JPH0655053A

JPH0655053A - 粉体処理装置

Info

Publication number: JPH0655053A
Application number: JP4211116A
Authority: JP
Inventors: Masamitsu Nagao; 正光長尾; Masaaki Takahashi; 正明高橋
Original assignee: Nara Machinery Co Ltd
Current assignee: Nara Machinery Co Ltd
Priority date: 1992-08-07
Filing date: 1992-08-07
Publication date: 1994-03-01
Anticipated expiration: 2015-06-19
Also published as: JP3053972B2

Abstract

(57)【要約】【目的】組立、分解作業が容易で、製造コストが安
く、従来の循環回路を有するものと遜色のない粉体処理
装置を提供する。【構成】本発明は、衝撃室内に、衝撃ピンを周設した
回転盤を配置すると共に、該衝撃ピンの最外周軌道面に
沿い、かつそれに対して一定の空間を置いて衝突リング
を配置した粉体処理装置において、前記衝撃室内の回転
盤の前面に処理すべき粉体の循環空間を設け、該循環空
間が、衝撃ピンの回転軸方向の幅をｘとし、該衝撃ピン
が設けられた側の回転盤の側面と、該回転盤の側面に対
向する衝撃室内壁との間に形成される衝撃室の幅をｙと
したとき、その比ｘ／ｙが０．２〜０．８となるように
構成したことを特徴とする粉体処理装置である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、粉体の処理装置に関す
る。詳しくは、衝撃式打撃手段を用いて、固体粒子の表
面に他の微小固体粒子を埋設または固着して、あるいは
固体粒子の表面に他の微小固体粒子を膜状に固定化し
て、固体粒子を表面改質処理する装置に関する。さら
に、金属や樹脂等の不定形粒子を球形化処理する装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、固体粒子の固着防止、変色変質防
止、分散性の向上、流動性の改善、触媒効果の向上、消
化・吸収の制御、磁性特性の向上、耐候性の向上等を目
的として、各種の表面改質が行なわれてきた。この中
で、核となる固体粒子（以下、「母粒子」という）の表
面に、この固体粒子よりも小さな他の固体粒子（以下、
「子粒子」という）を、埋設または固着して固体粒子の
表面を改質し、機能性複合粉体材料を得る方法（以下、
単に「固定化処理方法」ということもある）、母粒子の
表面に子粒子を膜状に固定化して固体粒子の表面を改質
し、機能性複合粉体材料を得る方法（同、「成膜化処理
方法」）、さらには金属や樹脂等の不定形の固体粒子を
球形化処理する方法（同、「球形化処理方法」）として
は、高速気流中衝撃法（例えば、特公平３−２００９
号、特公平３−７６１７７号、特公平４−３２５０号）
が有用な方法である。

【０００３】図５は、上記の方法を実施するための装置
を、その前後装置と共に系統的に示した概念的な説明図
であり、図６は、図５の装置の側断面図である。同図に
おいて、１はケーシング、２は後カバー、３は前カバ
ー、４はケーシング１の中にあって高速回転する回転
盤、５は回転盤４の外周に所定の間隔を置いて放射状に
周設された複数の衝撃ピンであり、これは一般にハンマ
ー型またはブレード型のものである。６は回転盤４をケ
ーシング１内に回転可能に軸支持する回転軸、７は衝撃
ピン５の最外周軌道面に沿い、かつそれに対して一定の
間隔を置いて周設された衝突リングであり、この衝突リ
ング７は、各種形状の凹凸型または円周平面型のものを
用いる。８は衝突リング７の一部を切り欠いて設けた改
質粉体排出口に密接に嵌合する開閉弁、９は開閉弁の弁
軸、１０は弁軸９を介して開閉弁８を操作するアクチュ
エーター、１１は循環回路で、該循環回路１１は一端が
衝突リング７の内壁の一部に開口し、他端が前カバー３
上の回転盤４の中心部に対向する付近に開口して閉回路
を形成する。１２は原料ホッパー、１３は原料ホッパー
１２と循環回路１１とを連結する原料供給用のシュー
ト、１４はシュート１３の途中に設けられた開閉弁、１
５は原料計量フィーダー、１６は原料貯槽用容器であ
る。１７は回転盤４の外周と衝突リング７との間に設け
られた衝撃室、１８は衝突リング７の内壁の一部に開口
する循環回路１１への循環口を各々示す。１９は改質粉
体排出管、２０はサイクロン、２１、２３はロータリー
バルブ、２２はバッグフィルター、２４は排風機、２５
は予め母粒子に子粒子を付着させる必要がある場合に使
用する各種ミキサー・自動乳鉢等の公知のプレプロセッ
サーを各々示す。なお、この装置の運転は、時限制御装
置２６によって自動回分操作を行なうように設定されて
いる。また、衝突リング７をジャケット構造２７にし
て、そこに冷却水を流して、衝撃室１７、循環回路１１
内の雰囲気温度を一定に制御することもできる。

