JPH0649132B2 - 除湿用素子の製造法 - Google Patents
除湿用素子の製造法Info
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- JPH0649132B2 JPH0649132B2 JP62048780A JP4878087A JPH0649132B2 JP H0649132 B2 JPH0649132 B2 JP H0649132B2 JP 62048780 A JP62048780 A JP 62048780A JP 4878087 A JP4878087 A JP 4878087A JP H0649132 B2 JPH0649132 B2 JP H0649132B2
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- JP
- Japan
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- silicate
- honeycomb structure
- aqueous solution
- silica gel
- gel
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/14—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification
- F24F3/1411—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification by absorbing or adsorbing water, e.g. using an hygroscopic desiccant
- F24F3/1423—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by humidification; by dehumidification by absorbing or adsorbing water, e.g. using an hygroscopic desiccant with a moving bed of solid desiccants, e.g. a rotary wheel supporting solid desiccants
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F2203/00—Devices or apparatus used for air treatment
- F24F2203/10—Rotary wheel
- F24F2203/1032—Desiccant wheel
- F24F2203/1036—Details
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Drying Of Gases (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、再生式除湿器や全熱交換器の除湿用素子の製
造法に関するものである。
造法に関するものである。
従来の技術 無機繊維を主要繊維素材として作られた紙とそれを波形
に成形したものとを交互に重ね合わせて接合してハニカ
ム構造体とし、それに適当な吸湿剤を担持させたものを
再生式除湿器や全熱交換器の除湿用素子として（または
顕熱交換も行う全熱交換素子として）使用することは公
知である。この種の除湿用素子において、除湿剤として
は塩化リチウム、塩化カルシウム等の潮解性無機塩また
はゼオライト、シリカゲル等の非水溶性吸湿剤が用いら
れるが、後者のほうが、吸湿した除湿剤の飛散による装
置汚染や除湿性能低下がなく、またハニカム構造体を補
強する作用もあり、好ましい。また、非水溶性吸湿剤の
中でも、シリカゲルはゼオライトよりも低い温度で再生
可能であり（再生温度がゼオライトの場合２３０℃以上
であるのに対しシリカゲルは約１２０℃）、また、高湿
度域から低湿度域まで、広い範囲ですぐれた除湿性能を
示し、価格も低廉であるという特長を持つ。
に成形したものとを交互に重ね合わせて接合してハニカ
ム構造体とし、それに適当な吸湿剤を担持させたものを
再生式除湿器や全熱交換器の除湿用素子として（または
顕熱交換も行う全熱交換素子として）使用することは公
知である。この種の除湿用素子において、除湿剤として
は塩化リチウム、塩化カルシウム等の潮解性無機塩また
はゼオライト、シリカゲル等の非水溶性吸湿剤が用いら
れるが、後者のほうが、吸湿した除湿剤の飛散による装
置汚染や除湿性能低下がなく、またハニカム構造体を補
強する作用もあり、好ましい。また、非水溶性吸湿剤の
中でも、シリカゲルはゼオライトよりも低い温度で再生
可能であり（再生温度がゼオライトの場合２３０℃以上
であるのに対しシリカゲルは約１２０℃）、また、高湿
度域から低湿度域まで、広い範囲ですぐれた除湿性能を
示し、価格も低廉であるという特長を持つ。
従来、除湿剤としてシリカゲルを担持する除湿用素子の
製法の代表的なものは、ハニカム構造体にケイ酸アルカ
リ水溶液を含浸させ、次いで酸処理によりケイ酸アルカ
リをケイ酸ゲルに変換したのち乾燥する方法であった
（たとえば特公昭５１−３０３８４号）。しかしなが
ら、この製法は、酸処理工程において微粒子状ケイ酸ゲ
ルの離脱が多く、このため、製造工程において種々の解
決困難な問題を生じるだけでなく、製品のシリカゲル担
持量や耐久性にも問題があった。この問題を解決するた
め、特開昭６１−１０１２２８号の製法では、ケイ酸ア
ルカリ水溶液含浸と酸処理との間に乾燥工程を設け、含
浸させたケイ酸アルカリ水溶液を含水率５〜２０％まで
濃縮している。しかしながら、この製法による除湿用素
子は、理由は定かでないが、固定されたシリカゲルが比
表面積の小さなものとなるため、乾燥剤として通常使用
される粒状シリカゲルの性能から期待されるほどには吸
湿量や吸湿速度が大きくない。
製法の代表的なものは、ハニカム構造体にケイ酸アルカ
リ水溶液を含浸させ、次いで酸処理によりケイ酸アルカ
リをケイ酸ゲルに変換したのち乾燥する方法であった
（たとえば特公昭５１−３０３８４号）。しかしなが
ら、この製法は、酸処理工程において微粒子状ケイ酸ゲ
ルの離脱が多く、このため、製造工程において種々の解
決困難な問題を生じるだけでなく、製品のシリカゲル担
持量や耐久性にも問題があった。この問題を解決するた
め、特開昭６１−１０１２２８号の製法では、ケイ酸ア
ルカリ水溶液含浸と酸処理との間に乾燥工程を設け、含
浸させたケイ酸アルカリ水溶液を含水率５〜２０％まで
濃縮している。しかしながら、この製法による除湿用素
子は、理由は定かでないが、固定されたシリカゲルが比
表面積の小さなものとなるため、乾燥剤として通常使用
される粒状シリカゲルの性能から期待されるほどには吸
湿量や吸湿速度が大きくない。
発明が解決しようとする問題点 本発明は、従来のシリカゲル担持除湿用素子がすぐれた
性能を期待されながら上述のような欠点を持つものであ
ったことに鑑み、吸湿性能のよいシリカゲルを多量に担
持させることのできる、改良されたシリカゲル担持除湿
用素子の製造法を提供しようとするものである。
性能を期待されながら上述のような欠点を持つものであ
ったことに鑑み、吸湿性能のよいシリカゲルを多量に担
持させることのできる、改良されたシリカゲル担持除湿
用素子の製造法を提供しようとするものである。
問題点を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明において採択された手
段は、無機繊維紙からなるハニカム構造体に、 該ハニカム構造体をケイ酸アルカリ水溶液に浸漬する
工程； 得られたケイ酸アルカリ水溶液含浸ハニカム構造体を
水溶性カルシウム塩またはマグネシウム塩の水溶液に浸
漬し、担持するケイ酸アルカリをケイ酸カルシウムまた
はケイ酸マグネシウムに変換する工程； 次いで酸または酸性塩で処理して上記ケイ酸塩よりケ
イ酸ゲルを生成させる工程； および ケイ酸ゲル脱水のための乾燥工程； の４工程を必須とするケイ酸ゲル固定処理を１回または
複数回施すことを特徴とするものである。
段は、無機繊維紙からなるハニカム構造体に、 該ハニカム構造体をケイ酸アルカリ水溶液に浸漬する
工程； 得られたケイ酸アルカリ水溶液含浸ハニカム構造体を
水溶性カルシウム塩またはマグネシウム塩の水溶液に浸
漬し、担持するケイ酸アルカリをケイ酸カルシウムまた
はケイ酸マグネシウムに変換する工程； 次いで酸または酸性塩で処理して上記ケイ酸塩よりケ
イ酸ゲルを生成させる工程； および ケイ酸ゲル脱水のための乾燥工程； の４工程を必須とするケイ酸ゲル固定処理を１回または
複数回施すことを特徴とするものである。
以下、本発明の製造法について詳述する。
ハニカム構造体を構成する無機繊維紙の種類、ハニカム
構造体の形状等には特に制限はなく、製品の用途に応じ
て適当なものを任意に選んで使用することができる。し
かしながら、機械的な強度や耐久性のよい製品を得るた
めには、製造工程においてケイ酸アルカリ水溶液や酸と
接触したときの物性劣化がなるべく少ない素材からなる
ものを用いることが望ましい。その意味で特に好ましい
のは、５〜２５重量％のジルコニアを含有するガラス繊
維からなる紙を用いて作られたハニカム構造体である。
構造体の形状等には特に制限はなく、製品の用途に応じ
て適当なものを任意に選んで使用することができる。し
かしながら、機械的な強度や耐久性のよい製品を得るた
めには、製造工程においてケイ酸アルカリ水溶液や酸と
接触したときの物性劣化がなるべく少ない素材からなる
ものを用いることが望ましい。その意味で特に好ましい
のは、５〜２５重量％のジルコニアを含有するガラス繊
維からなる紙を用いて作られたハニカム構造体である。
ハニカム構造体を浸漬するケイ酸アルカリ水溶液として
は、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムな
どの、約１０〜３０％水溶液が適当である。ケイ酸アル
カリの濃度がこれよりも低くてもケイ酸ゲルの固定は可
能であるが、一回の固定化処理で固定できるシリカゲル
の量が少なすぎ、何回も処理を繰返すことが必要にな
る。反対に濃度が高すぎると、粘度が高くなってハニカ
ム構造体中に円滑に浸透しない。
は、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムな
どの、約１０〜３０％水溶液が適当である。ケイ酸アル
カリの濃度がこれよりも低くてもケイ酸ゲルの固定は可
能であるが、一回の固定化処理で固定できるシリカゲル
の量が少なすぎ、何回も処理を繰返すことが必要にな
る。反対に濃度が高すぎると、粘度が高くなってハニカ
ム構造体中に円滑に浸透しない。
ハニカム構造体を構成する無機繊維紙の繊維間空隙にケ
イ酸アルカリ水溶液が充分浸透したならば、ハニカム構
造体をケイ酸アルカリ水溶液から取出し、必要に応じて
高速空気流を吹付けるなどして、過剰の表面付着液を除
く。
イ酸アルカリ水溶液が充分浸透したならば、ハニカム構
造体をケイ酸アルカリ水溶液から取出し、必要に応じて
高速空気流を吹付けるなどして、過剰の表面付着液を除
く。
得られたケイ酸アルカリ水溶液含浸ハニカム構造体を次
に水溶性カルシウム塩またはマグネシウム塩、たとえば
塩化カルシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム
等の水溶液に浸漬する。塩溶液の好ましい濃度は約数％
ないし約３０％、浸漬適温は常温ないし約７０℃であ
る。この処理により、ハニカム構造体に単に付着してい
たケイ酸アルカリは、不溶性のケイ酸カルシウムまたは
ケイ酸マグネシウムに変換されて、無機繊維の表面に固
定される。この処理は、含浸させたケイ酸アルカリ溶液
を酸と反応させてケイ酸ゲルを生成させる場合にみられ
るような微粒子状ゲルの離脱が起こらず、したがって、
含浸させた比較的低濃度のケイ酸アルカリ水溶液からで
も確実にケイ酸分の固定を行う。上記反応に要する時間
は、通常約１０分以上である（処理が不充分で未反応の
ケイ酸アルカリが残存すると、それが次の酸処理工程で
ケイ酸ゲルにはなるものの不安定で、一部がハニカム構
造体から脱落し、最終製品におけるシリカゲルの構造に
欠陥を生じる。）。
に水溶性カルシウム塩またはマグネシウム塩、たとえば
塩化カルシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム
等の水溶液に浸漬する。塩溶液の好ましい濃度は約数％
ないし約３０％、浸漬適温は常温ないし約７０℃であ
る。この処理により、ハニカム構造体に単に付着してい
たケイ酸アルカリは、不溶性のケイ酸カルシウムまたは
ケイ酸マグネシウムに変換されて、無機繊維の表面に固
定される。この処理は、含浸させたケイ酸アルカリ溶液
を酸と反応させてケイ酸ゲルを生成させる場合にみられ
るような微粒子状ゲルの離脱が起こらず、したがって、
含浸させた比較的低濃度のケイ酸アルカリ水溶液からで
も確実にケイ酸分の固定を行う。上記反応に要する時間
は、通常約１０分以上である（処理が不充分で未反応の
ケイ酸アルカリが残存すると、それが次の酸処理工程で
ケイ酸ゲルにはなるものの不安定で、一部がハニカム構
造体から脱落し、最終製品におけるシリカゲルの構造に
欠陥を生じる。）。
次いで、固定された上記ケイ酸塩をケイ酸ゲルに変換す
ることができる酸または酸性塩の水溶液にハニカム構造
体を浸漬する。使用可能な酸の好ましい例としては塩
酸、硫酸、硝酸等があり、有機酸も使用可能である。ま
た、使用可能な酸性塩の例としては、塩化アンモニウ
ム、硝酸アンモニウム等がある。ケイ酸カルシウムまた
はケイ酸マグネシウムの形で存在したカルシウムイオン
またはマグネシウムイオンは、大部分が処理液中に溶出
する。
ることができる酸または酸性塩の水溶液にハニカム構造
体を浸漬する。使用可能な酸の好ましい例としては塩
酸、硫酸、硝酸等があり、有機酸も使用可能である。ま
た、使用可能な酸性塩の例としては、塩化アンモニウ
ム、硝酸アンモニウム等がある。ケイ酸カルシウムまた
はケイ酸マグネシウムの形で存在したカルシウムイオン
またはマグネシウムイオンは、大部分が処理液中に溶出
する。
処理後のハニカム構造体を水洗して付着塩類を除去した
後、熱風で乾燥する。ハニカム構造体の無機繊維紙が有
機繊維や有機結合剤を含む場合は、必要に応じて、乾燥
と同時に、あるいは乾燥に引続き、約４００〜５００℃
まで昇温して焼成する。この処理によりケイ酸ゲルは脱
水され、吸湿能を持ついわゆるシリカゲルの状態にな
る。
後、熱風で乾燥する。ハニカム構造体の無機繊維紙が有
機繊維や有機結合剤を含む場合は、必要に応じて、乾燥
と同時に、あるいは乾燥に引続き、約４００〜５００℃
まで昇温して焼成する。この処理によりケイ酸ゲルは脱
水され、吸湿能を持ついわゆるシリカゲルの状態にな
る。
上述のようにしてハニカム構造体に固定されたシリカゲ
ルは、直径約２０〜５０Åのミクロポアを多量に有し、
従来の製法によってハニカム構造体に固定されるシリカ
ゲルと比べるとはるかに大きな比表面積を持つものであ
る。したがって、得られたシリカゲル担持ハニカム構造
体はそのままでもすぐれた除湿性能を示すが、上記ケイ
酸ゲル固定処理を再度またはそれ以上の回数くり返して
シリカゲル固定量を多くすることにより、吸湿量と吸湿
速度のいずれにおいても卓越した性能を示し、強度や耐
久性にもすぐれた除湿用素子を得ることができる。
ルは、直径約２０〜５０Åのミクロポアを多量に有し、
従来の製法によってハニカム構造体に固定されるシリカ
ゲルと比べるとはるかに大きな比表面積を持つものであ
る。したがって、得られたシリカゲル担持ハニカム構造
体はそのままでもすぐれた除湿性能を示すが、上記ケイ
酸ゲル固定処理を再度またはそれ以上の回数くり返して
シリカゲル固定量を多くすることにより、吸湿量と吸湿
速度のいずれにおいても卓越した性能を示し、強度や耐
久性にもすぐれた除湿用素子を得ることができる。
発明の効果 本発明の製法は、従来の製法と違ってケイ酸アルカリを
直接ケイ酸ゲルに変換せず、まず凝縮性のようケイ酸塩
に換えてからケイ酸ゲルにするので、微粒子状ケイ酸ゲ
ル離脱による製造工程上のトラブルやケイ酸アルカリ水
溶液濃縮に基因する製品の除湿性能不充分といった問題
を招くことなしに、容易に高性能かつ耐久性のよいシリ
カゲル系除湿用素子を製造することができる。
直接ケイ酸ゲルに変換せず、まず凝縮性のようケイ酸塩
に換えてからケイ酸ゲルにするので、微粒子状ケイ酸ゲ
ル離脱による製造工程上のトラブルやケイ酸アルカリ水
溶液濃縮に基因する製品の除湿性能不充分といった問題
を招くことなしに、容易に高性能かつ耐久性のよいシリ
カゲル系除湿用素子を製造することができる。
実施例 以下、実施例および比較例を示して本発明を説明する。
実施例１ ジルコニアを１７重量％含む耐アルカリ性ガラス繊維と
充填材としてのタルクとからなる紙（厚さ0.2mm、目付
け９０g/m2）を素材とし、シリカゾルを接着剤として、
一般に段ボール製造で行われている方法でコルゲート加
工紙を作り、次いでこのコルゲート加工紙をやはりシリ
カゾルを接着剤として渦巻状に巻取った後、１００℃で
乾燥して、直径４５０mm、フルート長さ２００mm、フル
ートの山の高さ1.9mmの、ローター型ハニカム構造体を
製作した。
充填材としてのタルクとからなる紙（厚さ0.2mm、目付
け９０g/m2）を素材とし、シリカゾルを接着剤として、
一般に段ボール製造で行われている方法でコルゲート加
工紙を作り、次いでこのコルゲート加工紙をやはりシリ
カゾルを接着剤として渦巻状に巻取った後、１００℃で
乾燥して、直径４５０mm、フルート長さ２００mm、フル
ートの山の高さ1.9mmの、ローター型ハニカム構造体を
製作した。
次にこのハニカム構造体を、固形分濃度２８％の１号ケ
イ酸ソーダ溶液に３０分間浸漬した。その後、液切りと
エアブローを行なってから、濃度１０％、温度５０℃の
塩化カルシウム水溶液に３０分間浸漬し、更に濃度５％
の塩酸に室温で３０分間浸漬した。塩酸から取出したハ
ニカム構造体は、水洗後、１００℃で乾燥し、引続き４
００℃で焼成して有機物を除いた。
イ酸ソーダ溶液に３０分間浸漬した。その後、液切りと
エアブローを行なってから、濃度１０％、温度５０℃の
塩化カルシウム水溶液に３０分間浸漬し、更に濃度５％
の塩酸に室温で３０分間浸漬した。塩酸から取出したハ
ニカム構造体は、水洗後、１００℃で乾燥し、引続き４
００℃で焼成して有機物を除いた。
上述のようにしてシリカゲルを固定したハニカム構造体
に対して、ケイ酸アルカリ水溶液浸漬から乾燥までの処
理を２度繰返すことにより、表面を電子顕微鏡で観察し
てしても繊維がほとんど認められないほどシリカゲルが
固定された除湿用素子を得た。
に対して、ケイ酸アルカリ水溶液浸漬から乾燥までの処
理を２度繰返すことにより、表面を電子顕微鏡で観察し
てしても繊維がほとんど認められないほどシリカゲルが
固定された除湿用素子を得た。
この素子の特性値を第１表に示す。また、この素子を回
転再生型除湿機に組込んで、実用条件下での除湿性能を
測定した。その結果、温度３０℃において、絶対湿度２
０g/kg′の空気を13.5g/kg′に、絶対湿度１２g/kg′の
空気を７g/kg′に、絶対湿度６g/kg′の空気を３g/kg′
に、それぞれ減湿することができた（これらの値は、従
来除湿能力において最もすぐれるとされている塩化リチ
ウム担持型除湿用素子を用いた場合に匹敵する。）。し
かも、１年間継続使用しても、除湿性能の低下はほとん
どなかった。
転再生型除湿機に組込んで、実用条件下での除湿性能を
測定した。その結果、温度３０℃において、絶対湿度２
０g/kg′の空気を13.5g/kg′に、絶対湿度１２g/kg′の
空気を７g/kg′に、絶対湿度６g/kg′の空気を３g/kg′
に、それぞれ減湿することができた（これらの値は、従
来除湿能力において最もすぐれるとされている塩化リチ
ウム担持型除湿用素子を用いた場合に匹敵する。）。し
かも、１年間継続使用しても、除湿性能の低下はほとん
どなかった。
実施例２ アルミナシリカ繊維紙（厚さ0.2mm、目付け５５g/m2）
を素材とし、実施例１の場合と同様にして、直径１５０
０mm、フルート長さ２００mm、フルートの山の高さ1.85
mmの、ローター型ハニカム構造体を製作した。
を素材とし、実施例１の場合と同様にして、直径１５０
０mm、フルート長さ２００mm、フルートの山の高さ1.85
mmの、ローター型ハニカム構造体を製作した。
次にこのハニカム構造体を、固形分濃度２０％のケイ酸
カリウム溶液を用いるほかは実施例１と同様に処理し
て、除湿用素子を製造した。
カリウム溶液を用いるほかは実施例１と同様に処理し
て、除湿用素子を製造した。
この素子の特性値を第１表に示す。また、この素子を回
転再生型除湿機に組込んで、実用条件下での除湿性能を
測定した。その結果、温度３０℃において、絶対湿度２
０g/kg′の空気を13.0g/kg′に、絶対湿度１２g/kg′の
空気を6.9g/kg′に、絶対湿度６g/kg′の空気を2.7g/k
g′に、それぞれ減湿することができた。
転再生型除湿機に組込んで、実用条件下での除湿性能を
測定した。その結果、温度３０℃において、絶対湿度２
０g/kg′の空気を13.0g/kg′に、絶対湿度１２g/kg′の
空気を6.9g/kg′に、絶対湿度６g/kg′の空気を2.7g/k
g′に、それぞれ減湿することができた。
比較例１ 実施例１で製作したものと同じハニカム構造体に実施例
１と同様にしてケイ酸ソーダ溶液浸漬処理を施した後、
５％塩酸に室温で６０分間浸漬した。同様にしてケイ酸
ソーダ浸漬と塩酸浸漬とをさらに２回繰返した後、水
洗、乾燥した。
１と同様にしてケイ酸ソーダ溶液浸漬処理を施した後、
５％塩酸に室温で６０分間浸漬した。同様にしてケイ酸
ソーダ浸漬と塩酸浸漬とをさらに２回繰返した後、水
洗、乾燥した。
この場合、塩酸処理で形成されたケイ酸ゲルは微粒子状
になって処理液中に分散しその後の処理を困難にしたも
のが多かった。また、素子に固定されたケイ酸ゲルが僅
かなため、実用強度を持つ素子は得られなかった。
になって処理液中に分散しその後の処理を困難にしたも
のが多かった。また、素子に固定されたケイ酸ゲルが僅
かなため、実用強度を持つ素子は得られなかった。
比較例２ 比較例２の方法において、ケイ酸ソーダ含浸済みハニカ
ム構造体を塩酸処理する前に、ケイ酸ソーダの含水量が
約１０％になるまで乾燥する工程を付加した方法で、除
湿用素子を製造した。得られた素子の特性値は第１表に
示したとおりで、シリカゲルは充分固定されているが、
その比表面積が小さく、吸湿性能の劣るものであった。
ム構造体を塩酸処理する前に、ケイ酸ソーダの含水量が
約１０％になるまで乾燥する工程を付加した方法で、除
湿用素子を製造した。得られた素子の特性値は第１表に
示したとおりで、シリカゲルは充分固定されているが、
その比表面積が小さく、吸湿性能の劣るものであった。
Claims (2)
- 【請求項１】無機繊維紙からなるハニカム構造体に、 該ハニカム構造体をケイ酸アルカリ水溶液に浸漬する
工程； 得られたケイ酸アルカリ水溶液含浸ハニカム構造体を
水溶性カルシウム塩またはマグネシウム塩の水溶液に浸
漬し、担持するケイ酸アルカリをケイ酸カルシウムまた
はケイ酸マグネシウムに変換する工程； 次いで酸または酸性塩で処理して上記ケイ酸塩よりケ
イ酸ゲルを生成させる工程； および ケイ酸ゲル脱水のための乾燥工程； の４工程を必須とするケイ酸ゲル固定処理を１回または
複数回ほどこすことを特徴とする除湿用素子の製造法。 - 【請求項２】５〜２５重量％のジルコニアを含有するガ
ラス繊維を用いて作られた無機繊維紙からなるハニカム
構造体を用いる特許請求の範囲第１項記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048780A JPH0649132B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 除湿用素子の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048780A JPH0649132B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 除湿用素子の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63218235A JPS63218235A (ja) | 1988-09-12 |
| JPH0649132B2 true JPH0649132B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=12812763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62048780A Expired - Fee Related JPH0649132B2 (ja) | 1987-03-05 | 1987-03-05 | 除湿用素子の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649132B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3495874B2 (ja) * | 1997-03-31 | 2004-02-09 | ニチアス株式会社 | 除湿用素子の製造方法 |
| JP3495882B2 (ja) | 1997-06-17 | 2004-02-09 | ニチアス株式会社 | シリカゲル担持方法及び除湿用素子の作製方法 |
| EP1557615A4 (en) | 2002-10-31 | 2008-05-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | GAS ENRICHMENT DEVICE AND BLOWING DEVICE USING THE DEVICE |
| US8764882B2 (en) | 2009-05-22 | 2014-07-01 | Daikin Industries, Ltd. | Fluid treatment method, fluid treatment apparatus, and fluid |
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1987
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