JP2600433Y2 - 連続式プラズマ熱処理炉 - Google Patents
連続式プラズマ熱処理炉Info
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- JP2600433Y2 JP2600433Y2 JP1992062860U JP6286092U JP2600433Y2 JP 2600433 Y2 JP2600433 Y2 JP 2600433Y2 JP 1992062860 U JP1992062860 U JP 1992062860U JP 6286092 U JP6286092 U JP 6286092U JP 2600433 Y2 JP2600433 Y2 JP 2600433Y2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この考案はグロ−放電プラズマを
利用して処理品のイオン浸炭とイオン窒化を、単独であ
るいは同時におこなう連続式プラズマ熱処理炉に関す
る。
利用して処理品のイオン浸炭とイオン窒化を、単独であ
るいは同時におこなう連続式プラズマ熱処理炉に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】最近鋼材などの処理品（被処理物）の表
面硬化法として、処理品を装入した真空容器中にアルゴ
ンなどのキヤリア−ガスを導入してスパツタリングを行
い、しかる後にＣＨ系ガスまたは窒素ガスあるいはそれ
らの混合ガスから成る処理ガスを導入し、処理品と陽極
の間にグロ−放電を発生させ、イオン化した炭素あるい
は窒素を処理品の表面に打込むイオン浸炭（プラズマ浸
炭ともいわれる）あるいはイオン窒化（プラズマ窒化と
もいわれる）が実用化されている。
面硬化法として、処理品を装入した真空容器中にアルゴ
ンなどのキヤリア−ガスを導入してスパツタリングを行
い、しかる後にＣＨ系ガスまたは窒素ガスあるいはそれ
らの混合ガスから成る処理ガスを導入し、処理品と陽極
の間にグロ−放電を発生させ、イオン化した炭素あるい
は窒素を処理品の表面に打込むイオン浸炭（プラズマ浸
炭ともいわれる）あるいはイオン窒化（プラズマ窒化と
もいわれる）が実用化されている。
【０００３】ところで上記イオン浸炭あるいはイオン窒
化においては、イオンの打込みにより処理品表面部には
炭素あるいは窒素の高濃度層が集中するので、このまま
焼入れ等を施すと割れを生じる。そのためイオン打込後
の処理品を高温度で長時間（たとえば９２０℃で１００
分程度）保持して炭素あるいは窒素分を処理品の表面内
部へ拡散させる拡散工程が必須となる。
化においては、イオンの打込みにより処理品表面部には
炭素あるいは窒素の高濃度層が集中するので、このまま
焼入れ等を施すと割れを生じる。そのためイオン打込後
の処理品を高温度で長時間（たとえば９２０℃で１００
分程度）保持して炭素あるいは窒素分を処理品の表面内
部へ拡散させる拡散工程が必須となる。
【０００４】
【考案が解決しようとする課題】ところが従来のプラズ
マ熱処理炉では、上記グロ−放電によりイオンの打込み
をおこなうプラズマ熱処理室内において、イオン打込後
の処理品をそのまま保持して拡散をおこなつていたの
で、プラズマ熱処理炉の生産性が劣るうえ、プラズマ発
生用の構造複雑な陰極やその支持用碍子、ガスヘツダ等
が高温に長時間さらされるため、これら各部の損耗や割
れが発生し、寿命が短く不経済であり、保守にも手間が
かかるという問題があつた。
マ熱処理炉では、上記グロ−放電によりイオンの打込み
をおこなうプラズマ熱処理室内において、イオン打込後
の処理品をそのまま保持して拡散をおこなつていたの
で、プラズマ熱処理炉の生産性が劣るうえ、プラズマ発
生用の構造複雑な陰極やその支持用碍子、ガスヘツダ等
が高温に長時間さらされるため、これら各部の損耗や割
れが発生し、寿命が短く不経済であり、保守にも手間が
かかるという問題があつた。
【０００５】この考案は上記従来の問題点を解決するも
ので、生産性がすぐれ、装置の寿命が長く保守の手間も
少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供しようとす
るものである。
ので、生産性がすぐれ、装置の寿命が長く保守の手間も
少なくて済む連続式プラズマ熱処理炉を提供しようとす
るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この考案の連続式プラズ
マ熱処理炉は、真空ポンプに接続された炉殻内に陽極と
昇降台に固着され処理品が移載される陰極と処理品加熱
用のヒータと処理ガス供給用のマニホールドとをそなえ
たプラズマ熱処理室の出口側に、真空ポンプに接続され
た炉殼内に処理品加熱用のヒータをそなえた拡散室を連
設し、この拡散室の出口側に冷却室を連設し、前記プラ
ズマ熱処理室の入口部から前記冷却室の出口部にかけ
て、処理品搬送用の搬送装置を設けたことを特徴とす
る。
マ熱処理炉は、真空ポンプに接続された炉殻内に陽極と
昇降台に固着され処理品が移載される陰極と処理品加熱
用のヒータと処理ガス供給用のマニホールドとをそなえ
たプラズマ熱処理室の出口側に、真空ポンプに接続され
た炉殼内に処理品加熱用のヒータをそなえた拡散室を連
設し、この拡散室の出口側に冷却室を連設し、前記プラ
ズマ熱処理室の入口部から前記冷却室の出口部にかけ
て、処理品搬送用の搬送装置を設けたことを特徴とす
る。
【０００７】
【作用】この考案の連続式プラズマ熱処理炉において
は、プラズマ熱処理室において炭素イオンあるいは窒素
イオンの打込みをおこなつた処理品は、搬送装置により
拡散室内へ移送し、この拡散室内でヒ−タにより処理品
を加熱することにより、炭素あるいは窒素分の表面内部
への拡散をおこなうことができる。
は、プラズマ熱処理室において炭素イオンあるいは窒素
イオンの打込みをおこなつた処理品は、搬送装置により
拡散室内へ移送し、この拡散室内でヒ−タにより処理品
を加熱することにより、炭素あるいは窒素分の表面内部
への拡散をおこなうことができる。
【０００８】この拡散工程中には、後続の別の処理品を
プラズマ熱処理室内へ装入してイオンの打込みを並行し
ておこなうことができ、生産性が向上するとともに、従
来の拡散工程時におけるような、ガスマニホ−ルド、陰
極、およびこれらを支持する絶縁物などのプラズマ発生
用装置の無用な加熱がなくなり、これらプラズマ発生用
装置の損耗や割れ、汚損による絶縁劣化などが低減化さ
れる。
プラズマ熱処理室内へ装入してイオンの打込みを並行し
ておこなうことができ、生産性が向上するとともに、従
来の拡散工程時におけるような、ガスマニホ−ルド、陰
極、およびこれらを支持する絶縁物などのプラズマ発生
用装置の無用な加熱がなくなり、これらプラズマ発生用
装置の損耗や割れ、汚損による絶縁劣化などが低減化さ
れる。
【０００９】
【実施例】以下図１および図２によりこの考案の一実施
例を説明する。図中、１は連続式プラズマ熱処理炉で、
処理品２の進行方向に、プラズマ熱処理室３、拡散室
４、および冷却室５を連設して成る。６は、プラズマ熱
処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出口５ｂ部にかけ
て設けた、処理品搬送用の搬送装置であるハ−スロ−ル
である。
例を説明する。図中、１は連続式プラズマ熱処理炉で、
処理品２の進行方向に、プラズマ熱処理室３、拡散室
４、および冷却室５を連設して成る。６は、プラズマ熱
処理室３の入口３ａ部から冷却室５の出口５ｂ部にかけ
て設けた、処理品搬送用の搬送装置であるハ−スロ−ル
である。
【００１０】プラズマ熱処理室３は、図２に示すよう
に、鋼製の炉殻７内に黒鉛製の断熱壁を兼ねた円筒状の
陽極１１を配設して、処理品２を収容する処理室１２を
形成し、この処理室１２内に処理品加熱用の黒鉛製の丸
棒状のヒ−タ１３と、処理ガス供給用の黒鉛製のガスマ
ニホ−ルド１４を設けてある。１５は炉殻７に接続した
真空ポンプ、１６はヒ−タ１３加熱用の交流電源、１７
（図１参照）はガスマニホ−ルド１４に接続した処理ガ
ス供給源である。
に、鋼製の炉殻７内に黒鉛製の断熱壁を兼ねた円筒状の
陽極１１を配設して、処理品２を収容する処理室１２を
形成し、この処理室１２内に処理品加熱用の黒鉛製の丸
棒状のヒ−タ１３と、処理ガス供給用の黒鉛製のガスマ
ニホ−ルド１４を設けてある。１５は炉殻７に接続した
真空ポンプ、１６はヒ−タ１３加熱用の交流電源、１７
（図１参照）はガスマニホ−ルド１４に接続した処理ガ
