え、
1時間加熱還流した。放冷後、過剰の氷を加えた。析出
した固形物を別し、得られた固形物を熱水を用いて洗
浄した後、乾燥し、4−ニトロ−4′−アミノジフェニ
ルスルホンを23.7g(収率;85%)得た。
元素分析値:C12H10N2として C H N 計算値(%) 51.79 3.62 10.07 実測値(%) 51.81 3.67 10.00 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1549、13201 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.78(2H、s) 6.95〜8.52(8H、m) (B)4−ニトロ−4′−アミノジフェニルスルホン55.7
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを6
1.8g(収率;88%)得た。
g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイソフタル酸1
8.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを6
1.8g(収率;88%)得た。
元素分析値:C32H22N4として C H N 計算値(%) 54.70 3.16 7.97 実測値(%) 54.73 3.20 7.86 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3231、1656、1534、13371 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 7.20〜8.39(19H、m) 11.10(2H、s) (C)N,N′−ビス〔4−(4−ニトロフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド33.7
g(48ミリモル)、パラジウム付活性炭2.1gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを2
0g(収率;65%)得た。
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド33.7
g(48ミリモル)、パラジウム付活性炭2.1gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(4−アミノフェニルスルホニ
ル)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを2
0g(収率;65%)得た。
元素分析値:C32H26N4として C H N 計算値(%) 59.80 4.08 8.72 実測値(%) 59.81 4.10 8.73 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3229、16601 1H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 4.69(4H、s) 7.22〜8.45(19H、m) 10.05(2H、s) 実施例5 (A)ナトリウム5−アミノ−2−メチルフェノキシド40.
1g(326ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.
8g(81ミリモル)の水200ml水溶液を、8時間還
流した。水蒸気蒸留によりp−クロロニトロベンゼンを
除去した後、析出した固形物を別し、メタノールを用
いて再結晶し、4−ニトロ−3′−アミノ−6′−メチ
ルジフェニルエーテルを13.8g(収率;70%)得た。
1g(326ミリモル)とp−クロロニトロベンゼン12.
8g(81ミリモル)の水200ml水溶液を、8時間還
流した。水蒸気蒸留によりp−クロロニトロベンゼンを
除去した後、析出した固形物を別し、メタノールを用
いて再結晶し、4−ニトロ−3′−アミノ−6′−メチ
ルジフェニルエーテルを13.8g(収率;70%)得た。
元素分析値:C13H12N2として C H N 計算値(%) 63.93 4.95 11.47 実測値(%) 62.69 4.43 12.01 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1537、13441 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.22(3H、s) 3.53(2H、s) 6.49〜8.21(7H、m) (B)4−ニトロ−3′−アミノ−6′−メチルジフェニ
ルエーテル49g(200ミリモノ)と5−ヒドロキシ
イソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−
2−ピロリドン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜
リン酸トリフェニル62g(200ミリモル)及び塩化
リチウム10.6g(250ミリモル)を順次加え、100
℃で6時間攪拌した。放冷後、反応混合物を水3000
0ml中に注入し、室温で1時間攪拌し、析出した固形物
を別した。得られた固形物を熱メタノールで洗浄した
後、乾燥し、N,N′−ビス〔3−(4−ニトロフェノキ
シ)−4−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタ
ルアミドを51.5g(収率;89%)得た。
ルエーテル49g(200ミリモノ)と5−ヒドロキシ
イソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−
2−ピロリドン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜
リン酸トリフェニル62g(200ミリモル)及び塩化
リチウム10.6g(250ミリモル)を順次加え、100
℃で6時間攪拌した。放冷後、反応混合物を水3000
0ml中に注入し、室温で1時間攪拌し、析出した固形物
を別した。得られた固形物を熱メタノールで洗浄した
後、乾燥し、N,N′−ビス〔3−(4−ニトロフェノキ
シ)−4−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタ
ルアミドを51.5g(収率;89%)得た。
元素分析値:C32H26N4として C H N 計算値(%) 66.43 4.35 9.68 実測値(%) 66.31 4.55 9.39 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3248、1658、1526、13401 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.31(6H、s) 6.51〜8.78(17H、m) 11.00(2H、s) (C) N,N′−ビス〔3−(4−ニトロフェノキシ)−4
−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
28g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジ
メチルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、
50℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注入した。析出した固形物
を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー抽
出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、
N,N′−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)−4−メ
チルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを1
7.4g(収率;70%)得た。
−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
28g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジ
メチルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、
50℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注入した。析出した固形物
を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー抽
出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去し、
N,N′−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)−4−メ
チルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを1
7.4g(収率;70%)得た。
元素分析値:C32H30N4として C H N 計算値(%) 74.11 5.83 10.80 実測値(%) 74.31 5.69 10.68 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3225、16491 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.25(6H、s) 3.48(4H、s) 6.55〜8.01(17H、m) 10.03(2H、s) 実施例6 (A)ナトリウムp−アミノフェノキシド40.1g(326
ミリモル)と2−クロロ−4−ニトロトルエン17.5g
(81ミリモル)の水200ml溶液を、8時間還流し
た。水蒸気蒸留で2−クロロ−4−ニトロトルエンを除
去した後、析出した固形物を別し、メタノールを用い
て再結晶し3−ニトロ−6−メチル−4′−アミノジフ
ェニルエーテルを13.6g(収率;69%)得た。
ミリモル)と2−クロロ−4−ニトロトルエン17.5g
(81ミリモル)の水200ml溶液を、8時間還流し
た。水蒸気蒸留で2−クロロ−4−ニトロトルエンを除
去した後、析出した固形物を別し、メタノールを用い
て再結晶し3−ニトロ−6−メチル−4′−アミノジフ
ェニルエーテルを13.6g(収率;69%)得た。
元素分析値:C13H12N2として C H N 計算値(%) 63.93 4.95 11.47 実測値(%) 64.21 5.09 11.99 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1536、13501 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.23(3H、s) 3.45(2H、s) 6.39〜8.36(7H、m) (B)3−ニトロ−6−メチル−4′−アミノジフェニル
エーテル49g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイ
ソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(3−ニトロ−6−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
を49.2g(収率;85%)得た。
エーテル49g(200ミリモル)と5−ヒドロキシイ
ソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN−メチル−2−ピロリド
ン200mlに溶解し、ピリジン50ml、亜リン酸トリフ
ェニル62g(200ミリモル)、塩化リチウム10.6g
(250ミリモル)を順次加え、100℃で6時間攪拌
した。放冷後、反応混合液を水3000ml中に注ぎ入れ
室温で1時間攪拌し、析出した固形物を別した。得ら
れた固形物を熱メタノールを用いて洗浄した後、乾燥
し、N,N′−ビス〔4−(3−ニトロ−6−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
を49.2g(収率;85%)得た。
元素分析値:C32H20N4として C H N 計算値(%) 66.43 4.35 9.68 実測値(%) 66.51 4.25 9.56 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3240、1646、1521、13481 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.35(6H、s) 6.48〜8.68(17H、m) 10.88(2H、s) (C)N,N′−ビス〔4−(3−ニトロ−6−メチルフェノ
キシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド2
8g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
注出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(3−アミノ−6−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
を16.2g(収率;65%)得た。
キシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド2
8g(48ミリモル)とパラジウム付活性炭2gとジメ
チルホルムアミド150mlの懸濁液を水素雰囲気下、5
0℃で12時間加熱した。パラジウム付活性炭を別
後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析出した固形
物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソックスレー
注出を行った。抽出液よりメタノールを減圧下で除去
し、N,N′−ビス〔4−(3−アミノ−6−メチルフェ
ノキシ)フェニル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミド
を16.2g(収率;65%)得た。
元素分析値:C32H30N4として C H N 計算値(%) 74.11 5.83 10.80 実測値(%) 73.88 6.01 10.61 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3235、16481 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.30(6H、s) 3.45(4H、s) 6.48〜8.25(17H、m) 9.89(2H、s) 実施例7 (A)ナトリウム5−アミノ−2−メチルフェノキシド40.
1g(326ミリモル)と2−クロロ−4−ニトロトル
エン17.5g(81ミリモル)の水200ml水溶液を、8
時間還流した。水蒸気蒸留でp−クロロニトロベンゼン
を除去した後、析出した固形物を別し、メタノールを
用いて再結晶し、3−ニトロ−6−メチル−3′−アミ
ノ−6−メチルジフェニルエーテルを15.2g(収率;7
3%)得た。
1g(326ミリモル)と2−クロロ−4−ニトロトル
エン17.5g(81ミリモル)の水200ml水溶液を、8
時間還流した。水蒸気蒸留でp−クロロニトロベンゼン
を除去した後、析出した固形物を別し、メタノールを
用いて再結晶し、3−ニトロ−6−メチル−3′−アミ
ノ−6−メチルジフェニルエーテルを15.2g(収率;7
3%)得た。
元素分析値:C14H14N2として C H N 計算値(%) 65.11 5.46 10.85 実測値(%) 64.92 5.29 11.02 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 1540、13431 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.15(3H、s) 2.28(3H、s) 3.49(2H、s) 6.25〜8.01(6H、m) (B)3−ニトロ−6−メチル−3′−アミノ−6−メチ
ルジフェニルエーテル51.6g(200ミリモル)と5−
ヒドロキシイソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN
−メチル−2−ピロリドン200mlに溶解し、ピリジン
50ml、亜リン酸トリフェニル62g(200ミリモ
ル)、塩化リチウム10.6g(250ミリモル)を順次加
え、100℃で6時間攪拌した。放冷後、反応混合液を
水3000ml中に注入し、室温で1時間攪拌し、析出し
た固形物を別した。得られた固形物を熱メタノールを
用いて洗浄した後、乾燥し、N,N′−ビス〔3−(3−
ニトロ−6−メチルフェノキシ)−6−メチルフェニ
ル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを49.1g(収
率;82%)得た。
ルジフェニルエーテル51.6g(200ミリモル)と5−
ヒドロキシイソフタル酸18.2g(100ミリモル)をN
−メチル−2−ピロリドン200mlに溶解し、ピリジン
50ml、亜リン酸トリフェニル62g(200ミリモ
ル)、塩化リチウム10.6g(250ミリモル)を順次加
え、100℃で6時間攪拌した。放冷後、反応混合液を
水3000ml中に注入し、室温で1時間攪拌し、析出し
た固形物を別した。得られた固形物を熱メタノールを
用いて洗浄した後、乾燥し、N,N′−ビス〔3−(3−
ニトロ−6−メチルフェノキシ)−6−メチルフェニ
ル〕−5−ヒドロキシイソフタルアミドを49.1g(収
率;82%)得た。
元素分析値:C34H30N4として C H N 計算値(%) 67.32 4.98 9.24 実測値(%) 67.18 5.06 9.32 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3245、1651、1530、13421 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.24(6H、s) 2.36(6H、s) 6.39〜8.55(15H、m) 11.10(2H、s) (C)N,N′−ビス〔3−(3−ニトロ−6−メチルフェノ
キシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフ
タルアミド29%(48ミリモル)とパラジウム付活性
炭2gとジメチルホルムアミド150mlの懸濁液を水素
雰囲気下、50℃で12時間加熱した。パラジウム付活
性炭を別後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析
出した固形物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソ
ックスレー抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧
下で除去し、N,N′−ビス〔3−(3−アミノ−6−メ
チルフェノキシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロ
キシイソフタルアミドを17.8g(収率;68%)得た。
キシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロキシイソフ
タルアミド29%(48ミリモル)とパラジウム付活性
炭2gとジメチルホルムアミド150mlの懸濁液を水素
雰囲気下、50℃で12時間加熱した。パラジウム付活
性炭を別後、液を水1000ml中に注ぎ入れた。析
出した固形物を別し、乾燥後、メタノールを用いてソ
ックスレー抽出を行った。抽出液よりメタノールを減圧
下で除去し、N,N′−ビス〔3−(3−アミノ−6−メ
チルフェノキシ)−6−メチルフェニル〕−5−ヒドロ
キシイソフタルアミドを17.8g(収率;68%)得た。
元素分析値:C34H34N4として C H N 計算値(%) 74.70 6.27 10.25 実測値(%) 74.65 6.21 10.53 IRスペクトル(cm-1:KBr法) 3226、16431 H-NMRスペクトル(δ:DMSO-d6TMS標準) 2.24(6H、s) 2.33(6H、s) 3.55(4H、s) 6.51〜8.40(15H、m) 10.00(2H、s)
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 315/04 7419−4H 317/40 7419−4H 317/50 7419−4H 319/20 7419−4H 323/42 7419−4H 323/62 7419−4H C08G 73/14 NTJ 9285−4J
Claims (2)
- 【請求項1】一般式 (式中Zは直接結合、酸素原子、硫黄原子、基 −CH2−、−SO−又は−SO2−、R1及びR2は水素原子、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトリル基、アルコキ
シ基又は水酸基を示す)で表わされるジアミン化合物。 - 【請求項2】一般式 (式中Zは直接結合、酸素原子、硫黄原子、基 −CH2−、−SO−又は−SO2−、R1及びR2は水素原子、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ニトリル基、アルコキ
シ基又は水酸基を示す)で表わされるジニトロ化合物を
還元することを特徴とする、第1請求項に記載のジアミ
ン化合物の製造法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9189289A JPH066563B2 (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 新規ジアミン化合物及びその製造法 |
EP90302623A EP0387106B1 (en) | 1989-03-10 | 1990-03-12 | Novel diamine compounds, production of the same and polyamideimide resins produced therefrom |
DE69006377T DE69006377T2 (de) | 1989-03-10 | 1990-03-12 | Diaminverbindungen, ihre Herstellung und hieraus hergestellte Polyamidimidharze. |
US07/491,988 US5019642A (en) | 1989-03-10 | 1990-03-12 | Novel diamine compounds, production of the same and polyamideimide resins produced therefrom |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9189289A JPH066563B2 (ja) | 1989-04-13 | 1989-04-13 | 新規ジアミン化合物及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02270848A JPH02270848A (ja) | 1990-11-05 |
JPH066563B2 true JPH066563B2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=14039211
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9189289A Expired - Lifetime JPH066563B2 (ja) | 1989-03-10 | 1989-04-13 | 新規ジアミン化合物及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH066563B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102110520B1 (ko) | 2013-08-26 | 2020-05-14 | 삼성전자주식회사 | 폴리(이미드-아미드) 코폴리머, 및 폴리(이미드-아미드) 코폴리머를 포함하는 조성물 |
KR102111093B1 (ko) | 2013-08-26 | 2020-05-15 | 삼성전자주식회사 | 폴리(이미드-아미드) 코폴리머, 폴리(이미드-아미드) 코폴리머의 제조 방법, 및 상기 폴리(이미드-아미드)를 포함하는 성형품 |
WO2018029746A1 (ja) * | 2016-08-08 | 2018-02-15 | 東レ株式会社 | ジアミン化合物、それを用いた耐熱性樹脂または耐熱性樹脂前駆体 |
-
1989
- 1989-04-13 JP JP9189289A patent/JPH066563B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02270848A (ja) | 1990-11-05 |
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