JPH0657403A - 連続式プラズマ熱処理炉 - Google Patents
連続式プラズマ熱処理炉Info
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- JPH0657403A JPH0657403A JP4238895A JP23889592A JPH0657403A JP H0657403 A JPH0657403 A JP H0657403A JP 4238895 A JP4238895 A JP 4238895A JP 23889592 A JP23889592 A JP 23889592A JP H0657403 A JPH0657403 A JP H0657403A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 生産性がすぐれ、装置の寿命が長く保守の手
間も少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供する。 【構成】 真空ポンプに接続された炉殻７内に陽極１１
と陰極２１と処理品加熱用のヒ−タ１３と処理ガス供給
用のガスマニホ−ルド１４とをそなえたプラズマ熱処理
室３の出口側に、真空ポンプに接続された炉殻７内に処
理品加熱用のヒ−タ３３をそなえた拡散室４Ａおよび４
Ｂを連設し、この拡散室４Ｂの出口側に冷却室５を連設
し、プラズマ熱処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出
口５ｂ部にかけて、処理品搬送用のハ−スロ−ル６を設
けた。
間も少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供する。 【構成】 真空ポンプに接続された炉殻７内に陽極１１
と陰極２１と処理品加熱用のヒ−タ１３と処理ガス供給
用のガスマニホ−ルド１４とをそなえたプラズマ熱処理
室３の出口側に、真空ポンプに接続された炉殻７内に処
理品加熱用のヒ−タ３３をそなえた拡散室４Ａおよび４
Ｂを連設し、この拡散室４Ｂの出口側に冷却室５を連設
し、プラズマ熱処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出
口５ｂ部にかけて、処理品搬送用のハ−スロ−ル６を設
けた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はグロ−放電プラズマを
利用して処理品のイオン浸炭とイオン窒化を、単独であ
るいは同時におこなう連続式プラズマ熱処理炉に関す
る。
利用して処理品のイオン浸炭とイオン窒化を、単独であ
るいは同時におこなう連続式プラズマ熱処理炉に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近鋼材などの処理品（被処理物）の表
面硬化法として、処理品を装入した真空容器中にアルゴ
ンなどのキヤリア−ガスを導入してスパツタリングを行
い、しかる後にＣＨ系ガスまたは窒素ガスあるいはそれ
らの混合ガスから成る処理ガスを導入し、処理品と陽極
の間にグロ−放電を発生させ、イオン化した炭素あるい
は窒素を処理品の表面に打込むイオン浸炭（プラズマ浸
炭ともいわれる）あるいはイオン窒化（プラズマ窒化と
もいわれる）が実用化されている。
面硬化法として、処理品を装入した真空容器中にアルゴ
ンなどのキヤリア−ガスを導入してスパツタリングを行
い、しかる後にＣＨ系ガスまたは窒素ガスあるいはそれ
らの混合ガスから成る処理ガスを導入し、処理品と陽極
の間にグロ−放電を発生させ、イオン化した炭素あるい
は窒素を処理品の表面に打込むイオン浸炭（プラズマ浸
炭ともいわれる）あるいはイオン窒化（プラズマ窒化と
もいわれる）が実用化されている。
【０００３】ところで上記イオン浸炭あるいはイオン窒
化においては、イオンの打込みにより処理品表面部には
炭素あるいは窒素の高濃度層が集中するので、このまま
焼入れ等を施すと割れを生じる。そのためイオン打込後
の処理品を高温度で長時間（たとえば９２０℃で１００
分程度）保持して炭素あるいは窒素分を処理品の表面内
部へ拡散させる拡散工程が必須となる。
化においては、イオンの打込みにより処理品表面部には
炭素あるいは窒素の高濃度層が集中するので、このまま
焼入れ等を施すと割れを生じる。そのためイオン打込後
の処理品を高温度で長時間（たとえば９２０℃で１００
分程度）保持して炭素あるいは窒素分を処理品の表面内
部へ拡散させる拡散工程が必須となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来のプラズ
マ熱処理炉では、上記グロ−放電によりイオンの打込み
をおこなうプラズマ熱処理室内において、イオン打込後
の処理品をそのまま保持して拡散をおこなつていたの
で、プラズマ熱処理炉の生産性が劣るうえ、プラズマ発
生用の構造複雑な陰極やその支持用碍子、ガスヘツダ等
が高温に長時間さらされるため、これら各部の損耗や割
れが発生し、寿命が短く不経済であり、保守にも手間が
かかるという問題があつた。
マ熱処理炉では、上記グロ−放電によりイオンの打込み
をおこなうプラズマ熱処理室内において、イオン打込後
の処理品をそのまま保持して拡散をおこなつていたの
で、プラズマ熱処理炉の生産性が劣るうえ、プラズマ発
生用の構造複雑な陰極やその支持用碍子、ガスヘツダ等
が高温に長時間さらされるため、これら各部の損耗や割
れが発生し、寿命が短く不経済であり、保守にも手間が
かかるという問題があつた。
【０００５】この発明は上記従来の問題点を解決するも
ので、生産性がすぐれ、装置の寿命が長く保守の手間も
少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供しようとす
るものである。
ので、生産性がすぐれ、装置の寿命が長く保守の手間も
少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供しようとす
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明の連続式プラズ
マ熱処理炉は、真空ポンプに接続された炉殻内に陽極と
陰極と処理品加熱用のヒ−タと処理ガス供給用のマニホ
−ルドとをそなえたプラズマ熱処理室の出口側に、真空
ポンプに接続された炉殻内に処理品加熱用のヒ−タをそ
なえた拡散室を連設し、この拡散室の出口側に冷却室を
連設し、前記プラズマ熱処理室の入口部から前記冷却室
の出口部にかけて処理品搬送用の搬送装置を設けて成る
連続式プラズマ熱処理炉であつて、前記プラズマ熱処理
室と前記拡散室の少なくとも一方を、炉長方向に複数室
連設したことを特徴とする。
マ熱処理炉は、真空ポンプに接続された炉殻内に陽極と
陰極と処理品加熱用のヒ−タと処理ガス供給用のマニホ
−ルドとをそなえたプラズマ熱処理室の出口側に、真空
ポンプに接続された炉殻内に処理品加熱用のヒ−タをそ
なえた拡散室を連設し、この拡散室の出口側に冷却室を
連設し、前記プラズマ熱処理室の入口部から前記冷却室
の出口部にかけて処理品搬送用の搬送装置を設けて成る
連続式プラズマ熱処理炉であつて、前記プラズマ熱処理
室と前記拡散室の少なくとも一方を、炉長方向に複数室
連設したことを特徴とする。
【０００７】
【作用】この発明の連続式プラズマ熱処理炉において
は、プラズマ熱処理室において炭素イオンあるいは窒素
イオンの打込みをおこなつた処理品は、搬送装置により
拡散室内へ移送し、この拡散室内でヒ−タにより処理品
を加熱することにより、炭素あるいは窒素分の表面内部
への拡散をおこなうことができる。
は、プラズマ熱処理室において炭素イオンあるいは窒素
イオンの打込みをおこなつた処理品は、搬送装置により
拡散室内へ移送し、この拡散室内でヒ−タにより処理品
を加熱することにより、炭素あるいは窒素分の表面内部
への拡散をおこなうことができる。
【０００８】この拡散工程中には、後続の別の処理品を
プラズマ熱処理室内へ装入してイオンの打込みを並行し
ておこなうことができるとともに、プラズマ熱処理室と
拡散室の少なくとも一方が複数室あるのでプラズマ熱処
理同士および／または拡散処理同士をも並行しておこな
うことができ、これらの並行処理によつて生産性が大巾
に向上する。
プラズマ熱処理室内へ装入してイオンの打込みを並行し
ておこなうことができるとともに、プラズマ熱処理室と
拡散室の少なくとも一方が複数室あるのでプラズマ熱処
理同士および／または拡散処理同士をも並行しておこな
うことができ、これらの並行処理によつて生産性が大巾
に向上する。
【０００９】また従来の拡散工程時におけるような、ガ
スマニホ−ルド、陰極、およびこれらを支持する絶縁物
などのプラズマ発生用装置の無用な加熱がなくなり、こ
れらプラズマ発生用装置の損耗や割れ、汚損による絶縁
劣化などが低減化される。
スマニホ−ルド、陰極、およびこれらを支持する絶縁物
などのプラズマ発生用装置の無用な加熱がなくなり、こ
れらプラズマ発生用装置の損耗や割れ、汚損による絶縁
劣化などが低減化される。
【００１０】
【実施例】以下図１および図２によりこの発明の一実施
例を説明する。図中、１は連続式プラズマ熱処理炉で、
処理品２の進行方向に、プラズマ熱処理室３、拡散室４
Ａと４Ｂ、および冷却室５を連設して成る。６は、プラ
ズマ熱処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出口５ｂ部
にかけて設けた、処理品搬送用の搬送装置であるハ−ス
ロ−ルである。
例を説明する。図中、１は連続式プラズマ熱処理炉で、
処理品２の進行方向に、プラズマ熱処理室３、拡散室４
Ａと４Ｂ、および冷却室５を連設して成る。６は、プラ
ズマ熱処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出口５ｂ部
にかけて設けた、処理品搬送用の搬送装置であるハ−ス
ロ−ルである。
【００１１】プラズマ熱処理室３は、図２に示すよう
に、鋼製の炉殻７内に黒鉛製の断熱壁を兼ねた円筒状の
陽極１１を配設して、処理品２を収容する処理室１２を
形成し、この処理室１２内に処理品加熱用の黒鉛製の丸
棒状のヒ−タ１３と、処理ガス供給用の黒鉛製のガスマ
ニホ−ルド１４を設けてある。１５は炉殻７に接続した
真空ポンプ、１６はヒ−タ１３加熱用の交流電源、１７
（図１参照）はガスマニホ−ルド１４に接続した処理ガ
ス供給源である。
に、鋼製の炉殻７内に黒鉛製の断熱壁を兼ねた円筒状の
陽極１１を配設して、処理品２を収容する処理室１２を
形成し、この処理室１２内に処理品加熱用の黒鉛製の丸
棒状のヒ−タ１３と、処理ガス供給用の黒鉛製のガスマ
ニホ−ルド１４を設けてある。１５は炉殻７に接続した
真空ポンプ、１６はヒ−タ１３加熱用の交流電源、１７
（図１参照）はガスマニホ−ルド１４に接続した処理ガ
ス供給源である。
【００１２】また２１はステンレス鋼製の陰極で、８本
の陰極２１の基部は昇降台２２に固着され、この昇降台
２２の中央下面に固着した支柱２３は、炉殻７に固定し
た絶縁物製のブツシユ２４に摺動自在に嵌合し、この支
柱２３の下端は空圧シリンダ２５のピストンロツドに連
結されている。２６はシ−ル用のＯリングである。この
空圧シリンダ２５のシリンダ基部は、炉殻７に固着した
基板２７上に、絶縁物２８を介して取付けられている。
２９（図１参照）は、陽極１１と陰極２１（詳しくは昇
降台２２）間に接続した直流電源である。
の陰極２１の基部は昇降台２２に固着され、この昇降台
２２の中央下面に固着した支柱２３は、炉殻７に固定し
た絶縁物製のブツシユ２４に摺動自在に嵌合し、この支
柱２３の下端は空圧シリンダ２５のピストンロツドに連
結されている。２６はシ−ル用のＯリングである。この
空圧シリンダ２５のシリンダ基部は、炉殻７に固着した
基板２７上に、絶縁物２８を介して取付けられている。
２９（図１参照）は、陽極１１と陰極２１（詳しくは昇
降台２２）間に接続した直流電源である。
【００１３】また図１において拡散室４Ａは、処理ガス
の供給および処理品２に負電圧をかける装置を有しない
他は、プラズマ熱処理室３と同様な構成を有し、炉殻７
内に陽極１１と同様な断熱壁３１で包囲した加熱室３２
を設け、この加熱室３２内に処理品加熱用のヒ−タ３３
を設けてある。３４は処理品昇降装置で、前記陰極２１
に代る押棒３５をそなえ、この押棒３５は前記陰極２１
と同様な駆動機構により昇降駆動されるものであり、相
当部分に同一符号を付して図示してある。この処理品昇
降装置３４は、拡散工程において処理品２を加熱中に、
処理品２を上昇位置の押棒３５上に保持してハ−スロ−
ル６から浮かせ、ハ−スロ−ル６を回転させてその曲り
を防止するためのものである。また拡散室４Ｂは拡散室
４Ａと同一構造を有する。
の供給および処理品２に負電圧をかける装置を有しない
他は、プラズマ熱処理室３と同様な構成を有し、炉殻７
内に陽極１１と同様な断熱壁３１で包囲した加熱室３２
を設け、この加熱室３２内に処理品加熱用のヒ−タ３３
を設けてある。３４は処理品昇降装置で、前記陰極２１
に代る押棒３５をそなえ、この押棒３５は前記陰極２１
と同様な駆動機構により昇降駆動されるものであり、相
