JP3536068B2 - 粉粒体処理方法 - Google Patents

粉粒体処理方法

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JP3536068B2 JP32776493A JP32776493A JP3536068B2 JP 3536068 B2 JP3536068 B2 JP 3536068B2 JP 32776493 A JP32776493 A JP 32776493A JP 32776493 A JP32776493 A JP 32776493A JP 3536068 B2 JP3536068 B2 JP 3536068B2
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良彦 宮部
健一 長野
紳也 佐竹
勲 田中
信雄 鈴木
憲次 小野
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Nara Machinery Co Ltd
Shimizu Corp
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Nara Machinery Co Ltd
Shimizu Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は粉粒体の処理方法、特
に球状化処理方法若しくは複合化処理方法に関し、分子
量の大きな気体、すなわちガス密度の大きな気体を利用
して高効率で球状化処理、若しくは複合化処理を行う方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、粉粒体の球状化や複合化処理を行
うには、粉粒体処理装置の円筒状のケーシングから成る
衝撃室内に、衝撃羽根や分散ピンを有する回転盤を設
け、空気を雰囲気として導入管を介して衝撃室の中心部
分に粉粒体を供給して高速回転する回転盤の衝撃羽根と
の打撃作用によって粉粒体を粉砕して丸くし、衝撃室内
を幾度も粉粒体を循環させることによって次第に丸くし
て、衝撃室を何回も循環させ乍ら次第に球粒化若しくは
複合化処理するのが一般的な遣り方である。
【0003】
【発明が解決しようする課題】併し乍ら、この様な粉粒
体処理装置による粉粒体の球状化若しくは複合化処理
は、処理に要する時間が、単位時間当たりに粉粒体が粉
粒体処理装置内を循環する回数に大きく支配され、粉粒
体の種類によっては非常に長い時間を要することがあ
る。
【0004】従って、この発明の目的は、この様な従来
における課題を解決するために、円筒状のケーシングか
ら成る衝撃室内に回転盤を設けて成る粉粒体処理装置に
おいて、分子量の大きな雰囲気を用いて粉粒体を衝撃室
の中心部分に供給して雰囲気と共に循環させるよう高速
気流を利用して処理することを特徴とする粉粒体処理方
法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、この発明の粉粒体処理方法に依れば、粉粒体を
囲気ガスと共に衝撃室内に循環させることにより粉粒体
を処理する粉粒体処理方法において、粉粒体処理装置中
の雰囲気ガスとして空気より密度の大きな気体を用いる
ことにより粉粒体の単位時間当たりの循環回数を増加さ
せて粉粒体を処理することを特徴としている。なお、衝
突リング内で衝撃羽根が周設された回転盤を回転させ、
粉粒体を回転盤の中心部分に供給すると共に衝突リング
の内壁の一部から循環回路管を介して回転盤の中心部分
へ粉粒体を循環させ、空気より密度の大きな気体を用い
て粉粒体を回転盤の中心部分に供給することにより循環
回路管を介して循環する質量流量を増加させて粉粒体を
球状化処理または複合化処理することもできる。
【0006】この発明の他の目的や特長および利点は以
下の添付図面に沿っての詳細な説明によって明らかにな
ろう。
【0007】
【実施例】図面の図1および図2には、この発明の粉粒
体処理方法を実施するための粉粒体処理装置の第1の例
が示されており、一般的な粉粒体処理装置として構成さ
れている。1は粉粒体処理装置のケーシング、2はその
後カバー、3はその前カバー、4はケーシング1の中に
ある回転盤、5は回転盤4に放射状に周設された複数の
衝撃羽根、6は回転盤4をケーシング1内な回転可能に
軸支持する回転軸、7は各種形状の凹凸が形成されてい
るか又は平滑な面を有する衝突リング、8は処理粉体用
の排出弁、9は一端が衝突リング7の内壁の一部に開口
し、他端が前カバー3の中心部付近に開口して閉回路を
形成する循環回路管、10は原料ホッパー、11は原料
ホッパー10と循環回路管9を連結する原料供給シュー
ト、12は原料供給バルブ、13は回転盤4の外周と衝
突リング7との間に設けられた衝撃室、14は処理粉体
用の排出管、15はサイクロン、16および18はロー
タリーバルブ、17はバッグフィルター、19は排風機
である。
【0008】この様な粉粒体処理装置において、空気よ
りも分子量の大きな気体、すなわち気体密度の大きな気
体、例えば炭酸ガスやアルゴン等を雰囲気として原料供
給シュート11を介して衝撃室13の中心部分に粉粒体
が供給され、高速回転する回転盤4の周設された衝撃羽
根5や衝突リング7との打撃作用によって、先ず壊れ易
い粉粒体が粉砕され、粉砕されない粒子は塑性変形され
て丸くされる。この様に、衝撃室13で粉砕や塑性変形
されて丸くされた粉粒体は循環回路管9を介して衝撃室
13へ戻り、再度同様の作用を受ける。こうして幾度も
粉粒体を衝撃室13と循環回路管9とを循環させること
によって粉粒体は次第に丸くされ球粒化または複合化処
理される。一定時間処理された粉粒体は排出管14を通
ってサイクロン15およびバッグフィルター17等の捕
集装置によって回収される。
【0009】この様に、この発明の粉粒体処理方法に依
れば、粉粒体は空気より分子量の大きな気体である、例
えば炭酸ガスやアルゴン等を雰囲気として粉粒体処理装
置に供給されて循環され、回転盤4に周設された衝撃羽
根5や衝突リング7との打撃作用等によって粉砕、塑性
変形されるもので、特に分子量の大きな、すなわち気体
密度の大きな気体を雰囲気として利用することによっ
て、衝撃室13および循環回路管9内を循環する質量流
量が増加し、粉粒体を同伴する力が大きくなる。従っ
て、粉粒体処理装置内での粉粒体の単位時間当たりの循
環回数および衝撃力が増加するので、球状化や複合化処
理速度が増大し、効率よく処理することができる。これ
より、粉粒体処理時間を大幅に短縮出来ることから単位
時間当たりの生産性を増加することが出来るので、生産
コストを低減し、粉粒体処理装置を小型化することが出
来る。
【0010】図面の図3および図4には、この発明の粉
粒体処理方法を実施するための粉粒体処理装置の第2の
例が示されている。1は粉粒体処理装置のケーシング、
2はその後カバー、3はその前カバー、4はケーシング
1の中にある回転盤、5は回転盤4に放射状に周設され
た複数の衝撃羽根、6は回転盤4をケーシング1内な回
転可能に軸支持する回転軸、7は各種形状の凹凸が形成
されているか又は平滑な面を有する衝突リング、8は処
理粉体用の排出弁、9は一端が衝突リング7の内壁の一
部に開口し、他端が前カバー3の中心部付近に開口して
閉回路を形成する循環回路管、10は原料ホッパー、1
1は原料ホッパー10と循環回路管9を連結する原料供
給シュート、12は原料供給バルブ、13は回転盤4の
外周と衝突リング7との間に設けられた衝撃室、14は
処理粉体用の排出管、15はサイクロン、16および1
8はロータリーバルブ、17はバッグフィルター、19
は排風機である。更に、前カバー2と回転盤4に分散ピ
ン21、22が適宜な間隔を置いて同心円上に1列以上
設けられている。
【0011】この様な粉粒体処理装置においても、先の
例と同様に、空気よりも分子量の大きな気体、すなわち
気体密度の大きな気体、例えば炭酸ガスやアルゴン等を
雰囲気として原料供給シュート11を介して衝撃室13
の中心部分に粉粒体が供給され、前カバー3に設けられ
た分散ピン22と、高速回転する回転盤4に周設された
衝撃羽根6および分散ピン21、22と、衝突リング7
との打撃作用等によって、先ず壊れ易い粉粒体が粉砕さ
れ、粉砕されない粒子は塑性変形されて丸くされる。こ
の様に、衝撃室13で粉砕や塑性変形されて丸くされた
粉粒体は循環回路管9を介して衝撃室13へ戻り、再度
同様の作用を受ける。こうして幾度も粉粒体を衝撃室1
3と循環回路管9とを循環させることによって、粉粒体
は次第に丸くされ球粒化または複合化処理出来る。一定
時間処理された粉粒体は排出管14を通ってサイクロン
15およびバッグフィルター17等の捕集装置によって
回収される。
【0012】次に、この発明の粉粒体処理方法を炭酸ガ
スやアルゴン等の雰囲気を用いた雰囲気ガス閉回路運転
の一例を図6に基づいて説明する。 排出弁8、原料供給弁12、ガス導入弁26、原料
ホッパー排気バルブ27を開にして、軸封部シールガス
ライン29より雰囲気ガスを機内に供給し、回転盤4を
回転させ乍ら機内の雰囲気を置換する。 排出弁8、原料供給弁12、ガス導入弁26を閉に
し、原料ホッパー10のカバーを開け、計量した原料を
原料ホッパー10に入れた後、原料ホッパー10のカバ
ーを閉める。 原料ホッパー置換ガス供給バルブ24、原料ホッパ
ー排気バルブ27を開にし、高密度ガスで原料ホッパー
10内を置換した後、原料ホッパー置換ガス供給バルブ
24、原料ホッパー排気バルブ27を閉にする。 原料供給弁12を開にし回転盤4が定常回転してい
る状態の機内に原料を投入した後、原料供給弁12を閉
にする。 一定時間処理した後、排出弁8、ガス導入弁26を
開にすると、処理物はガスに同伴され乍ら排出されてサ
イクロン15で回収される。ガスはガス導入弁26を介
して機内へ導入される。この様に、機内ー排出弁8ーサ
イクロン15ーガス導入弁26のラインで閉回路を形成
する。処理物の排出が終了したならば排出弁8、ガス導
入弁26を閉にする。 操作に戻ることにより同じ操作が繰り返し行え
る。
【0013】この様なこの発明の粉粒体処理方法に従っ
て、セメントの様な粉粒体を高速気流中で衝撃させて球
状化処理すべく密度の異なる数種類のガスを処理室であ
る衝撃室内雰囲気として使用した例のモルタルフロー値
を図5に示す。セメントは粒子形状が球状になるほど流
動性が増加する。従って、こゝでは流動性の指標として
モルタルフロー値を採用している。
【0014】図5のモルタルフロー値は、市販のセメン
トを用いて回転盤の回転数を4000回転/分として1
0分間処理した場合である。図5から明らかな様に、空
気よりも気体密度の大きなアルゴンおよび炭酸ガス等で
は気体密度が大きくなるほどモルタルフロー値が大きく
成り、且つ球状化処理速度が増加しているのが解る。従
って、粉粒体は気体密度の大きな雰囲気を使用するほど
処理時間が短縮されて生産性が向上される。
【0015】
【発明の効果】この様に、この発明の粉粒体処理方法に
依れば、空気より分子量の大きな気体である、例えば炭
酸ガスやアルゴン等を雰囲気として利用することに依っ
て、粉粒体処理装置内での粉粒体の単位時間当たりの循
環回数および衝撃力が増加されて球状化や複合化処理速
度が増大され、これによって良好に球状化および複合化
処理することが出来、粉粒体処理時間を大幅に短縮出来
るし、単位時間当たりの生産性を向上することが出来る
し、生産コストを低減することも出来て、且つ粉粒体処
理装置を小型化することが出来る等の効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の粉粒体処理方法を実施するための粉
粒体処理装置の第1の例を示す縦断面図である。
【図2】図1の粉粒体処理装置の側断面図である。
【図3】この発明の粉粒体処理方法を実施するための粉
粒体処理装置の第2の例を示す縦断面図である。
【図4】図3の粉粒体処理装置の側断面図である。
【図5】この発明の粉粒体処理方法に依ってセメント粒
子を球状化処理した場合のモルタルフロー値を示す図で
ある。
【図6】この発明の粉粒体処理方法を雰囲気ガス閉回路
運転に適用した概略説明図である。
【符号の説明】
1 ケーシング 2 後カバー 3 前カバー 4 回転盤 5 衝撃羽根 6 回転軸 7 衝突リング 8 排出弁 9 循環回路管 10 原料ホッパー 11 原料供給シュート 12 原料供給弁 13 衝撃室 14 排出管 15 サイクロン 16 ロータリーバルブ 17 バッグフィルター 18 ロータリーバルブ 19 排風機 20 ジャケット 21 分散ピン 22 分散ピン 23 高密度ガス供給源 24 原料ホッパー置換ガス供給バルブ 25 ガス循環ライン 26 ガス導入弁 27 原料ホッパー排気バルブ 28 原料ホッパー置換ガス供給ライン 29 軸封部シールガスライン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐竹 紳也 千葉県佐倉市大作2丁目4番2号 小野 田セメント株式会社 中央研究所内 (72)発明者 田中 勲 東京都港区芝浦1丁目2番3号 清水建 設株式会社内 (72)発明者 鈴木 信雄 東京都港区芝浦1丁目2番3号 清水建 設株式会社内 (72)発明者 小野 憲次 東京都大田区城南島2丁目5番7号 株 式会社奈良機械製作所内 (56)参考文献 特開 平6−154639(JP,A) 特開 昭62−83029(JP,A) 特開 平2−59039(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B01J 2/00 B02C 19/00

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粉粒体を雰囲気ガスと共に衝撃室内に循
    環させることにより粉粒体を処理する粉粒体処理方法に
    おいて、 粉粒体処理装置中の上記雰囲気ガスとして空気より密度
    の大きな気体を用いることにより粉粒体の単位時間当た
    りの循環回数を増加させて粉粒体を処理することを特徴
    とする粉粒体処理方法。
  2. 【請求項2】 衝突リング内で衝撃羽根が周設された回
    転盤を回転させ、 粉粒体を回転盤の中心部分に供給すると共に衝突リング
    の内壁の一部から循環回路管を介して回転盤の中心部分
    へ粉粒体を循環させ、 空気より密度の大きな気体を用いて粉粒体を回転盤の中
    心部分に供給することにより循環回路管を介して循環す
    る質量流量を増加させて粉粒体を球状化処理または複合
    化処理することを特徴とする請求項1に記載の粉粒体処
    理方法。
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