JPH0660461U

JPH0660461U - 薄膜原料液霧化装置

Info

Publication number: JPH0660461U
Application number: JP643993U
Authority: JP
Inventors: 謙一太田
Original assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Current assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date: 1993-01-30
Filing date: 1993-01-30
Publication date: 1994-08-23

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】原料液を霧化する振動子が原料液によって早
期に腐食するのを防止する。【構成】底壁面に振動子１１が設けらた媒体容器１０
に、媒体１３として振動子１１から発生する振動を伝搬
可能な液体が満たされている。この媒体容器１０に満た
された媒体１３に原料液２０を収納した容器９が浸漬さ
れている。振動子１１から発生した振動は、媒体１３を
介して原料液２０に伝達され、原料液２０が霧化され
る。この霧は、ダクト１２から送られてくるキャリアガ
スにより、ダクト５を通して霧化部３側の成膜室８へ送
られ、ヒータ２で加熱された基板１上に薄膜を形成す
る。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、原料液を霧化して加熱された基板に当てて、基板上に薄膜を形成する装置において、原料液を霧化する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

太陽電池や液晶表示装置等に用いられる金属酸化膜、例えば透明導電膜を形成する場合、加熱された基板の上に、ＣＶＤ法やスプレー法等の方法によってこれらの薄膜を成膜させる。このような薄膜の形成装置の例を図５に示す。基板１としては、例えば、予め二酸化ケイ素（ＳｉＯ₂ ）の被膜が表面に形成されたソーダライムガラス板が用いられる。また、この基板１上に薄膜を形成するための原料液としては、例えば、酸化錫膜を形成する場合、塩化第二錫（ＳｎＣＩ₄・５Ｈ₂Ｏ）と、フッ化アンモニウム（ＮＨ₄Ｆ）或いは塩化アンチモン（ＳｂＣｌ₃ ）とを水等の溶媒に溶解した溶液が用いられる。

【０００３】図５に示す薄膜形成装置は、前記基板１上に薄膜を形成する成膜部３と、この成膜部３に前記原料液２０を霧化して送る霧化部４とを有する。成膜部３は、基板１を保持する成膜テーブル７と、この成膜テーブル７を介して基板１を加熱するヒータ２とを有し、成膜テーブル７の上に成膜室８が形成されている。

【０００４】霧化部４は、原料液２０を収納する容器９を有し、その容器９の底壁面に超音波振動子等の振動子１１が設けられている。容器９の上部にキャリアガスを送るダクト１２と、前記成膜室８に通じるダクト５とが接続されており、振動子１１から原料液２０に与えられる振動により、原料液２０を霧化し、発生した霧を、ダクト１２から送られてくるキャリアガスにより、ダクト５を通して前記成膜室８に送る。基板１は、成膜部３の成膜テーブル７上に装着され、ヒータ２で４００〜５００℃程度の温度に加熱される。この状態で、ダクト５から基板１に向けて成膜室８内に原料液の霧を所定の時間放出し、基板１の表面に酸化錫の薄膜を形成する。

【０００５】

【考案が解決しようとしている課題】

しかしながら、前記のような薄膜形成装置に用いられている従来の原料液の霧化装置では、振動子１１が原料液に直接接触していたため、前記の塩化物溶液のような腐食性を有する原料液を霧化するとき、振動子、特にその電極部分が早期に腐食されて、破損してしまうという課題があった。この原料液による振動子１１の腐食に対しては、従来から振動子１１を樹脂などでコーティングするという腐食防止策等が採られていたが、原料液に不純物としてコーティングした樹脂が溶解してしまったり、或は振動でコーティング樹脂が剥がれ、完全な腐食の防止は達成できないという問題があった。

【０００６】そこで、本考案は、前記従来技術の課題に鑑み、振動子が早期に腐食してしまわない薄膜原料液霧化装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

すなわち、本考案では、前記目的を達成するため、振動子１１により薄膜形成用の原料液２０を霧化する薄膜原料液霧化装置において、前記原料液２０を容器９に収納すると共に、容器９と同容器９の外面と対向して配置された振動子１１との間に、振動子１１から発生する振動を原料液２０に伝搬する媒体１３を介在させたことを特徴とする薄膜原料液霧化装置を提供する。

【０００８】より具体的には、内壁面に振動子１１を設けた媒体容器１０に媒体１３を満たし、原料溶液２０を収納した容器９を媒体１３に浸漬するといった構造や、容器９の内壁面に振動子１１を設け、同容器９を隔壁１７で霧の排出口側と振動子１１側とに区画し、同振動子１１側に媒体１３を充填すると共に、排出口側に原料液２０を収納するという構造等が採用できる。

【０００９】

【作用】

前記本考案による薄膜原料液霧化装置では、原料液２０を容器９に入れて、振動子１１を振動させると、その振動は、媒体１３を介して容器９の中の原料液２０に伝達され、原料液２０を霧化することができる。そして、この構造では、原料液２０と振動子１１とが接しさせないまま原料液２０に振動を与えることができるため、原料液２０によって振動子１１が腐食されない。

【００１０】

【実施例】

次に、図面を参照しながら、本考案の実施例について詳細に説明する。図１は本考案の第一の実施例である薄膜原料液霧化装置を霧化部４として用いた薄膜形成装置全体を示している。この薄膜形成装置は、前記霧化部４に加え、基板１上に薄膜を形成する成膜部３を有している。この成膜部３は、基板１を保持する成膜テーブル７と、この成膜テーブル７を介して基板１を加熱するヒータ２とを有し、成膜テーブル７の上に成膜室８が形成されている。

【００１１】本考案の実施例による薄膜原料液霧化装置である霧化部４は、原料液２０を収納する容器９を有し、その容器９の上部にキャリアガスを送るダクト１２と、前記成膜室８に通じるダクト５とが接続されている。この霧化部４は、底壁面に振動子１１が設けらた媒体容器１０を有しており、この媒体容器１０には、媒体１３として振動子１１から発生する振動を伝搬可能な液体が満たされている。例えば、振動子１１から発生する振動が超音波振動である場合、媒体１３は純水等が使用できる。この媒体容器１０に満たされた媒体１３に前記原料液２０を収納した容器９が浸漬されている。

【００１２】この薄膜原料液霧化装置では、振動子１１から媒体１３と容器９の壁を介して原料液２０に与えられる振動により、原料液２０が霧化される。これにより原料液２０の液面から発生した霧は、ダクト１２から送られてくるキャリアガスにより、ダクト５を通して前記成膜室８に送られる。基板１は、成膜部３の成膜テーブル７上に装着され、ヒータ２で加熱される。この状態で、ダクト５から基板１に向けて成膜室８内に原料液の霧を所定の時間放出し、基板１の表面に酸化錫膜等の薄膜を形成する。

【００１３】次に、図２に示した本考案の第二の実施例について説明する。この実施例では、加熱冷却器１４を備えており、この加熱冷却器１４と媒体容器１０との間で、配管流路１５、１６を通して媒体１３を循環させ、媒体１３の温度を任意の温度にコントロールするものである。このようにして、容器９の周りの媒体１３を加熱または冷却することにより、容器９内の原料液２０の温度を自在に変化させることが可能になり、霧化の重要なパラメーターである原料液の温度管理が容易になる。また、この実施例では、容器９の上部に接続されたキャリアガスのダクト１２と霧化した原料液を成膜室側へ送るダクト５とが、容器９の外で接続されており、ダクト１２からダクト５側へ直接キャリアガスを送ることができるようになっている。

【００１４】次に、図３に示した本考案の第三の実施例について説明すると、この実施例では、前記のような媒体容器１０を用いず、原料液２０を入れる容器９を樹脂シート等の隔壁１７で上下に仕切り、同容器９の底壁に振動子１１を設けている。そして、隔壁１７で仕切られた振動子１１を有する下側の室全体に媒体２０を満たし、隔壁１７で仕切られた上側の室、つまりダクト１２、５が接続された側に原料液２０を収納している。この場合も、振動子１１で発生した振動が、媒体２０と隔壁１７を介して原料液２０に伝搬されるため、原料液２０が霧化し、これをダクト５から成膜室８へ送ることができる。

【００１５】この実施例では、媒体容器１０を用いる前記の実施例に比べて、薄膜原液料霧化装置を全体として小形にすることができる。なお、振動子１１を容器１０の底壁面でなく、側壁面に設けて、この振動子１１の周りをダクト１２、５が接続された側の室と区画し、振動子１１側の室に媒体１３を満たすこともできる。

【００１６】次に、図４に示した本考案の第四の実施例について説明すると、この実施例では、キャリアガスを供給するダクト１２を容器９の側面のほぼ中央部であって、原料液２０の液面より高い位置に接続し、霧化した原料液を成膜室へ送るダクト５を容器９の反対側の側面の上部に接続している。この実施例では、霧化した原料液を効率よく成膜室へ送ることができるが、原料液２０の液面高さがダクト１２の接続位置によって制限される。

【００１７】

【考案の効果】

以上説明した通り、本考案によれば、振動子が早期に腐食してしまわない薄膜原料液霧化装置を提供することが可能となり、振動子の信頼性の向上と寿命の長期化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の第一の実施例による薄膜原料液霧化装
置を備えた薄膜形成装置の概略断面図である。

【図２】本考案の第二の実施例による薄膜原料液霧化装
置の概略断面図である。

【図３】本考案の第三の実施例による薄膜原料液霧化装
置を備えた薄膜形成装置の概略断面図である。

【図４】本考案の第四の実施例による薄膜原料液霧化装
置の概略断面図である。

【図５】本考案の従来例である薄膜原料液霧化装置を備
えた薄膜形成装置の概略断面図である。

【符号の説明】

１１振動子２０原料液９容器１３媒体１０媒体容器１７隔壁

Claims

【整理番号】００４０７６８−０１【実用新案登録請求の範囲】

【請求項１】振動子（１１）により薄膜形成用の原料
液（２０）を霧化する薄膜原料液霧化装置において、前
記原料液（２０）を容器（９）に収納すると共に、容器
（９）と同容器（９）の外面と対向して配置された振動
子（１１）との間に、振動子（１１）から発生する振動
を原料液（２０）に伝搬する媒体（１３）を介在させた
ことを特徴とする薄膜原料液霧化装置。
【請求項２】前記請求項１において、内壁面に振動子
（１１）を設けた媒体容器（１０）に媒体（１３）を満
たし、原料溶液（２０）を収納した容器（９）を媒体
（１３）に浸漬したことを特徴とする薄膜原料液霧化装
置。
【請求項３】前記請求項１において、原料溶液（２
０）を収納した容器（９）の内壁面に振動子（１１）を
設け、同容器（９）を隔壁（１７）で霧の排出口側と振
動子（１１）側とに区画し、同振動子（１１）側に媒体
（１３）を充填すると共に、排出口側に原料液（２０）
を収納したことを特徴とする薄膜原料液霧化装置。