当部分に同一符号を付して図示してある。この処理品昇
降装置３４は、拡散工程において処理品２を加熱中に、
処理品２を上昇位置の押棒３５上に保持してハ−スロ−
ル６から浮かせ、ハ−スロ−ル６を回転させてその曲り
を防止するためのものである。また拡散室４Ｂは拡散室
４Ａと同一構造を有する。
【００１４】一方冷却室５内には、詳細な図示を省略す
る駆動機構により昇降駆動される昇降テ−ブル４１が設
けられ、この昇降テ−ブル４１の下降時に、油槽４２内
に処理品２が浸漬されるようになつている。また４３は
プラズマ処理室３の入口３ａの扉、４４は同じく出口の
扉、４５は拡散室４Ａの入口の扉、４６は同じく出口の
扉、４７は拡散室４Ｂの入口の扉、４８は同じく出口の
扉で、いずれも真空保持可能なゲ−ト弁式の扉である。
また４９は冷却室５の出口５ｂの扉である。これら各扉
は、空圧シリンダ５０により昇降駆動される。
る駆動機構により昇降駆動される昇降テ−ブル４１が設
けられ、この昇降テ−ブル４１の下降時に、油槽４２内
に処理品２が浸漬されるようになつている。また４３は
プラズマ処理室３の入口３ａの扉、４４は同じく出口の
扉、４５は拡散室４Ａの入口の扉、４６は同じく出口の
扉、４７は拡散室４Ｂの入口の扉、４８は同じく出口の
扉で、いずれも真空保持可能なゲ−ト弁式の扉である。
また４９は冷却室５の出口５ｂの扉である。これら各扉
は、空圧シリンダ５０により昇降駆動される。
【００１５】上記構成の連続式プラズマ熱処理炉１にお
いては、処理品２はハ−スロ−ル６により炉内搬送さ
れ、先ず入口３ａからプラズマ熱処理室３内に装入され
た処理品２は、空圧シリンダ２５による陰極２１の上昇
駆動により陰極２１上に移載される。この状態で真空ポ
ンプ１５による炉殻７内の排気、ヒ−タ１３による処理
品２の加熱をおこない、ガスマニホ−ルド１４からアル
ゴンと水素のクリ−ニング用混合ガスを供給し、しかる
後にアルゴンとＣＨ系ガスから成る処理ガスの供給、お
よび陽極１１と陰極２１上の処理品２間のグロ−放電の
発生等をおこなう常法により、イオン浸炭処理を施す。
いては、処理品２はハ−スロ−ル６により炉内搬送さ
れ、先ず入口３ａからプラズマ熱処理室３内に装入され
た処理品２は、空圧シリンダ２５による陰極２１の上昇
駆動により陰極２１上に移載される。この状態で真空ポ
ンプ１５による炉殻７内の排気、ヒ−タ１３による処理
品２の加熱をおこない、ガスマニホ−ルド１４からアル
ゴンと水素のクリ−ニング用混合ガスを供給し、しかる
後にアルゴンとＣＨ系ガスから成る処理ガスの供給、お
よび陽極１１と陰極２１上の処理品２間のグロ−放電の
発生等をおこなう常法により、イオン浸炭処理を施す。
【００１６】上記イオン浸炭処理後の処理品２は、陰極
２１を下降させてハ−スロ−ル６上に移載し、予め真空
排気してある拡散室４Ａ内へ移送して、処理品昇降装置
３４を上昇駆動して押棒３５上に支持し、ヒ−タ３３に
より所定の高温に保持して、処理品２の表面層の炭素を
内部拡散させる拡散処理をおこなう。この拡散処理を、
処理品の所望の浸炭深さ等に応じて定まる総拡散処理時
間の約半分の時間だけおこなつたら、押棒３５の下降に
よりハ−スロ−ル６上に移載した処理品２を、予め真空
排気してある隣りの拡散室４Ｂ内へ移送し、ここで前記
と同様にして残りの拡散処理時間分の拡散処理をおこな
う。
２１を下降させてハ−スロ−ル６上に移載し、予め真空
排気してある拡散室４Ａ内へ移送して、処理品昇降装置
３４を上昇駆動して押棒３５上に支持し、ヒ−タ３３に
より所定の高温に保持して、処理品２の表面層の炭素を
内部拡散させる拡散処理をおこなう。この拡散処理を、
処理品の所望の浸炭深さ等に応じて定まる総拡散処理時
間の約半分の時間だけおこなつたら、押棒３５の下降に
よりハ−スロ−ル６上に移載した処理品２を、予め真空
排気してある隣りの拡散室４Ｂ内へ移送し、ここで前記
と同様にして残りの拡散処理時間分の拡散処理をおこな
う。
【００１７】その後真空排気を解除し、押棒３５の下降
によりハ−スロ−ル６上に移載した処理品２を冷却室５
内へ搬送し、昇降テ−ブル４１の下降により油槽４２に
浸漬して急冷する焼入処理を施したのち、出口５ｂから
炉外へ搬送し、必要に応じて図示しない装置により焼戻
処理等をおこなう。
によりハ−スロ−ル６上に移載した処理品２を冷却室５
内へ搬送し、昇降テ−ブル４１の下降により油槽４２に
浸漬して急冷する焼入処理を施したのち、出口５ｂから
炉外へ搬送し、必要に応じて図示しない装置により焼戻
処理等をおこなう。
【００１８】上記において拡散室４Ｂにおいて処理品２
の拡散処理中に、後続の処理品２の拡散室４Ａにおける
拡散処理と、さらに後続の処理品２のプラズマ熱処理室
３におけるイオン浸炭処理とを並行しておこなうことが
でき、従来の同一室内で拡散処理までおこなう場合に比
べて生産性が大巾に向上する。すなわち、プラズマ熱処
理に２０分、拡散処理に４０分、焼入処理に５分要する
場合、上記装置により並行処理をおこなうことにより、
約２５分のサイクルタイムで処理品を処理できるのに対
し、従来の同一室処理の場合のサイクルタイムは約６５
分なので、生産性は約２６０％に向上する。
の拡散処理中に、後続の処理品２の拡散室４Ａにおける
拡散処理と、さらに後続の処理品２のプラズマ熱処理室
３におけるイオン浸炭処理とを並行しておこなうことが
でき、従来の同一室内で拡散処理までおこなう場合に比
べて生産性が大巾に向上する。すなわち、プラズマ熱処
理に２０分、拡散処理に４０分、焼入処理に５分要する
場合、上記装置により並行処理をおこなうことにより、
約２５分のサイクルタイムで処理品を処理できるのに対
し、従来の同一室処理の場合のサイクルタイムは約６５
分なので、生産性は約２６０％に向上する。
【００１９】またプラズマ熱処理室３内のガスマニホ−
ルド１４、陰極２１、ブツシユ２４等のプラズマ発生用
装置が１個の処理品の処理に対して高温にさらされる高
温曝露時間は、上記本発明による並行処理の場合は２０
分であるのに対し、従来の同一室処理の場合は約６０分
なので、高温曝露時間は約３３％に短縮化されるのであ
る。
ルド１４、陰極２１、ブツシユ２４等のプラズマ発生用
装置が１個の処理品の処理に対して高温にさらされる高
温曝露時間は、上記本発明による並行処理の場合は２０
分であるのに対し、従来の同一室処理の場合は約６０分
なので、高温曝露時間は約３３％に短縮化されるのであ
る。
【００２０】次に図３および図４はこの発明の他の実施
例を示し、この実施例の連続式プラズマ熱処理炉５１
は、前記実施例におけるプラズマ熱処理室３と同一構造
のプラズマ熱処理室３Ａと３Ｂを連設し、この出口側に
前記実施例における拡散室４Ａと同一構造の拡散室４Ａ
と４Ｂと４Ｃを連設し、この出口側に前記実施例と同一
構造の冷却室５を連設した構成を有する。
例を示し、この実施例の連続式プラズマ熱処理炉５１
は、前記実施例におけるプラズマ熱処理室３と同一構造
のプラズマ熱処理室３Ａと３Ｂを連設し、この出口側に
前記実施例における拡散室４Ａと同一構造の拡散室４Ａ
と４Ｂと４Ｃを連設し、この出口側に前記実施例と同一
構造の冷却室５を連設した構成を有する。
【００２１】この実施例の連続式プラズマ熱処理炉５１
は、２室のプラズマ熱処理室と、３室の拡散室とを有す
るものであり、各室での並行処理によりさらに生産性の
向上をはかることができる。すなわち、プラズマ熱処理
に４０分、拡散処理に６０分、焼入に５分要する場合、
図４に示すようにひとつの処理品２に対して各室２０分
ずつの処理をおこない、５室で並行処理をおこなうこと
により、約２５分のサイクルタイムで処理品を処理で
き、従来の同一室処理の場合のサイクルタイム約１０５
分に対して、生産性は約４２０％と大巾に向上する。ま
たプラズマ熱処理室３Ａおよび３Ｂ内のガスマニホ−ル
ド１４その他のプラズマ発生用装置の高温曝露時間は約
２０分で、従来の同一室処理の場合の約１００分に対
し、約２０％に短縮化されるのである。
は、２室のプラズマ熱処理室と、３室の拡散室とを有す
るものであり、各室での並行処理によりさらに生産性の
向上をはかることができる。すなわち、プラズマ熱処理
に４０分、拡散処理に６０分、焼入に５分要する場合、
図４に示すようにひとつの処理品２に対して各室２０分
ずつの処理をおこない、５室で並行処理をおこなうこと
により、約２５分のサイクルタイムで処理品を処理で
き、従来の同一室処理の場合のサイクルタイム約１０５
分に対して、生産性は約４２０％と大巾に向上する。ま
たプラズマ熱処理室３Ａおよび３Ｂ内のガスマニホ−ル
ド１４その他のプラズマ発生用装置の高温曝露時間は約
２０分で、従来の同一室処理の場合の約１００分に対
し、約２０％に短縮化されるのである。
【００２２】なおこの実施例の炉においてプラズマ熱処
理３０分、拡散処理６０分、焼入処理５分の処理をおこ
なう場合は、たとえばプラズマ熱処理室３Ａの処理時間
を１０分、プラズマ熱処理室３Ｂの処理時間を２０分と
することにより、前記と同様なサイクルタイムで処理を
おこなうことができる。
理３０分、拡散処理６０分、焼入処理５分の処理をおこ
なう場合は、たとえばプラズマ熱処理室３Ａの処理時間
を１０分、プラズマ熱処理室３Ｂの処理時間を２０分と
することにより、前記と同様なサイクルタイムで処理を
おこなうことができる。
【００２３】この発明は上記実施例に限定されるもので
はなく、たとえば処理品２はハ−スロ−ル６上に保持し
たままプラズマ熱処理や拡散処理をおこなつてもよい。
またプラズマ熱処理室３または３Ａの処理品入口側に予
熱室を連設したり、冷却室５の出口側に焼戻室を連設し
てもよい。さらに冷却室５は油槽以外の冷却手段をそな
えたものとしてもよい。
はなく、たとえば処理品２はハ−スロ−ル６上に保持し
たままプラズマ熱処理や拡散処理をおこなつてもよい。
またプラズマ熱処理室３または３Ａの処理品入口側に予
熱室を連設したり、冷却室５の出口側に焼戻室を連設し
てもよい。さらに冷却室５は油槽以外の冷却手段をそな
えたものとしてもよい。
【００２４】また上記実施例はイオン浸炭について述べ
たが、この発明の装置はイオン窒化あるいはイオン浸炭
とイオン窒化を同時におこなう場合にも適用できるもの
である。またプラズマ熱処理室は３室以上の複数室連設
構成としてもよいし、拡散室は１室あるいは４室以上の
複数室連設構成としてもよい。
たが、この発明の装置はイオン窒化あるいはイオン浸炭
とイオン窒化を同時におこなう場合にも適用できるもの
である。またプラズマ熱処理室は３室以上の複数室連設
構成としてもよいし、拡散室は１室あるいは４室以上の
複数室連設構成としてもよい。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、
プラズマ熱処理と拡散とを別室でおこなうようにしたの
で、これら両工程を並行しておこなうことができ、さら
にプラズマ熱処理室と拡散室の少なくとも一方を複数室
としたのでプラズマ熱処理同士および／または拡散処理
同士も並行しておこなうことができ、生産性が大巾に向
上する。またガスマニホ−ルドや陰極その他のプラズマ
発生用装置は、拡散工程中の加熱が不要となり高温曝露
時間が短縮化されるので、損耗や割れ、絶縁劣化などが
低減化され、同一処理量に対して、装置の寿命は延び保
守の手間も少なくて済む。
プラズマ熱処理と拡散とを別室でおこなうようにしたの
で、これら両工程を並行しておこなうことができ、さら
にプラズマ熱処理室と拡散室の少なくとも一方を複数室
としたのでプラズマ熱処理同士および／または拡散処理
同士も並行しておこなうことができ、生産性が大巾に向
上する。またガスマニホ−ルドや陰極その他のプラズマ
発生用装置は、拡散工程中の加熱が不要となり高温曝露
時間が短縮化されるので、損耗や割れ、絶縁劣化などが
低減化され、同一処理量に対して、装置の寿命は延び保
守の手間も少なくて済む。
【図１】この発明の一実施例を示す連続式プラズマ熱処
理炉の縦断面図である。
理炉の縦断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】この発明の他の実施例を示す連続式プラズマ熱
処理炉の模式側面図である。
処理炉の模式側面図である。
【図４】図３の連続式プラズマ熱処理炉により処理され
る処理品の加熱温度線図である。
る処理品の加熱温度線図である。
１…連続式プラズマ熱処理炉、２…処理品、３…プラズ
マ熱処理室、３Ａ…プラズマ熱処理室、３Ｂ…プラズマ
熱処理室、３ａ…入口、４Ａ…拡散室、４Ｂ…拡散室、
４Ｃ…拡散室、５…冷却室、５ｂ…出口、６…ハ−スロ
−ル（搬送装置）、７…炉殻、１１…陽極、１３…ヒ−
タ、１４…ガスマニホ−ルド、１５…真空ポンプ、１６
…交流電源、１７…処理ガス供給源、２１…陰極、２２
…昇降台、２５…空圧シリンダ、２９…直流電源、３３
…ヒ−タ、３４…処理品昇降装置、４１…昇降テ−ブ
ル、４２…油槽、５１…連続式プラズマ熱処理炉。
マ熱処理室、３Ａ…プラズマ熱処理室、３Ｂ…プラズマ
熱処理室、３ａ…入口、４Ａ…拡散室、４Ｂ…拡散室、
４Ｃ…拡散室、５…冷却室、５ｂ…出口、６…ハ−スロ
−ル（搬送装置）、７…炉殻、１１…陽極、１３…ヒ−
タ、１４…ガスマニホ−ルド、１５…真空ポンプ、１６
…交流電源、１７…処理ガス供給源、２１…陰極、２２
…昇降台、２５…空圧シリンダ、２９…直流電源、３３
…ヒ−タ、３４…処理品昇降装置、４１…昇降テ−ブ
ル、４２…油槽、５１…連続式プラズマ熱処理炉。
Claims (1)
- 【請求項１】 真空ポンプに接続された炉殻内に陽極と
陰極と処理品加熱用のヒ−タと処理ガス供給用のマニホ
−ルドとをそなえたプラズマ熱処理室の出口側に、真空
ポンプに接続された炉殻内に処理品加熱用のヒ−タをそ
なえた拡散室を連設し、この拡散室の出口側に冷却室を
連設し、前記プラズマ熱処理室の入口部から前記冷却室
の出口部にかけて処理品搬送用の搬送装置を設けて成る
連続式プラズマ熱処理炉であつて、前記プラズマ熱処理
室と前記拡散室の少なくとも一方を、炉長方向に複数室
連設したことを特徴とする連続式プラズマ熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238895A JPH0657403A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4238895A JPH0657403A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0657403A true JPH0657403A (ja) | 1994-03-01 |
Family
ID=17036868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4238895A Pending JPH0657403A (ja) | 1992-08-14 | 1992-08-14 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0657403A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3811658A1 (de) * | 1987-04-07 | 1988-10-27 | Hitachi Ltd | Sequenz-controller |
| JPH1053809A (ja) * | 1996-06-06 | 1998-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 浸炭焼入焼戻方法及び装置 |
| JP2009084633A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Dowa Thermotech Kk | プラズマ窒化処理装置及び連続式プラズマ窒化処理方法 |
-
1992
- 1992-08-14 JP JP4238895A patent/JPH0657403A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3811658A1 (de) * | 1987-04-07 | 1988-10-27 | Hitachi Ltd | Sequenz-controller |
| JPH1053809A (ja) * | 1996-06-06 | 1998-02-24 | Dowa Mining Co Ltd | 浸炭焼入焼戻方法及び装置 |
| JP2009084633A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Dowa Thermotech Kk | プラズマ窒化処理装置及び連続式プラズマ窒化処理方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20031226 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040206 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040326 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040423 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20040720 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |