JPH0662777B2 - ポリカーボネートーポリシロキサンブロック共重合体の製造法 - Google Patents

ポリカーボネートーポリシロキサンブロック共重合体の製造法

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JPH0662777B2
JPH0662777B2 JP32749189A JP32749189A JPH0662777B2 JP H0662777 B2 JPH0662777 B2 JP H0662777B2 JP 32749189 A JP32749189 A JP 32749189A JP 32749189 A JP32749189 A JP 32749189A JP H0662777 B2 JPH0662777 B2 JP H0662777B2
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    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/445Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
    • C08G77/448Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共
重合体の製造法に関する。特に本発明はカーボネートビ
スクロルホルメート及びビスフェノールA末端ジオルガ
ノシロキサンからのポリカーボネート−ポリシロキサン
ブロック共重合体の製造法に関するものである。
ポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体及
びそれらの製造法は当該技術において既知である。たと
えば米国特許第3,189,662号、同第3,37
9,790号、同第3,419,634号、同第3,4
19,635号、同第3,819,744号、同第3,
821,325号及び同第4,657,989号明細書
の記載を参照されたい。
ポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体は
ビスフェノール化合物たとえはハロゲン原子又はビスフ
ェノールA基のような反応性末端基を含むポリシロキサ
ンとをたとえばホスゲン又はジアリールカーボネートの
ようなカーボネート源の存在下で反応させることによっ
て好都合に製造されている。しかしながら、この従来技
術の方法はホスゲン及びビスフェノールAを使用するこ
とによってもたらされるいくつかの不利益を有する。た
とえば、ホスゲンは危険な物質であり、その使用は製造
装置及びその周辺に対して厳しい環境及び安全上の制限
を課するものであり、またビスフェノールAは有機媒質
中にきわめて低い溶解度しかもたずしかも有機相中に溶
解させなければならないので全体としての反応速度を制
限する傾向がある。したがって、この共重合体の製造に
おいてはこれらの化合物の使用を排除することが望まし
い。
ポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体を
製造するための別の一方法においては、ビスフェノール
A及びクロルホルメート末端シロキサンオリゴマーを有
機溶液中でアミン型酸受容体の存在下で共重合させる。
この従来技術の方法もまた同様にビスフェノールAを有
機媒質中に溶解させる必要があるという不利益をもつ。
さらに、この方法の反応時間はクロルホルメート末端シ
ロキサンを形成するために多段階の工程を必要とするた
め増大する。
さらに別の従来技術の方法によれば、この共重合体はビ
スフェノールA−ビスクロルホルメート及びエチル末端
シロキサンのクロルホルメートから製造される。しかし
ながら、この方法はビスフェノールA及びシロキサンの
両者のクロルホルメート誘導体の合成のために追加の工
程を必要とするので時間がかかり過ぎるという難点があ
る。
この共重合体はまたOH末端ビスフェノールA−ポリカ
ーボネート及びCl末端シロキサンを有機溶剤及び第3
級アミンの存在下で縮合させることによっても製造し得
る。しかしながら、この従来法も同様に時間がかかり過
ぎるものであり、反応完了までに約4時間を必要とす
る。
ポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体は
前述したごとき種々の方法で製造し得るものであるが、
安全上及び環境上の危険がより軽減されかつ改善された
反応速度をもつ新規な方法によってこれらの共重合体を
製造するために研究が続けられている。
発明の要旨 本発明の主目的はポリカーボネート−ポリシロキサンブ
ロック共重合体の新規な製造法を提供するにある。
本発明の別の目的は安全及び環境面でより危険性の少な
いポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体
の製造法を提供するにある。
本発明のさらに別の目的は連続操業に容易に適合し得る
ポリカーボネート−ポリシロキサンブロック共重合体の
製造法を提供するにある。
本発明のこれらの目的はオリゴマー状カーボネートビス
クロルホルメートとオリゴマー状ビスフェノールA末端
ジオルガノシロキサンとを、クロルホルメート基対ヒド
ロキシル基の比が約1:1〜約20:1の範囲の割合
で、界面ポリカーボネート形成触媒の存在下で反応させ
ることからなる方法によって達成される。
より具体的にいえば、ポリカーボネート−ポリシロキサ
ンブロック共重合体はつぎの工程: (1)界面ポリカーボネート形成触媒を含む実質的に不
活性な、実質的に水不溶性の有機液体相の存在下かつア
ルカリ金属又はアルカリ土類金属塩基を含む水性相の存
在下で、 (A)オリゴマー状カーボネートビスクロルホルメート
組成物及び (B)オリゴマー状ビスフェノールA末端ジオルガノシ
ロキサン組成物 を、クロルホルメート基対ヒドロキシル基の比が約1:
1〜約20:1の範囲の割合で、混合し;そして (2)該混合物を水性相及び有機液体相の分離を阻止す
るに少なくとも十分な条件下で有機液体相中にポリカー
ボネート−ポリシロキサン共重合体を形成するに十分な
時間撹拌する; 工程によって製造し得る。
本発明の好ましい実施態様によれば、本方法はさらに共
重合体生成物を含む有機相を水性相から分離しそして有
機相を酸で洗滌して触媒を除去しかつ脱イオン水で洗滌
して無機副生成物を除去する工程を包含する。
本発明は一つにはクロルホルメート末端基を含むポリカ
ーボネートとビスフェノールA末端基を含むシロキサン
との間の高度の反応性の発見に基づくものである。
本発明の方法によって製造された共重合体は、たとえば
絶縁用被覆、繊維、フィルム、複合体成分、樹脂質物品
用の保護被覆及び接着剤用のエラストマー成分として使
用される。
発明の詳細な開示 本発明の方法に従えば、オリゴマー状カーボネートビス
クロルホルメート組成物及びオリゴマー状ビスフェノー
ルA末端ジオルガノシロキサン組成物をまず界面ポリカ
ーボネート形成触媒、有機液体相及びアルカリ又はアル
カリ土類金属塩基を含む水性相の存在下に混合する。
以下BPAと呼ぶイスフェノールAで末端停止されたジ
オルガノシロキサン組成物は式: (式中、nは約2〜約40の範囲、好ましくは約5〜2
0の範囲であり;Rは水素、一価炭化水素基及びハロゲ
ン化一価炭化水素基からなる群から選んだ一員であり;
R′は一価炭化水素基、ハロゲン化一価炭化水素基及び
シアノアルキル基からなる群から選んだ一員であり;そ
してZは水素、低級アルキル基及びハロゲン基からなる
群から選んだ一員である)をもつBPA末端ジオルガノ
シロキサンオリゴマーの混合物からなる。前述した炭化
水素及びアルキル基についての炭素鎖長は一般に比較的
低い範囲、すなわち約1〜8個の炭素原子をもつもので
ある。
Rによって表わされる基はアリール基、たとえばフェニ
ル、キシリル、トリル等;ハロゲン化アリール基、たと
えばクロルフェニル等;アルアルキル基、たとえばフェ
ニルエチル、ベンジル等;脂肪族基、たとえばメチル、
エチル、プロピル等を包含するアルキル基及びアルケニ
ル基;ハロ脂肪族基、たとえばクロルブチル等を包含す
るハロアルキル基;及び脂環族基、たとえばシクロヘキ
シル等を包含するシクロアルキル基;を包含する。Rは
すべてが同一の基であってもよく又は前述した基の二種
又はそれ以上であってもよい。Rは1〜8個の炭素原子
をもつ低級アルキル基であることが好ましい。
R′は水素以外の前述したRによって表わされるすべて
の基を包含しかつ同様に1〜8個の炭素原子をもつアル
キル基であることが好ましい。
R′はすべてが同一の基であってもよく又は水素以外の
前記R基の二種又はそれ以上であってもよい。Rによっ
て表わされる水素以外の基のほかに、R′はまたシアノ
エチル、シアノブチル等のごときシアノアルキル基を包
含する。
Zは水素、メチル、エチル、プロピル、クロル、ブロ
ム、ヨード等を包含し、水素であることが好ましい。
本発明の好ましい実施態様においては、BPA末端ジオ
ルガノシロキサン組成物中のヒドロキシル基の濃度は約
1〜約6重量%の範囲である。
BPA末端ジオルガノシロキサンはここに参考文献とし
て引用するVaughan,Jr. の米国特許第3,189,66
2号明細書、第3欄、第20〜62行に記載される方法
に従って製造し得る。この方法においては、ハロゲン化
ポリシロキサン及び多価フェノールを、第3級アミンの
存在下で、置換アリールオキシ−珪素結合によって二価
フェノール基で連鎖停止されたポリジオルガノシロキサ
ンを形成する反応の達成に十分な温度で混合する。不活
性有機溶剤を反応混合物中に使用して生成物の形成を助
長させる。適当な有機溶剤はクロルベンゼン、塩化メチ
レン等、又は反応剤に対して不活性でありかつ満足な結
果を達成するに十分に高い沸点をもつ任意の有機溶剤を
包含する。第3級アミンは副生する酸の受容体として作
用するに加えて,さらに反応剤用の溶剤として使用し得
る。適当な第3級アミンはたとえばピリジン、キノリ
ン、トリブチルアミン等を包含する。反応中の温度は約
25〜100℃の範囲、好ましくは約25〜75℃の範
囲である。BPA未満ポリジオルガノシロキサンを製造
するためには、二価フェノール1部当りハロゲン化ポリ
シロキサン少なくとも約0.15部〜約3部を使用し得
る。第3級アミンは生成する副生成物の全量を除去する
に少なくとも足りる量で存在させる。
カーボネートビスクロルホルメート組成物は式: (式中、mは約1〜10の範囲、好ましくは約1〜6の
範囲、もっとも好ましくは約1〜4の範囲でありそして
Rはm−フェニレン基、p−フェニレン基、4,4′−
ビスフェニレン基及び2,2−ビス(4−フェニレン)
プロパン基のような二価芳香族基である)をもつカーボ
ネートビスクロルホルメートオリゴマーの混合物からな
る。Rとして適当な他の基は米国特許第4,217,4
38号明細書に名称又は式によって開示されているジヒ
ドロキシ化合物に対応する基である。さらに非炭化水素
部分を含む基もRの範囲に包含される。これらの非炭化
水素部分はクロル、ニトロ、アルコキシ基等のごとき置
換基及びさらにチオ、スルホキシ、スルホン、エステ
ル、アミド、エーテル及びカルボニル基のごとき連結基
であり得る。しかしながら、多くの場合、すべてのR基
は炭化水素基である。
R基は好ましくは式: −A−Y−A− (III) (式中、A及びAの各々は単環二価芳香族基であり
そしてYは1個又は2個の原子によってA及びA
分離する架橋基である)を有する。式(III)中の遊離
原子価結合手は通常A及びAのm−又はp−位置に
ある。かかるR基は式HO−A−Y−A−OHのビ
スフェノール化合物から誘導されると考え得る。以下の
記載では、しばしばビスフェノール化合物の用語を使用
するが、ビスフェノール化合物以外の適当な化合物から
誘導されたR基もそれが適切である場合には使用し得る
ことを理解すべきである。
式(III)において、A及びAは非置換フェニレン
基又はその置換誘導体であることができる。かかる置換
基の例はアルキル、アルケニル、たとえばビニル及びア
リルのような架橋性−グラフト性分子部分、ハロ、特に
クロル及びブロム、ニトロ、アルコキシ基等である。非
置換フェニレン基が好ましい。A及びAはともにp
−フェニレン基であることが好ましいが、両者ともにo
−又はm−フェニレン基であってもよく又は一方がo−
又はm−フェニレン基であり、他方がp−フェニレン基
であってもよい。
式(III)における架橋基Yは1個又は2個の原子、好
ましくは1個の原子がAをAから分離するような連
結基である。架橋基Yは多くの場合炭化水素基、特に飽
和炭化水素基、たとえばメチレン、シクロヘキシルメチ
レン、2−(2,2,1)−ビシクロヘプチルメチレ
ン、エチレン、イソプロピリデン、ネオペンチリデン、
シクロヘキシリデン、シクロペンタデシリデン、シクロ
ドデシリデン又はアダマンチリデン、特にgem−アル
キレン基である。しかしながら不飽和基及びすべてが又
は一部が炭素及び水素以外の原子から構成される基も包
含される。かかる基の例は2,2−ジクロルエチリデン
基、カルボニル基、チオ基及びスルホン基である。入手
が容易でありかつ本発明の目的のために特に適当である
という理由で、式(III)の好ましい基は2,2−ビス
(4−フェニレン)プロパン基、すなわちビスフェノー
ルAから誘導される、Yがイソプロピリデン基でありか
つA及びAがそれぞれp−フェニレン基である、基
である。
好ましい実施態様においては、カーボネートビスクロル
ホルメート組成物中の反復単位1モル当りのクロルホル
メート末端基の数は約0.05〜2、好ましくは約0.
2〜約1.35の範囲である。
オリゴマー状カーボネートビスクロルホルメート組成物
はSilva らの米国特許第4,737,573号明細書、
第2欄、第10行以下に記載される方法に従って製造す
ることができる。この方法では、ホスゲンをタンク式反
応器中の水、実質的に不活性な、実質的に水不溶性の有
機液体及び少なくとも一種のジヒドロキシ芳香族化合物
から本質的になる不均質混合物中に通送する。同時にア
ルカリ又はアルカリ土類金属塩基水溶液を該混合物の水
性相を約8〜11、好ましくは約8.5〜10.5の範
囲のpHに保持するような割合で導入する。ホスゲン化
の完了時における混合物の水性相対有機相の容量比は約
0.4〜1.0:1の範囲、好ましくは約0.5〜1.
0:1の範囲にあるべきである。混合物の温度は約15
〜50℃の範囲に保持すべきである。ホスゲンの全使用
量はジヒドロキシ芳香族化合物1モル当り少なくとも
1.1モルである。反応混合物は水性相及び有機液体相
の分離を阻止するに十分な条件下で撹拌する。反応終了
後、水性相を好ましくは除去しそして有機相を洗滌して
無機副生成物を完全に除去する。
カーボネートビスクロルホルメート組成物は反応混合物
中に単独で又は部分的に末端キャップされたビスクロル
ホルメート組成物を形成するように分子量調節剤と組合
せて使用し得る。部分的に末端キャップされたカーボネ
ートビスクロルホルメート組成物の製造を以下“予備キ
ャッピング工程”ともいう。分子量調節剤はフェノール
化合物又は同様のモノヒドロシ芳香族化合物である。ポ
リカーボネートの分子量の調節に有用なこの型の化合物
は当該技術において周知である。これらについては、た
とえば米国特許第4,743,676号明細書の記載を
参照されたい。分子量調節剤の例はフェノール、p−t
−ブチルフェノール、p−クミルフェノール、オクチル
フェノール及びノニルフェノールである。フェノールが
その有効性の故にしばしば好ましい。これらのモノヒド
ロキシ芳香族化合物はオリゴマー製造用反応混合物中に
少割合で配合するとクロルホルメート末端オリゴマーと
反応してそれ以上オリゴマー化し得ない不活性な芳香族
末端基を形成する。所望ならば、モノヒドロキシ芳香族
化合物は塩として、多くの場合ナトリウム塩のようなア
ルカリ金属塩として、たとえばナトリウムフェネート等
として、反応混合物中に導入し得る。
部分的に末端キャップされたビスクロルホルメート組成
物は前記引用した米国特許第4,743,676号明細
書中に記載された方法の工程Aに従って製造することが
できる。
ビスクロルホルメートに対するモノヒドロキシ芳香族化
合物の割合はポリカーボネート生成物の所望の分子量及
び/又は固有粘度に関係するであろう。モノヒドロキシ
芳香族化合物の割合は典型的にはビスクロルホルメート
組成物中の構造単位に基づいて約0.5〜7.0モル%
である。部分的に(一般に約2〜5モル%)末端キャッ
プされビスクロルホルメート組成物においては、キャッ
プされた分子のうちの大多数は一つの末端がキャップさ
れたものであり、したがってなお一端において反応性で
ある。ジ末端キャップされた分子はそれ以上の反応に対
しては不活性であり、最終生成物であるポリカーボネー
ト−ポリシロキサン共重合体に望まれるポリカーボネー
トの分子量よりも低い分子量をもつであろう。かかる分
子が実質的割合で存在する場合には、分子量の決定をゆ
がめるおそれがありまたさらに成形に際して困難を惹起
し得る。しかしながら、部分的に末端キャップされたビ
スクロルホルメート組成物中のジ末端キャップ体の割合
はこれらの問題を生起するほどに高くないことが認めら
れた。
本発明の方法の工程(1)において製造された反応混合
物中で、カーボネートビスクロルホルメート組成物及び
ビスフェノールA末端ジオルガノシロキサン組成物はヒ
ドロキシル基1個当り少なくとも1個で20個を超えな
いクロルホルメート基に相当する比率で存在する。クロ
ルホルメート基対ヒドロキシル基の比は約1.05:1
〜約5:1であることが好ましい。
本発明の方法において有用な界面ポリカーボネート形成
触媒は親油性の脂肪族又は複素環族第3級アミン(すな
わち、有機媒質中に可溶性でありかつきわめて活性であ
るかかるアミン)を包含する。これらの第3級アミンに
ついてはたとえばここに参考文献として引用する米国特
許第4,217,438号及び同第4,368,315
号明細書の記載を参照されたい。これらの第3級アミン
はたとえばトリメチルアミン、トリ−n−プロピルアミ
ン、ジエチル−n−プロピルアミン、及びトリ−n−ブ
チルアミンのような脂肪族アミン及びたとえば本発明の
目的のためにただ1個の活性アミン基を含む4−ジメチ
ルアミノピリジンのような求核的複素環式アミンを包含
する。好ましいアミンは反応系の有機相中に優先的に溶
解するもの、すなわちその有機相−水性相分配係数が1
より大であるものである。ほとんどの場合、かかるアミ
ンは少なくとも約6個、好ましくは約6〜14個の炭素
原子を含有する。もっとも有用なアミンは1位及び2位
にある案素原子上に分岐をもたないトリアルキルアミン
である。アルキル基中に約4個までの炭素原子を含むト
リ−n−アルキルアミンが特に好ましい。特に入手が容
易でありかつクロルホルメート基とヒドロキシル基との
間の反応を促進するに有効であるという理由でトリエチ
ルアミンがもっとも好ましい。ホスゲンとビスフェノー
ル化合物との反応に有効であることが当該技術において
既知である型の第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニ
ウム塩及びアミジンも有用である。
適当な有機液体はヘキサン及びn−ヘプタンのような脂
肪族炭化水素;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭
素、ジクロルエタン、トリクロルエタン、テトラクロル
エタン、ジクロルプロパン及び1,2−ジクロルエチレ
ンのような塩素化脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン
及びキシレンのような芳香族炭化水素;クロルベンゼ
ン、o−ジクロルベンゼン、クロルトルエン類、ニトロ
ベンゼン及びアセトフェノンのような置換芳香族炭化水
素;及び二硫化炭素を包含する。塩素化脂肪族炭化水
素、特に塩化メチレンが好ましい。
水性相の溶液中に使用されるアルカリ又はアルカリ土類
金属塩基は多くの場合水酸化物、たとえば水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウムである。比
較的小規模の反応、特に回分式で行なわれる反応におい
ては、水酸化カルシウムが限定された溶解度をもち、し
たがってpHを約11.8〜12.3の範囲で安定化す
るに役立つので好ましいであろう。炭酸塩及び炭酸水素
塩も使用することができ、これらはしばしばある度合の
緩衝作用を与える点で有利である。大規模反応の場合に
は水酸化ナトリウム及び水酸化カリウム、特に水酸化ナ
トリウムが入手の容易性及び価格の点でしばしば好まし
い。
本発明によれば、共重合体形成反応は好ましくはタンク
型反応器中で行なわれる。かかるタンク型反応器は連続
流動撹拌式反応器(以下CSTR式反応器という)を包
含し、これらは反応が後述するごとく連続的に行なわれ
る場合に有用である。
反応器中でBPA末端オリゴマー状シロキサン組成物及
びオリゴマー状カーボネートビスクロルホルメート組成
物を界面ポリカーボネート形成触媒、有機液体及びアル
カリ又はアルカリ土類金属酸受容体を含有する水性相の
存在下で混合する。触媒はカーボネートビスクロルホル
メート組成物、ポリジオルガノシロキサン組成物及び有
機液体を含んでなる混合物中に回分式に又は1〜20分
の範囲、好ましくは約5〜10分の範囲の時間にわたっ
て添加することができる。触媒の使用量は典型的には存
在するビスフェノールAの全量に基づいて約0.5〜2
モル%の範囲内である。塩基の水溶液はアルカリ性pH
を保持するために同時に添加することができる。
一般に、反応剤を混合しかつ得られる混合物を保持する
温度は約15〜100℃、好ましくは約25〜50℃の
範囲である。アルカリ金属又はアルカリ土類金属塩基を
水性相に添加することによって制御される水性相のpH
は約9〜約13、好ましくは約11〜約12の範囲であ
る。水性相対有機相の容量比は約1:1の範囲であるべ
きである。反応圧力は通常大気圧であるが、減圧又は加
圧も使用し得る。
反応中、混合物は水性相及び有機液体相の分離を阻止す
るに足る速度で撹拌される。相分離が生起する場合には
反応は不完全である。
混合物の撹拌は有機液体相中にポリカーボネート−ポリ
シロキサン共重合体を形成するに十分な時間継続する。
通常の条件下では、反応時間は約10〜40分である。
反応の終了時に、有機相を水性相から分離しそして強鉱
酸及び脱イオン水で洗滌して無機副生成物を除去する。
適当な鉱酸は塩酸、硫酸及び硝酸を包含し、塩酸が好ま
しい。
本発明の方法の主たる利点は連続的操業に適合し得る点
である。この目的のために一つ又はそれ以上のCSTR
式反応器を使用し得る。pH制御手段、撹拌手段及び使
用可能な加熱又は冷却及び撹拌簡易手段を包含する慣用
の反応試薬導入手段のほかに、かかる反応器は生成物の
連続的取出し用の排出口を有する。この排出口は典型的
には反応器の周辺部に、反応器中での所望の液体保持滞
留時間を与えるに十分な距離だけ反応器底部から離して
配置される。気化による揮発性溶剤の損失を回避するた
めに、該排出口は適当な液封手段をもつことがしばしば
好ましく、かかる手段は逆U字型ベンド又は同様に配置
された直角型ベンドによって供給され得る。
前述した設計のCSTR式反応器を使用する場合、撹拌
速度と滞留時間との間には密接な関係が存在し得る。こ
のことは塩化エチレン及び大部分の他のハロゲン化炭化
水素の場合のごとく、使用される有機液体が水よりも大
きい比重をもつ場合に特に然りである。これらの条件下
では、撹拌速度が速すぎると、液−液遠心分離効果によ
り有機相の一部の早期の排出を惹起し得る。かかる早期
の有機相の排出は反応混合物の撹拌速度を低下させるこ
とによって回避し得ることは明らかであろう。このこと
は撹拌速度を過度に速くすべきでない別の重要な理由で
ある。
つぎに本発明を実施例によってさらに説明する。
これらの実施例においては、BPA末端ジメチルシロキ
サンは2.0重量%のヒドロキシル基含量をもち、塩化
メチレン中の14重量%溶液として使用しかつ後記第I
表に示す組成をもつオリゴマー状カーボネートビスクロ
ルホルメート混合物を使用した。ビスクロルホルメート
及びモノクロルホルメートはそれぞれ“BCF”及び
“MCF”として表示する。“BPA”はビスフェノー
ルAを表わしそして“BPA−DMS”はビスフェノー
ルA末端ジメチルシロキサンを表わす。第I表中の数値
に基づいて、反復単位1モル当りのクロルホルメート末
端基の平均数は1.02である。クロルホルメートオリ
ゴマー溶液は溶液1ml当り1ミリモルのクロルホルメー
ト含有し、ヒドロキシル基を実質的に含まない。
実施例1 容量500mlのモートン(Morton)フラスコに脱イオン
水150ml、NaHCO3 2g、ビスフェノールA基44ミ
リモルを含有するオリゴマー状カーボネートビスクロル
ホルメート混合物44ml、及びナトリウムフェネート
(NaOPh)44.98mgを装入した。内容物を350rp
m で撹拌しかつ加熱マントルを活性化して内容物を30
℃まで加熱した。加熱及び撹拌を10分間続けると、そ
の間にナトリウムフェネートはクロルホルメート基と反
応してフェニルカーボネート末端キャップを形成した。
この“予備キャピング”工程の間、NaHCO3 がpHを約
8〜9に保持した。
この予備キャッピング工程の完了後、加熱マントルを分
離しそしてこの反応器にBPA末端ポリジメチルシロキ
サンオリゴマー(16ミリモルのOH基を含み、CH2 Cl
2 中の14重量%溶液として存在する重合度10をもつ
もの)75mlをCa(OH)2 15gとともに添加した。撹拌
速度を650rpm まで高めそして触媒の添加を開始し
た。この触媒はCH2 Cl2 溶液10ml中のトリエチルアミ
ン(Et3 N)101mgからなるものであった。この触媒
溶液は5分間かかって添加した。触媒の添加の完了時に
は温度35.2℃に上昇していた。反応器の内容物を試
料採取して20分及び30分間ゲル透過クロマトグラフ
ィー(GPC)によって分析した。結果を第II表に示
す。これらの結果はシロキサンオリゴマーがポリカーボ
ネート中に結合されたことを示している。
実施例1においては、44ミリモルのオリゴマー状カー
ボネートビスクロルホルメート混合物の反復単位が存在
し、これは に相当する。
末端キャッピング剤の使用量は であった。したがって、末端キャッピング処理後に残留
するクロルホルメート基は44.50ミリモルであっ
た。シロキサン組成物中には16ミリモルのヒドロキシ
ル基が存在し、したがって当初のクロルホルメート:ヒ
ドロキシル基の比約2.78:1を与えた。
実施例2 500mlのモートンフラスコにCa(OH)2 15g、脱イオ
ン水150ml、BPA末端ポリジメチルシロキサンオリ
ゴマー溶液(前記したものと同じ)75cc及びCH2 Cl2
溶液10ml中のトリエチルアミン(Et3 N)触媒101m
lを装入した。この二相混合物を650rpm で撹拌しそ
して塩化メチレン中のビスクロルホルメート(BPA基
22ミリモル)溶液22mlを7分かかって添加した。ビ
スクロルホルメート(BCF)の添加開始時に加熱マン
トルを活性化した。5分後にヒーターを休止した。この
時点で温度は21.2℃から34.1℃に上昇してい
た。ビスクロルホルメートの添加開始後20分、30分
及び60分の時点でこの反応の試料を採取した。この反
応の結果を第III表に示す。
この実施例では、22ミルモルの反復単位、すなわち2
2.44ミリモルのクロルホルメート末端基が存在し
た。ビスクロルホルメートオリゴマーはBPA末端シロ
キサンオリゴマーを連結するために使用することが望ま
しかったので、末端キャッピング剤は使用しなかった。
クロルホルメート対ヒドロキシル基の当初の比は約1.
40:1であった。
第II表及び第III表のデータの比較は、ヒドロキシル基
当りより多数のクロルホルメート基が存在する場合には
30分でより多量の共重合体が形成される(すなわちよ
り多量のシロキサンオリゴマーがポリカーボネート鎖中
に結合される)ことを示し、このことはクロルホルメー
ト末端基をもつポリカーボネートとビスフェノールA末
端基をもつシロキサンとの間の高い相互反応性を示して
いる。
以上、本発明を特定の実施態様について説明したが、特
許請求の範囲に規定した本発明の技術思想及び範囲を逸
脱することなしに多数の変形及び修正をなし得ることは
当業者には明らかであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 77/448 NUK 8319−4J

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】オリゴマー状カーボネートビスクロルホル
    メートとオリゴマー状ビスフェノールA末端ジオルガノ
    シロキサンとを、クロルホルメート基対ヒドロキシル基
    の比が約1:1〜約20:1の範囲である割合で、界面
    ポリカーボネート形成触媒の存在下で、界面反応させる
    ことからなるポリカーボネート−ポリシロキサンブロッ
    ク共重合体の製造法。
  2. 【請求項2】(1)界面ポリカーボネート形成触媒を含
    む実質的に不活性な、実質的に水不溶性の有機液相の存
    在下かつアルカリ金属又はアルカリ土類金属塩基を含む
    水性相の存在下で、(A)オリゴマー状カーボネートビ
    スクロルホルメート組成物及び(B)オリゴマー状ビス
    フェノールA末端ジオルガノシロキサン組成物を、クロ
    ルホルメート基対ヒドロキシル基の比が約1:1〜約2
    0:1の範囲である割合で、混合し;そして (2)該混合物を水性相及び有機液体相の分離を阻止す
    るに少なくとも十分である条件下でかつ有機液体相中に
    ポリカーボネート−ポリシロキサン共重合体を形成する
    に十分な時間撹拌する;ことからなる請求項1記載の製
    造法。
  3. 【請求項3】オリゴマー状カーボネートビスクロルホル
    メート組成物が式: [式中、mは約1〜10、好ましくは約1〜6、もっと
    も好ましくは約1〜4の範囲であり;Rは式−A−Y
    −A−(ただし、A及びAの各々は単環二価芳香
    族基でありそしてYは1個又は2個の原子によってA
    をAから分離する架橋基である)の基である]をもつ
    化合物を含有してなる請求項2記載の製造法。
  4. 【請求項4】Rは2,2−ビス(4−フェニレン)プロ
    パン基、すなわちYがイソプロピリデン基でありかつA
    及びAがそれぞれp−フェニレン基である請求項3
    記載の製造法。
  5. 【請求項5】オリゴマー状ビスフェノールA末端ジオル
    ガノシロキサン組成物が式: (式中、nは約2〜40の範囲であり;Rは水素、一価
    炭化水素基及びハロゲン化一価炭化水素基からなる群か
    ら選んだ一員であり;Zは水素、低級アルキル基及びハ
    ロゲン基からなる群から選んだ一員であり;そしてR′
    は一価炭化水素基、ハロゲン化一価炭化水素基及びシア
    ノアルキル基からなる群から選んだ一員である)をもつ
    化合物を含有してなる請求項1記載の製造法。
  6. 【請求項6】R′が1〜8個の炭素原子をもつ低級アル
    キル基である請求項5記載の製造法。
  7. 【請求項7】反応混合物がモノヒドロキシ芳香族化合物
    又はその塩を含む請求項1記載の製造法。
  8. 【請求項8】モノヒドロキシ芳香族化合物がフェノー
    ル、p−t−ブチルフェノール、p−クミルフェノー
    ル、オクチルフェノール、ノニルフェノール又はそれら
    の塩である請求項6記載の製造法。
  9. 【請求項9】有機液体が塩化メチレンである請求項2記
    載の製造法。
  10. 【請求項10】界面ポリカーボネート形成触媒が第3級
    アミン、第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩
    又はアミジンである請求項2記載の製造法。
  11. 【請求項11】触媒がトリアルキルアミンである請求項
    10記載の製造法。
  12. 【請求項12】第3級アミンがトリエチルアミンである
    請求項9記載の製造法。
  13. 【請求項13】クロルホルメート基対ヒドロキシル基の
    比が約1.05:1〜5:1の範囲である請求項1記載
    の製造法。
  14. 【請求項14】工程(1)の混合物の水性相のpHが約
    9〜13の範囲である請求項2記載の製造法。
  15. 【請求項15】pHが約11〜約12の範囲である請求
    項14記載の製造法。
  16. 【請求項16】約15℃〜100℃の範囲の温度で反応
    剤を混合しかつ得られる混合物を保持する請求項1記載
    の製造法。
  17. 【請求項17】温度が約25℃〜50℃の範囲である請
    求項16記載の製造法。
  18. 【請求項18】反応混合物中の触媒の量が存在するビス
    フェノールA基の全量に基づいて約0.5〜2モル%の
    範囲である請求項1記載の製造法。
  19. 【請求項19】有機液体相対水性相の容量比が約1:1
    である請求項2記載の製造法。
  20. 【請求項20】共重合体生成物を含む有機相を水性相か
    ら分離しそしてさらに有機相を鉱酸及び脱イオン水で洗
    滌して無機副生成物を除去する工程をさらに含んでなる
    請求項2記載の製造法。
  21. 【請求項21】鉱酸が塩酸、硫酸又は硝酸である請求項
    20記載の製造法。
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