ス供給源である。
【００１１】また２１はステンレス鋼製の陰極で、８本
の陰極２１の基部は昇降台２２に固着され、この昇降台
２２の中央下面に固着した支柱２３は、炉殻７に固定し
た絶縁物製のブツシユ２４に摺動自在に嵌合し、この支
柱２３の下端は空圧シリンダ２５のピストンロツドに連
結されている。２６はシ−ル用のＯリングである。この
空圧シリンダ２５のシリンダ基部は、炉殻７に固着した
基板２７上に、絶縁物２８を介して取付けられている。
２９（図１参照）は、陽極１１と陰極２１（詳しくは昇
降台２２）間に接続した直流電源である。
の陰極２１の基部は昇降台２２に固着され、この昇降台
２２の中央下面に固着した支柱２３は、炉殻７に固定し
た絶縁物製のブツシユ２４に摺動自在に嵌合し、この支
柱２３の下端は空圧シリンダ２５のピストンロツドに連
結されている。２６はシ−ル用のＯリングである。この
空圧シリンダ２５のシリンダ基部は、炉殻７に固着した
基板２７上に、絶縁物２８を介して取付けられている。
２９（図１参照）は、陽極１１と陰極２１（詳しくは昇
降台２２）間に接続した直流電源である。
【００１２】また図１において拡散室４は、処理ガスの
供給および処理品２に負電圧をかける装置を有しない他
は、プラズマ熱処理室３と同様な構成を有し、炉殻７内
に陽極１１と同様な断熱壁３１で包囲した加熱室３２を
設け、この加熱室３２内に処理品加熱用のヒ−タ３３を
設けてある。また３４は処理品昇降装置で、前記陰極２
１に代る押棒３５をそなえ、この押棒３５は前記陰極２
１と同様な駆動機構により昇降駆動されるものであり、
相当部分に同一符号を付して図示してある。この処理品
昇降装置３４は、拡散工程において処理品２を加熱中
に、処理品２を上昇位置の押棒３５上に保持してハ−ス
ロ−ル６から浮かせ、ハ−スロ−ル６を回転させてその
曲りを防止するためのものである。
供給および処理品２に負電圧をかける装置を有しない他
は、プラズマ熱処理室３と同様な構成を有し、炉殻７内
に陽極１１と同様な断熱壁３１で包囲した加熱室３２を
設け、この加熱室３２内に処理品加熱用のヒ−タ３３を
設けてある。また３４は処理品昇降装置で、前記陰極２
１に代る押棒３５をそなえ、この押棒３５は前記陰極２
１と同様な駆動機構により昇降駆動されるものであり、
相当部分に同一符号を付して図示してある。この処理品
昇降装置３４は、拡散工程において処理品２を加熱中
に、処理品２を上昇位置の押棒３５上に保持してハ−ス
ロ−ル６から浮かせ、ハ−スロ−ル６を回転させてその
曲りを防止するためのものである。
【００１３】一方冷却室５内には、詳細な図示を省略す
る駆動機構により昇降駆動される昇降テ−ブル４１が設
けられ、この昇降テ−ブル４１の下降時に、油槽４２内
に処理品２が浸漬されるようになつている。また４３は
プラズマ処理室３の入口３ａの扉、４４は同じく出口の
扉、４５は拡散室４の入口の扉、４６は同じく出口の扉
で、いずれも真空保持可能なゲ−ト弁式の扉である。ま
た４７は冷却室５の出口５ｂの扉である。これら各扉
は、空圧シリンダ４８により昇降駆動される。
る駆動機構により昇降駆動される昇降テ−ブル４１が設
けられ、この昇降テ−ブル４１の下降時に、油槽４２内
に処理品２が浸漬されるようになつている。また４３は
プラズマ処理室３の入口３ａの扉、４４は同じく出口の
扉、４５は拡散室４の入口の扉、４６は同じく出口の扉
で、いずれも真空保持可能なゲ−ト弁式の扉である。ま
た４７は冷却室５の出口５ｂの扉である。これら各扉
は、空圧シリンダ４８により昇降駆動される。
【００１４】上記構成の連続式プラズマ熱処理炉１にお
いては、処理品２はハ−スロ−ル６により炉内搬送さ
れ、先ず入口３ａからプラズマ熱処理室３内に装入され
た処理品２は、空圧シリンダ２５による陰極２１の上昇
駆動により陰極２１上に移載される。この状態で真空ポ
ンプ１５による炉殻７内の排気、ヒ−タ１３による処理
品２の加熱をおこない、ガスマニホ−ルド１４からアル
ゴンと水素のクリ−ニング用混合ガスを供給し、しかる
後にアルゴンとＣＨ系ガスから成る処理ガスの供給、お
よび陽極１１と陰極２１上の処理品２間のグロ−放電の
発生等をおこなう常法により、イオン浸炭処理を施す。
いては、処理品２はハ−スロ−ル６により炉内搬送さ
れ、先ず入口３ａからプラズマ熱処理室３内に装入され
た処理品２は、空圧シリンダ２５による陰極２１の上昇
駆動により陰極２１上に移載される。この状態で真空ポ
ンプ１５による炉殻７内の排気、ヒ−タ１３による処理
品２の加熱をおこない、ガスマニホ−ルド１４からアル
ゴンと水素のクリ−ニング用混合ガスを供給し、しかる
後にアルゴンとＣＨ系ガスから成る処理ガスの供給、お
よび陽極１１と陰極２１上の処理品２間のグロ−放電の
発生等をおこなう常法により、イオン浸炭処理を施す。
【００１５】上記イオン浸炭処理後の処理品２は、陰極
２１を下降させてハ−スロ−ル６上に移載し、予め真空
排気してある拡散室４内へ移送して、処理品昇降装置３
４を上昇駆動して押棒３５上に支持し、ヒ−タ３３によ
り所定の高温に所定時間保持して、処理品２の表面層の
炭素を内部拡散させる拡散処理をおこなう。その後真空
排気を解除し、押棒３５の下降によりハ−スロ−ル６上
に移載した処理品２を冷却室５内へ搬送し、昇降テ−ブ
ル４１の下降により油槽４２に浸漬して急冷する焼入処
理を施したのち、出口５ｂから炉外へ搬送し、必要に応
じて図示しない装置により焼戻処理等をおこなう。
２１を下降させてハ−スロ−ル６上に移載し、予め真空
排気してある拡散室４内へ移送して、処理品昇降装置３
４を上昇駆動して押棒３５上に支持し、ヒ−タ３３によ
り所定の高温に所定時間保持して、処理品２の表面層の
炭素を内部拡散させる拡散処理をおこなう。その後真空
排気を解除し、押棒３５の下降によりハ−スロ−ル６上
に移載した処理品２を冷却室５内へ搬送し、昇降テ−ブ
ル４１の下降により油槽４２に浸漬して急冷する焼入処
理を施したのち、出口５ｂから炉外へ搬送し、必要に応
じて図示しない装置により焼戻処理等をおこなう。
【００１６】上記において拡散室４において処理品２の
拡散処理中に、後続の処理品２のイオン浸炭処理をプラ
ズマ熱処理室３において並行しておこなうことができ、
従来の同一室内で拡散処理までおこなう場合に比べて生
産性が向上する。すなわち、プラズマ熱処理に２０分、
拡散処理に４０分、焼入処理に５分要する場合、上記装
置により並行処理をおこなうことにより、約４５分のサ
イクルタイムで処理品を処理できるのに対し、従来の同
一室処理の場合のサイクルタイムは約６５分なので、生
産性は約１４４％に向上する。
拡散処理中に、後続の処理品２のイオン浸炭処理をプラ
ズマ熱処理室３において並行しておこなうことができ、
従来の同一室内で拡散処理までおこなう場合に比べて生
産性が向上する。すなわち、プラズマ熱処理に２０分、
拡散処理に４０分、焼入処理に５分要する場合、上記装
置により並行処理をおこなうことにより、約４５分のサ
イクルタイムで処理品を処理できるのに対し、従来の同
一室処理の場合のサイクルタイムは約６５分なので、生
産性は約１４４％に向上する。
【００１７】またプラズマ熱処理室３内のガスマニホ−
ルド１４、陰極２１、ブツシユ２４等のプラズマ発生用
装置が１個の処理品の処理に対して高温にさらされる高
温曝露時間は、上記本考案による並行処理の場合は２０
分であるのに対し、従来の同一室処理の場合は６０分な
ので、高温曝露時間は約３３％に短縮化されるのであ
る。
ルド１４、陰極２１、ブツシユ２４等のプラズマ発生用
装置が１個の処理品の処理に対して高温にさらされる高
温曝露時間は、上記本考案による並行処理の場合は２０
分であるのに対し、従来の同一室処理の場合は６０分な
ので、高温曝露時間は約３３％に短縮化されるのであ
る。
【００１８】この考案は上記実施例に限定されるもので
はなく、たとえば処理品２はハ−スロ−ル６上に保持し
たままプラズマ熱処理や拡散処理をおこなつてもよい。
またプラズマ熱処理室３の処理品入口側に予熱室を連設
したり、冷却室５の出口側に焼戻室を連設してもよい。
はなく、たとえば処理品２はハ−スロ−ル６上に保持し
たままプラズマ熱処理や拡散処理をおこなつてもよい。
またプラズマ熱処理室３の処理品入口側に予熱室を連設
したり、冷却室５の出口側に焼戻室を連設してもよい。
【００１９】また上記実施例はイオン浸炭について述べ
たが、この考案の装置はイオン窒化あるいはイオン浸炭
とイオン窒化を同時におこなう場合にも適用できるもの
である。
たが、この考案の装置はイオン窒化あるいはイオン浸炭
とイオン窒化を同時におこなう場合にも適用できるもの
である。
【００２０】
【考案の効果】以上説明したようにこの考案によれば、
プラズマ熱処理と拡散とを別室でおこなうようにしたの
で、これら両工程を並行しておこなうことができ、生産
性が向上するとともに、ガスマニホ−ルドや陰極その他
のプラズマ発生用装置は、拡散工程中の加熱が不要とな
り高温曝露時間が短縮化されるので、損耗や割れ、絶縁
劣化などが低減化され、同一処理量に対して装置の寿命
は延び保守の手間も少なくて済む。
プラズマ熱処理と拡散とを別室でおこなうようにしたの
で、これら両工程を並行しておこなうことができ、生産
性が向上するとともに、ガスマニホ−ルドや陰極その他
のプラズマ発生用装置は、拡散工程中の加熱が不要とな
り高温曝露時間が短縮化されるので、損耗や割れ、絶縁
劣化などが低減化され、同一処理量に対して装置の寿命
は延び保守の手間も少なくて済む。
【図１】この考案の一実施例を示す連続式プラズマ熱処
理炉の縦断面図である。
理炉の縦断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線断面図である。
１…連続式プラズマ熱処理炉、２…処理品、３…プラズ
マ熱処理室、３ａ…入口、４…拡散室、５…冷却室、５
ｂ…出口、６…ハ−スロ−ル（搬送装置）、７…炉殻、
１１…陽極、１３…ヒ−タ、１４…ガスマニホ−ルド、
１５…真空ポンプ、１６…交流電源、１７…処理ガス供
給源、２１…陰極、２２…昇降台、２５…空圧シリン
ダ、２９…直流電源、３３…ヒ−タ、３４…処理品昇降
装置、４１…昇降テ−ブル、４２…油槽。
マ熱処理室、３ａ…入口、４…拡散室、５…冷却室、５
ｂ…出口、６…ハ−スロ−ル（搬送装置）、７…炉殻、
１１…陽極、１３…ヒ−タ、１４…ガスマニホ−ルド、
１５…真空ポンプ、１６…交流電源、１７…処理ガス供
給源、２１…陰極、２２…昇降台、２５…空圧シリン
ダ、２９…直流電源、３３…ヒ−タ、３４…処理品昇降
装置、４１…昇降テ−ブル、４２…油槽。
Claims (1)
- 【請求項１】 真空ポンプに接続された炉殼内に陽極と
昇降台に固着され処理品が移載される陰極と処理品加熱
用のヒータと処理ガス供給用のマニホールドとをそなえ
たプラズマ熱処理室の出口側に、真空ポンプに接続され
た炉殼内に処理品加熱用のヒータをそなえた拡散室を連
設し、この拡散室の出口側に冷却室を連設し、前記ブラ
ズマ熱処理室の入口部から前記冷却室の出口部にかけ
て、処理品搬送用の搬送装置を設けたことを特徴とする
連続式ブラズマ熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992062860U JP2600433Y2 (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1992062860U JP2600433Y2 (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0620453U JPH0620453U (ja) | 1994-03-18 |
| JP2600433Y2 true JP2600433Y2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=13212475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1992062860U Expired - Fee Related JP2600433Y2 (ja) | 1992-08-13 | 1992-08-13 | 連続式プラズマ熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2600433Y2 (ja) |
-
1992
- 1992-08-13 JP JP1992062860U patent/JP2600433Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0620453U (ja) | 1994-03-18 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |