JPH0653828B2 - ブタジエン系ポリマ−組成物 - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は耐熱性にすぐれるブタジエン系ポリマー組成物
に関する。
に関する。
溶液重合ポリブタジエンゴム(BR)、溶液重合スチレ
ン−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロックコーポリマー(SBS)などのブタジエン
系ポリマーは、通常触媒としてチーグラー触媒、或いは
有機リチウム化合物を使用し、炭化水素溶媒中でアニオ
ン重合により製造されているが、これらブタジエン系ポ
リマーは耐熱性に劣るという問題がある。たとえば、S
BSにおいてはフィルム押出工程の高温化、高速化に伴
って耐熱性不足からフィシュアイゲルが発生し、そのた
めフィルム物性が著しく低下するなどの問題が生じる。
ン−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロックコーポリマー(SBS)などのブタジエン
系ポリマーは、通常触媒としてチーグラー触媒、或いは
有機リチウム化合物を使用し、炭化水素溶媒中でアニオ
ン重合により製造されているが、これらブタジエン系ポ
リマーは耐熱性に劣るという問題がある。たとえば、S
BSにおいてはフィルム押出工程の高温化、高速化に伴
って耐熱性不足からフィシュアイゲルが発生し、そのた
めフィルム物性が著しく低下するなどの問題が生じる。
また、BR、SBRなどの製造においては、従来、重合
反応終了後の重合溶液からスチームストリッピング法に
より重合溶媒を除去していたが、最近、省エネルギーの
面からスチーム使用量を理論上最小限におさえることの
できる溶媒直接乾燥法が提案されている。しかし、この
方法は通常重合溶媒の沸点よりもかなり高い150 ℃以上
の高温で処理されるため、処理中にゲルが発生するなど
の新たな問題が生じ、ブタジエン系ポリマーの特に無酸
素下における耐熱性向上が望まれている。
反応終了後の重合溶液からスチームストリッピング法に
より重合溶媒を除去していたが、最近、省エネルギーの
面からスチーム使用量を理論上最小限におさえることの
できる溶媒直接乾燥法が提案されている。しかし、この
方法は通常重合溶媒の沸点よりもかなり高い150 ℃以上
の高温で処理されるため、処理中にゲルが発生するなど
の新たな問題が生じ、ブタジエン系ポリマーの特に無酸
素下における耐熱性向上が望まれている。
従来、かかるブタジエン系ポリマーの安定化のため、各
種のフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤
をブタジエン系ポリマーの製造、加工工程中に添加し使
用することもよく知られており、例えば、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2′−メチレ
ンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、n
−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレング
リコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンタエ
リスリトールテトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンなど
のフェノール系酸化防止剤を単独で用いたり、これらの
フェノール系酸化防止剤とトリス(ノニルフェニル)ホ
スファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイトなどのリン系酸化防止剤とを併用したり、ある
いは前記のフェノール系酸化防止剤とジラウリルチオジ
プロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、
ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリト
ールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)な
どのイオウ系酸化防止剤とを併用する方法などが知られ
ている。
種のフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤
をブタジエン系ポリマーの製造、加工工程中に添加し使
用することもよく知られており、例えば、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2′−メチレ
ンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、n
−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレング
リコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンタエ
リスリトールテトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンなど
のフェノール系酸化防止剤を単独で用いたり、これらの
フェノール系酸化防止剤とトリス(ノニルフェニル)ホ
スファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイトなどのリン系酸化防止剤とを併用したり、ある
いは前記のフェノール系酸化防止剤とジラウリルチオジ
プロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、
ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリト
ールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)な
どのイオウ系酸化防止剤とを併用する方法などが知られ
ている。
しかし、これらの方法は酸素共存下での酸化劣化による
ゲルの生成防止には効果を示すものの、無酸素下での熱
によるゲルの生成防止にはまだ十分満足するほどの効果
が得られない。
ゲルの生成防止には効果を示すものの、無酸素下での熱
によるゲルの生成防止にはまだ十分満足するほどの効果
が得られない。
このようなことから、本発明者らは特に無酸素下におい
てゲルなどを生じることのない安定なブタジエン系ポリ
マーを開発すべく検討の結果、特定構造のフェノール系
化合物と特定構造のイオウ系化合物とを選択的に組合わ
せ、その特定量をブタジエン系ポリマーに配合すること
により、無酸素下での熱によるゲル化に対して非常に安
定なブタジエン系ポリマー組成物が得られることを見出
し、本発明に至った。
てゲルなどを生じることのない安定なブタジエン系ポリ
マーを開発すべく検討の結果、特定構造のフェノール系
化合物と特定構造のイオウ系化合物とを選択的に組合わ
せ、その特定量をブタジエン系ポリマーに配合すること
により、無酸素下での熱によるゲル化に対して非常に安
定なブタジエン系ポリマー組成物が得られることを見出
し、本発明に至った。
すなわち本発明は、一般式(I) (式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す) で示されるフェノール化合物(I)および一般式(II) (式中、R2およびR3は各々独立に水素原子または炭
素数1〜6のアルキル基を、R4は炭素数3〜18のア
ルキル基を示す) で示されるイオウ系化合物(II)を、(I):(II)=1:
0.5〜10(重量比)の割合でブタジエン系ポリマー
に配合せしめてなることを特徴とするブタジエン系ポリ
マー組成物を提供するものである。
素数1〜6のアルキル基を、R4は炭素数3〜18のア
ルキル基を示す) で示されるイオウ系化合物(II)を、(I):(II)=1:
0.5〜10(重量比)の割合でブタジエン系ポリマー
に配合せしめてなることを特徴とするブタジエン系ポリ
マー組成物を提供するものである。
前記一般式(I)で示されるフェノール系化合物におい
て、置換基R1は熱劣化防止剤としての性能上特にメチ
ル基またはエチル基が好ましく、とりわけメチル基が好
ましい。
て、置換基R1は熱劣化防止剤としての性能上特にメチ
ル基またはエチル基が好ましく、とりわけメチル基が好
ましい。
このようなフェノール系化合物は、一般式(III) (式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を表わす) で示される2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−
4−アルキルフェノール)とアクリル酸またはその低級
アルキルエステル、あるいはその酸クロライドを既知の
方法で反応させることにより製造することができる。
4−アルキルフェノール)とアクリル酸またはその低級
アルキルエステル、あるいはその酸クロライドを既知の
方法で反応させることにより製造することができる。
かかるフェノール系化合物の代表例を表−1に示す。
また、前記一般式(II)で示されるイオウ系化合物におい
て、置換基R2およびR3は熱および酸化安定性の点で
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、
同様に置換基R4は炭素数12〜18のアルキル基が好
ましい。
て、置換基R2およびR3は熱および酸化安定性の点で
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、
同様に置換基R4は炭素数12〜18のアルキル基が好
ましい。
かかるイオウ系化合物の代表例を表−2に示す。
このようなイオウ系化合物は、ペンタエリスリトールと
一般式 (式中、R2,R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る) で示されるアルデヒド類とを通常のアセタール化反応で
反応させることにより製造することができる。
一般式 (式中、R2,R3およびR4は前記と同じ意味を有す
る) で示されるアルデヒド類とを通常のアセタール化反応で
反応させることにより製造することができる。
本発明において、フェノール系化合物(I)とイオウ系化
合物(II)とのブタジエン系ポリマーへの配合量は、ブタ
ジエン系ポリマー100 重量部あたりフェノール系化合物
(I)とイオウ系化合物(II)の合計量として0.1〜3重
量部、好ましくは0.2〜2重量部である。
合物(II)とのブタジエン系ポリマーへの配合量は、ブタ
ジエン系ポリマー100 重量部あたりフェノール系化合物
(I)とイオウ系化合物(II)の合計量として0.1〜3重
量部、好ましくは0.2〜2重量部である。
また、この際の両化合物の使用割合は、重量比でフェノ
ール系化合物(I):イオウ系化合物(II)=1:0.5〜
10、好ましくは1:1〜5である。
ール系化合物(I):イオウ系化合物(II)=1:0.5〜
10、好ましくは1:1〜5である。
フェノール系化合物(I)およびイオウ系化合物(II)をブ
タジエン系ポリマーに配合する方法としては、たとえば
アニオン重合反応終了後の重合反応液中に添加する方
法、押出造粒工程や成形工程で直接添加する方法など通
常の配合方法を適用することができる。
タジエン系ポリマーに配合する方法としては、たとえば
アニオン重合反応終了後の重合反応液中に添加する方
法、押出造粒工程や成形工程で直接添加する方法など通
常の配合方法を適用することができる。
本発明のブタジエン系ポリマー組成物は、安定剤として
上記フェノール系化合物(I)とイオウ系化合物(II)を配
合せしめてなるものであるが、必要に応じて他の添加
剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止材、金
属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止
剤、難燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
上記フェノール系化合物(I)とイオウ系化合物(II)を配
合せしめてなるものであるが、必要に応じて他の添加
剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止材、金
属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止
剤、難燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
とりわけ紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤な
ど、たとえば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェ
ノン、2-(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベン
ドトリアゾール、2-(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、2-(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2-(2−
ヒドロキシ−3,5−ジ−アミルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3′,
5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエー
ト、〔2,2′−チオビス(4−t−オクチルフェノラ
ート)〕−ブチルアミンNi塩、2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニルベンゾエート、ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケ
ート、2−〔3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2−n−ブチル−マロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−
〔2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−4−〔3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、コハク酸ジメチル/1−(2−ヒドロ
キシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン重縮合物、ポリ{〔6−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}、ポリ{〔6−モルホリノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}などを配合することによって、その耐候性を
改善することができる。
ど、たとえば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェ
ノン、2-(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベン
ドトリアゾール、2-(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、2-(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2-(2−
ヒドロキシ−3,5−ジ−アミルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3′,
5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエー
ト、〔2,2′−チオビス(4−t−オクチルフェノラ
ート)〕−ブチルアミンNi塩、2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニルベンゾエート、ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケ
ート、2−〔3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2−n−ブチル−マロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−
〔2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−4−〔3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、コハク酸ジメチル/1−(2−ヒドロ
キシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン重縮合物、ポリ{〔6−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}、ポリ{〔6−モルホリノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}などを配合することによって、その耐候性を
改善することができる。
また、ホスファイト系酸化防止剤、たとえばジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス
(2−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイ
ト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホ
スファイトなどを配合することによって、その色相を改
善することができる。
ルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス
(2−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイ
ト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホ
スファイトなどを配合することによって、その色相を改
善することができる。
本発明に適用されるブタジエン系ポリマーとしては、溶
液重合ポリブタジエンゴム(BR)、溶液重合スチレン
−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロック共重合物(SBS)、BRまたはSBRま
たはSBSで改質した耐衝撃性ポリスチレン(HI−P
S)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
物(ABS)などが挙げられ、これらブタジエン系ポリ
マーは単独であってもよいし、他のポリマーと配合して
用いてもよい。
液重合ポリブタジエンゴム(BR)、溶液重合スチレン
−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロック共重合物(SBS)、BRまたはSBRま
たはSBSで改質した耐衝撃性ポリスチレン(HI−P
S)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
物(ABS)などが挙げられ、これらブタジエン系ポリ
マーは単独であってもよいし、他のポリマーと配合して
用いてもよい。
次に参考例および実施例をあげて本発明を説明するが、
本発明はこれらにより限定されるものではない。
本発明はこれらにより限定されるものではない。
参考例1 (I−I)の合成 温度計、撹拌装置、冷却管および滴下漏斗を備えた200
ml四つ口フラスコに、2,2′−メチレンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフェノール)17.03g(0.05
モル)、アクリル酸3.60g(0.05モル)、トリエチ
ルアミン11.13g(0.11モル)およびトルエン70
gを仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、撹拌しな
がらオキシ塩化リン12.27g(0.08モル)を20分
かけて滴下する。滴下終了後、室温で1時間撹拌を続け
る。反応終了後、有機層を水洗した後、有機層のトルエ
ンを減圧留去する。蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再
結晶し、融点133 〜134 ℃の白色結晶として目的化合物
16.77g(収率85%)を得た。
ml四つ口フラスコに、2,2′−メチレンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフェノール)17.03g(0.05
モル)、アクリル酸3.60g(0.05モル)、トリエチ
ルアミン11.13g(0.11モル)およびトルエン70
gを仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、撹拌しな
がらオキシ塩化リン12.27g(0.08モル)を20分
かけて滴下する。滴下終了後、室温で1時間撹拌を続け
る。反応終了後、有機層を水洗した後、有機層のトルエ
ンを減圧留去する。蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再
結晶し、融点133 〜134 ℃の白色結晶として目的化合物
16.77g(収率85%)を得た。
参考例 (II−4)の合成 水抜き管を備えた100 mlフラスコに2−ドデシルチオプ
ロピオンアルデヒド2.58g(0.01モル)、ペン
タエリスリトール0.68g(0.005モル)、パラ
トルエンスルホン酸1水和物0.095g(0.000
5モル)およびトルエン50mlを仕込み、110 ℃で水を
抜きながら8時間還流した。反応終了後冷却し、ナトリ
ウムメチラートで中和したのち水200 mlで8回洗浄、分
液した。油層を濃縮し、蒸留残渣をイソプロパノールで
洗浄して融点64〜65℃の白色粉末として目的化合物2.
5gを得た。
ロピオンアルデヒド2.58g(0.01モル)、ペン
タエリスリトール0.68g(0.005モル)、パラ
トルエンスルホン酸1水和物0.095g(0.000
5モル)およびトルエン50mlを仕込み、110 ℃で水を
抜きながら8時間還流した。反応終了後冷却し、ナトリ
ウムメチラートで中和したのち水200 mlで8回洗浄、分
液した。油層を濃縮し、蒸留残渣をイソプロパノールで
洗浄して融点64〜65℃の白色粉末として目的化合物2.
5gを得た。
実施例1 窒素ガス雰囲気下において、1,3−ブタジエン15重
量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを
0.08重量部添加し、70℃で1時間重合した後、順
次、スチレン20重量部、1,3−ブタジエン15重量
部、スチレン50重量部を加え、それぞれ70℃、1時
間の条件で重合を行った。重合終了後、表−Iに示す供
試化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でシクロヘ
キサンを加熱除去してブタジエン含量30重量%のB−
A−B−A構造のブロック共重合体を得た。
量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを
0.08重量部添加し、70℃で1時間重合した後、順
次、スチレン20重量部、1,3−ブタジエン15重量
部、スチレン50重量部を加え、それぞれ70℃、1時
間の条件で重合を行った。重合終了後、表−Iに示す供
試化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でシクロヘ
キサンを加熱除去してブタジエン含量30重量%のB−
A−B−A構造のブロック共重合体を得た。
得られたブロック共重合体について、ラボプラストミル
エクストルーダーを用いて下記条件で糸状落下押出試験
を行い、得られた糸状物のゲル含量をトルエン不溶物と
して測定し、評価した。結果を表−Iに示す。
エクストルーダーを用いて下記条件で糸状落下押出試験
を行い、得られた糸状物のゲル含量をトルエン不溶物と
して測定し、評価した。結果を表−Iに示す。
尚、ゲル含量の測定は、精秤した糸状試料約1gをトル
エン200 ml中に浸し、24時間撹拌後、200メッシュ金
網で過し、残分を乾燥したのち重量を測定し、試験前
後の重量比から計算した。
エン200 ml中に浸し、24時間撹拌後、200メッシュ金
網で過し、残分を乾燥したのち重量を測定し、試験前
後の重量比から計算した。
(1)試験機本体 ラボプラストミル 40−100型 (東洋精機製) (2)押出機 D20−25型 (東洋精機製) (3)測定条件ストラントダイ 径 1mmφシリンダ -温度 230〜260℃ 回 転 数 8r.p.m. 落下距離 93cm 実施例2 窒素ガス雰囲気下において、1,3−ブタジエンをn−
ヘキサン中でn−ブチルリチウムを触媒として、60〜
65℃で重合を行った。重合終了後、表−IIに示す供試
化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でn−ヘキサ
ンを加熱除去してポリブタジエンゴム(BR)を得た。
ヘキサン中でn−ブチルリチウムを触媒として、60〜
65℃で重合を行った。重合終了後、表−IIに示す供試
化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でn−ヘキサ
ンを加熱除去してポリブタジエンゴム(BR)を得た。
得られたBRを、ラボプラストミル(東洋精機製、40
−100 型)を用いて、窒素気流中で混練テストを行い、
混練時に起るゲル化の防止効果を、ゲル化に伴うトルク
挙動によって評価した。結果を表−IIに示す。
−100 型)を用いて、窒素気流中で混練テストを行い、
混練時に起るゲル化の防止効果を、ゲル化に伴うトルク
挙動によって評価した。結果を表−IIに示す。
ゲル化防止効果はトルクピークまでの時間(ゲル化時
間)で示され、時間が長い程ゲル化防止効果は優れる事
を意味する。
間)で示され、時間が長い程ゲル化防止効果は優れる事
を意味する。
(1)ミキサー R−60型 (2)測定トルク範囲 0〜500 Kg−cm (3)仕 込 量 30g (4)N2流速 1/min (5)試験温度 180℃ (6)回 転 数 予熱(3分間、10r.p.m.)後、60r.
p.m. 尚、表−Iおよび表−IIにおける供試化合物の記号は以
下の化合物を示す。
p.m. 尚、表−Iおよび表−IIにおける供試化合物の記号は以
下の化合物を示す。
AO−1:n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート AO−2:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール AO−3:ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ラ
ウリルチオプロピオネート) AO−4:ジミリスチルチオジプロピオネート
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート AO−2:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール AO−3:ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ラ
ウリルチオプロピオネート) AO−4:ジミリスチルチオジプロピオネート
フロントページの続き (72)発明者 佐々木 万治 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 沖田 泰介 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−71341(JP,A) 特開 昭59−120642(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 (式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基を示す) で示されるフェノール化合物(I)および一般式 (式中、R2およびR3は各々独立に水素原子または炭
素数1〜6のアルキル基を、R4は炭素数3〜18のア
ルキル基を示す) で示されるイオウ系化合物(II)を、(I):(II)=1:
0.5〜10(重量比)の割合でブタジエン系ポリマー
に配合せしめてなることを特徴とするブタジエン系ポリ
マー組成物
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- 1986-07-16 DE DE86305472T patent/DE3688482T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1986-07-16 EP EP86305472A patent/EP0210046B1/en not_active Expired - Lifetime
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