JPH0647650B2 - 衝撃性の改良されたポリフェニレンスルフィド - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明は、改良された衝撃強度を有するポリアリーレン
スルフィド樹脂組成物に関するものである。

ポリアリーレンスルフィド樹脂は、ポリカーボネート、
ポリアセタール、ナイロン及びポリブチレンテレフタレ
ートのような通常のエンジニアリングプラスチックより
も高い耐熱性、耐薬品性及び剛性を有する高性能エンジ
ニアリングプラスチックとして関心をもたれている。ポ
リアリーレンスルフィド中にガラス繊維のような繊維補
強材料を含ませることによって、強度、剛性、強靭性、
耐熱性及び寸法安定性のようなエンジニアリングプラス
チックとして用いるのに必要な特性が大きく改良される
ことは公知である。また、ガラス繊維補強ポリアリーレ
ンスルフィド樹脂組成物においては、その中に含まれる
ガラス繊維の量が増加するにつれて、強度及び剛性が一
般に増大することも公知である。したがって、強度及び
剛性を高めることが所望の場合には、樹脂組成物中に含
ませるガラス繊維の量を増やすことが一般に行われてい
る。

電子部品を成形するために、あるいは電子部品用の封入
材料として、例えばポリフェニレンスルフィド組成物の
ようなポリアリーレンスルフィド組成物を用いることが
最近開発された。これらの組成物は、通常、ガラス繊維
で補強されたポリアリーレンスルフィドを含む。電子部
品は、電気絶縁性を保持し、機械的保護を与え、あるい
は雰囲気に対する暴露から金属部品を遮蔽するために成
形又は封入される。エレクトロニクスの発展のスピード
が速いので、成形及び封入技術もそれに歩調を合わせる
ことが重要になっている。

ポリフェニレンスルフィドは、ふくれ(blistering)や寸
法変形のように成形樹脂の特性に悪影響を与えることな
く、しばしば２２０℃を超える蒸気相ソルダリング温度
に耐えることができるので、回路板、コネクターなどの
製造におけるようなエレクトロニクスの用途において有
用である。しかしながら、ポリフェニレンスルフィド
は、エレクトロニクス用途の為の必要な熱安定性を有し
ているが、比較的脆性であり、したがって衝撃強度が低
い。更に、コストの理由及び成形樹脂の強度及び熱安定
性を高めるという理由の両方のために、ポリアリーレン
スルフィドのガラス繊維充填を高めることが望ましい。
ガラス繊維の含有量を高めると、更なる脆化をもたら
す。

それにエラストマー材料を加えることによってポリアリ
ーレンスルフィドの衝撃強度を向上させることが知られ
ている。米国特許第４，５８１，４１１号においては、
シリコンラバー、エチレン／アクリル酸ラバー、エチレ
ン／プロピレンラバー、エチレン／プロピレン／ジエン
ラバー及びポリ（ブチルアクリレート）ラバーの中から
選択されるポリマーラバー約０．１〜約４０重量％を加
えることによって、ポリアリーレンスルフィド及びガラ
ス強化ポリアリーレンスルフィドの衝撃強度を向上させ
ることか開示されている。また、該文献には、シリコン
ラバー及びポリ（ブチルアクリレート）のいずれかを用
いた場合には、少量の有機シランを加えることによって
組成物の衝撃強度を更に向上させることができることが
開示されている。

米国特許第４，４７６，２８４号においては、その中に
熱可塑性でエラストマーの水素化複合ジエン／モノビニ
ルアレーン(arene)ブロックポリマーを含ませることに
よって、衝撃強度をはじめとする物理特性が向上せしめ
られたポリアリーレンスルフィド組成物が開示されてい
る。好ましい水素化複合ジエン／モノビニル芳香族ブロ
ックコポリマーは、イソプレン／スチレン又はブタジエ
ン／スチレンブロックコポリマーである。該特許におい
ては、発明の所望の効果が約３０％以下及びそれ以上の
任意の量の水素化ブロックコポリマーの存在下でみられ
たと記載されているが、好ましい範囲は約１〜５重量％
であると開示されている。

米国特許第４，４５１，６０７号においては、それに水
素化複合ジエン／モノビニル芳香族ブロックコポリマー
を約５重量％以下の量配合することによってポリアリー
レンスルフィドの結晶度を向上させることが開示されて
いる。

米国特許第４，６２８，０７１号においては、モノビニ
ル置換芳香族炭化水素ポリマーとオレフィンポリマーブ
ロックとの、部分的に水素化されたブロックコポリマー
をそれに加えることによって、ポリアリーレンスルフィ
ドをはじめとする熱可塑性ポリアリーレンスルフィドの
衝撃強度を向上させることが開示されている。ブロック
コポリマーには、カルボン酸基を有する単位がグラフト
されている。米国特許第４，７８３，５０３号に記載さ
れているように、カルボン酸基のグラフトは、「ＥＮＥ
反応」と呼ばれる反応によって付加せしめられる。かか
る変成ブロックコポリマーは、本発明のものとは異な
り、ジエンブロック中にしか官能性基を有していない。
更に、ＥＮＥ反応は、反応部位としてベースポリマーに
おける不飽和部に基づくものであるので、かかる変成ブ
ロックコポリマーは欠陥を有するものである。ベースポ
リマー上に有利な程度の量の官能性基を得るためには、
相当量の残留不飽和部が存在していなければならない。
ＥＮＥ反応を起こすことができないので、ベースポリマ
ー上の全ての二重結合が掃去され、この方法の結果、高
い処理温度の熱可塑性プラスチックを十分に耐衝撃性改
良するためにあまりに高いレベルの不飽和部を有する変
成ブロックコポリマーが得られることになる。

本発明は、更に、ポリフェニレンスルフィドをはじめと
するポリアリーレンスルフィドに固有の有利な機械特性
を低下させることなくポリアリーレンスルフィド物品の
衝撃強度を改良するものである。また、ガラス強化ポリ
アリーレンスルフィド組成物の衝撃強度を向上させるこ
とも本発明の目的である。特定の一つの用途に限定され
るものではないが、本発明は、電子構成部品を成形及び
封入するのに用いられる充填及び非充填ポリアリーレン
スルフィド組成物の衝撃強度を向上させるのに有用性が
見出される。

発明の概要 熱安定性を変成されており、選択的に水素化されている
高１，２含有モノビニル芳香族／複合ジエンブロックコ
ポリマー（ここで、少なくとも一つの官能基が、主とし
てビニル芳香族ブロックにおいてブロックコポリマーに
グラフトしている）をそれに加えることによってポリア
リーレンスルフィド成形組成物に改良された衝撃強度が
与えられる。かかる変成ブロックコポリマーの例は、こ
こで参照として記載する米国特許第４，７８３，５０３
号において記載されている。この特許においては、ベー
スポリマーが望ましくない高いレベルの残留不飽和部を
有することを必要としない方法であるメタレーションに
よって変成ブロックコポリマーを製造することが記載さ
れている。

更に詳しくは、 (a) ポリアリーレンスルフィド；及び (b) 少なくとも５重量％の次式： Ｂ_n(ＡＢ)_oＡ_p （式中、ｎは０又は１であり、ｏは１〜５０であり、ｐ
は０又は１である） の官能化され、選択的に水素化されているブロックコポ
リマーであって、これに、カルボン酸、その塩又はエス
テルであるカルボキシル官能性基含有化合物及び二酸化
炭素からなる群より選択される少なくとも一つのグラフ
ト可能な官能性分子がグラフトされており、かかるグラ
フト可能な分子の実質的に全てがビニルアレーンブロッ
クにおいてブロックコポリマーにグラフトしているブロ
ックコポリマー： を含む耐衝撃性ポリマー組成物が与えられる。衝撃強度
の実質的な改良は、ブロックコポリマー上にカルボン酸
基又は二酸化炭素をグラフトすることによって達成され
る。

好ましい態様の詳細な説明 ポリアリーレンスルフィド ホモポリマー、コポリマー、ターポリマーなど又はかか
るポリマーの配合物のいずれかである、未硬化又は部分
的に硬化しているポリアリーレンスルフィドを、本発明
の実施において用いることができる。未硬化又は部分的
に硬化しているポリマーとは、十分なエネルギー、例え
ば熱をそれに供することにより、分子鎖を伸長させるか
又は架橋するかまたはこれらを組み合わせて行うことに
よって、その分子量を増大させることができるポリマー
である。好適なポリアリーレンスルフィドポリマーとし
ては、参照としてここに記載する米国特許第３，３５
４，１２９号に記載されているものが挙げられるが、こ
れに限定されるものではない。

本発明の目的に好適なポリアリーレンスルフィド組成物
の例としては、ポリ（２,４-トリレンスルフィド)、ポリ
(４,４′-ビフェニレンスルフィド）及びポリフェニレ
ンスルフィドが挙げられる。その入手容易性、並びに、
高い耐薬品性、不燃性及び高い強度及び硬度のために、
ポリフェニレンスルフィドが現在好ましいポリアリーレ
ンスルフィドであろう。ポリアリーレンスルフィド組成
物は、１以上のポリアリーレンスルフィドの混合物であ
ってよい。

本発明において用いるのに特に好ましいポリアリーレン
スルフィドは、参照としてここに記載する米国特許第
４，６４５，８２６号に開示されているものである。こ
こに開示されているように、数千〜数万ポイズの溶融粘
度を有する極めて高分子量の線状ＰＡＳは、低〜中分子
量のＰＡＳプレポリマーを前重合によって生成させ、重
合系に相分離剤を加えながら、強アルカリ性条件下で重
合系を加熱することによって温度を上昇させ、それによ
って系を、高粘度相（ポリマー溶液相）及び低粘度相
（溶媒相）の二つの液相に分離し、かかる状態で反応を
行わせることによって、助剤を用いることなく容易に製
造することができる。

二相分離重合は、５〜３０００ポイズの溶融粘度（３１
０℃、剪断速度：２００_ｓｅｃ ^−１）を有するアリーレ
ンスルフィドプレポリマーを、強アルカリ性条件下（１
０倍の水で希釈した際に反応混合物のｐＨが９．５〜１
４の範囲である）、２４５〜２９０℃の温度範囲で不良
溶媒、即ち水中に溶解して、液／液二相分離状態とし、
この状態を１〜５０時間保持してアリーレンスルフィド
プレポリマーを高分子量ポリマーに転化させ、重合系か
らポリマーを分離し、中和した後にポリマーを生成する
ことを含む。

米国特許第４，６４５，８２６号による高〜超高分子量
ＰＡＳの製造方法は、概して、アルカリ金属スルフィド
とジハロ芳香族化合物の間の結合を介してＰＡＳ分子を
生成させ、及び／又は、ＰＡＳ分子を高分子量ポリマー
に転化させる工程を含むものである。少なくとも７００
０ポイズの溶融粘度を有するＰＰＳをはじめとする少な
くとも３００ポイズの溶融粘度を有するＰＰＳを、ここ
に開示されている方法によって製造することができる。

プレポリマーを製造するための出発物質は、アルカリ金
属スルフィド、ジハロ芳香族化合物及び重合溶媒を含む
ものである。用いられるアルカリ金属スルフィドとして
は、硫化リチウム、硫化ナトリウム、硫化カリウム、硫
化ルビジウム、硫化セシウム及びこれらの混合物が挙げ
られる。これらのアルカリ金属スルフィドは、水和物又
は水性混合物あるいは無水形態で用いることができる。
これらのアルカリスルフィドの中で、硫化ナトリウムが
最も安価で商業的に好ましいものである。また、しばし
ばアルカリ金属スルフィド中に少量発生する可能性のあ
る酸性塩（例えばアルカリ金属ジスルフィド及びアルカ
リ重炭酸塩）を中和するために、少量のアルカリ金属水
酸化物を組み合わせて用いることもできる。

用いられるジハロ芳香族化合物としては、特開昭５９-
２２９２６号に開示されているもののような任意のジハ
ロ芳香族が挙げられる。特に好ましいものは、ｐ-ジク
ロロベンゼン、ｍ-ジクロロベンゼン、２,５-ジクロロ
トルエン、２,５-ジクロロ-ｐ-キシレン、ｐ-ジブロモ
ベンゼン、１,４-ジクロロナフタレン、１-メトキシ-
２,５-ジクロロベンゼン、４,４′-ジクロロビフェニ
ル、３,５-ジクロロ安息香酸、ｐ,ｐ′-ジクロロジフェ
ニルエーテル、ｐ,ｐ′-ジクロロジフェニルスルホン、
ｐ,ｐ′-ジクロロジフェニルスルホキシド、ｐ,ｐ′-ジ
クロロジフェニルケトンなどである。これらの中で、ｐ
-ジハロベンゼン、典型的にはｐ-ジクロロベンゼンを主
成分とするものが特に好ましい。

ジハロ芳香族化合物を適当に選択し組み合わせることに
よって、２以上の異なる反応単体を有するランダム又は
ブロックコポリマーを得ることができる。例えば、ｐ-
ジクロロベンゼンをｍ-ジクロロベンゼン又はｐ,ｐ′-
ジクロロジフェニルスルホンと組み合わせて用いると、
次式： の単位を有するランダム又はブロックコポリマーが得ら
れる。更に、ある程度の架橋を与えるが、実質的に直線
性を有さない範囲内の少量のポリハロ芳香族化合物（例
えばトリクロロベンゼン）を組み合わせて用いることが
できるが、かかる化合物は通常は必要ではない。

重合段階において用いる有機アミド溶媒は、プレポリマ
ーを生成させるために用いることができ、Ｎ-メチルピ
ロリドン（ＮＭＰ）、Ｎ-エチルピロリドン、Ｎ,Ｎ-ジ
メチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ-ジメチルアセトアミド、Ｎ
-メチルカプロラクタム、テトラメチル尿素、ヘキサメ
チルホスホロトリアミド及びこれらの混合物から選択す
ることができる。これらの中では、化学的な安定性及び
容易に高分子量ポリマーを製造する能力のような見地か
ら、Ｎ-メチルピロリドンが特に好ましい。重合溶媒と
しての有機アミドは、中性溶媒であることが望ましい。
プレポリマーから超高分子量線状ポリマーを生成させる
重合段階においては、もちろん上気の有機アミドを用い
ることができる。また、例えば芳香族炭化水素類（Ｃ₆
〜Ｃ₃₀）、脂肪族炭化水素（Ｃ₆〜Ｃ₃₀）、エーテル類
（Ｃ₆〜Ｃ₃₀）、ケトン類（Ｃ₅〜Ｃ₃₀）、ピリジン又は
キノリンあるいはこれらの誘導体（Ｃ₅〜Ｃ₃₀）、及び
これら同士又はこれらと有機アミドとの混合物を用いる
こともできる。

本発明に係る方法の実施においては、第１に、アルカリ
金属スルフィド及びジハロ芳香族化合物を、望ましくは
不活性ガス雰囲気下において有機溶媒中に加え、温度
を、反応が起こる所望の温度に上昇させる。ここで、ア
ルカリ金属スルフィド中の含水率が所望の値に満たない
場合には、必要量の水を補充する。

前重合は、好ましくは１６０〜２６０℃、特に好ましく
は１８０〜２３５℃の範囲の温度で行われる。１６０℃
よりも低い温度においては反応速度が遅すぎ、一方２６
０℃を超える温度では生成するＰＡＳが分離しやすく、
極めて低い溶融粘度を有するＰＡＳしか製造されない。

前重合段階の終了点及び前重合から二相分離重合へ切り
替える時期は、ジハロ芳香族化合物の転化が７０〜９８
モル％に達した時点が好ましい。

前重合から二相分離重合へ切り替える時点においては、
ＰＡＳの溶融粘度は５〜３００ポイズの範囲が好まし
い。１０００ポイズ以上の溶融粘度を有する高い重合度
のＰＡＳを得るためには、１０〜２００ポイズの範囲が
より好ましい。５ポイズ未満の粘度では、二相分離の形
成が不十分であり、そのために重合系の分解又は反応速
度の低下が速やかに起こる。３００ポイズを超える粘度
では、ポリマー開裂を促進する有害物質が大量に蓄積
し、そのために望ましくないことにポリマー収率の低下
及びポリマー系の分解が起こる。

米国特許第４，６４５，８２６号において記載されてい
る重合法は、均一重合又はランダム共重合のみならずブ
ロック共重合にも利用することができる。例えば、精製
したｐ-フェニレンプレポリマーと精製したｍ-フェニレ
ンプレポリマーとを、同一の重合容器中に分散させ、二
相分離重合段階を行い、それによってｐ-フェニレンス
ルフィド／ｍ-フェニレンスルフィドブロックコポリマ
ーを容易に得ることができる。

選択的に水素化されたブロックコポリマー ポリアリーレンスルフィドの衝撃強度を改良するため
に、全組成物を基準として少なくとも５重量％、好まし
くは約１０〜約３０重量％、より好ましくは約１０〜約
２０重量％の、カルボキシル官能基を含むように変性さ
れた選択的に水素化されたブロックコポリマーエラスト
マーを加える。本発明の衝撃強度改良剤は、上記記載の
米国特許第４，７８３，５０３号に詳しく記載されてい
る。変性されたブロックコポリマー 本発明による変性されたブロックコポリマーは、以下の
反応式によって示されるように、ビニルアレーンブロッ
クにおいてグラフト又は置換される。

ビニルアレーンブロックにおけるポリマー骨格上の官能
基の配置によって特に決定された置換ブロックコポリマ
ーの構造によって、実質的により大きな熱安定性がブロ
ックコポリマーに与えられる。

ブロックコポリマーベース 用いることのできる複合ジエン及びビニル芳香族炭化水
素のブロックコポリマーとしては、エラストマー特性を
示し、水素化の前に約７〜約１００％の１,２-微細構造
を有する任意のものが挙げられる。かかるブロックコポ
リマーは、ビニル芳香族炭化水素に対して種々の比の複
合ジエンを含む種々の構造のマルチブロックコポリマ
ー、例えば、約６０重量％以下のビニル芳香族炭化水素
を含むものであってよい。したがって、線状又は放射対
称あるいは非対称であり、式：A-B、A-B-A、A-B-A-B、B
-A-B、(AB)_0,1,2・・-BAなど（ここで、Ａはビニル芳香族
炭化水素のポリマーブロック又は複合ジエン／ビニル芳
香族炭化水素テーパード(tapered)コポリマーブロック
であり、Ｂは複合ジエンのポリマーブロックである）に
よって示される構造を有するマルチブロックコポリマー
を利用することができる。

ブロックコポリマーは、例えば米国特許第３，２５１，
９０５号、同第３，３９０，２０７号、同第３，５９
８，８８７号及び同第４，２１９，６２７号において示
されているような、周知のモノマー逐次付加法、モノマ
ー増分付加(incremental addition)法又はカップリング
法をはじめとする任意の公知のブロック重合法又は共重
合法によって製造することができる。ブロックコポリマ
ーの技術分野においては周知のように、テーパードコポ
リマーブロックは、複合ジエンとビニル芳香族炭化水素
モノマーとを、それらの共重合反応速度の違いを利用し
て共重合することによってマルチブロックコポリマー中
に含ませることができる。ここで参照として記載する米
国特許第３，２５１，９０５号、同第３，２６５，７６
５号、同第３，６３９，５２１号及び同第４，２０８，
３５６号をはじめとする種々の特許文献において、テー
パードコポリマーブロックを含むマルチブロックコポリ
マーの製造が記載されている。

ポリマー及びコポリマーを製造するために利用すること
のできる複合ジエンは、４〜８個の炭素原子を有するも
のであり、１,３-ブタジエン、２-メチル-１,３-ブタジ
エン（イソプレン）、２,３-ジメチル-１,３-ブタジエ
ン、１,３-ペンタジエンなどが挙げられる。かかる複合
ジエンの混合物を用いることもできる。好ましい複合ジ
エンは１,３-ブタジエンである。

コポリマーを製造するために用いることのできるビニル
芳香族炭化原子としては、スチレン、₀-メチルスチレ
ン、ｐ-−メチルスチレン、ｐ-tert-ブチルスチレン、
１,３-ジメチルスチレン、α-メチルスチレン、ビニル
ナフタレン、ビニルアントラセンなどが挙げられる。好
ましいビニル芳香族炭化水素はスチレンである。

所望の場合には上記記載のポリマー及びコポリマーを、
上記記載の方法によって速やかに製造することができる
ことに注意すべきである。しかしながら、これらのポリ
マー及びコポリマーの多くは市販されているので、通常
は、全工程に含まれる処理工程の数を減らすことができ
るので、市販のポリマーを用いることが好ましい。これ
らのポリマー及びコポリマーの水素化、ラネーニッケ
ル、白金、パラジウムなどのような貴金属及び可溶性遷
移金属触媒のような触媒の存在下における水素化をはじ
めとする種々のよく確立された方法によって行うことが
できる。用いることのできる好適な水素化法は、ジエン
含有ポリマー又はコポリマーをシクロヘキサンのような
不活性炭化水素希釈剤中に溶解し、可溶性水素化触媒の
存在下における水素との反応によって水素化する方法で
ある。かかる方法は、参照としてここに記載する米国特
許第３，１１３，９８６号及び同号４，２２６，９５２
号に記載されている。ポリマー及びコポリマーは、水素
化の前に、ポリジエンブロック中に元の不飽和部分の約
０．５〜約２０％の残留不飽和部分を有する水素化ポリ
マー及びコポリマーが得られるように水素化される。

グラフト可能な化合物 概して、ベースポリマーと反応しうる全ての物質を本発
明の目的のために用いることができる。

ベースポリマー中に官能基を導入するためには、ベース
ポリマーと反応し得るモノマーが必要である。モノマー
は、重合可能なものでも重合不可能なものであってもよ
いが、好ましいモノマーは重合不可能であるか又はゆっ
くりと重合するものである。

本発明の範疇に含まれるグラフトポリマーを形成する好
ましい求電子性分子の種類としては、以下の群からの反
応物質が挙げられる。即ち、二酸化炭素、エチレンオキ
シド、アルデヒド類、ケトン類、カルボン酸塩類、それ
らのエステル類及びハロゲン化物類、エポキシド類、イ
オウ、ボロンアルコキシド類、イソシアネート類及び種
々のケイ素化合物である。

これらの求電子性分子は、Ｎ,Ｎ-ジメチル-ｐ-アミノベ
ンズアルデヒドの場合のように（この場合にはアミンが
更なる官能基であり、アルデヒドが反応性求電子性分子
である）更なる官能基を有していてよい。また、求電子
性分子は、反応してそれ自体官能性部位となることがで
きる。例えば、二酸化炭素（求電子性分子）は、メタレ
ート化ポリマーと反応してカルボキシレート官能基を形
成する。これらの経路によって、１以上の以下の群の官
能性のタイプから選択されるグラフトされる部位を有す
るポリマーを調製することができる。即ち、カルボン
酸、それらの塩類及びエステル類、ケトン類、アルコー
ル類及びアルコキシド類、アミン類、アミド類、チオー
ル類、ボレート類、及びケイ素原子を有する官能基。

これらの官能性部位は、他の変性材料と反応して新たな
官能基を生成することができる。例えば、上記記載のグ
ラフトされたカルボン酸は、グラフトにおいて得られる
酸基を、種々の炭素原子長のヒドロキシ含有化合物との
適当な反応によってエステル化することによって好適に
変性することができる。ある場合においては、反応はグ
ラフト工程と同時に行うことができるが、ほとんどの場
合において、連続する後変性反応で行われる。

グラフトされたポリマーは、通常、０．０２〜２０、好
ましくは０．１〜１０、最も好ましくは０．２〜５重量
％のグラフト部位を有する。

変性ブロックコポリマーの調製 ポリマーは、上記記載の米国特許第４，７８３，５０３
号に記載されているもののような任意の通常の方法によ
って調製することができる。

ベースポリマー中に、最初にビニルアレーンブロックに
おいて官能性基を導入する方法の例はメタレーションで
ある。

メタレーションは、式：Ｒ′(Ｌｉ)_xによって表すこと
のできるリチウム成分と極性メタレーション促進剤との
組み合わせによって形成されるコンプレックスを用いて
行われる。極性化合物及びリチウム成分は、別々に加え
ても、あるいは水素化コポリマーの溶液に加える前にあ
らかじめ混合若しくはあらかじめ反応させて付加物を形
成させてもよい。上式：Ｒ′(Ｌｉ)_xで表される化合物
において、Ｒ′は、通常、任意の長さの、しかしながら
通常は２０個以下の炭素原子を有する飽和炭化水素基で
あり、フェニル、ナフチル、トリル、２-メチルナフチ
ル等のような芳香族基であっても、あるいは、例えば５
〜７個の炭素原子を有する飽和環式炭化水素基、５〜７
個の炭素原子を有するモノ不飽和環式炭化水素基、１〜
２０個の炭素原子を有する非複合不飽和脂肪族炭化水素
基、又はアルキル基上に１個以上の芳香族基を有しアル
キル基が１〜２０個の炭素原子を有するアルキルリチウ
ム類であってもよい。式：Ｒ′(Ｌｉ)_xにおいて、ｘは
１〜３の整数である。代表的なものとしては、例えば、
メチルリチウム、イソプロピルリチウム、_sec-ブチルリ
チウム、ｎ-ブチルリチウム、ｔ-ブチルリチウム、ｎ-
ドデチルリチウム、１,４-ジリチオブタン、１,３,５-
トリリチオペンタンなどが挙げられる。リチウムアルキ
ル類は、生成するメタレート化アルキルよりも塩基性で
なければならない。勿論、他のアルカリ金属又はアルカ
リ土類金属アルキル類を用いることができるが、その容
易に入手できることからリチウムアルキル類が好まし
い。同様に、金属水素化物をメタレーション試薬として
用いることができるが、水素化物は適当な溶媒中におい
て限定された溶解性しか有さない。したがって、金属ア
ルキル類が好ましく、より大きな溶解性のものが処理し
やすく好ましい。

リチウム化合物単独では、通常は、芳香族及びオレフィ
ン系官能基を有するコポリマーをメタレーションするの
は、相当に困難であり、高温下で行われ、このためにコ
ポリマーが分離する傾向がある。しかしながら、第３級
ジアミン類及び架橋ヘッド(bridgehead)モノアミン類の
存在下においては、メタレーションは速やかにかつスム
ーズに進行する。幾つかのリチウム化合物、特にメチル
リチウムタイプの化合物は、単独で有効に用いることが
できる。

メタレーションは、芳香族基が結合している炭素におい
て起こるか、あるいは芳香族基又はこれらの部位の１以
上において起こることが示された。いずれの場合におい
ても、極めて多数のリチウム原子が、反応性又はリチウ
ム化可能な部位の分布に依存して、ポリマー骨格に沿っ
て又はそれからの懸垂基においてあるいはこれらの両方
において、ポリマー鎖に沿ってさまざまに配置し、ポリ
マー末端炭素原子から離隔している内部炭素原子に結合
することが示された。このことによって、重合において
リチウム又はポリリチウム開始剤を用い、したがって引
き続く付加に利用し得る位置の数及び配置を限定するこ
とによって調製される単純な末端反応性ポリマーからこ
のリチウム化されたコポリマーが区別される。ここに記
載されているメタレーション法を用いると、リチウム化
(lithiation)の範囲は、用いるメタレーション剤及び／
又はメタレーションに利用することのできる基の量に依
存する。tert-ブチルリチウムアルキルのようなより塩
基性のリチウムアルキルを用いると、極性メタレーショ
ン促進剤を用いる必要はない。

極性化合物促進剤としては、種々の第３級アミン、架橋
ヘッドアミン、エーテル類及び金属アルコキシド類が挙
げられる。

メタレーション工程において有用な第３級アミンは、各
窒素に結合した三つの飽和脂肪族炭化水素基を有するも
のであり、その例としては、例えば、 (a) キレート化第３級ジアミン、好ましくは次式： (Ｒ²)₂Ｎ-Ｃ_yＨ_2y--Ｎ(Ｒ²)₂ （ここで、Ｒ²は、それぞれ、同一であっても異なって
いてもよく、２０個以下又はそれ以上の炭素原子を有す
る任意の鎖長の直鎖又は分岐鎖のアルキル基であり、ｙ
は２〜１０の任意の数である）のもの、特に全てのアル
キル置換基が同一であるエチレンジアミン（例として
は、例えばテトラメチルエチレンジアミン、テトラエチ
ルエチレンジアミン、テトラデシレンジアミン、テトラ
オクチルヘキシレジンアミン、テトラ-(混合アルキル)
エチレンジアミンなどが挙げられる）； (b) 環式ジアミン類、例えばＮ,Ｎ,Ｎ′,Ｎ′-テトラア
ルキル-１,２-ジアミノシクロヘキサン類、Ｎ,Ｎ,Ｎ′,
Ｎ′-テトラアルキル-１,４-ジアミノシクロヘキサン
類、Ｎ,Ｎ′-ジメチルピペラジンなど； (c) 架橋ヘッドジアミン類、有用なものとしては例えば
スパルテイン(sparteine)、トリエチレンジアミンな
ど； が挙げられる。

トリエチレンジアミンのような第３級アミンは、概し
て、リチウム化反応においてはそれほど有効ではない。
しかしながら、１-アザビシクロ[2.2.2]オクタン及びそ
の置換類縁体のような架橋ヘッドモノアミン類は有効で
ある。

エーテル類及びアルカリ金属アルコキシド類は、現在の
ところ、引き続くグラフト化反応においてコポリマー骨
格上への官能基含有化合物の導入のレベルがやや低いの
で、メタレーション反応のための活性化剤としては、キ
レート化アミンよりも好ましくない。

概して、飽和炭化水素類のような不活性溶媒中でリチウ
ム化反応を行うことが最も望ましい。ベンゼンのような
芳香族溶媒は、リチウム化されることができ、水素化コ
ポリマーの所望のリチウム化を妨害する可能性がある。
好適な溶媒／コポリマーの重量比は、概して、約５：１
〜２０：１の範囲内である。塩素化炭化水素類、ケトン
類及びアルコール類のような溶媒は、リチウム化化合物
を分解するので用いてはならない。

極性メタレーション促進剤は、メタレーションを起こす
のに十分な量、例えばリチウムアルキルの１当量あたり
０．０１〜１００、より好ましくは０．１〜約１０当量
の量存在させることができる。

所望量のリチウム化のために用いるリチウムの当量は、
概して、コポリマー中のビニルアレーン単位１単位あた
り約０．００１〜３当量の範囲、現在では変性されるコ
ポリマー中のビニルアレーン単位１単位あたり約０．０
１〜１．０当量の範囲である。極性促進剤に対する活性
リチウムのモル比は、０．０１〜１０．０のように変化
させることができる。好ましい比は０．５である。

用いるアルキルリチウムの量は、Ｌｉ／ビニルアレーン
モル比で表すことができる。この比は、１の値（ビニル
アレーン１単位あたりリチウムアルキル１）から１×１
０^-3（ビニルアレーン１０００単位あたりリチウムアル
キル１）という低い値まで変化させることができる。

リチウム化工程は、約-７０℃〜＋１５０℃というよう
な範囲、現在好ましくは約２５〜６０℃の範囲で行うこ
とができる。上限の温度はリチウム化合物の熱安定性に
よって制限される。下限の温度は、生成コストを考慮し
て、反応速度が低温であまりに遅くならないように制限
される。リチウム化及び引き続く反応を完了するのに必
要な時間は、混合条件及び温度に大きく依存する。概し
て、時間は数秒から約７２時間まで変化させることがで
き、現在好ましくは約１分〜１時間である。

グラフト化段階 変性ブロックコポリマーを調製する工程における次の段
階は、溶液中において、急冷しないで、リチウム部位を
破壊しないような方法で、リチウム化された水素化コポ
リマーをリチウムアニオンと反応しうる種で処理するこ
とである。これらの種は、リチウムアニオンによる求核
性攻撃を受け得る官能基を有していなければならない。
かかる種は、以下に示す官能基を有するが、官能基はこ
れらに限定されるものではない。

また、この方法は、変性ブロックコポリマーの化学変化
を更に含むものである。例えば、カルボン酸塩含有変性
ブロックコポリマーのカルボン酸形態への転化は容易に
行うことができる。

ブレンド 本発明の組成物中においては、全量で、全組成物の約６
５重量％以下、好ましくは約３０〜約６０重量％の量の
無機充填剤及びガラス充填剤を存在させることができ
る。本発明において有用な無機充填剤は、炭酸カルシウ
ム、硫酸カルシウム、タルク、マイカなどのような物質
から選択することができる。また、ガラス材料は、一般
にポリマーブレンドにおいて充填剤及び強化剤としての
用途を見出すことのできる市販の任意の製品から選択す
ることができる。これらは、ガラス繊維又はガラスビー
ズから選択することができ、例えば本発明に関してはガ
ラス繊維が好ましい物質である。

ポリアリーレンスルフィドをベースとするポリマーブレ
ンドにおいて通常的であるように、種々の他の転化剤
を、全組成物の約５重量％以下の少量用いることができ
る。これらの転化剤としては、流れ改良剤、シラン類及
び顔料のような物質が挙げられる。

本発明組成物において用いることのできる加工性改良剤
は、固体エチレンポリマー（米国特許第４，１３４，８
７４号参照）、ステアリン酸亜鉛及びＮ,Ｎ′-アルキレ
ンビス（アルカンアミド）のような飽和脂肪酸、１０〜
３０個の炭素原子を有する飽和脂肪酸のグリセリド酸及
びホスフェード化グリセリド酸、飽和脂肪酸から誘導さ
れるモノ及びジアルカノールアミド類、並びに、飽和長
鎖脂肪酸及び長鎖飽和脂肪族アルコールから誘導される
エステル類の中から選択することができる。炭酸リチウ
ムのような一般的な充填剤もまた加工性改良剤として好
適である。シランカップンリング剤を加えることによっ
て、ガラス充填組成物の物理特性が改良され、特にかか
る組成物の熱特性が大きく改良されることが分かった。
例えば、γ-アミノトリエトキシシランのようなアミノ
アルコキシシラン類がこの点に関して有用であることが
分かった。

本発明のポリアリーレンスルフィド樹脂組成物は、例え
ば、所定量のポリアリーレンスルフィド樹脂、耐衝撃性
改良剤、及び場合によっては、ガラス繊維を、通常のミ
キサー、例えばタンブルミキサーを用いて混合し、混合
物を押出機又は混練機を用いて溶媒混練し、そして所望
の場合には溶媒混練した混合物をペレット化することに
よって調製することができる。

本発明の組成物を調製したら、これを用いて好適で当該
技術において公知な任意の方法に従って成形物品を製造
することができる。本発明の組成物は、組成物を射出成
型装置中に導入して溶媒体を調製し、これを、成形する
部品の形成の射出型中に押出す射出成形法に特に適して
いる。

本発明の改良されたポリアリーレンスルフィド組成物を
用いて、コネクター、ボビン、コイル、レラブ(relavs)
のような（しかしこれらに限定されるものではない）電
子部品を製造することができる。本発明の特徴には、ポ
リアリーレンスルフィド組成物のような樹脂様組成物か
ら少なくとも部分的に製造することのできる全ての電子
部品を包含するものである。

本発明の他の特徴によれば、電子部品を本発明のポリア
リーレンスルフィド組成物でカプセル封入することがで
きる。本発明のこの特徴にしたがってカプセル封入され
る電子部品としては、広範には、カプセル封入すること
が望ましい全ての電子部品、即ち、器具、パーツ等が挙
げられる。多くの電子部品がポリアリーレンスルフィド
組成物を用いて製造又はカプセル封入されているか、あ
るいは、ポリアリーレンスルフィド組成物で製造又はカ
プセル封入することができると示唆されている。本発明
は、記載されているいかなる特定の部品にも制限される
ものではなく、ポリアリーレンスルフィド成形組成物か
ら製造することのできる全ての電子部品を包含するもの
である。

実施例１ 種々の量の異なる水素化ブロックコポリマー耐衝撃性改
良剤を用いてポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）組成
物を調製した。非充填及びガラス充填組成物を調製し
た。試料を、衝撃強度、例えば、ノッチ付アイゾッド衝
撃強度及び非ノッチアイゾッド衝撃強度、並びに他の物
理特性に関して、標準ＡＳＴＭ法によって試験した。機
器衝撃(instrument impact)を、２又は４インチのディ
スク及び３３ポンドの落錘重量を用いたレオメトリー落
錘重量試験器によって測定した。

全ての配合物は、Fortron、ＰＰＳ(Hoechst Celanes
e)、及びKraton耐衝撃性改良剤(Shell Oil Co.)から調
製した。試料１、３、４及び５は、非グラフト水素化ブ
ロックコポリマー又はジエンブロックにおいて示されて
いるグラフトを有するブロックコポリマーである。試料
２は、本発明の耐衝撃性改良剤を含むものである。Haak
e円錐ツインスクリュー押出機（システム９０）で、２
９５〜３１５℃のノズル温度において押出し、１２５〜
１３５℃の型温度の成形型中に射出した。潤滑剤（ＰＥ
ＴＳ）を全ての配合物に０．３％の濃度で加えた。ガラ
ス配合物の場合には、予め化合したＰＰＳ／ガラス組成
物（ガラス４０％）を用いて、耐衝撃性転化剤との混合
の均一性を確保した。組成物及び試験結果を表１及び２
に示す。

非充填試料 表１から、本発明のカルボキシル変性耐衝撃性改良剤、
試料２によってノッチ付きアイゾッド衝撃強度の大きな
増加が得られたことが分かる。２０％のレベルにおい
て、試料２は、ＰＰＳ対照例（試料２のアイゾッド衝撃
強度が５．３ft.lbs/inであるのに対して対照例は０．
５４ft.lbs/inであった）及び他の試験した変性剤とよ
く比較できる。このデータは、試験した試料の４０％が
この改良剤によって「破断しない(no break)」ことを反
映してはいない。同様に、本発明の耐衝撃性改良剤を１
０％含ませた試料の非ノッチ付きアイゾッド衝撃強度デ
ータは、ＰＰＳ対照例の４倍の増加を示す（本発明：４
７ft.lbs/inに対して対照例：１２．９ft.lbs/in）。装
置衝撃(instrumented impact)は、試験した他の耐衝撃
性改良剤と比較して試料２が大きく改良されたことを示
していないが、この配合物が試験したものの中で最も高
い全エネルギーを有していたことを示した。試料２のみ
が、含有１０％において延性の破断を有していた。

更に、Kratonを単純にマレエート化(maleanating)する
だけでは耐衝撃性における改良は得られなかった。マレ
エート化したトリブロック、試料１は、極めて低い装置
衝撃測定値を有していた。

充填試料 ガラス充填配合物（改良剤１０％／ガラス３６％）にお
いては、本発明の耐衝撃性改良剤を加えることによっ
て、４０％ガラス／ＰＰＳ対照充填試料に対して若干改
良された。ノッチ付きアイゾッド衝撃値は１．１ft.lbs
/inに対して１．９ft.lbs/inであり、装置衝撃全エネル
ギーは、２４in.lbsに対して４５in.lbsであることが分
かった。他の全ての改良剤は、ガラス充填配合物におい
てはわずかな改良しか得られなかった。

表２を参照すると、物理特性（即ち引張強度及び曲げ強
度）が、これらの対衝撃性改良剤を導入することによっ
て期待どおりに影響を受けた。非充填系における結果が
充填系における結果に反映された。伸びは全ての場合に
おいて（特に試料２に関して）増加した。熱特性（ＨＤ
Ｔ）は、選択される耐衝撃性改良剤に関連することが明
らかであるが、全ての場合に低下が起こった。低下は、
また、優れた衝撃特性を有する試料２の系に関して観察
された。

実施例２ Kratonで耐衝撃性を改良したFortronＰＰＳの更なる試
料を配合した。全ての試料は、２８mmのＺＳＫ押出機で
化合した。約３２０℃の押出し温度を用いた。成形型温
度は実施例１と同等であった。高充填系の押出しは困難
であった。高充填ガラス／無機物質配合物においては、
より低粘度のＰＰＳ樹脂を用いた。組成物及び試験結果
を表３〜６に示す。

非充填系における耐衝撃性改良剤の影響（表５） 本発明の耐衝撃性改良剤の濃度と共にノッチ付きアイゾ
ッド衝撃強度が直線的に変化し（試料１〜４）、２５％
において、非グラフト化市販耐衝撃性改良剤（試料５〜
７）と比較して優れたノッチ付きアイゾッド衝撃強度が
得られたことが分かる。装置衝撃全エネルギー及びピー
ク力は耐衝撃性改良剤濃度１０％で最大になると思われ
るが、破砕開始時の撓みは耐衝撃性改良剤のレベルと共
に直線的に変化した。種々の分子量の非グラフト化Krat
onを用いることによって（試料５〜７）、ノッチ付きア
イゾッド衝撃強度が、最も高い分子量のKraton 1651に
おいて最大となり、より低い分子量の耐衝撃性改良剤で
あるKraton 1652はより高い全エネルギー及びピーク力
値を有することが示された。

ガラス／衝撃値（表４） ガラス及び衝撃レベルの両方を増加させることによって
ノッチ付きアイゾッド衝撃強度及び装置衝撃レベルが良
好に影響を受けるが、ＨＤＴレベルはガラスレベルの増
加のみに影響を受けることが分かった。

シランの影響（表３及び４） ガラス４０％及び耐衝撃性改良剤１２．５％の組成物
（試料５）にシランを加えることによって、配合物の物
理的特性、衝撃特性及びＨＤＴ特性が著しく改良され
た。試料６と比較せよ。これは、この転化剤が、ガラ
ス、耐衝撃性改良剤及びＰＰＳマトリクスに結合する能
力を有することに関連するものであろう。

Kratonの分子量の影響（表６） 表６から、ブロックコポリマーの分子量がＰＰＳブレン
ドの得られる特性に大きな影響を与える可能性があるこ
とが分かった。本発明の耐衝撃性改良剤は、Kraton 165
0にほぼ等しい分子量を有するが、より高分子量のKrato
n 1651に類似した特性を有することが分かった。

耐燃性 予期しなかったことに、本発明の耐衝撃性改良剤を含む
ＰＰＳ組成物は、同様の耐衝撃性改良剤を含むＰＰＳ組
成物と比較して改良された耐燃性を有することが分かっ
た。

ＵＬブレティン９４に従った燃焼性試験において規定さ
れる自己消炎グレードＶ-０及びＶ-１を材料に与えるた
めには、材料は、短い燃焼時間を有し、燃焼時間中に起
こるドリッピングによって材料の下に配置された綿を発
火させることがないことが必要である。

表３を参照すると、ガラス充填組成物は、一つの例を除
いては、それぞれＵＬ９４のＶ-０又はＶ-１を有し、燃
焼性試験をパスすることが分かる。非グラフト化Kraton
試料でさえも十分な耐燃性を有していた。しかしなが
ら、非充填試料は、本発明の耐衝撃性改良剤を用いると
実質的な相違を示した（表５）。本発明の耐衝撃性改良
剤を含む四つのＰＰＳ組成物の全て及び耐衝撃性改良剤
を含まない対照例が燃焼性試験をパスした。非グラフト
化Kraton材料は、それぞれ試験に不合格であった。表６
においては、ガラス充填非グラフト化Kratonも、試験バ
ーの寸法が減少し、燃焼性試験に不合格であったことが
わかる。本発明の耐衝撃性改良ＰＰＳ組成物は、Ｖ-０
又はＶ-１値を保持した。

なお、本発明の態様は以下の通りである。

１．ポリアリーレンスルフィドと、衝撃強度改良量の次
式： Ｂ_n(ＡＢ)_oＡ_p （式中、ｎは０又は１であり、ｏは１〜５０であり、ｐ
は０又は１であり、Ａはそれぞれ、主として、重量され
たモノアルケニル芳香族又はビニルアレーン(arene)炭
化水素ブロックであり、Ｂはそれぞれ、水素化の前には
主として、重合された複合ジエン炭化水素ブロックであ
る） を有し、それにカルボキシル官能性基を含む求電子性の
グラフト可能な分子及び求電子性分子からなる群より選
択される少なくとも一つのグラフト可能な官能性分子が
グラフトされている、官能化され、選択的に水素化され
ているブロックコポリマーとの耐衝撃性ポリアリーレン
スルフィド組成物であって、該求電子性分子が二酸化炭
素であり、該求電子性のグラフト可能な分子又は求電子
性分子の実質的に全てが、モノアルケニル芳香族又はビ
ニルアレーン(arene)ブロックにおいてブロックコポリ
マーにグラフトしており、該カルボキシル官能性基がカ
ルボン酸、その塩及びエステルであることを特徴とする
前記組成物。

２．該ブロックコポリマーが組成物の少なくとも約５重
量％を構成している上記第１項記載の組成物。

３．更にガラス繊維を含む上記第１項記載の組成物。

４．該ガラス繊維が組成物の２０〜６５重量％を構成し
ている上記第３項記載の組成物。

５．該ブロックコポリマーが組成物の少なくとも約１０
〜約３０重量％を構成している上記第１項記載の組成
物。

６．該ブロックコポリマーが、スチレン−エチレン／プ
ロピレンブロックコポリマー又はスチレン−エチレン／
プロピレンブブロックコポリマーである上記第１項記載
の組成物。

７．該ビニル芳香族ブロックＡがスチレンである上記第
１項記載の組成物。

８．該ブロックコポリマーが該組成物の約２０重量％を
構成している上記第１項記載の組成物。

９．更にシランを含む上記第３項記載の組成物。

10．該シランがアミノシランである上記第９項記載の組
成物。

11．該グラフト可能な官能性分子が求電子性分子であ
り、該求電子性分子が二酸化炭素である上記第１項記載
の組成物。

12．該グラフト可能な官能性分子が、カルボキシル官能
性基を有する求電子性のグラフト可能な分子であり、該
カルボキシル官能性基がカルボン酸基、その塩及びエス
テルである上記第１項記載の組成物。

13．グラフトされる分子又はその誘導体が、約０．０２
〜２０重量％存在する上記第１項記載の組成物。

14．グラフトされる分子又はその誘導体が、グラフトブ
ロックコポリマーを基準として約０．１〜１０重量％存
在する上記第１項記載の組成物。

15．グラフトされる分子又はその誘導体が、グラフトブ
ロックコポリマーを基準として約０．２〜５重量％存在
する上記第１項記載の組成物。

16．該ポリアリーレンスルフィドがポリフェニレンスル
フィドである上記第１項記載の組成物。

17．該ポリアリーレンスルフィドがポリフェニレンスル
フィドホモポリマーである上記第１項記載の組成物。

18．該ポリアリーレンスルフィドが、ｐ−フェニレンス
ルフィド反復単位及びｍ−フェニレンスルフィド反復単
位を有する上記第１７項記載の組成物。

19．該ポリフェニレンスルフィドが、アルカリ金属スル
フィド、１以上のジハロベンゼン類及びトリハロベンゼ
ン類の反応によって得られるものである上記第１６項記
載の組成物。

20．(a) ポリフェニレンスルフィド； (b) 組成物基準で約１〜約３０重量％の次式： Ｂ_n(ＡＢ)_oＡ_p （式中、ｎは０又は１であり、ｏは１〜５０であり、ｐ
は０又は１であり、Ａはそれぞれ、主として、重量され
たモノアルケニル芳香族又はビニルアレーン(arene)炭
化水素ブロックであり、Ｂはそれぞれ、水素化の前には
主として、重合された複合ジエン炭化水素ブロックであ
る） を有し、それにカルボキシル官能性基を含む求電子性の
グラフト可能な分子及び求電子性分子からなる群より選
択される少なくとも一つのグラフト可能な官能性分子が
グラフトされており、該求電子性分子が二酸化炭素であ
り、該求電子性のグラフト可能な分子又は求電子性分子
の実質的に全てが、モノアルケニル芳香族又はビニルア
レーン(arene)ブロックにおいてブロックコポリマーに
グラフトしており、該カルボキシル官能性基がカルボン
酸、その塩及びエステルであることを特徴とする、官能
化され、選択的に水素化されているブロックコポリマ
ー；及び (c) ガラス繊維； を含む耐衝撃性ポリアリーレンスルフィド組成物。

21．該ガラス繊維が組成物の２０〜６５重量％を構成す
る上記第２０項記載の組成物。

22．該ブロックコポリマーがスチレン−エチレン／プロ
ピレンブロックコポリマ又はスチレン−エチレン／ブチ
レン−スチレンブロックコポリマーである上記第２０項
記載の組成物。

23．該ビニル芳香族ブロックＡがスチレンである上記第
２０項記載の組成物。

24．更にシランを含む上記第２０項記載の組成物。

25．該シランがアミノシランである上記第２４項記載の
組成物。

26．該グラフト可能な官能性分子がカルボキシル官能性
基を有する求電子性のグラフト可能な分子であり、該カ
ルボキシル官能性基がカルボン酸、その塩及びエステル
である上記第２０項記載の組成物。

27．該ポリフェニレンスルフィドがポリフェニレンスル
フィドホモポリマーである上記第２０項記載の組成物。

28．該ポリフェニレンスルフィド樹脂がｐ−フェニレン
スルフィド反復単位及びｍ−フェニレンスルフィド反復
単位を有する上記第２０項記載の組成物。

29．該ポリフェニレンスルフィドが、アルカリ金属スル
フィド、１以上のジハロベンゼン類及びトリハロベンゼ
ン類の反応によって得られるものである上記第２０項記
載の組成物。

30．該ポリフェニレンスルフィドが、少なくとも部分的
に、重合後の熱処理によって硬化せしめられている上記
第１６項記載の組成物。

31．上記第１項記載の組成物を成形することによって得
られる物品。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ポリアリーレンスルフィドと、衝撃強度改
   良量の次式： Ｂ_n(ＡＢ)_oＡ_p （式中、ｎは０又は１であり、ｏは１〜５０であり、ｐ
   は０又は１であり、Ａはそれぞれ、主として、重合され
   たモノアルケニル芳香族又はビニルアレーン(arene)炭
   化水素ブロックであり、Ｂはそれぞれ、水素化の前には
   主として、重合された複合ジエン炭化水素ブロックであ
   る） を有し、それに対して、カルボン酸、その塩又はエステ
   ルであるカルボキシル官能性基含有化合物及び二酸化炭
   素からなる群より選択される少なくとも一つのグラフト
   可能な官能性分子がグラフトされている、官能化され、
   選択的に水素化されているブロックコポリマーとを含む
   耐衝撃性ポリアリーレンスルフィド組成物であって、該
   グラフト可能な分子の実質的に全てが、モノアルケニル
   芳香族又はビニルアレーン(arene)ブロックにおいてブ
   ロックコポリマーにグラフトしていることを特徴とする
   前記組成物。
2. 【請求項２】更にガラス繊維を含む請求項１記載の組成
   物。
3. 【請求項３】更にシランを含む請求項２記載の組成物。
4. 【請求項４】(a) ポリフェニレンスルフィド； (b) 組成物基準で約１〜約３０重量％の次式： Ｂ_n(ＡＢ)_oＡ_p （式中、ｎは０又は１であり、ｏは１〜５０であり、ｐ
   は０又は１であり、Ａはそれぞれ、主として、重量され
   たモノアルケニル芳香族又はビニルアレーン(arene)炭
   化水素ブロックであり、Ｂはそれぞれ、水素化の前には
   主として、重合された複合ジエン炭化水素ブロックであ
   る） を有し、それに対して、カルボン酸、その塩又はエステ
   ルであるカルボキシル官能性基含有化合物及び二酸化炭
   素からなる群より選択される少なくとも一つのグラフト
   可能な官能性分子がグラフトされている、官能化され、
   選択的に水素化されているブロックコポリマーとを含む
   耐衝撃性ポリアリーレンスルフィド組成物であって、該
   グラフト可能な分子の実質的に全てが、モノアルケニル
   芳香族又はビニルアレーン(arene)ブロックにおいてブ
   ロックコポリマーにグラフトしていることを特徴とす
   る、官能化され、選択的に水素化されているブロックコ
   ポリマー；及び (c) ガラス繊維； を含む耐衝撃性ポリアリーレンスルフィド組成物。
5. 【請求項５】更にシランを含む請求項４記載の組成物。
6. 【請求項６】請求項１記載の組成物を成形することによ
   って得られる物品。