JPH065379A - 基板洗浄装置 - Google Patents
基板洗浄装置Info
- Publication number
- JPH065379A JPH065379A JP15963592A JP15963592A JPH065379A JP H065379 A JPH065379 A JP H065379A JP 15963592 A JP15963592 A JP 15963592A JP 15963592 A JP15963592 A JP 15963592A JP H065379 A JPH065379 A JP H065379A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cleaning apparatus
- ion flow
- infrared
- substrate cleaning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板洗浄装置に関し、特に乾燥する際に生じ
た帯電電荷の放電に起因する不具合を防ぐことを目的と
する。 【構成】 並設された搬送ローラ１に乗って１枚ずつ搬
出された基板２が洗浄されたあと、赤外線加熱器3aが上
部に内設された赤外線炉３を通って乾燥される基板洗浄
装置であって、イオン流発生手段４を有し、前記イオン
流発生手段４は、赤外線炉３に内設されており、かつ基
板２にイオン流５を噴射するものであるように構成す
る。
た帯電電荷の放電に起因する不具合を防ぐことを目的と
する。 【構成】 並設された搬送ローラ１に乗って１枚ずつ搬
出された基板２が洗浄されたあと、赤外線加熱器3aが上
部に内設された赤外線炉３を通って乾燥される基板洗浄
装置であって、イオン流発生手段４を有し、前記イオン
流発生手段４は、赤外線炉３に内設されており、かつ基
板２にイオン流５を噴射するものであるように構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板洗浄装置に係わり、
基板を乾燥する赤外線炉の中でコロナ放電によるイオン
流を基板の表面に浴びせ、基板の表面に蓄積された帯電
電荷を除電する基板洗浄装置に関する。
基板を乾燥する赤外線炉の中でコロナ放電によるイオン
流を基板の表面に浴びせ、基板の表面に蓄積された帯電
電荷を除電する基板洗浄装置に関する。
【０００２】近年、成膜やパターニングなどのプロセス
技術が発展して、いろいろな新しい電子デバイスが生ま
れている。液晶表示素子もその一つで、大きなガラス基
板に微細な多数の電極パターンを設けるなどのプロセス
技術が駆使されている。
技術が発展して、いろいろな新しい電子デバイスが生ま
れている。液晶表示素子もその一つで、大きなガラス基
板に微細な多数の電極パターンを設けるなどのプロセス
技術が駆使されている。
【０００３】こうしたプロセス技術においては、基板に
対していろいろな物理的、化学的な処理が行われるが、
何れの処理においても、基板を汚している夾雑物を除去
して基板の表面を清浄にする洗浄工程が、製造歩留りを
上げて生産性を高めたり信頼性を向上させたりする上か
ら欠かせない。特に洗浄工程の最終仕上げを如何に効果
的に行うかが重要である。
対していろいろな物理的、化学的な処理が行われるが、
何れの処理においても、基板を汚している夾雑物を除去
して基板の表面を清浄にする洗浄工程が、製造歩留りを
上げて生産性を高めたり信頼性を向上させたりする上か
ら欠かせない。特に洗浄工程の最終仕上げを如何に効果
的に行うかが重要である。
【０００４】
【従来の技術】洗浄工程には、最終工程で洗浄剤を何で
置換するかによっていろいろな方法が採られている。し
かし、安価で、安全で取り扱い易く、しかも環境保護の
上からも最後に脱イオン水、いわゆる純水で置換する水
洗を行って終わらせることがよく行われている。そし
て、この水洗のあとは、如何に効率よく汚れないように
乾燥させるかが重要な製造技術となっている。
置換するかによっていろいろな方法が採られている。し
かし、安価で、安全で取り扱い易く、しかも環境保護の
上からも最後に脱イオン水、いわゆる純水で置換する水
洗を行って終わらせることがよく行われている。そし
て、この水洗のあとは、如何に効率よく汚れないように
乾燥させるかが重要な製造技術となっている。
【０００５】図７は従来の基板洗浄装置の一例の説明図
で、図７（Ａ）はブロック図、図７（Ｂ）は主要部の側
面図、図７（Ｃ）は主要部の正面図である。図におい
て、１は搬送ローラ、２は基板、３は赤外線炉、3aは赤
外線加熱器、3bは噴出口、６は気流、10は基板洗浄装
置、11はローダ、12は洗浄部、13は水切り部、14はアン
ローダである。
で、図７（Ａ）はブロック図、図７（Ｂ）は主要部の側
面図、図７（Ｃ）は主要部の正面図である。図におい
て、１は搬送ローラ、２は基板、３は赤外線炉、3aは赤
外線加熱器、3bは噴出口、６は気流、10は基板洗浄装
置、11はローダ、12は洗浄部、13は水切り部、14はアン
ローダである。
【０００６】基板洗浄装置10において、ローダ11から搬
送ローラ１に乗って１枚ずつ繰り出された基板２は、ま
ず、洗浄部12でブラッシで擦られ、噴出する水流で洗わ
れて清浄にされる。次いで、水切り部13に搬送される。
水切りは、基板２を回転させたり基板２の表面に圧気を
噴射したりして水気を吹き飛ばす方法が採られる。次い
で、赤外線炉３に搬入されて水気が完全に加熱乾燥され
る。次いで、黴や藻などの有機物を除くために紫外線炉
８を通しながら冷却される。そして、アンローダ14に収
納されて、一連の洗浄工程が終わる。
送ローラ１に乗って１枚ずつ繰り出された基板２は、ま
ず、洗浄部12でブラッシで擦られ、噴出する水流で洗わ
れて清浄にされる。次いで、水切り部13に搬送される。
水切りは、基板２を回転させたり基板２の表面に圧気を
噴射したりして水気を吹き飛ばす方法が採られる。次い
で、赤外線炉３に搬入されて水気が完全に加熱乾燥され
る。次いで、黴や藻などの有機物を除くために紫外線炉
８を通しながら冷却される。そして、アンローダ14に収
納されて、一連の洗浄工程が終わる。
【０００７】図７（Ｂ）において、赤外線炉３は水平の
トンネル炉で、上面に赤外線加熱器3aが配設されてお
り、基板２を移動させる下面には搬送ローラ１が並設さ
れている。そして、清浄な気流６の噴出口3bは，図７
（Ｃ）に示したように進行方向に平行な赤外線炉３の一
方の側壁に設けられており、基板２の表面の斜め上側面
の一方の側壁から他方の側壁に向かって噴射するように
なっている。
トンネル炉で、上面に赤外線加熱器3aが配設されてお
り、基板２を移動させる下面には搬送ローラ１が並設さ
れている。そして、清浄な気流６の噴出口3bは，図７
（Ｃ）に示したように進行方向に平行な赤外線炉３の一
方の側壁に設けられており、基板２の表面の斜め上側面
の一方の側壁から他方の側壁に向かって噴射するように
なっている。
【０００８】こうして、例えば、液晶表示素子で用いら
れるガラス基板の場合ならば、基板２の上に透明導電性
のＩＴＯ膜を被着する際とかＩＴＯ膜を電極パターンに
エッチングする際とか２枚の基板２を封着してパネルに
組み立てする際などいろいろな工程の途中で洗浄が行わ
れる。
れるガラス基板の場合ならば、基板２の上に透明導電性
のＩＴＯ膜を被着する際とかＩＴＯ膜を電極パターンに
エッチングする際とか２枚の基板２を封着してパネルに
組み立てする際などいろいろな工程の途中で洗浄が行わ
れる。
【０００９】ところで、こうして洗浄された基板２は、
基板洗浄装置10を通過して洗浄が終わると、例えば 1,0
00Ｖといった異常な帯電をしている。そして、この帯電
現象は基板２が赤外線炉３を通った後に起こる。
基板洗浄装置10を通過して洗浄が終わると、例えば 1,0
00Ｖといった異常な帯電をしている。そして、この帯電
現象は基板２が赤外線炉３を通った後に起こる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】通常、帯電の原因は、
接触、剥離、摩擦、衝突、破壊、変形などであるが、基
板２が清浄に洗浄されたガラス板の場合には、基板２自
体が絶縁物である上に、赤外線炉３の中では乾燥した気
流６が基板２の表面に噴射する。従って、気流６との摩
擦による帯電が起こる。また、搬送ローラ１の上に乗っ
て搬送される際に、搬送ローラ１との摩擦や剥離も帯電
の原因となっている。この場合の帯電は、基板２の周縁
部に集中している。
接触、剥離、摩擦、衝突、破壊、変形などであるが、基
板２が清浄に洗浄されたガラス板の場合には、基板２自
体が絶縁物である上に、赤外線炉３の中では乾燥した気
流６が基板２の表面に噴射する。従って、気流６との摩
擦による帯電が起こる。また、搬送ローラ１の上に乗っ
て搬送される際に、搬送ローラ１との摩擦や剥離も帯電
の原因となっている。この場合の帯電は、基板２の周縁
部に集中している。
【００１１】こうした基板２に起こる帯電は、特に基板
２がガラス基板でＩＴＯ膜が設けられている場合には、
不具合の原因となる、すなわち、こうした基板２に蓄積
された帯電電荷が、例えば搬送ローラ１などに放電する
とＩＴＯ膜を損傷させてしまうことが間々起こる。ま
た、ＩＴＯ膜が例えば細い縞状にエッチングされて電極
になっている場合には、その電極間で放電して断線など
の致命的な不具合が生じることもある。そのために、そ
れぞれの電極の端部を共通に接続して同電位にし、放電
を防ぐ方策が採られている。そうすると、組立工程の途
中で電極ごとの試験を行うことができなくなる不具合が
生じてしまう。
２がガラス基板でＩＴＯ膜が設けられている場合には、
不具合の原因となる、すなわち、こうした基板２に蓄積
された帯電電荷が、例えば搬送ローラ１などに放電する
とＩＴＯ膜を損傷させてしまうことが間々起こる。ま
た、ＩＴＯ膜が例えば細い縞状にエッチングされて電極
になっている場合には、その電極間で放電して断線など
の致命的な不具合が生じることもある。そのために、そ
れぞれの電極の端部を共通に接続して同電位にし、放電
を防ぐ方策が採られている。そうすると、組立工程の途
中で電極ごとの試験を行うことができなくなる不具合が
生じてしまう。
【００１２】そこで本発明は、基板洗浄装置の赤外線炉
でイオン化されたコロナシャワーを噴出させて基板の表
面に浴びせ、帯電電荷を除電してなる基板洗浄装置を提
供することを目的としている。
でイオン化されたコロナシャワーを噴出させて基板の表
面に浴びせ、帯電電荷を除電してなる基板洗浄装置を提
供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上で述べた課題は、並設
された搬送ローラに乗って１枚ずつ搬出された基板が洗
浄されたあと、赤外線加熱器が上部に内設された赤外線
炉を通って乾燥される基板洗浄装置であって、イオン流
発生手段を有し、前記イオン流発生手段は、前記赤外線
炉に内設されており、かつ前記基板にイオン流を噴射す
るものであるように工程された基板洗浄装置によって解
決される。
された搬送ローラに乗って１枚ずつ搬出された基板が洗
浄されたあと、赤外線加熱器が上部に内設された赤外線
炉を通って乾燥される基板洗浄装置であって、イオン流
発生手段を有し、前記イオン流発生手段は、前記赤外線
炉に内設されており、かつ前記基板にイオン流を噴射す
るものであるように工程された基板洗浄装置によって解
決される。
【００１４】
【作用】従来の基板洗浄装置においては、洗浄したあと
の乾燥の際に基板が帯電して不具合を生じることが間々
起こるが、本発明においては基板の表面に帯電して蓄積
された静電荷を除電するようにしている。
の乾燥の際に基板が帯電して不具合を生じることが間々
起こるが、本発明においては基板の表面に帯電して蓄積
された静電荷を除電するようにしている。
【００１５】すなわち、基板は乾燥されると搬送ローラ
との摩擦などによって帯電することが避けられないが、
基板を乾燥させる赤外線炉にイオン流発生手段を設け、
搬送される基板にイオン流を浴びせて除電するようにし
ている。
との摩擦などによって帯電することが避けられないが、
基板を乾燥させる赤外線炉にイオン流発生手段を設け、
搬送される基板にイオン流を浴びせて除電するようにし
ている。
【００１６】このイオン流には、大気中で生じるコロナ
放電によるイオン流が最も扱い易く、実用的には交流コ
ロナ放電を用いるようにしている。大気中における交流
コロナは、例えばＮ2 の正イオンとか電子（ｅ- ）やＯ
2の負イオンなどが交流電圧の極性によって交互に放電
電流として流れるといわれており、基板に蓄積された電
荷が正負何れの極性であっても平均的には中和され、そ
の結果除電されることになる。
放電によるイオン流が最も扱い易く、実用的には交流コ
ロナ放電を用いるようにしている。大気中における交流
コロナは、例えばＮ2 の正イオンとか電子（ｅ- ）やＯ
2の負イオンなどが交流電圧の極性によって交互に放電
電流として流れるといわれており、基板に蓄積された電
荷が正負何れの極性であっても平均的には中和され、そ
の結果除電されることになる。
【００１７】こうして、特にＩＴＯ膜で電極形成された
液晶表示パネルのガラス基板などの製造工程で不可欠な
基板洗浄の歩留り向上を図ることができる。
液晶表示パネルのガラス基板などの製造工程で不可欠な
基板洗浄の歩留り向上を図ることができる。
【００１８】
【実施例】図１は本発明の第一の実施例の一部切欠き斜
視図、図２は図１の主要部の一部切欠き斜視図、図３は
本発明の第二の実施例の側断面図、図４は本発明の第三
の実施例の拡大斜視図、図５は本発明の第四の実施例の
主要部の側断面図、図６は本発明の第五の実施例の主要
部の側断面図である。図において、１は搬送ローラ、1a
は突起、２は基板、３は赤外線炉、3aは赤外線加熱器、
４はイオン流発生手段、4aは送風部、4bは加熱部、4cは
コロナ発生部、５はイオン流、６は気流、７は無端ベル
ト、８は紫外線炉、8aは紫外線灯、8bは紫外線である。
視図、図２は図１の主要部の一部切欠き斜視図、図３は
本発明の第二の実施例の側断面図、図４は本発明の第三
の実施例の拡大斜視図、図５は本発明の第四の実施例の
主要部の側断面図、図６は本発明の第五の実施例の主要
部の側断面図である。図において、１は搬送ローラ、1a
は突起、２は基板、３は赤外線炉、3aは赤外線加熱器、
４はイオン流発生手段、4aは送風部、4bは加熱部、4cは
コロナ発生部、５はイオン流、６は気流、７は無端ベル
ト、８は紫外線炉、8aは紫外線灯、8bは紫外線である。
【００１９】実施例：１ 図１〜図２において、搬送ローラ１に乗って運ばれてき
た基板２を乾燥させる赤外線炉３の上方には、赤外線加
熱器3aが複数個に分割されて配設されている。そして、
それぞれの隙間にイオン流発生手段４が設けられてい
る。
た基板２を乾燥させる赤外線炉３の上方には、赤外線加
熱器3aが複数個に分割されて配設されている。そして、
それぞれの隙間にイオン流発生手段４が設けられてい
る。
【００２０】イオン流発生手段４は、清浄な空気を送り
出す送風部4aと、送り込まれた気流６を加熱する加熱部
4bと、加熱された気流６の中でコロナ放電を起こしてイ
オン流５を生じさせるコロナ発生部4cから構成されてい
る。
出す送風部4aと、送り込まれた気流６を加熱する加熱部
4bと、加熱された気流６の中でコロナ放電を起こしてイ
オン流５を生じさせるコロナ発生部4cから構成されてい
る。
【００２１】このイオン流５は、基板２が搬送ローラ１
などとの摩擦帯電などによって蓄積される電荷の極性と
逆極性の直流コロナによって中和することもできる。し
かし、交流コロナ放電による除電が効率よく実用的であ
る。
などとの摩擦帯電などによって蓄積される電荷の極性と
逆極性の直流コロナによって中和することもできる。し
かし、交流コロナ放電による除電が効率よく実用的であ
る。
【００２２】大気の気流６の中でコロナ放電を起こさせ
るイオナイザとかコロナ帯電器などと呼ばれる手段は、
尖頭放電を利用する場合が多い。すなわち、図２に示し
たように針状の電極を基板２の方向に突出させたり、基
板２に平行に細いワイヤを張ったりして数千Ｖの交流電
圧を印加すれば基板２との間でコロナ放電が起こり、イ
オン流５が基板２にシャワー状に浴びせられる。そし
て、基板２の表面に帯電した静電荷を除電する。感電な
どの危険性を考慮して針状電極の場合には、電源と電極
が容量結合された構成になっているものもある。
るイオナイザとかコロナ帯電器などと呼ばれる手段は、
尖頭放電を利用する場合が多い。すなわち、図２に示し
たように針状の電極を基板２の方向に突出させたり、基
板２に平行に細いワイヤを張ったりして数千Ｖの交流電
圧を印加すれば基板２との間でコロナ放電が起こり、イ
オン流５が基板２にシャワー状に浴びせられる。そし
て、基板２の表面に帯電した静電荷を除電する。感電な
どの危険性を考慮して針状電極の場合には、電源と電極
が容量結合された構成になっているものもある。
【００２３】実施例：２ 図３において、イオン流発生手段４が赤外線炉３の上方
に設けられている。すなわち、赤外線炉３の上方から送
入された清浄な気流６が加熱部4bで加熱されたあとコロ
ナ発生部4cでイオン化されてイオン流５となる。このイ
オン流５が複数個に分割された赤外線加熱器3aの隙間を
通って搬送されてくる基板２の表面に浴びせられる。そ
して、基板２の表面に帯電した静電荷を除電する。
に設けられている。すなわち、赤外線炉３の上方から送
入された清浄な気流６が加熱部4bで加熱されたあとコロ
ナ発生部4cでイオン化されてイオン流５となる。このイ
オン流５が複数個に分割された赤外線加熱器3aの隙間を
通って搬送されてくる基板２の表面に浴びせられる。そ
して、基板２の表面に帯電した静電荷を除電する。
【００２４】実施例：３ 図４において、搬送ローラ１の表面に多数の突起1aが設
けられ、その突起1aに乗って基板２が搬送される構成に
なっている。こうすると、基板２と搬送ローラ１との接
触の機会を減らすことができる。その結果、主として搬
送ローラ１との接触、剥離によって生じる基板２の帯電
を軽減することができる。
けられ、その突起1aに乗って基板２が搬送される構成に
なっている。こうすると、基板２と搬送ローラ１との接
触の機会を減らすことができる。その結果、主として搬
送ローラ１との接触、剥離によって生じる基板２の帯電
を軽減することができる。
【００２５】実施例：４ 図５において、赤外線炉３の中に基板２を搬入する搬送
ローラ１が、表面に多数の導電性の凸部7aが設けられた
無端ベルト７を駆動するようになっている。そして、そ
の凸部7aに乗って基板２が搬送されるようになってい
る。こうすると、基板２と無端ベルト７との接触の機会
を減らすことができる。その結果、基板２の帯電を軽減
することができる。
ローラ１が、表面に多数の導電性の凸部7aが設けられた
無端ベルト７を駆動するようになっている。そして、そ
の凸部7aに乗って基板２が搬送されるようになってい
る。こうすると、基板２と無端ベルト７との接触の機会
を減らすことができる。その結果、基板２の帯電を軽減
することができる。
【００２６】実施例：５ 図６において、赤外線炉３で乾燥された基板２は、引続
き紫外線炉８に送り込まれて、紫外線灯8aで紫外線8bが
照射される。そこで、無端ベルト７を赤外線炉３から紫
外線炉８まで連ならせ、赤外線炉３のイオン流発生手段
４によって除電した基板２が再び帯電することを防ぐよ
うになっている。
き紫外線炉８に送り込まれて、紫外線灯8aで紫外線8bが
照射される。そこで、無端ベルト７を赤外線炉３から紫
外線炉８まで連ならせ、赤外線炉３のイオン流発生手段
４によって除電した基板２が再び帯電することを防ぐよ
うになっている。
【００２７】
【発明の効果】本発明においては、赤外線炉にイオン流
発生手段を設け、基板にコロナシャワーを浴びせて除電
するようにしている。また、基板の搬送系が基板と接触
する機会を減らして帯電し難いようにしている。そし
て、ガラス基板などの洗浄の際に帯電が起こって基板の
表面に静電荷が溜まり、その静電荷が放電して生じる不
具合を低減することができる。
発生手段を設け、基板にコロナシャワーを浴びせて除電
するようにしている。また、基板の搬送系が基板と接触
する機会を減らして帯電し難いようにしている。そし
て、ガラス基板などの洗浄の際に帯電が起こって基板の
表面に静電荷が溜まり、その静電荷が放電して生じる不
具合を低減することができる。
【００２８】その結果、基板洗浄に関わる歩留り改善を
図ることができるようになり、例えば、ＩＴＯ膜で電極
を構成したガラス基板を用いた液晶表示パネルの製造工
程の生産性の向上に対して、本発明は寄与するところが
大である。
図ることができるようになり、例えば、ＩＴＯ膜で電極
を構成したガラス基板を用いた液晶表示パネルの製造工
程の生産性の向上に対して、本発明は寄与するところが
大である。
【図１】 本発明の第一の実施例の一部切欠き斜視図で
ある。
ある。
【図２】 図１の主要部の一部切欠き斜視図である。
【図３】 本発明の第二の実施例の側断面図である。
【図４】 本発明の第三の実施例の拡大斜視図である。
【図５】 本発明の第四の実施例の主要部の側断面図で
ある。
ある。
【図６】 本発明の第五の実施例の主要部の側断面図で
ある。
ある。
【図７】 従来の基板洗浄装置の一例の説明図で、図７
はブロック図、（Ｂ）は主要部の側面図、（Ｃ）は主要
部の正面図である。
はブロック図、（Ｂ）は主要部の側面図、（Ｃ）は主要
部の正面図である。
１ 搬送ローラ 1a 突起 ２ 基板 ３ 赤外線炉 3a 赤外線加熱器 ４ イオン流発生手段 4a 送風部 4b
加熱部 4c コロナ発生部 ５ イオン流 ６ 気流 ７ 無端ベルト 7a 凸部 ８ 紫外線炉 8a 紫外線灯 8b
紫外線
加熱部 4c コロナ発生部 ５ イオン流 ６ 気流 ７ 無端ベルト 7a 凸部 ８ 紫外線炉 8a 紫外線灯 8b
紫外線
Claims (8)
- 【請求項１】 並設された搬送ローラ(1) に乗って１枚
ずつ搬出された基板(2) が洗浄されたあと、赤外線加熱
器(3a)が上部に内設された赤外線炉(3) を通って乾燥さ
れる基板洗浄装置であって、イオン流発生手段(4) を有
し、 前記イオン流発生手段(4) は、前記赤外線炉(3) に内設
されており、かつ前記基板(2) にイオン流(5) を噴射す
るものであることを特徴とする基板洗浄装置。 - 【請求項２】 前記イオン流(5) が、交流コロナ放電で
ある請求項１記載の基板洗浄装置。 - 【請求項３】 前記イオン流発生手段(4) が、送風部(4
a)と、該送風部(4a)から送られた気流(6) を加熱する加
熱部(4b)と、加熱された該気流(6) をイオン化して前記
イオン流(5) となすコロナ発生部(4c)を有するものであ
る請求項１記載の基板洗浄装置。 - 【請求項４】 前記イオン流発生手段(4) が、複数個に
分割されて配設された前記赤外線加熱器(3a)のそれぞれ
の間隙に設けられている請求項３記載の基板洗浄装置。 - 【請求項５】 前記イオン流発生手段(4) が、前記赤外
線炉(3) の上部に配設されており、かつイオン流(5)
が、複数個に分割して配設された前記赤外線加熱器(3a)
のそれぞれの間隙から噴出する請求項３記載の基板洗浄
装置。 - 【請求項６】 前記搬送ローラ(1) が、表面に設けられ
た多数の導電性の突起(1a)を有する請求項１記載の基板
洗浄装置。 - 【請求項７】 前記搬送ローラ(1) が、表面に多数の導
電性の凸部(7a)が設けられた無端ベルト(7) を駆動する
ものであり、 前記無端ベルト(7) が、前記基板(2) を搬送するもので
ある請求項１記載の基板洗浄装置。 - 【請求項８】 紫外線炉(8) を有し、 前記紫外線炉(8) は、前記基板(2) が乾燥されたあと紫
外線を照射するものであって、前記赤外線炉(3) に連設
されており、かつ前記無端ベルト(7) が該赤外線炉(3)
から連なっている請求項７記載の基板洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15963592A JPH065379A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 基板洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15963592A JPH065379A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 基板洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH065379A true JPH065379A (ja) | 1994-01-14 |
Family
ID=15698026
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15963592A Withdrawn JPH065379A (ja) | 1992-06-18 | 1992-06-18 | 基板洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH065379A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115971000A (zh) * | 2023-02-21 | 2023-04-18 | 北京华源新艺界影视器材有限公司 | 一种pcb电路板尺寸反馈电中和式涂胶输送设备 |
-
1992
- 1992-06-18 JP JP15963592A patent/JPH065379A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115971000A (zh) * | 2023-02-21 | 2023-04-18 | 北京华源新艺界影视器材有限公司 | 一种pcb电路板尺寸反馈电中和式涂胶输送设备 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI232492B (en) | A process chamber equipped with a cleaning function | |
| KR100812562B1 (ko) | 기판코팅시스템 | |
| KR100481156B1 (ko) | 건조장치 | |
| JPH065379A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| KR101736783B1 (ko) | 하이브리드식 세정구조를 갖는 친환경 스팀 세정기 | |
| KR20120131994A (ko) | 건식 세정 장치 | |
| JPH11319741A (ja) | 除塵方法及び除塵装置 | |
| KR20070063968A (ko) | 이오나이저 및 에어나이프 일체형 장비 | |
| JP2007058015A (ja) | 基板除電方法、基板除電装置、及び液晶表示装置の製造方法 | |
| KR20080109495A (ko) | 이온 에어 나이프 및 그를 이용한 기판 세정 시스템 | |
| JP4007303B2 (ja) | 基板のラビング方法及びラビング装置 | |
| JPH07321177A (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPH10209097A (ja) | 基板洗浄方法及び装置 | |
| JP2004063201A (ja) | 基板の処理装置 | |
| KR100566031B1 (ko) | 제진 장치 | |
| JPH02180935A (ja) | 樹脂フィルムのコロナ放電処理方法 | |
| JPH0750271B2 (ja) | 液晶表示板のラビング方法 | |
| JP3792384B2 (ja) | 基板のラビング方法、液晶電気光学素子の製造方法及び基板のラビング装置 | |
| JP2001170584A (ja) | 超音波処理装置 | |
| JP2002028870A (ja) | サンドブラスト装置及びプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP3076146B2 (ja) | アンローダ装置 | |
| CN214937037U (zh) | 玻璃板的制造装置 | |
| CN218037681U (zh) | 一种针对掩膜光罩静电改善的曝光机构 | |
| JPH0334424A (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH05297336A (ja) | 基板の洗浄方法及び基板洗浄装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990831 |