【０００４】上記装置を用いて、例えば母粒子の表面に
子粒子を固定化する場合は、次の要領で操作する。ま
ず、原料供給用のシュート１３の途中に設けられた開閉
弁１４を閉の状態にし、改質粉体排出口の開閉弁８を閉
鎖した状態にしておき、駆動手段（図示省略）によって
回転軸６を駆動し、例えば外周速度８０ｍ／ｓｅｃで回
転盤４を回転させる。この際、衝撃ピン５の回転に伴っ
て、急激な気流の流れが生じ、この気流の遠心力に基づ
くファン効果によって、衝突リング７の内壁の一部に開
口する循環口１８から、循環回路１１を巡って前カバー
３の中心部の開口部から衝撃室１７に戻る気流の循環流
れ、すなわち完全な自己循環の流れが形成される。この
際発生する単位時間当りの循環風量は、衝撃室と循環系
の全容積に較べ著しく多量であるため、短時間の内に莫
大な回数の空気流循環サイクルが形成される。次に開閉
弁１４を開き、母粒子と子粒子との混合粉体を、計量フ
ィーダー１５により原料ホッパー１２に短時間で投入す
ると、この混合粉体は、原料ホッパー１２からシュート
１３を通り衝撃室１７に入る。原料ホッパー１２中に混
合粉体が残っていないことを確認した後、開閉弁１４を
閉じる。上記混合粉体は、衝撃室１７内で高速回転する
回転盤４の多数の衝撃ピン５によって瞬間的に打撃作用
を受け、さらに周囲の衝突リング７に衝突する。そして
前記気流の流れに同伴して、循環回路１１を巡って再び
衝撃室１７に戻り、再度同様の作用を受ける。このよう
に、同じ作用を繰り返し受けることにより、短時間（数
十秒〜数分間）で均一な固定化処理が行なわれ、母粒子
の表面に子粒子を強固に固定化した複合粒子が得られ
る。

【０００５】上記固定化作業が終了した後は、開閉弁１
４を開くと共に、改質粉体排出口の開閉弁８を鎖線で示
す位置に移動させて開き、複合粒子を排出する。この複
合粒子は、それ自身に作用している遠心力と、排風機２
４の吸引力によって短時間（数秒間）で衝撃室１７及び
循環回路１１から排出され、排出管１９を通ってサイク
ロン２０及びバッグフィルター２２等の粉末捕集装置に
誘導された後捕集される。上記の装置において、前カバ
ー３の衝撃室側の側面と、この側面に相対する衝撃ピン
５の側面との間隔はできるだけ小さくし、衝撃ピン５の
回転によって発生した気流を、速やかに循環口１８から
循環回路１１を通って衝撃室１７内に戻し、この気流と
共に移動する粉体粒子群に、衝撃ピン５の打撃作用を繰
り返し付与する構造になっている。通常この間隔は４ｍ
ｍ程度で、高速回転する装置でこれ以上狭くすることは
機械的に難しい。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上記装置はこのように
循環回路１１を有していることに特徴がある。しかしな
がら、この循環回路を有しているがために、以下に示す
問題点があった。衝撃室１７内の点検、回転盤４の脱着等の目的で、
前カバー３を頻繁に開閉する必要があるので、この循環
回路１１を２分割（あるいはそれ以上に分割）して、ボ
ルト・ナット、あるいはクランプ等で連結する構造にし
ておかなければならない。さらにまた、前カバー３を開
閉する度に、このボルト・ナット、あるいはクランプを
取り外し、取り付けしなければならないので、作業が煩
雑であった。また、循環回路１１は、その一端を衝突リング７の
一部を切り欠いてそこに嵌合し、他端を前カバー３の中
心部付近に連結するパイプ加工等によって形成されるた
め、加工に熟練度と時間とを必要とするので、製造コス
トがかかった。この循環回路をジャケット構造２７にす
る場合は、なおさらであった。さらに、処理物が変わったとき（グレードチェン
ジ）や、循環回路１１に処理物などの付着が生じたとき
は、衝撃室１７の内部、回転盤４と共に、循環回路の内
部も洗浄する必要があるが、この循環回路は洗浄しにく
い構造であった。一方、上記装置の循環回路を取り外
し、循環口１８と前カバー３の開口部とを塞いだ装置
で、上記の方法に準じて固定化処理を行なった場合、粉
体粒子群は衝撃ピン５の最外周軌道面と衝突リング７と
の間を、衝撃ピン５の回転に伴って移動するのみであ
り、衝撃ピン５の打撃作用、衝突リング７への衝突が効
率よく行なわれないので、均一な処理ができない。本発
明はこのような問題点に鑑み、製造コストが安く、組
立、分解、さらには洗浄等の作業がし易い粉体処理装置
を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的に沿い、本発明
は衝撃室内に、衝撃ピンを周設した回転盤を配置すると
共に、該衝撃ピンの最外周軌道面に沿い、かつそれに対
して一定の空間を置いて衝突リングを配置した粉体処理
装置において、前記衝撃室内の回転盤の前面に処理すべ
き粉体の循環空間を設け、該循環空間が、衝撃ピンの回
転軸方向の幅をｘとし、該衝撃ピンが設けられた側の回
転盤の側面と、該回転盤の側面に対向する衝撃室内壁と
の間に形成される衝撃室の幅をｙとしたとき、その比ｘ
／ｙが０．２〜０．８となるように構成したことを特徴
とする粉体処理装置とすることによって前記課題を解決
した。また、本発明は前記衝撃室内壁と、これに相対す
る衝撃ピンの側面との間の循環空間に、中心部に開口部
を有する仕切板を設けた粉体処理装置とすることによっ
て前記課題を解決した。

【０００８】

【作用】本発明は、上記の構造にすることによって、す
なわち、回転盤の前面に上記構成の循環空間を設けるこ
とによって、衝撃ピンの回転によって発生した気流と共
に粉体粒子群が、衝撃室内のこの空間を通って繰り返し
循環して、衝撃ピンの機械的打撃作用、衝突リングへの
衝突により、従来の循環回路を有する粉体処理装置と同
様に、短時間で均一な各種処理ができる上に、従来のよ
うな循環回路がないので、製造コストが安く、組立、分
解、さらには洗浄等の作業がし易い粉体処理装置であ
る。また、上記循環空間に、中心部に開口部を有する仕
切板を設けることによって、気流、及び粉体粒子群の循
環ラインを制御することができるので、すなわち、粉体
粒子群の全量を繰り返し循環させることができるので、
各種処理をより均一に行なうことができる。

【０００９】

【実施例】図１は、本発明の粉体処理装置の一例であ
る。同図に基づいて本発明を詳細に説明する。同図にお
いて、１０１は粉体処理装置のケーシング、１０２はそ
の後カバー、１０３はその前カバー、１０４は高速回転
する回転盤、１０５は回転盤１０４の外周に所定の間隔
を置いて放射状に周設された複数の衝撃ピンであり、こ
れは一般にブレード型、ピン型またはハンマー型のもの
である。１０６は回転盤１０４を回転可能に軸支持する
回転軸で、回転盤１０４はこの回転軸１０６にナット１
０７によって固定されている。１０８は衝撃ピン１０５
の最外周軌道面に沿い、かつそれに対して一定の間隔を
置いて周設された衝突リングであり、この一定の間隔
は、装置の大きさによっても異なるが、一般的に０．５
〜２０ｍｍであることが好ましい。１０９は前カバー１
０３、回転盤１０４、衝突リング１０８によって囲まれ
た衝撃室、１１０は衝突リング１０８の一部を切り欠い
て設けた処理粉体排出口、１１１は前カバー１０３の中
心部付近に開口する粉体粒子の投入口、１１２は処理粉
体を排出するときに空気を導入するために、前カバー１
０３の一部に開口した空気導入口である。１１３は処理
粉体排出口１１０に密接に嵌合する開閉弁、１１４はそ
の弁軸、１１５は弁軸１１４を介して開閉弁１１３を操
作するアクチュエーターである。排出口１１０には排出
管１１６を介してバッグコレクター等の粉体捕集器（固
気分離装置）１１７が連設されている。１１８は原料ホ
ッパー、１１９は原料ホッパー１１８と投入口１１１と
を連結する原料供給用のシュート、１２０はシュート１
１９の途中に設けられた開閉弁である。また、１２１は
空気導入口１１２に密接に嵌合する開閉弁、１２２はそ
の弁軸、１２３は弁軸１２２を介して開閉弁１２１を操
作するアクチュエーターである。１２４は投入口１１１
に内設されたガイドリング、１２５は前カバー１０３の
内側に取り付けられたカバープレート（又は単にプレー
トとする）である。この装置において、衝突リング１０
８及び前カバー１０３をジャケット構造１２６（一部図
示省略）にして、そこに冷却水等を流し、衝撃室１０９
内の雰囲気温度を一定に制御することもできる。

【００１０】この装置において、衝撃ピン１０５の前カ
バー１０３側の端面と前カバー１０３（あるいはカバー
プレート１２５）の内壁との間に充分な空間を確保した
粉体の循環空間を設ける。この空間の広さは、衝撃ピン
１０５が設けられた側の回転盤１０４の側面と、これに
対向する衝撃室内壁すなわち、前カバー１０３（あるい
はカバープレート１２５）内壁との間の幅（ｙとする）
と、衝撃ピン１０５の回転軸方向の幅（ｘとする）との
比として定義すると、この比ｘ／ｙは０．２〜０．８の
範囲のあることが好ましい。一般的にこの比は、衝撃ピ
ン１０５の回転軸方向の幅とカバープレート１２５の厚
み、またはこのいずれか一方を変えることによって変化
させることができるが、上で定義した比を０．２以下に
するということは、衝撃ピン１０５の幅を極端に短くす
ることになるので、この衝撃ピン１０５の回転によって
発生する気流の量が極端に少なくなり、この気流と共に
循環する粉体粒子群の循環回数が減るので、処理時間が
長くなり、効果的でない。一方、０．８以上にすると、
上記空間が極端に狭くなるので、気流が流れにくくな
り、粉体粒子群は、衝撃ピン１０５と衝突リング１０８
との間を、衝撃ピン１０５の回転に伴って移動するのみ
であるから、衝撃ピン１０５の打撃作用、衝突リング１
０８への衝突が効率よく行なわれないので、均一な処理
ができない。また、衝撃室１０９の容積が小さくなるの
で、１回当りの処理量が減少してしまう。

【００１１】上記装置は、次の要領で操作される。ま
ず、原料供給用のシュートの途中に設けられた開閉弁１
２０を閉の状態にすると共に、排出口１１０の開閉弁１
１３及び空気導入口１１２の開閉弁１２１を閉鎖した状
態にしておき、駆動手段（図示省略）によって回転軸１
０６を駆動し、例えば外周速度８０ｍ／ｓｅｃで回転盤
１０４を回転させる。この際、衝撃ピン１０５の回転に
伴って、回転盤１０４の中心から衝突リング１０８の方
向に急激な気流の流れが生じる。ここで、衝撃ピン１０
５と前カバー１０３との間に充分な空間を保持している
ので、この気流は矢印で示したように、その遠心力及び
圧力差により、すなわち圧縮された気流は衝突リング１
０８の内周面に沿って回転しながら前カバー１０３の方
向に移動し、続いてカバープレート１２５の内面に沿っ
て回転軸１０６の方向に移動し、さらにガイドリング１
２４に沿って回転盤１０４の中心部に戻る気流の循環流
れが形成される。ここで回転盤１０４の外周速度として
は、３０〜１５０ｍ／ｓｅｃの範囲が好ましい。処理物
の物性によって異なるが、３０ｍ／ｓｅｃ以下の速度で
は粉体に充分な衝撃力を与えることができず、処理に時
間がかかり効率が悪い。また１５０ｍ／ｓｅｃ以上の速
度を得ることは機械的に難しい。次に開閉弁１２０を開
き、母粒子の表面に子粒子を固定化する場合は、この母
粒子と子粒子とから構成される粉体粒子群（混合粉
体）、または予め母粒子の表面に子粒子を付着させた粉
体粒子群（オーダードミクスチャー）を、原料ホッパー
１１８に短時間に投入すると、この粉体粒子群は原料ホ
ッパー１１８からシュート１１９を通り、投入口１１１
から衝撃室１０９に入る。原料ホッパー１１８内に粉体
粒子群が残っていないことを確認した後、開閉弁１２０
を閉じる。なお、自動回分操作を行なう場合は、予め粉
体粒子群の投入に必要な時間を測定し、時限制御装置
（図示省略）に入力しておく。

【００１２】上記粉体粒子群は、衝撃室１０９内で高速
回転する回転盤１０４の多数の衝撃ピン１０５によって
瞬間的に機械的打撃作用を受け、さらに周辺の衝突リン
グ１０８に衝突する。そして前記気流の流れに同伴し
て、カバープレート１２５の内面、そしてガイドリング
１２４に沿って回転盤１０４の中心部付近に移動して、
再度同様の作用を受ける。このように、同じ作用を繰り
返し受けることにより、短時間（数十秒〜数分間）で、
均一な固定化処理が行なわれ、母粒子の表面に子粒子を
強固に固定化することができる。また、子粒子が低融点
物質の場合は、衝撃室１０９内で上記の衝撃式打撃作用
を受けた子粒子は、母粒子の表面に強固に固着されなが
ら、または固着された後、上記の作用を受けた瞬時のみ
子粒子が溶融して、母粒子の表面に膜状に固定化され
る。さらに、金属や樹脂等の不定形の固体粒子を球形化
処理する場合は、上記の作用を受けることによって、こ
の不定形固体粒子の形状は球状、少なくとも丸みをもっ
た形状に改善される。上記固定化処理が終了した後は、
排出口１１０の開閉弁１１３を開くと共に、空気導入口
１１２の開閉弁１１３を開いて複合粒子を排出する。こ
の複合粒子は、それ自身に作用している遠心力と、空気
導入口１１２から吸引されて、衝撃室１０９を通り、排
出口１１０から排出される気流の流れとによって、極め
て短時間（数秒間）で衝撃室１０９から排出され、排出
管１１６を通ってバックコレクター等の粉体捕集器１１
７で捕集される。なお、長時間連続して自動回分処理を
行なう場合等は、排出管１１６にサイクロン、バッグフ
ィルター（共に図示省略）等の粉末捕集装置を連設すれ
ばよい。

【００１３】図２は、本発明の粉体処理装置の他の一例
で、図３は図２のＸ−Ｘ断面図である。同図に基づいて
本発明の他の一例を説明するが、前記の装置と同一の部
材においては、同一符号を付けて、説明を省略する。同
図において、１２７は中心部に開口部１２８を有する仕
切板であり、この仕切板１２７は、複数の連結部材１２
９が半径方向に所定の間隔を置いて植設されており、こ
の連結部材１２９によって前カバー１０３に取り付けら
れている。この仕切板１２７と前カバー１０３（カバー
プレート１２５）とによって囲まれた空間１３０が、衝
撃ピン１０５の回転によって発生した気流を再び回転盤
１０４の中心部に誘導・循環させるための循環回路とな
る。仕切板１２７の開口部１２８の直径は、原料投入口
１１１の直径（ガイドリング１２４の外径）よりも大き
く、衝撃ピン１０５の最内周軌道面の直径よりも小さい
ことが好ましい。一方、仕切板１２７の外径は、上記衝
撃ピン１０５の最内周軌道面の直径より大きく、処理装
置の大きさによっても異なるが、衝突リング１０８との
間に少なくとも約０．５ｍｍ以上の空間を有することが
好ましい。また、仕切板１２７の側面とこれに相対する
衝撃ピン１０５の側面との距離は、できるだけ短いこと
が好ましい。また、この距離は、連結部材１２９を構成
しているボルトの長さを調整することにより、容易に変
更することができる。さらに、上記仕切板１２７の外
径、その開口部１２８の直径、衝撃ピン１０５の側面と
の距離、及び仕切板１２７とカバープレート１２５との
距離は、処理物の物性、処理の目的によって調整する。
この仕切板１２７は、循環空間にあって、衝撃ピン１０
５の回転によって発生した気流、及びこの気流と共に循
環する粉体粒子群の循環ラインを規制するためのもの
で、各回分処理において、粉体粒子群の全量を均一に処
理したい場合は、この仕切板１２７を設けることが望ま
しい。

【００１４】この装置も、前記装置と同様の要領で操作
され、例えば外周速度８０ｍ／ｓｅｃで回転盤１０４を
回転させると、衝撃ピン１０５の回転に伴って、回転盤
１０４の中心から衝突リング１０８の方向に急激な気流
の流れが生じる。この気流は矢印で示したように、その
遠心力及び圧力差により、すなわち圧縮された気流は衝
突リング１０８の内周面に沿って回転しながら前カバー
１０３の方向に移動し、衝突リング１０８と仕切板１２
７との間隙から循環回路１３０に入り、続いてカバープ
レート１２５の内面に沿って回転軸１０６の方向に移動
し、開口部１２８を通って再び回転盤１０４の中心部に
戻る、気流の循環流れが形成される。また、図４
（ａ），（ｂ）に示したように、カバープレート１２５
の衝突リング１０８に接する外周部と、ガイドリング１
２４と接するその中心部、またはそのいずれか一方に、
回転盤１０６の方向に突出させ、各々Ｒ状、またはある
角度を保たせてコーナー部の隅肉となる突出部１３１、
１３２を形成することにより、気流及び粉体粒子群の流
れがスムーズになり、カバープレート１２５と衝突リン
グ１０８、またはガイドリング１２４とのコーナー部
に、粉体粒子群が停滞するのを防止することができる。

【００１５】〔具体例１〕図２と図３に示す粉体処理装
置を用いて、固定化処理を行なった具体例について説明
する。回転盤に８枚のブレード型衝撃ピンを周設した粉
体処理装置を用いた。この装置において、衝撃ピンの最
外周軌道面の外径は２３０ｍｍ、この軌道面と衝突リン
グとの間隔は５ｍｍ、衝撃ピンの回転軸方向の幅は２０
ｍｍ、衝撃室の幅は４７ｍｍ、仕切板とカバープレート
との距離は２０ｍｍ、仕切板とこれに相対する衝撃ピン
の側面との距離は４ｍｍであった。平均粒子径５μｍの
ナイロン１２球形粒子（母粒子）の表面に、平均粒子径
０．３μｍの二酸化チタン微粒子（子粒子）を、予めミ
キサーで付着させたオーダードミクスチャー１００ｇ
（ナイロン１２：７０ｇ、二酸化チタン：３０ｇ）を、
前記粉体処理装置に投入し、衝撃ピンの外周速度８０ｍ
／ｓｅｃ、処理時間５ｍｉｎの条件で固定化処理を行な
い、複合粒子を得た。走査形電子顕微鏡（以下、「ＳＥ
Ｍ」という）で上記複合粒子を観察したところ、ナイロ
ン１２球形粒子の全表面に、二酸化チタン微粒子が均一
かつ強固に固定化されていた。

【００１６】〔具体例２〕次に、成膜化処理を行なった
具体例について説明する。使用した装置は、上記具体例
１と同じ装置である。平均粒子径１７μｍのポリフチレ
ン球形粒子（母粒子）の表面に、平均粒子径０．４μｍ
のＰＭＭＡ（ポリメチルメタアクリレート）微粒子（子
粒子）を、予めミキサーで付着させたオーダードミクス
チャー１３０ｇ（ポリスチレン：１１５ｇ、ＰＭＭＡ：
１５ｇ）を、前記粉体処理装置に投入し、衝撃ピンの外
周速度１００ｍ／ｓｅｃ、処理時間５ｍｉｎの条件で成
膜化処理を行い、複合粒子を得た。ＳＥＭで上記複合粒
子を観察したところ、ポリスチレン球形粒子の全表面
に、ＰＭＭＡが膜状に固定化されていた。

【００１７】〔具体例３〕次に、図１に示す粉体処理装
置を用いて、球形化処理を行なった具体例について説明
する。回転盤に８枚のブレード型衝撃ピンを周設した粉
体処理装置を用いた。この装置において、衝撃ピンの最
外周軌道面の外径は２３０ｍｍ、この軌道面と衝突リン
グとの間隔は５ｍｍ、衝撃ピンの回転軸方向の幅は２０
ｍｍ、衝撃室の幅は４２ｍｍ、カバープレートとこれに
相対する衝撃ピンの側面との距離は２２ｍｍである。前
記粉体処理装置に、平均粒子径１５０μｍの不定形ステ
ンレス粒子（ＳＵＳ３０４、水アトマイズ粉）１７０ｇ
を投入し、衝撃ピンの外周速度８０ｍ／ｓｅｃ、処理時
間３ｍｉｎの条件で、球形化処理を行なった。ＳＥＭで
上記処理粒子を観察したところ、一様に丸みをもった球
形粒子であった。

【００１８】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、衝撃ピンの
回転軸方向の幅を、該衝撃ピンが設けられた側の回転盤
の側面と、これに相対する衝撃室内壁との間に形成され
る衝撃室の幅に対して、０．２〜０．８の範囲となるよ
うな循環空間を設けてなる本発明の粉体処理装置は、従
来の循環回路を有する粉体処理装置と遜色ない処理がで
きる上に、組立、分解作業を容易に行なうことができ
た。また、本願発明の粉体処理装置は、製造コストが安
く、洗浄等の作業も容易に行なうことができた。さら
に、衝撃室内の循環空間に仕切板を設けてなる粉体処理
装置により、各回分処理において、粉体粒子群の全量を
均一に処理することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の粉体処理装置の一実施例を、その後処
理装置と共に示した要部断面図である。

【図２】本願の粉体処理装置の他の一実施例を、その後
処理装置と共に示した要部断面図である。

【図３】図２の装置のＸ−Ｘ断面図である。

【図４】同図（ａ）はカバープレートの形状の一例を、
同図（ｂ）は他の例を示した衝撃室の要部拡大断面図で
ある。

【図５】従来技術の装置を、その前後装置と共に系統的
に示した概念的な説明図である。

【図６】図５の装置の側断面図である。

【符号の説明】

１ケーシング２後カバー３前カバー４回転盤５衝撃ピン６回転軸７衝突リング８開閉弁９弁軸１０アクチュエーター１１循環回路１２原料ホッパー１３原料供給用のシュート１４開閉弁１５原料計量フィーダー１６原料貯槽用容器１７衝撃室１８循環口１９改質粉体排出管２０サイクロン２１ロータリーバルブ２２バックフィルター２３ロータリーバルブ２４排風機２５プレプロセッサー２６時限制御装置２７ジャケット１０１ケーシング１０２後カバー１０３前カバー１０４回転盤１０５衝撃ピン１０６回転軸１０７ナット１０８衝突リング１０９衝撃室１１０排出口１１１投入口１１２空気導入口１１３開閉弁１１４弁軸１１５アクチュエーター１１６排出管１１７粉体捕集器１１８原料ホッパー１１９原料供給用のシュート１２０開閉弁１２１開閉弁１２２弁軸１２３アクチュエーター１２４ガイドリング１２５カバープレート１２６ジャケット１２７仕切板１２８開口部１２９連結部材１３０循環回路１３１突出部１３２突出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０８Ｊ 3/12 ＣＦＧＺ 9268−4Ｆ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】衝撃室内に、衝撃ピンを周設した回転盤
を配置すると共に、該衝撃ピンの最外周軌道面に沿い、
かつそれに対して一定の空間を置いて衝突リングを配置
した粉体処理装置において、前記衝撃室内の回転盤の前
面に処理すべき粉体の循環空間を設け、該循環空間が、
衝撃ピンの回転軸方向の幅をｘとし、該衝撃ピンが設け
られた側の回転盤の側面と、該回転盤の側面に対向する
衝撃室内壁との間に形成される衝撃室の幅をｙとしたと
き、その比ｘ／ｙが０．２〜０．８となるように構成し
たことを特徴とする粉体処理装置。
【請求項２】前記衝撃室内壁と、これに相対する衝撃
ピンの側面との間の循環空間に、中心部に開口部を有す
る仕切板を設けたことを特徴とする請求項１記載の粉体
処理装置。
【請求項３】前記衝撃室内壁に厚さの異なるプレート
を張設することによって前記衝撃室の幅ｙを変更するこ
とを特徴とする請求項１または２記載の粉体処理装置。
【請求項４】前記衝撃ピンが設けられた側の回転盤の
側面に対向する衝撃室内壁が、ケーシングに着脱可能に
設けた前カバーであることを特徴とする請求項１〜３記
載の粉体処理装置。
【請求項５】前記衝撃室内壁に設ける前記プレート
が、衝撃室内に設けた衝突リングに接する端部と、粉体
の投入口を形成するガイドリンクに接する端部とに、ま
たはそのいずれか一方の端部に、粉体の流れを円滑にす
る突出部を形成してあることを特徴とする請求項３記載
の粉体処理装置。