JPH0652825A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPH0652825A JPH0652825A JP4203263A JP20326392A JPH0652825A JP H0652825 A JPH0652825 A JP H0652825A JP 4203263 A JP4203263 A JP 4203263A JP 20326392 A JP20326392 A JP 20326392A JP H0652825 A JPH0652825 A JP H0652825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexible hose
- heater
- groove
- vacuum device
- hose
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空装置に係り，特にフレキシブルホースを
備えた真空装置に関し，洗浄や脱ガスが容易なフレキシ
ブルホースを備えた真空装置を目的とする。 【構成】 表面に襞２を有するフレキシブルホース１を
備えた真空装置であって, 襞２はフレキシブルホース１
の周囲を巡る連続する溝３からなる真空装置により構成
する。また，表面に襞２を有するフレキシブルホース１
とフレキシブルホース１を加熱するヒータとを備えた真
空装置であって, 襞２はフレキシブルホース１の周囲を
巡る連続する溝３からなり，ヒータは溝３に配置され，
フレキシブルホース１と一体化された連続するヒータで
ある真空装置により構成する。
備えた真空装置に関し，洗浄や脱ガスが容易なフレキシ
ブルホースを備えた真空装置を目的とする。 【構成】 表面に襞２を有するフレキシブルホース１を
備えた真空装置であって, 襞２はフレキシブルホース１
の周囲を巡る連続する溝３からなる真空装置により構成
する。また，表面に襞２を有するフレキシブルホース１
とフレキシブルホース１を加熱するヒータとを備えた真
空装置であって, 襞２はフレキシブルホース１の周囲を
巡る連続する溝３からなり，ヒータは溝３に配置され，
フレキシブルホース１と一体化された連続するヒータで
ある真空装置により構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は真空装置に係り，特にフ
レキシブルホースを備えた真空装置に関する。最近，半
導体装置製造装置として超高真空を実現する真空装置を
利用し，プラズマを発生させ成膜したりエッチングした
りすることが行われている。このような真空装置にはま
すます高度のクリーン度が要求され，真空チャンバに残
存するガスは，例えば質量分析計により種類と量が検出
される。
レキシブルホースを備えた真空装置に関する。最近，半
導体装置製造装置として超高真空を実現する真空装置を
利用し，プラズマを発生させ成膜したりエッチングした
りすることが行われている。このような真空装置にはま
すます高度のクリーン度が要求され，真空チャンバに残
存するガスは，例えば質量分析計により種類と量が検出
される。
【０００２】質量分析計により分析を行う場合，質量分
析用センサ（Ｑ−Massセンサ）を取り付けなければなら
ない。質量分析用センサが直接真空チャンバに取り付け
ばよいが，真空チャンバの構成によって或いは場所によ
っては，直接取付けできないことがあるので，フレキシ
ブルホースを用いて真空チャンバと質量分析用センサを
接続することがある。このフレキシブルホースの内面は
高度のクリーン度が要求される。
析用センサ（Ｑ−Massセンサ）を取り付けなければなら
ない。質量分析用センサが直接真空チャンバに取り付け
ばよいが，真空チャンバの構成によって或いは場所によ
っては，直接取付けできないことがあるので，フレキシ
ブルホースを用いて真空チャンバと質量分析用センサを
接続することがある。このフレキシブルホースの内面は
高度のクリーン度が要求される。
【０００３】
【従来の技術】図４はこのようなフレキシブルホースを
備えた真空装置を示す模式図で，８は真空チャンバ，９
は質量分析用センサ，12はフレキシブルホースを表す。
備えた真空装置を示す模式図で，８は真空チャンバ，９
は質量分析用センサ，12はフレキシブルホースを表す。
【０００４】図５は真空配管として用いる従来のフレキ
シブルホース12を示す側面図である。フレキシブルホー
ス12はステンレス製で表面に襞を有し，ベローズ成形法
で製作され，山の部分と谷の部分が交互に配置された襞
構造となっている。
シブルホース12を示す側面図である。フレキシブルホー
ス12はステンレス製で表面に襞を有し，ベローズ成形法
で製作され，山の部分と谷の部分が交互に配置された襞
構造となっている。
【０００５】真空チャンバ８と質量分析用センサ９を接
続するフレキシブルホース12の内面は高度のクリーン度
が要求され，ある時間使用した後に内壁を洗浄しさらに
脱ガス処理を行う。
続するフレキシブルホース12の内面は高度のクリーン度
が要求され，ある時間使用した後に内壁を洗浄しさらに
脱ガス処理を行う。
【０００６】その時，取り外した例えば長さ１ｍのフレ
キシブルホース12の内面を酸で洗い，水洗した後乾燥す
る。この処置に通常２日を要する。次に，このフレキシ
ブルホース12でもって真空チャンバ８と質量分析用セン
サ９とを接続し，真空排気を行う。この時，フレキシブ
ルホース12の外側に絶縁材を介して板状のシートヒータ
をら旋状に巻き，脱ガスのため 150℃程度のベーキング
を行いながら排気する。質量分析用センサ９が作動する
１０-5Torr台の圧力まで排気するのに３０分程度要し，
１０-7Torr台に達するにはさらに２４時間（１日）以上
を要する。
キシブルホース12の内面を酸で洗い，水洗した後乾燥す
る。この処置に通常２日を要する。次に，このフレキシ
ブルホース12でもって真空チャンバ８と質量分析用セン
サ９とを接続し，真空排気を行う。この時，フレキシブ
ルホース12の外側に絶縁材を介して板状のシートヒータ
をら旋状に巻き，脱ガスのため 150℃程度のベーキング
を行いながら排気する。質量分析用センサ９が作動する
１０-5Torr台の圧力まで排気するのに３０分程度要し，
１０-7Torr台に達するにはさらに２４時間（１日）以上
を要する。
【０００７】質量分析用センサ９における各成分（例え
ば，Ｈ2 ，Ｈ2 Ｏ，Ｏ2 ，ＣＯ2 ，Ｎ2 等）の分圧を１
０-10 Torr台以下にしようとすると，さらに，４８時間
（２日）以上を要する。
ば，Ｈ2 ，Ｈ2 Ｏ，Ｏ2 ，ＣＯ2 ，Ｎ2 等）の分圧を１
０-10 Torr台以下にしようとすると，さらに，４８時間
（２日）以上を要する。
【０００８】このように，従来のフレキシブルホース12
を用いた場合，立ち上げまでの時間が長くなる。
を用いた場合，立ち上げまでの時間が長くなる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題に
鑑み，真空装置に付随してフレキシブルホースを使用す
る場合，立ち上げまでの時間を短縮できるようなフレキ
シブルホースを提供することを目的とする。
鑑み，真空装置に付随してフレキシブルホースを使用す
る場合，立ち上げまでの時間を短縮できるようなフレキ
シブルホースを提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】図１は本発明のフレキシ
ブルホースの側面図，図２は本発明のヒータ付きフレキ
シブルホースの断面図を示す。
ブルホースの側面図，図２は本発明のヒータ付きフレキ
シブルホースの断面図を示す。
【００１１】上記課題は，表面に襞２を有するフレキシ
ブルホース１を備えた真空装置であって, 該襞２は該フ
レキシブルホース１の周囲を巡る連続する溝３からなる
真空装置によって解決される。
ブルホース１を備えた真空装置であって, 該襞２は該フ
レキシブルホース１の周囲を巡る連続する溝３からなる
真空装置によって解決される。
【００１２】また，表面に襞２を有するフレキシブルホ
ース１と該フレキシブルホース１を加熱するヒータ４と
を備えた真空装置であって, 該襞２は該フレキシブルホ
ース１の周囲を巡る連続する溝３からなり，該ヒータ４
は該溝３に配置され，該フレキシブルホース１と一体化
された連続するヒータである真空装置によって解決され
る。
ース１と該フレキシブルホース１を加熱するヒータ４と
を備えた真空装置であって, 該襞２は該フレキシブルホ
ース１の周囲を巡る連続する溝３からなり，該ヒータ４
は該溝３に配置され，該フレキシブルホース１と一体化
された連続するヒータである真空装置によって解決され
る。
【００１３】
【作用】従来のフレキシブルホースを用いる真空装置で
立ち上げまでに長時間を要した原因を考えてみると，酸
洗い及び水洗した時，内壁の溝（凹み）の部分が各々独
立しているため，その部分に液が残留し，その部分の脱
液，脱ガスに時間がかかるものと推定される。
立ち上げまでに長時間を要した原因を考えてみると，酸
洗い及び水洗した時，内壁の溝（凹み）の部分が各々独
立しているため，その部分に液が残留し，その部分の脱
液，脱ガスに時間がかかるものと推定される。
【００１４】そこで，本発明のフレキシブルホースで
は，襞２はフレキシブルホース１の周囲を巡る連続する
溝３からなるようにしている。このようにすれば，溝３
はフレキシブルホース１の入り口から出口まで１つの連
続する溝となるから，脱液が容易になり，残留する分が
少なくなる。
は，襞２はフレキシブルホース１の周囲を巡る連続する
溝３からなるようにしている。このようにすれば，溝３
はフレキシブルホース１の入り口から出口まで１つの連
続する溝となるから，脱液が容易になり，残留する分が
少なくなる。
【００１５】さらに，ヒータ４は溝３に配置され，フレ
キシブルホース１と一体化された連続するヒータである
から，フレキシブルホース１の外壁との距離が小さくで
き，加熱効率が大きくなる。したがって，脱ガスの速度
を上げることができる。
キシブルホース１と一体化された連続するヒータである
から，フレキシブルホース１の外壁との距離が小さくで
き，加熱効率が大きくなる。したがって，脱ガスの速度
を上げることができる。
【００１６】
【実施例】図１は本発明のフレキシブルホースの側面
図，図２は本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断
面図で，１はフレキシブルホース，２は襞，３は溝，４
はヒータ，５は絶縁物，６は断熱材，７はヒータ付きフ
レキシブルホースを表す。
図，図２は本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断
面図で，１はフレキシブルホース，２は襞，３は溝，４
はヒータ，５は絶縁物，６は断熱材，７はヒータ付きフ
レキシブルホースを表す。
【００１７】図１において，フレキシブルホース１は例
えばステンレス製で，長さが約１ｍ，山の部分の外径が
例えば５０mm, 谷の部分の外径が例えば３０mmであり，
山と谷が交互に繰り返して襞２を形成する。谷の部分は
フレキシブルホース１の周囲を巡るら旋状の連続する一
本の溝３となっており，このフレキシブルホース１は容
易に曲げることができる。
えばステンレス製で，長さが約１ｍ，山の部分の外径が
例えば５０mm, 谷の部分の外径が例えば３０mmであり，
山と谷が交互に繰り返して襞２を形成する。谷の部分は
フレキシブルホース１の周囲を巡るら旋状の連続する一
本の溝３となっており，このフレキシブルホース１は容
易に曲げることができる。
【００１８】図２のヒータ付きフレキシブルホースは，
上記のフレキシブルホース１にさらにそれを加熱するヒ
ータ４を配したものである。フレキシブルホース１の外
周面に絶縁物５として例えばテフロンコーティングを施
し，溝３に沿ってシーズヒータ４をら旋状に巻く。シー
ズヒータ４は抵抗線に金属管を被せた金属管装電熱線で
ある。シーズヒータ４の外側は断熱材６で覆う。断熱材
６は耐熱製樹脂で例えば耐熱製シリコーン樹脂である。
上記のフレキシブルホース１にさらにそれを加熱するヒ
ータ４を配したものである。フレキシブルホース１の外
周面に絶縁物５として例えばテフロンコーティングを施
し，溝３に沿ってシーズヒータ４をら旋状に巻く。シー
ズヒータ４は抵抗線に金属管を被せた金属管装電熱線で
ある。シーズヒータ４の外側は断熱材６で覆う。断熱材
６は耐熱製樹脂で例えば耐熱製シリコーン樹脂である。
【００１９】図３は実施例の真空装置を示す模式図で，
７はヒータ付きフレキシブルホース，８は真空チャン
バ，９は質量分析用センサ，10は温度調節器, 11は温度
センサを表す。真空チャンバ８と質量分析用センサ９を
図２に示したヒータ付きフレキシブルホース７で接続す
る前に，ヒータ付きフレキシブルホース７の内壁を洗浄
しさらに脱ガス処理を行う。
７はヒータ付きフレキシブルホース，８は真空チャン
バ，９は質量分析用センサ，10は温度調節器, 11は温度
センサを表す。真空チャンバ８と質量分析用センサ９を
図２に示したヒータ付きフレキシブルホース７で接続す
る前に，ヒータ付きフレキシブルホース７の内壁を洗浄
しさらに脱ガス処理を行う。
【００２０】例えば長さ１ｍのヒータ付きフレキシブル
ホース７の内面を酸で洗い，水洗した後乾燥する。この
処置に１０時間要した。次に，このヒータ付きフレキシ
ブルホース７でもって真空チャンバ８と質量分析用セン
サ９とを接続し，真空排気を行った。この時，温度調節
器10, 温度センサ11によりシーズヒータの電流を制御し
てヒータ付きフレキシブルホース７の温度を 150℃に保
った。質量分析用センサ９が作動する１０-5Torr台の圧
力まで排気するのに３０分程度要した。
ホース７の内面を酸で洗い，水洗した後乾燥する。この
処置に１０時間要した。次に，このヒータ付きフレキシ
ブルホース７でもって真空チャンバ８と質量分析用セン
サ９とを接続し，真空排気を行った。この時，温度調節
器10, 温度センサ11によりシーズヒータの電流を制御し
てヒータ付きフレキシブルホース７の温度を 150℃に保
った。質量分析用センサ９が作動する１０-5Torr台の圧
力まで排気するのに３０分程度要した。
【００２１】１０-7Torr台に達するにはさらに８時間を
要した。ヒータ加熱を止めさらに真空排気して，質量分
析用センサ９における各成分の分圧を１０-10 Torr台に
するまで１２時間を要した。
要した。ヒータ加熱を止めさらに真空排気して，質量分
析用センサ９における各成分の分圧を１０-10 Torr台に
するまで１２時間を要した。
【００２２】真空排気の際のベーキング温度は 150℃程
度が適当であった。高過ぎると絶縁物５，断熱材６に悪
影響が出る。この実施例からわかるように，本発明のヒ
ータ付きフレキシブルホース７を使用する時は，内面を
酸で洗い，水洗した後乾燥するのに要する時間が大幅に
短縮でき，さらに，質量分析用センサ９に取り付けて各
成分の分圧を１０-10 Torr台にするまでの真空排気時間
も従来に比較して大幅に短縮できる。
度が適当であった。高過ぎると絶縁物５，断熱材６に悪
影響が出る。この実施例からわかるように，本発明のヒ
ータ付きフレキシブルホース７を使用する時は，内面を
酸で洗い，水洗した後乾燥するのに要する時間が大幅に
短縮でき，さらに，質量分析用センサ９に取り付けて各
成分の分圧を１０-10 Torr台にするまでの真空排気時間
も従来に比較して大幅に短縮できる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように，本発明のフレキシ
ブルホースを使用すれば，超高真空の真空装置の立ち上
げに要する時間が従来に比べて大幅に短縮することがで
きる。
ブルホースを使用すれば，超高真空の真空装置の立ち上
げに要する時間が従来に比べて大幅に短縮することがで
きる。
【００２４】本発明は超高真空の真空装置を使用するプ
ロセスにすべて適用できるものであるが，特に，半導体
装置の製造プロセスに適用して大きな効果を奏する。
ロセスにすべて適用できるものであるが，特に，半導体
装置の製造プロセスに適用して大きな効果を奏する。
【図１】本発明のフレキシブルホースの側面図である。
【図２】本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断面
図である。
図である。
【図３】実施例の真空装置を示す模式図である。
【図４】フレキシブルホースを備えた真空装置を示す模
式図である。
式図である。
【図５】従来のフレキシブルホースを示す側面図であ
る。
る。
１はフレキシブルホースであって本発明のフレキシブル
ホース ２は襞 ３は溝 ４はヒータであってシーズヒータ ５は絶縁物 ６は断熱材 ７はヒータ付きフレキシブルホース ８は真空チャンバ ９は質量分析用センサ 10は温度調節器 11は温度センサ 12はフレキシブルホースであって従来のフレキシブルホ
ース
ホース ２は襞 ３は溝 ４はヒータであってシーズヒータ ５は絶縁物 ６は断熱材 ７はヒータ付きフレキシブルホース ８は真空チャンバ ９は質量分析用センサ 10は温度調節器 11は温度センサ 12はフレキシブルホースであって従来のフレキシブルホ
ース
Claims (2)
- 【請求項１】 表面に襞(2) を有するフレキシブルホー
ス(1) を備えた真空装置であって, 該襞(2) は該フレキ
シブルホース(1) の周囲を巡る連続する溝(3) からなる
ことを特徴とする真空装置。 - 【請求項２】 表面に襞(2) を有するフレキシブルホー
ス(1) と該フレキシブルホース(1) を加熱するヒータ
(4) とを備えた真空装置であって, 該襞(2) は該フレキ
シブルホース(1) の周囲を巡る連続する溝(3) からな
り，該ヒータ(4)は該溝(3) に配置され，該フレキシブ
ルホース(1) と一体化された連続するヒータであること
を特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203263A JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203263A JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0652825A true JPH0652825A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16471143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4203263A Withdrawn JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652825A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020528548A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 真空チャンバの清浄度を監視する清浄度モニタおよび方法 |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP4203263A patent/JPH0652825A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020528548A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 真空チャンバの清浄度を監視する清浄度モニタおよび方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |