JPH0652825A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPH0652825A JPH0652825A JP4203263A JP20326392A JPH0652825A JP H0652825 A JPH0652825 A JP H0652825A JP 4203263 A JP4203263 A JP 4203263A JP 20326392 A JP20326392 A JP 20326392A JP H0652825 A JPH0652825 A JP H0652825A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flexible hose
- heater
- groove
- vacuum device
- hose
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空装置に係り,特にフレキシブルホースを
備えた真空装置に関し,洗浄や脱ガスが容易なフレキシ
ブルホースを備えた真空装置を目的とする。 【構成】 表面に襞2を有するフレキシブルホース1を
備えた真空装置であって, 襞2はフレキシブルホース1
の周囲を巡る連続する溝3からなる真空装置により構成
する。また,表面に襞2を有するフレキシブルホース1
とフレキシブルホース1を加熱するヒータとを備えた真
空装置であって, 襞2はフレキシブルホース1の周囲を
巡る連続する溝3からなり,ヒータは溝3に配置され,
フレキシブルホース1と一体化された連続するヒータで
ある真空装置により構成する。
備えた真空装置に関し,洗浄や脱ガスが容易なフレキシ
ブルホースを備えた真空装置を目的とする。 【構成】 表面に襞2を有するフレキシブルホース1を
備えた真空装置であって, 襞2はフレキシブルホース1
の周囲を巡る連続する溝3からなる真空装置により構成
する。また,表面に襞2を有するフレキシブルホース1
とフレキシブルホース1を加熱するヒータとを備えた真
空装置であって, 襞2はフレキシブルホース1の周囲を
巡る連続する溝3からなり,ヒータは溝3に配置され,
フレキシブルホース1と一体化された連続するヒータで
ある真空装置により構成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空装置に係り,特にフ
レキシブルホースを備えた真空装置に関する。最近,半
導体装置製造装置として超高真空を実現する真空装置を
利用し,プラズマを発生させ成膜したりエッチングした
りすることが行われている。このような真空装置にはま
すます高度のクリーン度が要求され,真空チャンバに残
存するガスは,例えば質量分析計により種類と量が検出
される。
レキシブルホースを備えた真空装置に関する。最近,半
導体装置製造装置として超高真空を実現する真空装置を
利用し,プラズマを発生させ成膜したりエッチングした
りすることが行われている。このような真空装置にはま
すます高度のクリーン度が要求され,真空チャンバに残
存するガスは,例えば質量分析計により種類と量が検出
される。
【0002】質量分析計により分析を行う場合,質量分
析用センサ(Q−Massセンサ)を取り付けなければなら
ない。質量分析用センサが直接真空チャンバに取り付け
ばよいが,真空チャンバの構成によって或いは場所によ
っては,直接取付けできないことがあるので,フレキシ
ブルホースを用いて真空チャンバと質量分析用センサを
接続することがある。このフレキシブルホースの内面は
高度のクリーン度が要求される。
析用センサ(Q−Massセンサ)を取り付けなければなら
ない。質量分析用センサが直接真空チャンバに取り付け
ばよいが,真空チャンバの構成によって或いは場所によ
っては,直接取付けできないことがあるので,フレキシ
ブルホースを用いて真空チャンバと質量分析用センサを
接続することがある。このフレキシブルホースの内面は
高度のクリーン度が要求される。
【0003】
【従来の技術】図4はこのようなフレキシブルホースを
備えた真空装置を示す模式図で,8は真空チャンバ,9
は質量分析用センサ,12はフレキシブルホースを表す。
備えた真空装置を示す模式図で,8は真空チャンバ,9
は質量分析用センサ,12はフレキシブルホースを表す。
【0004】図5は真空配管として用いる従来のフレキ
シブルホース12を示す側面図である。フレキシブルホー
ス12はステンレス製で表面に襞を有し,ベローズ成形法
で製作され,山の部分と谷の部分が交互に配置された襞
構造となっている。
シブルホース12を示す側面図である。フレキシブルホー
ス12はステンレス製で表面に襞を有し,ベローズ成形法
で製作され,山の部分と谷の部分が交互に配置された襞
構造となっている。
【0005】真空チャンバ8と質量分析用センサ9を接
続するフレキシブルホース12の内面は高度のクリーン度
が要求され,ある時間使用した後に内壁を洗浄しさらに
脱ガス処理を行う。
続するフレキシブルホース12の内面は高度のクリーン度
が要求され,ある時間使用した後に内壁を洗浄しさらに
脱ガス処理を行う。
【0006】その時,取り外した例えば長さ1mのフレ
キシブルホース12の内面を酸で洗い,水洗した後乾燥す
る。この処置に通常2日を要する。次に,このフレキシ
ブルホース12でもって真空チャンバ8と質量分析用セン
サ9とを接続し,真空排気を行う。この時,フレキシブ
ルホース12の外側に絶縁材を介して板状のシートヒータ
をら旋状に巻き,脱ガスのため 150℃程度のベーキング
を行いながら排気する。質量分析用センサ9が作動する
10-5Torr台の圧力まで排気するのに30分程度要し,
10-7Torr台に達するにはさらに24時間(1日)以上
を要する。
キシブルホース12の内面を酸で洗い,水洗した後乾燥す
る。この処置に通常2日を要する。次に,このフレキシ
ブルホース12でもって真空チャンバ8と質量分析用セン
サ9とを接続し,真空排気を行う。この時,フレキシブ
ルホース12の外側に絶縁材を介して板状のシートヒータ
をら旋状に巻き,脱ガスのため 150℃程度のベーキング
を行いながら排気する。質量分析用センサ9が作動する
10-5Torr台の圧力まで排気するのに30分程度要し,
10-7Torr台に達するにはさらに24時間(1日)以上
を要する。
【0007】質量分析用センサ9における各成分(例え
ば,H2 ,H2 O,O2 ,CO2 ,N2 等)の分圧を1
0-10 Torr台以下にしようとすると,さらに,48時間
(2日)以上を要する。
ば,H2 ,H2 O,O2 ,CO2 ,N2 等)の分圧を1
0-10 Torr台以下にしようとすると,さらに,48時間
(2日)以上を要する。
【0008】このように,従来のフレキシブルホース12
を用いた場合,立ち上げまでの時間が長くなる。
を用いた場合,立ち上げまでの時間が長くなる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の問題に
鑑み,真空装置に付随してフレキシブルホースを使用す
る場合,立ち上げまでの時間を短縮できるようなフレキ
シブルホースを提供することを目的とする。
鑑み,真空装置に付随してフレキシブルホースを使用す
る場合,立ち上げまでの時間を短縮できるようなフレキ
シブルホースを提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】図1は本発明のフレキシ
ブルホースの側面図,図2は本発明のヒータ付きフレキ
シブルホースの断面図を示す。
ブルホースの側面図,図2は本発明のヒータ付きフレキ
シブルホースの断面図を示す。
【0011】上記課題は,表面に襞2を有するフレキシ
ブルホース1を備えた真空装置であって, 該襞2は該フ
レキシブルホース1の周囲を巡る連続する溝3からなる
真空装置によって解決される。
ブルホース1を備えた真空装置であって, 該襞2は該フ
レキシブルホース1の周囲を巡る連続する溝3からなる
真空装置によって解決される。
【0012】また,表面に襞2を有するフレキシブルホ
ース1と該フレキシブルホース1を加熱するヒータ4と
を備えた真空装置であって, 該襞2は該フレキシブルホ
ース1の周囲を巡る連続する溝3からなり,該ヒータ4
は該溝3に配置され,該フレキシブルホース1と一体化
された連続するヒータである真空装置によって解決され
る。
ース1と該フレキシブルホース1を加熱するヒータ4と
を備えた真空装置であって, 該襞2は該フレキシブルホ
ース1の周囲を巡る連続する溝3からなり,該ヒータ4
は該溝3に配置され,該フレキシブルホース1と一体化
された連続するヒータである真空装置によって解決され
る。
【0013】
【作用】従来のフレキシブルホースを用いる真空装置で
立ち上げまでに長時間を要した原因を考えてみると,酸
洗い及び水洗した時,内壁の溝(凹み)の部分が各々独
立しているため,その部分に液が残留し,その部分の脱
液,脱ガスに時間がかかるものと推定される。
立ち上げまでに長時間を要した原因を考えてみると,酸
洗い及び水洗した時,内壁の溝(凹み)の部分が各々独
立しているため,その部分に液が残留し,その部分の脱
液,脱ガスに時間がかかるものと推定される。
【0014】そこで,本発明のフレキシブルホースで
は,襞2はフレキシブルホース1の周囲を巡る連続する
溝3からなるようにしている。このようにすれば,溝3
はフレキシブルホース1の入り口から出口まで1つの連
続する溝となるから,脱液が容易になり,残留する分が
少なくなる。
は,襞2はフレキシブルホース1の周囲を巡る連続する
溝3からなるようにしている。このようにすれば,溝3
はフレキシブルホース1の入り口から出口まで1つの連
続する溝となるから,脱液が容易になり,残留する分が
少なくなる。
【0015】さらに,ヒータ4は溝3に配置され,フレ
キシブルホース1と一体化された連続するヒータである
から,フレキシブルホース1の外壁との距離が小さくで
き,加熱効率が大きくなる。したがって,脱ガスの速度
を上げることができる。
キシブルホース1と一体化された連続するヒータである
から,フレキシブルホース1の外壁との距離が小さくで
き,加熱効率が大きくなる。したがって,脱ガスの速度
を上げることができる。
【0016】
【実施例】図1は本発明のフレキシブルホースの側面
図,図2は本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断
面図で,1はフレキシブルホース,2は襞,3は溝,4
はヒータ,5は絶縁物,6は断熱材,7はヒータ付きフ
レキシブルホースを表す。
図,図2は本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断
面図で,1はフレキシブルホース,2は襞,3は溝,4
はヒータ,5は絶縁物,6は断熱材,7はヒータ付きフ
レキシブルホースを表す。
【0017】図1において,フレキシブルホース1は例
えばステンレス製で,長さが約1m,山の部分の外径が
例えば50mm, 谷の部分の外径が例えば30mmであり,
山と谷が交互に繰り返して襞2を形成する。谷の部分は
フレキシブルホース1の周囲を巡るら旋状の連続する一
本の溝3となっており,このフレキシブルホース1は容
易に曲げることができる。
えばステンレス製で,長さが約1m,山の部分の外径が
例えば50mm, 谷の部分の外径が例えば30mmであり,
山と谷が交互に繰り返して襞2を形成する。谷の部分は
フレキシブルホース1の周囲を巡るら旋状の連続する一
本の溝3となっており,このフレキシブルホース1は容
易に曲げることができる。
【0018】図2のヒータ付きフレキシブルホースは,
上記のフレキシブルホース1にさらにそれを加熱するヒ
ータ4を配したものである。フレキシブルホース1の外
周面に絶縁物5として例えばテフロンコーティングを施
し,溝3に沿ってシーズヒータ4をら旋状に巻く。シー
ズヒータ4は抵抗線に金属管を被せた金属管装電熱線で
ある。シーズヒータ4の外側は断熱材6で覆う。断熱材
6は耐熱製樹脂で例えば耐熱製シリコーン樹脂である。
上記のフレキシブルホース1にさらにそれを加熱するヒ
ータ4を配したものである。フレキシブルホース1の外
周面に絶縁物5として例えばテフロンコーティングを施
し,溝3に沿ってシーズヒータ4をら旋状に巻く。シー
ズヒータ4は抵抗線に金属管を被せた金属管装電熱線で
ある。シーズヒータ4の外側は断熱材6で覆う。断熱材
6は耐熱製樹脂で例えば耐熱製シリコーン樹脂である。
【0019】図3は実施例の真空装置を示す模式図で,
7はヒータ付きフレキシブルホース,8は真空チャン
バ,9は質量分析用センサ,10は温度調節器, 11は温度
センサを表す。真空チャンバ8と質量分析用センサ9を
図2に示したヒータ付きフレキシブルホース7で接続す
る前に,ヒータ付きフレキシブルホース7の内壁を洗浄
しさらに脱ガス処理を行う。
7はヒータ付きフレキシブルホース,8は真空チャン
バ,9は質量分析用センサ,10は温度調節器, 11は温度
センサを表す。真空チャンバ8と質量分析用センサ9を
図2に示したヒータ付きフレキシブルホース7で接続す
る前に,ヒータ付きフレキシブルホース7の内壁を洗浄
しさらに脱ガス処理を行う。
【0020】例えば長さ1mのヒータ付きフレキシブル
ホース7の内面を酸で洗い,水洗した後乾燥する。この
処置に10時間要した。次に,このヒータ付きフレキシ
ブルホース7でもって真空チャンバ8と質量分析用セン
サ9とを接続し,真空排気を行った。この時,温度調節
器10, 温度センサ11によりシーズヒータの電流を制御し
てヒータ付きフレキシブルホース7の温度を 150℃に保
った。質量分析用センサ9が作動する10-5Torr台の圧
力まで排気するのに30分程度要した。
ホース7の内面を酸で洗い,水洗した後乾燥する。この
処置に10時間要した。次に,このヒータ付きフレキシ
ブルホース7でもって真空チャンバ8と質量分析用セン
サ9とを接続し,真空排気を行った。この時,温度調節
器10, 温度センサ11によりシーズヒータの電流を制御し
てヒータ付きフレキシブルホース7の温度を 150℃に保
った。質量分析用センサ9が作動する10-5Torr台の圧
力まで排気するのに30分程度要した。
【0021】10-7Torr台に達するにはさらに8時間を
要した。ヒータ加熱を止めさらに真空排気して,質量分
析用センサ9における各成分の分圧を10-10 Torr台に
するまで12時間を要した。
要した。ヒータ加熱を止めさらに真空排気して,質量分
析用センサ9における各成分の分圧を10-10 Torr台に
するまで12時間を要した。
【0022】真空排気の際のベーキング温度は 150℃程
度が適当であった。高過ぎると絶縁物5,断熱材6に悪
影響が出る。この実施例からわかるように,本発明のヒ
ータ付きフレキシブルホース7を使用する時は,内面を
酸で洗い,水洗した後乾燥するのに要する時間が大幅に
短縮でき,さらに,質量分析用センサ9に取り付けて各
成分の分圧を10-10 Torr台にするまでの真空排気時間
も従来に比較して大幅に短縮できる。
度が適当であった。高過ぎると絶縁物5,断熱材6に悪
影響が出る。この実施例からわかるように,本発明のヒ
ータ付きフレキシブルホース7を使用する時は,内面を
酸で洗い,水洗した後乾燥するのに要する時間が大幅に
短縮でき,さらに,質量分析用センサ9に取り付けて各
成分の分圧を10-10 Torr台にするまでの真空排気時間
も従来に比較して大幅に短縮できる。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように,本発明のフレキシ
ブルホースを使用すれば,超高真空の真空装置の立ち上
げに要する時間が従来に比べて大幅に短縮することがで
きる。
ブルホースを使用すれば,超高真空の真空装置の立ち上
げに要する時間が従来に比べて大幅に短縮することがで
きる。
【0024】本発明は超高真空の真空装置を使用するプ
ロセスにすべて適用できるものであるが,特に,半導体
装置の製造プロセスに適用して大きな効果を奏する。
ロセスにすべて適用できるものであるが,特に,半導体
装置の製造プロセスに適用して大きな効果を奏する。
【図1】本発明のフレキシブルホースの側面図である。
【図2】本発明のヒータ付きフレキシブルホースの断面
図である。
図である。
【図3】実施例の真空装置を示す模式図である。
【図4】フレキシブルホースを備えた真空装置を示す模
式図である。
式図である。
【図5】従来のフレキシブルホースを示す側面図であ
る。
る。
1はフレキシブルホースであって本発明のフレキシブル
ホース 2は襞 3は溝 4はヒータであってシーズヒータ 5は絶縁物 6は断熱材 7はヒータ付きフレキシブルホース 8は真空チャンバ 9は質量分析用センサ 10は温度調節器 11は温度センサ 12はフレキシブルホースであって従来のフレキシブルホ
ース
ホース 2は襞 3は溝 4はヒータであってシーズヒータ 5は絶縁物 6は断熱材 7はヒータ付きフレキシブルホース 8は真空チャンバ 9は質量分析用センサ 10は温度調節器 11は温度センサ 12はフレキシブルホースであって従来のフレキシブルホ
ース
Claims (2)
- 【請求項1】 表面に襞(2) を有するフレキシブルホー
ス(1) を備えた真空装置であって, 該襞(2) は該フレキ
シブルホース(1) の周囲を巡る連続する溝(3) からなる
ことを特徴とする真空装置。 - 【請求項2】 表面に襞(2) を有するフレキシブルホー
ス(1) と該フレキシブルホース(1) を加熱するヒータ
(4) とを備えた真空装置であって, 該襞(2) は該フレキ
シブルホース(1) の周囲を巡る連続する溝(3) からな
り,該ヒータ(4)は該溝(3) に配置され,該フレキシブ
ルホース(1) と一体化された連続するヒータであること
を特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4203263A JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4203263A JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0652825A true JPH0652825A (ja) | 1994-02-25 |
Family
ID=16471143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4203263A Withdrawn JPH0652825A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | 真空装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0652825A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020528548A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 真空チャンバの清浄度を監視する清浄度モニタおよび方法 |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP4203263A patent/JPH0652825A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020528548A (ja) * | 2017-07-18 | 2020-09-24 | アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド | 真空チャンバの清浄度を監視する清浄度モニタおよび方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |