JPH0653828B2 - ブタジエン系ポリマ−組成物 - Google Patents

ブタジエン系ポリマ−組成物

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JPH0653828B2
JPH0653828B2 JP60157550A JP15755085A JPH0653828B2 JP H0653828 B2 JPH0653828 B2 JP H0653828B2 JP 60157550 A JP60157550 A JP 60157550A JP 15755085 A JP15755085 A JP 15755085A JP H0653828 B2 JPH0653828 B2 JP H0653828B2
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万治 佐々木
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐熱性にすぐれるブタジエン系ポリマー組成物
に関する。
溶液重合ポリブタジエンゴム(BR)、溶液重合スチレ
ン−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロックコーポリマー(SBS)などのブタジエン
系ポリマーは、通常触媒としてチーグラー触媒、或いは
有機リチウム化合物を使用し、炭化水素溶媒中でアニオ
ン重合により製造されているが、これらブタジエン系ポ
リマーは耐熱性に劣るという問題がある。たとえば、S
BSにおいてはフィルム押出工程の高温化、高速化に伴
って耐熱性不足からフィシュアイゲルが発生し、そのた
めフィルム物性が著しく低下するなどの問題が生じる。
また、BR、SBRなどの製造においては、従来、重合
反応終了後の重合溶液からスチームストリッピング法に
より重合溶媒を除去していたが、最近、省エネルギーの
面からスチーム使用量を理論上最小限におさえることの
できる溶媒直接乾燥法が提案されている。しかし、この
方法は通常重合溶媒の沸点よりもかなり高い150 ℃以上
の高温で処理されるため、処理中にゲルが発生するなど
の新たな問題が生じ、ブタジエン系ポリマーの特に無酸
素下における耐熱性向上が望まれている。
従来、かかるブタジエン系ポリマーの安定化のため、各
種のフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤
をブタジエン系ポリマーの製造、加工工程中に添加し使
用することもよく知られており、例えば、2,6−ジ−
t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2′−メチレ
ンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、n
−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネート、トリエチレング
リコール−ビス〔3−(3−t−ブチル−5−メチル−
4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、ペンタエ
リスリトールテトラキス〔3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕、1,
3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼンなど
のフェノール系酸化防止剤を単独で用いたり、これらの
フェノール系酸化防止剤とトリス(ノニルフェニル)ホ
スファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイトなどのリン系酸化防止剤とを併用したり、ある
いは前記のフェノール系酸化防止剤とジラウリルチオジ
プロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、
ジステアリルチオジプロピオネート、ペンタエリスリト
ールテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)な
どのイオウ系酸化防止剤とを併用する方法などが知られ
ている。
しかし、これらの方法は酸素共存下での酸化劣化による
ゲルの生成防止には効果を示すものの、無酸素下での熱
によるゲルの生成防止にはまだ十分満足するほどの効果
が得られない。
このようなことから、本発明者らは特に無酸素下におい
てゲルなどを生じることのない安定なブタジエン系ポリ
マーを開発すべく検討の結果、特定構造のフェノール系
化合物と特定構造のイオウ系化合物とを選択的に組合わ
せ、その特定量をブタジエン系ポリマーに配合すること
により、無酸素下での熱によるゲル化に対して非常に安
定なブタジエン系ポリマー組成物が得られることを見出
し、本発明に至った。
すなわち本発明は、一般式(I) (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す) で示されるフェノール化合物(I)および一般式(II) (式中、RおよびRは各々独立に水素原子または炭
素数1〜6のアルキル基を、Rは炭素数3〜18のア
ルキル基を示す) で示されるイオウ系化合物(II)を、(I):(II)=1:
0.5〜10(重量比)の割合でブタジエン系ポリマー
に配合せしめてなることを特徴とするブタジエン系ポリ
マー組成物を提供するものである。
前記一般式(I)で示されるフェノール系化合物におい
て、置換基Rは熱劣化防止剤としての性能上特にメチ
ル基またはエチル基が好ましく、とりわけメチル基が好
ましい。
このようなフェノール系化合物は、一般式(III) (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を表わす) で示される2,2′−メチレンビス(6−t−ブチル−
4−アルキルフェノール)とアクリル酸またはその低級
アルキルエステル、あるいはその酸クロライドを既知の
方法で反応させることにより製造することができる。
かかるフェノール系化合物の代表例を表−1に示す。
また、前記一般式(II)で示されるイオウ系化合物におい
て、置換基RおよびRは熱および酸化安定性の点で
水素原子または炭素数1〜3のアルキル基が好ましく、
同様に置換基Rは炭素数12〜18のアルキル基が好
ましい。
かかるイオウ系化合物の代表例を表−2に示す。
このようなイオウ系化合物は、ペンタエリスリトールと
一般式 (式中、R,RおよびRは前記と同じ意味を有す
る) で示されるアルデヒド類とを通常のアセタール化反応で
反応させることにより製造することができる。
本発明において、フェノール系化合物(I)とイオウ系化
合物(II)とのブタジエン系ポリマーへの配合量は、ブタ
ジエン系ポリマー100 重量部あたりフェノール系化合物
(I)とイオウ系化合物(II)の合計量として0.1〜3重
量部、好ましくは0.2〜2重量部である。
また、この際の両化合物の使用割合は、重量比でフェノ
ール系化合物(I):イオウ系化合物(II)=1:0.5〜
10、好ましくは1:1〜5である。
フェノール系化合物(I)およびイオウ系化合物(II)をブ
タジエン系ポリマーに配合する方法としては、たとえば
アニオン重合反応終了後の重合反応液中に添加する方
法、押出造粒工程や成形工程で直接添加する方法など通
常の配合方法を適用することができる。
本発明のブタジエン系ポリマー組成物は、安定剤として
上記フェノール系化合物(I)とイオウ系化合物(II)を配
合せしめてなるものであるが、必要に応じて他の添加
剤、たとえば紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止材、金
属不活性化剤、金属石ケン類、造核剤、滑剤、帯電防止
剤、難燃剤、顔料および充填剤などを含有してもよい。
とりわけ紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系光安定剤な
ど、たとえば2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェ
ノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェ
ノン、2-(2−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベン
ドトリアゾール、2-(2−ヒドロキシ−3−t−ブチル
−5−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾ
ール、2-(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフ
ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2-(2−
ヒドロキシ−3,5−ジ−アミルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3′,
5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシベンゾエー
ト、〔2,2′−チオビス(4−t−オクチルフェノラ
ート)〕−ブチルアミンNi塩、2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジニルベンゾエート、ビス(2,
2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジニル)セバケ
ート、2−〔3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)−2−n−ブチル−マロン酸ビス(1,2,
2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)、1−
〔2−{3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオニルオキシ}エチル〕−4−〔3
−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシ〕−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン、コハク酸ジメチル/1−(2−ヒドロ
キシエチル)−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン重縮合物、ポリ{〔6−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)アミノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}、ポリ{〔6−モルホリノ−1,3,5−ト
リアジン−2,4−ジイル〕〔(2,2,6,6−テト
ラメチル−4−ピペリジル)イミノ〕ヘキサメチレン
〔(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)
イミノ〕}などを配合することによって、その耐候性を
改善することができる。
また、ホスファイト系酸化防止剤、たとえばジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス(2,
4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、トリス
(2−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイ
ト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラキス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4′−ビフェニレンジホ
スファイトなどを配合することによって、その色相を改
善することができる。
本発明に適用されるブタジエン系ポリマーとしては、溶
液重合ポリブタジエンゴム(BR)、溶液重合スチレン
−ブタジエン共重合ゴム(SBR)、スチレン−ブタジ
エンブロック共重合物(SBS)、BRまたはSBRま
たはSBSで改質した耐衝撃性ポリスチレン(HI−P
S)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合
物(ABS)などが挙げられ、これらブタジエン系ポリ
マーは単独であってもよいし、他のポリマーと配合して
用いてもよい。
次に参考例および実施例をあげて本発明を説明するが、
本発明はこれらにより限定されるものではない。
参考例1 (I−I)の合成 温度計、撹拌装置、冷却管および滴下漏斗を備えた200
ml四つ口フラスコに、2,2′−メチレンビス(6−t
−ブチル−4−メチルフェノール)17.03g(0.05
モル)、アクリル酸3.60g(0.05モル)、トリエチ
ルアミン11.13g(0.11モル)およびトルエン70
gを仕込み、容器内の空気を窒素置換した後、撹拌しな
がらオキシ塩化リン12.27g(0.08モル)を20分
かけて滴下する。滴下終了後、室温で1時間撹拌を続け
る。反応終了後、有機層を水洗した後、有機層のトルエ
ンを減圧留去する。蒸留残渣にn−ヘキサンを加えて再
結晶し、融点133 〜134 ℃の白色結晶として目的化合物
16.77g(収率85%)を得た。
参考例 (II−4)の合成 水抜き管を備えた100 mlフラスコに2−ドデシルチオプ
ロピオンアルデヒド2.58g(0.01モル)、ペン
タエリスリトール0.68g(0.005モル)、パラ
トルエンスルホン酸1水和物0.095g(0.000
5モル)およびトルエン50mlを仕込み、110 ℃で水を
抜きながら8時間還流した。反応終了後冷却し、ナトリ
ウムメチラートで中和したのち水200 mlで8回洗浄、分
液した。油層を濃縮し、蒸留残渣をイソプロパノールで
洗浄して融点64〜65℃の白色粉末として目的化合物2.
5gを得た。
実施例1 窒素ガス雰囲気下において、1,3−ブタジエン15重
量部を含むシクロヘキサン溶液にn−ブチルリチウムを
0.08重量部添加し、70℃で1時間重合した後、順
次、スチレン20重量部、1,3−ブタジエン15重量
部、スチレン50重量部を加え、それぞれ70℃、1時
間の条件で重合を行った。重合終了後、表−Iに示す供
試化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でシクロヘ
キサンを加熱除去してブタジエン含量30重量%のB−
A−B−A構造のブロック共重合体を得た。
得られたブロック共重合体について、ラボプラストミル
エクストルーダーを用いて下記条件で糸状落下押出試験
を行い、得られた糸状物のゲル含量をトルエン不溶物と
して測定し、評価した。結果を表−Iに示す。
尚、ゲル含量の測定は、精秤した糸状試料約1gをトル
エン200 ml中に浸し、24時間撹拌後、200メッシュ金
網で過し、残分を乾燥したのち重量を測定し、試験前
後の重量比から計算した。
〔試験条件〕
(1)試験機本体 ラボプラストミル 40−100型 (東洋精機製) (2)押出機 D20−25型 (東洋精機製) (3)測定条件ストラントダイ 径 1mmφシリンダ -温度 230〜260℃ 回 転 数 8r.p.m. 落下距離 93cm 実施例2 窒素ガス雰囲気下において、1,3−ブタジエンをn−
ヘキサン中でn−ブチルリチウムを触媒として、60〜
65℃で重合を行った。重合終了後、表−IIに示す供試
化合物を所定量添加し、窒素ガス雰囲気下でn−ヘキサ
ンを加熱除去してポリブタジエンゴム(BR)を得た。
得られたBRを、ラボプラストミル(東洋精機製、40
−100 型)を用いて、窒素気流中で混練テストを行い、
混練時に起るゲル化の防止効果を、ゲル化に伴うトルク
挙動によって評価した。結果を表−IIに示す。
ゲル化防止効果はトルクピークまでの時間(ゲル化時
間)で示され、時間が長い程ゲル化防止効果は優れる事
を意味する。
〔ラボプラストミル試験条件〕
(1)ミキサー R−60型 (2)測定トルク範囲 0〜500 Kg−cm (3)仕 込 量 30g (4)N流速 1/min (5)試験温度 180℃ (6)回 転 数 予熱(3分間、10r.p.m.)後、60r.
p.m. 尚、表−Iおよび表−IIにおける供試化合物の記号は以
下の化合物を示す。
AO−1:n−オクタデシル−3−(3,5−ジ−t−
ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート AO−2:2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノ
ール AO−3:ペンタエリスリトール−テトラキス(3−ラ
ウリルチオプロピオネート) AO−4:ジミリスチルチオジプロピオネート
フロントページの続き (72)発明者 佐々木 万治 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 沖田 泰介 大阪府大阪市此花区春日出中3丁目1番98 号 住友化学工業株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−71341(JP,A) 特開 昭59−120642(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 (式中、Rは炭素数1〜4のアルキル基を示す) で示されるフェノール化合物(I)および一般式 (式中、RおよびRは各々独立に水素原子または炭
    素数1〜6のアルキル基を、Rは炭素数3〜18のア
    ルキル基を示す) で示されるイオウ系化合物(II)を、(I):(II)=1:
    0.5〜10(重量比)の割合でブタジエン系ポリマー
    に配合せしめてなることを特徴とするブタジエン系ポリ
    マー組成物
JP60157550A 1985-07-16 1985-07-16 ブタジエン系ポリマ−組成物 Expired - Lifetime JPH0653828B2 (ja)

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