JPH0645228B2 - ポリカーボネートボードおよびその製造方法 - Google Patents
ポリカーボネートボードおよびその製造方法Info
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- JPH0645228B2 JPH0645228B2 JP1096548A JP9654889A JPH0645228B2 JP H0645228 B2 JPH0645228 B2 JP H0645228B2 JP 1096548 A JP1096548 A JP 1096548A JP 9654889 A JP9654889 A JP 9654889A JP H0645228 B2 JPH0645228 B2 JP H0645228B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリカーボネートボード（パネルあるいはシ
ートともいう）およびその製造方法に関する。
ートともいう）およびその製造方法に関する。
ポリカーボネート樹脂は、その透明性、機械的強度、及
び寸法安定度を特徴とする。これらの特性により、ポリ
カーボネートは、透明板のために使用されるシートの製
造に理想的た選択である。自動販売機のフロントパネル
としてポリカーボネートを使用する場合の欠点の１つと
しては、汚染食物と接触するうちにそれらが汚染される
ということである。
び寸法安定度を特徴とする。これらの特性により、ポリ
カーボネートは、透明板のために使用されるシートの製
造に理想的た選択である。自動販売機のフロントパネル
としてポリカーボネートを使用する場合の欠点の１つと
しては、汚染食物と接触するうちにそれらが汚染される
ということである。
そのような汚染に耐性を有するポリカーボネートを基礎
とするシートを与えることが、本発明の目的である。
とするシートを与えることが、本発明の目的である。
該技術は紫外線照射にたいして耐性のあるポリカーボネ
ートを基礎とするパネルを開示するカナダ国特許第１，
２０８，８７３号を含むことが注目される。それによれ
ば、パネルは、中間の紫外線吸収層および表層が粘着的
に結合しているポリカーボネートの核となる層を含有す
る構造である。表層の目的は、中間層から、紫外線吸収
体の蒸発を防止することである。中間の紫外線吸収層
は、ポリカーボネートから製造され、紫外線吸収体とし
て、ベンゾトリアゾール誘導体を含有する。それととも
に本発明のビス−ベンゾトリアゾール化合物を混入させ
ることにより紫外線照射にたいして耐性を示すリボンを
含有するポリカーボネート成形品を開示するドイツ特許
願第１，６７０，９５１号もまた注目される。ポリカー
ボネートシートを防護層によって被覆する方法は、イギ
リス国特許願第２，０２８，２２８号に開示されてい
る。好ましくはポリメタクリレートであり、そして有利
には、紫外線吸収体を含有する層は、同時押出によって
シートに付着させるとされる。米国特許第３，８９２，
８８９号は、ベンゾトリアゾールを含有する溶液で処理
された表面を有する紫外線安定化ポリカーボネート成形
品を開示する。ドイツ特許公告第３，６１７，９７８号
は、本発明のビスーベンゾトリアゾールを含有する枝別
れしたポリカーボネート樹脂から製造される紫外線吸収
層によって覆われたポリカーボネートを基礎とする同時
押出シートを開示する。０．５重量％以下の紫外線吸収
体を含有し、そして少なくとも一方の側に中心層と同時
押出されそして少なくとも３％の紫外線吸収体を含有す
る被覆層を有する、ポリカーボネートの中心層からなる
パネルを開示するヨーロッパ特許願第１１０，２２１号
が関連する。
ートを基礎とするパネルを開示するカナダ国特許第１，
２０８，８７３号を含むことが注目される。それによれ
ば、パネルは、中間の紫外線吸収層および表層が粘着的
に結合しているポリカーボネートの核となる層を含有す
る構造である。表層の目的は、中間層から、紫外線吸収
体の蒸発を防止することである。中間の紫外線吸収層
は、ポリカーボネートから製造され、紫外線吸収体とし
て、ベンゾトリアゾール誘導体を含有する。それととも
に本発明のビス−ベンゾトリアゾール化合物を混入させ
ることにより紫外線照射にたいして耐性を示すリボンを
含有するポリカーボネート成形品を開示するドイツ特許
願第１，６７０，９５１号もまた注目される。ポリカー
ボネートシートを防護層によって被覆する方法は、イギ
リス国特許願第２，０２８，２２８号に開示されてい
る。好ましくはポリメタクリレートであり、そして有利
には、紫外線吸収体を含有する層は、同時押出によって
シートに付着させるとされる。米国特許第３，８９２，
８８９号は、ベンゾトリアゾールを含有する溶液で処理
された表面を有する紫外線安定化ポリカーボネート成形
品を開示する。ドイツ特許公告第３，６１７，９７８号
は、本発明のビスーベンゾトリアゾールを含有する枝別
れしたポリカーボネート樹脂から製造される紫外線吸収
層によって覆われたポリカーボネートを基礎とする同時
押出シートを開示する。０．５重量％以下の紫外線吸収
体を含有し、そして少なくとも一方の側に中心層と同時
押出されそして少なくとも３％の紫外線吸収体を含有す
る被覆層を有する、ポリカーボネートの中心層からなる
パネルを開示するヨーロッパ特許願第１１０，２２１号
が関連する。
少なくとも一方の表面を、直鎖のポリカーボネートシー
ト樹脂および特定のビス−ベンゾトリアゾールからなる
付着層によって被覆することによりポリカーボネートシ
ートは、改善された耐汚染性を示す。好ましい具体例に
おいては、シートおよび被覆層を同時押出させ、粘着を
もたらすため、両方が押し出しの結果として生じる昇温
下にある間にそれらの表面を接触させる。
ト樹脂および特定のビス−ベンゾトリアゾールからなる
付着層によって被覆することによりポリカーボネートシ
ートは、改善された耐汚染性を示す。好ましい具体例に
おいては、シートおよび被覆層を同時押出させ、粘着を
もたらすため、両方が押し出しの結果として生じる昇温
下にある間にそれらの表面を接触させる。
本発明の実施において有用なポリカーボネート樹脂は、
ホモポリカーボネート、コポリカーボネート、およびタ
ーポリカーボネート樹脂、もしくはそれらの混合物であ
る。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、１８，００
０ないし２００，０００（重量平均分子量）、より好ま
しくは２０，０００ないし８０，０００の分子量を有
し、そして、択一的には、それらの３００℃におけるＡ
ＳＴＭ Ｄ−１２３８あたり１〜６５ｇｍ／ｍｉｎの溶
融流によって特徴づけられてもよい。これらポリカーボ
ネートは、ホスゲン及びジヒドロキシ化合物から既知の
二相の界面法による重縮合により製造される［ドイツ特
許公告第２，０６３，０５０号、１，５７０，７０３
号、２，２１１，９５６号、２，２１１，９５７号及び
２，２４８，８１７号、及びフランス国特許第１，５６
１，５１８号、及びモノグラフ、エイチ・シュネル、ケ
ミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボ
ネート、インターサイエンス・パブリッシャーズ、ニュ
ーヨーク、（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏ
ｎａｔｅｓ，ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓ
ｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、すべてここ
に参照として編入される］。
ホモポリカーボネート、コポリカーボネート、およびタ
ーポリカーボネート樹脂、もしくはそれらの混合物であ
る。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、１８，００
０ないし２００，０００（重量平均分子量）、より好ま
しくは２０，０００ないし８０，０００の分子量を有
し、そして、択一的には、それらの３００℃におけるＡ
ＳＴＭ Ｄ−１２３８あたり１〜６５ｇｍ／ｍｉｎの溶
融流によって特徴づけられてもよい。これらポリカーボ
ネートは、ホスゲン及びジヒドロキシ化合物から既知の
二相の界面法による重縮合により製造される［ドイツ特
許公告第２，０６３，０５０号、１，５７０，７０３
号、２，２１１，９５６号、２，２１１，９５７号及び
２，２４８，８１７号、及びフランス国特許第１，５６
１，５１８号、及びモノグラフ、エイチ・シュネル、ケ
ミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボ
ネート、インターサイエンス・パブリッシャーズ、ニュ
ーヨーク、（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ
ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃａｒｂｏ
ｎａｔｅｓ，ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓ
ｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、すべてここ
に参照として編入される］。
これに関連して、本発明のポリカーボネートの製造のた
めに適したジヒドロキシ化合物は、下記構造式（Ｉ）ま
たは（II）、 式中、 Ａは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜
８個の炭素原子を有するアルキリデン基、５〜１５個の
炭素原子を有するシクロアルキレン基、５〜１５個の炭
素原子を有するシクロアルキリデン基、カルボニル基、
酸素原子、硫黄原子、-ＳＯ-または-ＳＯ2-基、または
下記一般式 ｇは、０または１の数を表し、 ｅは、０または１の数を表し、 Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣ1ないしＣ2のアルキル基
を表し、そしてもしいくつかのＺ基が１つのアリール基
中の置換基であるならば、それらは同一でも異なってい
てもよく、 ｄは、０または１から４までの整数を表し、 ｆは、０または１から３までの整数を表す、 と合致する。
めに適したジヒドロキシ化合物は、下記構造式（Ｉ）ま
たは（II）、 式中、 Ａは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜
８個の炭素原子を有するアルキリデン基、５〜１５個の
炭素原子を有するシクロアルキレン基、５〜１５個の炭
素原子を有するシクロアルキリデン基、カルボニル基、
酸素原子、硫黄原子、-ＳＯ-または-ＳＯ2-基、または
下記一般式 ｇは、０または１の数を表し、 ｅは、０または１の数を表し、 Ｚは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＣ1ないしＣ2のアルキル基
を表し、そしてもしいくつかのＺ基が１つのアリール基
中の置換基であるならば、それらは同一でも異なってい
てもよく、 ｄは、０または１から４までの整数を表し、 ｆは、０または１から３までの整数を表す、 と合致する。
本発明の実施に有用なジヒドロキシ化合物は、ヒドロキ
シノン、レゾルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シク
ロアルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）−エーテル、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（ヒド
ロキシフェニル）−スルホキシド、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−スルホンおよびα，α−ビス−（ヒドロキ
シフェニル）−ジイソピロピル−ベンゼン等である。こ
れらおよびより適した芳香族ジヒドロキシ化合物は、例
えば、米国特許第３，０２８，３６５号、第２，９９
９，８３５号、第３，１４８，１７２号、第３，２７
１，３６８号、第２，９９１，２７３号、第３，２７
１，３６７号、第３，２８０，０７８号、第３，０１
４，８９１号および第２，９９９，８４６号（すべてこ
こに参照として編入される）ドイツ特許公告明細書第
１，５７０，７０３号、２，０６３，０５０号、第２，
０６３，０５２号、第２，２１１，９５６号および第
２，２１１，９５７号、フランス国特許明細書第１，５
６１，４１８号、およびモノグラフ、エイチ・シュネ
ル、ケミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリ
カーボネート、インターサイエンス・パブリッシャー
ズ、ニューヨーク、（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃ
ａｒｂｏｎａｔｅｓ，ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕ
ｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、に
記載されている。好適なジヒドロキシ化合物のさらなる
例としては、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン（ビスフェノールＡ）、２，４−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−ブタン、
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
ｐ−ジイソプロピル−ベンゼン、２，２−ビス−（３−
クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ヒドロ
キシベンゾフェノンおよび４，４′−スルホニルジフェ
ノールであり、最も好ましいものは、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（ビスフェノー
ルＡ）である。
シノン、レゾルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニ
ル）−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シク
ロアルカン、ビス（ヒドロキシフェニル）−エーテル、
ビス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（ヒド
ロキシフェニル）−スルホキシド、ビス−（ヒドロキシ
フェニル）−スルホンおよびα，α−ビス−（ヒドロキ
シフェニル）−ジイソピロピル−ベンゼン等である。こ
れらおよびより適した芳香族ジヒドロキシ化合物は、例
えば、米国特許第３，０２８，３６５号、第２，９９
９，８３５号、第３，１４８，１７２号、第３，２７
１，３６８号、第２，９９１，２７３号、第３，２７
１，３６７号、第３，２８０，０７８号、第３，０１
４，８９１号および第２，９９９，８４６号（すべてこ
こに参照として編入される）ドイツ特許公告明細書第
１，５７０，７０３号、２，０６３，０５０号、第２，
０６３，０５２号、第２，２１１，９５６号および第
２，２１１，９５７号、フランス国特許明細書第１，５
６１，４１８号、およびモノグラフ、エイチ・シュネ
ル、ケミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリ
カーボネート、インターサイエンス・パブリッシャー
ズ、ニューヨーク、（Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌ，Ｃｈｅｍｉ
ｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏｌｙｃ
ａｒｂｏｎａｔｅｓ，ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕ
ｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、に
記載されている。好適なジヒドロキシ化合物のさらなる
例としては、２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン（ビスフェノールＡ）、２，４−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチル−ブタン、
１，１−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−シクロヘ
キサン、α，α−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−
ｐ−ジイソプロピル−ベンゼン、２，２−ビス−（３−
クロロ−４−ヒドロキシフェニル）−プロパン、ヒドロ
キシベンゾフェノンおよび４，４′−スルホニルジフェ
ノールであり、最も好ましいものは、２，２−ビス−
（４−ヒドロキシフェニル）−プロパン（ビスフェノー
ルＡ）である。
本発明のポリカーボネートは、それらの構造中に１つも
しくはそれ以上の適したジヒドロキシ化合物から誘導さ
れた単位を必要とする。
しくはそれ以上の適したジヒドロキシ化合物から誘導さ
れた単位を必要とする。
ポリカーボネート樹脂の製造は、当該技術分野において
既知のいかなる方法、例えば、界面重縮合法、均一相中
での重縮合、もしくはエステル交換に従って行うことが
できる。
既知のいかなる方法、例えば、界面重縮合法、均一相中
での重縮合、もしくはエステル交換に従って行うことが
できる。
適した反応過程、および付随する反応物、触媒、溶媒お
よび条件は該技術分野において既知のものであり、とり
わけドイツ国特許第１，０４６，３１１号および第９６
２，２７４号、および米国特許第３，２４８，４１４
号、３，１５３，００８号、第３，２１５，６６８号、
第３，１８７，０６５号、第３，０２８，３６５号、第
２，９９９，８４６号、第２，９９９，８３５号、第
２，９６４，９７４号、第２，９７０，１３７号、第
３，９１２，６３８号および第１，９９１，２７３号に
記載されている。
よび条件は該技術分野において既知のものであり、とり
わけドイツ国特許第１，０４６，３１１号および第９６
２，２７４号、および米国特許第３，２４８，４１４
号、３，１５３，００８号、第３，２１５，６６８号、
第３，１８７，０６５号、第３，０２８，３６５号、第
２，９９９，８４６号、第２，９９９，８３５号、第
２，９６４，９７４号、第２，９７０，１３７号、第
３，９１２，６３８号および第１，９９１，２７３号に
記載されている。
本発明のポリカーボネート樹脂の製造において単官能反
応物例えばモノフェノールは、それぞれの分子量を限定
するために用いてもよい。枝別れ剤もまた本発明のシー
ト(中心層または支持体)の製造に用いられる樹脂中に使
用してもよい。
応物例えばモノフェノールは、それぞれの分子量を限定
するために用いてもよい。枝別れ剤もまた本発明のシー
ト(中心層または支持体)の製造に用いられる樹脂中に使
用してもよい。
３官能または３官能以上の化合物、とりわけ３またはそ
れ以上の芳香族ヒドロキシ基を有する化合物を少量、好
ましくは０．０５ないし２．０モル％（使用されるジフ
ェノールと比較して）添加させることにより枝別れを得
ることができる。このタイプのポリカーボネートは、ド
イツ国公告明細書第１，５７０，５３３号、第１，５９
５，７６２号、第２，１１６，９７４号および第２，１
１３，３４７号、イギリス国特許明細書第１，０７９，
８２１号および米国特許第３，５４４，５１４号（） 本文脈の付着層は、直鎖のポリカーボネートから製造さ
れる。
れ以上の芳香族ヒドロキシ基を有する化合物を少量、好
ましくは０．０５ないし２．０モル％（使用されるジフ
ェノールと比較して）添加させることにより枝別れを得
ることができる。このタイプのポリカーボネートは、ド
イツ国公告明細書第１，５７０，５３３号、第１，５９
５，７６２号、第２，１１６，９７４号および第２，１
１３，３４７号、イギリス国特許明細書第１，０７９，
８２１号および米国特許第３，５４４，５１４号（） 本文脈の付着層は、直鎖のポリカーボネートから製造さ
れる。
使用することができる３または３以上のフェニルヒドロ
キシ基を有する化合物の例は、フロログルシノール、
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキ
シフェニル）−ヘプタン、２，４，６−トリメチル−
２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプ
タン、１，４，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）
−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニ
ルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−
フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−
ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフ
ェニルイソプロピル）−フェニル）−オルトテレフタル
酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メ
タン、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプ
ロピル）−フェノキシ）−メタンおよび１，４−ビス−
（（４′，４″−ジヒドロキシトリフェニル）−メチ
ル）−ベンゼン等である。他の３官能化合物は、２，４
−ジヒドロキシ−安息香酸、トリメチン酸、塩化シアヌ
リルおよび３，３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−
２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール等である。
キシ基を有する化合物の例は、フロログルシノール、
４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキ
シフェニル）−ヘプタン、２，４，６−トリメチル−
２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプ
タン、１，４，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）
−エタン、トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−フェニ
ルメタン、２，２−ビス［４，４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン、２，４
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−
フェノール、２，６−ビス−（２−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−
ヒドロキシフェニル）−２−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）−プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフ
ェニルイソプロピル）−フェニル）−オルトテレフタル
酸エステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メ
タン、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプ
ロピル）−フェノキシ）−メタンおよび１，４−ビス−
（（４′，４″−ジヒドロキシトリフェニル）−メチ
ル）−ベンゼン等である。他の３官能化合物は、２，４
−ジヒドロキシ−安息香酸、トリメチン酸、塩化シアヌ
リルおよび３，３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−
２−オキソ−２，３−ジヒドロインドール等である。
本発明の実施に適する樹脂は、フェノールフタレインを
基本とするポリカーボネート、コポリカーボネートおよ
びターポリカーボネート、例えば、米国特許第３，０３
６，０３６号および第４，２１０，７４１号に記載され
ているものを含む。両者ともここに参照として編入され
る。
基本とするポリカーボネート、コポリカーボネートおよ
びターポリカーボネート、例えば、米国特許第３，０３
６，０３６号および第４，２１０，７４１号に記載され
ているものを含む。両者ともここに参照として編入され
る。
本発明によるビス−ベンゾトリアゾールは、下記式
（３） ここに、架橋は この場合、ＯＨは、架橋基に対してオルトの位置に在る
ことが好ましく、 または、架橋は、 ここに、ｐは、０〜３の整数であり、ｑは、１〜１０の
整数であり、そしてＹは、 を表し、この場合、ＯＨ基は、架橋基に対してパラの位
置にあることが好ましい、 のいずれかと一致する。
（３） ここに、架橋は この場合、ＯＨは、架橋基に対してオルトの位置に在る
ことが好ましく、 または、架橋は、 ここに、ｐは、０〜３の整数であり、ｑは、１〜１０の
整数であり、そしてＹは、 を表し、この場合、ＯＨ基は、架橋基に対してパラの位
置にあることが好ましい、 のいずれかと一致する。
上記式において、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立し
て、水素、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、Ｃ
７〜Ｃ１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アル
キル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは、０〜４の整
数でありそしてｍは１〜３の整数である。
て、水素、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ１２アルコキシ、Ｃ
７〜Ｃ１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アル
キル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは、０〜４の整
数でありそしてｍは１〜３の整数である。
より好ましい具体例では、架橋は、 式中、Ｒ3およびＲ4は、水素原子であり、ｎは０、ｍは
１であり、Ｒ2は、３級オクチル基である。
１であり、Ｒ2は、３級オクチル基である。
他の好ましい具体例は、架橋が を表し、そしてＯＨ基に対してパラ位であり、そして2
は、３級ブチルであり、ヒドロキシル基に対してオルト
位であるところのビス−ベンゾトリアゾールによって表
される。
は、３級ブチルであり、ヒドロキシル基に対してオルト
位であるところのビス−ベンゾトリアゾールによって表
される。
本発明のポリカーボネートシートは、既知の方法の押出
によって製造することができる。それは、透明でも着色
されていてもよく、そしてこのことは、本発明にとって
臨界的ではないが、その厚さは、好ましくは１／８″〜
１／４″の範囲である。シートを形成するためのポリカ
ーボネートの押出は、既知であり当該技術分野において
開示されている。
によって製造することができる。それは、透明でも着色
されていてもよく、そしてこのことは、本発明にとって
臨界的ではないが、その厚さは、好ましくは１／８″〜
１／４″の範囲である。シートを形成するためのポリカ
ーボネートの押出は、既知であり当該技術分野において
開示されている。
本発明の付着層は、ポリカーボネート樹脂およびポリカ
ーボネート樹脂の重量と比較して１ないし１５パーセン
トの式（３）のビス−ベンゾトリアゾールから成る。付
着層は、５ないし１００ミクロンの厚さを有することが
好ましい。
ーボネート樹脂の重量と比較して１ないし１５パーセン
トの式（３）のビス−ベンゾトリアゾールから成る。付
着層は、５ないし１００ミクロンの厚さを有することが
好ましい。
本発明の実施において、パネルはポリカーボネートシー
トの少なくとも１つの面を付着層の１つの面と粘着的に
結合させることにより製造される。このため、本発明の
パネルは、それが（ｉ）好ましくは押出により製造さ
れ、そして好ましくは１／４″までの厚さ有するポリカ
ーボネートシート及び（ii）ポリカーボネートシート樹
脂から製造され、そしてビス−ベンゾトリアゾールを含
有し、前述のシートの少なくとも１つの面と接している
付着層からなることを特徴とする。さらに該パネルは、
前述の付着層が、表面層であることを特徴とする。即ち
ポリカーボネートシートから離れたさらなる層がその表
面に塗布されない。該パネルは、前述のシートと前述の
付着層の間に挿入された他の中間層を含んでいてもよ
く、そして付着層が、該シートの表面の一方もしくは両
方に塗布されていてもよいが、付着層の第２の表面は、
どのような方法においても被覆されておらず、そしてそ
れは、汚染液と接触するべき表面である。
トの少なくとも１つの面を付着層の１つの面と粘着的に
結合させることにより製造される。このため、本発明の
パネルは、それが（ｉ）好ましくは押出により製造さ
れ、そして好ましくは１／４″までの厚さ有するポリカ
ーボネートシート及び（ii）ポリカーボネートシート樹
脂から製造され、そしてビス−ベンゾトリアゾールを含
有し、前述のシートの少なくとも１つの面と接している
付着層からなることを特徴とする。さらに該パネルは、
前述の付着層が、表面層であることを特徴とする。即ち
ポリカーボネートシートから離れたさらなる層がその表
面に塗布されない。該パネルは、前述のシートと前述の
付着層の間に挿入された他の中間層を含んでいてもよ
く、そして付着層が、該シートの表面の一方もしくは両
方に塗布されていてもよいが、付着層の第２の表面は、
どのような方法においても被覆されておらず、そしてそ
れは、汚染液と接触するべき表面である。
好ましい具体例においては、シート及び粘着層は既知の
教えにより同時押出され、そしてシートの粘着をもたら
すために、それらの表面を、必要により圧力の適用を組
み合わせて、押出の結果により昇温下において接触させ
る。同時押出は、当該技術分野においてよく知られた手
段である。
教えにより同時押出され、そしてシートの粘着をもたら
すために、それらの表面を、必要により圧力の適用を組
み合わせて、押出の結果により昇温下において接触させ
る。同時押出は、当該技術分野においてよく知られた手
段である。
本発明は、以下の実施例によってさらに例証されるが、
しかしそれらによって限定しようとするものではない。
実施例においては、すべての部及び割合は、他の特定が
ない限り重量による。
しかしそれらによって限定しようとするものではない。
実施例においては、すべての部及び割合は、他の特定が
ない限り重量による。
実施例 ポリカーボネートシートは、本発明の好ましいビス−ベ
ンゾトリアゾールを含有する付着層と共に同時押出させ
た。パネルは、押出後すぐに対応する表面どうしを接触
させることにより製造した。対照として、下記式 のベンゾトリアゾールを含有する付着層を含む同様のパ
ネルを製造した。
ンゾトリアゾールを含有する付着層と共に同時押出させ
た。パネルは、押出後すぐに対応する表面どうしを接触
させることにより製造した。対照として、下記式 のベンゾトリアゾールを含有する付着層を含む同様のパ
ネルを製造した。
該パネルは、ＡＳＴＭ Ｄ ２２５５−６８（１９７７
年に再承認された）に従い、マスタード、ケチャップ、
マヨネーズ、薬味（ｒｅｌｉｓｈ）、ギネス黒ビール、
コカコーラ、グレープジュースおよびチョコレートミル
クを含む様々な汚染食物に対して試験された。５０℃に
おいて１６時間の間、食物と接触させた後に、過剰の食
物は、はじめに柔らかい乾いた布によって、そして次に
蒸留水によるサンプルの洗浄によって除去された。次に
曇り価が、デイアノ・マツチ・スキャンスペクトロフォ
トメーターを用いてＡＳＴＭ Ｄ １００３−６１に従
って計測された。すべての場合において、シートは、相
対粘度約１．３１を有するビスフェノール−Ａを基礎と
する直鎖ポリカーボネートおよびおおよそ８０ミクロン
の厚さを有し、相対粘度１．３３を有するビスフェノー
ル−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネート樹脂９０％お
よび式（４）のベンゾトリアゾールまたは下記式 と同一の本発明の好ましいビス−ベンゾトリアゾールの
どちらか１０％からなる粘着層から製造された。
年に再承認された）に従い、マスタード、ケチャップ、
マヨネーズ、薬味（ｒｅｌｉｓｈ）、ギネス黒ビール、
コカコーラ、グレープジュースおよびチョコレートミル
クを含む様々な汚染食物に対して試験された。５０℃に
おいて１６時間の間、食物と接触させた後に、過剰の食
物は、はじめに柔らかい乾いた布によって、そして次に
蒸留水によるサンプルの洗浄によって除去された。次に
曇り価が、デイアノ・マツチ・スキャンスペクトロフォ
トメーターを用いてＡＳＴＭ Ｄ １００３−６１に従
って計測された。すべての場合において、シートは、相
対粘度約１．３１を有するビスフェノール−Ａを基礎と
する直鎖ポリカーボネートおよびおおよそ８０ミクロン
の厚さを有し、相対粘度１．３３を有するビスフェノー
ル−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネート樹脂９０％お
よび式（４）のベンゾトリアゾールまたは下記式 と同一の本発明の好ましいビス−ベンゾトリアゾールの
どちらか１０％からなる粘着層から製造された。
実施例１および２（下記表１参照）は、本発明のシート
に関して食物汚染がより少ないことを示している。
に関して食物汚染がより少ないことを示している。
本発明に従い、核としてのポリカーボネートシートおよ
びビス−ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボ
ネートの付着層を有する同時押出されたパネルを製造す
る際において、付着層を製造するために、樹脂が良好な
溶融安定性を有することが重要である。それ故、ビス−
ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボネートの
溶融安定性は、対応する枝別れした樹脂のそれ、および
上記式（４）のベンゾトリアゾールを含有する直鎖もし
くは枝別れした樹脂のいずれよりも良好であることは、
おどろくべきことであり、そして予期しないことであっ
た。溶融安定性は、比較できる分子量（約３２，００
０）を有する、樹脂中に１０％の添加剤を含有する著名
企業についてＡＴＳＭ Ｄ ３８３５に従い、決定され
た。
びビス−ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボ
ネートの付着層を有する同時押出されたパネルを製造す
る際において、付着層を製造するために、樹脂が良好な
溶融安定性を有することが重要である。それ故、ビス−
ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボネートの
溶融安定性は、対応する枝別れした樹脂のそれ、および
上記式（４）のベンゾトリアゾールを含有する直鎖もし
くは枝別れした樹脂のいずれよりも良好であることは、
おどろくべきことであり、そして予期しないことであっ
た。溶融安定性は、比較できる分子量（約３２，００
０）を有する、樹脂中に１０％の添加剤を含有する著名
企業についてＡＴＳＭ Ｄ ３８３５に従い、決定され
た。
下記の化合物 および ｍｐ：１０８−１１５℃，ＭＷ７６０， λmax：３４２ｎｍ，３０３ｎｍ を用いて同様の実験を行なった。
結果を下に示す。
例証の目的で前に本発明を詳細に記述したけれども、こ
のような詳説は、全く該目的のためであることおよび特
許請求の範囲によって限定される以外には、本発明の精
神および視野から乖離しない限りでの当該技術分野にお
ける熟練者によりそれらの変形がなされることが理解さ
れるべきである。
のような詳説は、全く該目的のためであることおよび特
許請求の範囲によって限定される以外には、本発明の精
神および視野から乖離しない限りでの当該技術分野にお
ける熟練者によりそれらの変形がなされることが理解さ
れるべきである。
本発明の主なる態様と構成は、以下の通りである。
１、下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アルキル、
シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数
でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 または、 のいずれかであり、 ここに、ｐは０〜３であり、ｑは１〜１０であり、そし
てＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基である、 と一致するビス−ベンゾトリアゾールを約１ないし１５
％および直鎖のポリカーボネート樹脂を含有する付着層
を、少なくともその１つの面に結合しているポリカーボ
ネートシートを含むポリカーボネートパネルであって、
前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの厚さであ
り、そしてその表面のうちの１つの表面のみが結合して
いることを特徴とする、ポリカーボネートパネル。
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アルキル、
シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数
でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 または、 のいずれかであり、 ここに、ｐは０〜３であり、ｑは１〜１０であり、そし
てＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基である、 と一致するビス−ベンゾトリアゾールを約１ないし１５
％および直鎖のポリカーボネート樹脂を含有する付着層
を、少なくともその１つの面に結合しているポリカーボ
ネートシートを含むポリカーボネートパネルであって、
前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの厚さであ
り、そしてその表面のうちの１つの表面のみが結合して
いることを特徴とする、ポリカーボネートパネル。
２、架橋 は、ヒドロキシル基に対してオルトの位置であり、Ｒ3
およびＲ4は、水素原子であり、ｎは０であり、ｍは１
であり、Ｒ2はヒドロキシル基に対してパラの位置にあ
る３級オクチル基であることを特徴とする前述のビス−
ベンゾトリアゾールを有する上記１のパネル。
およびＲ4は、水素原子であり、ｎは０であり、ｍは１
であり、Ｒ2はヒドロキシル基に対してパラの位置にあ
る３級オクチル基であることを特徴とする前述のビス−
ベンゾトリアゾールを有する上記１のパネル。
３、前述の付着層中に、該層の重量と比較して３ないし
１０％の量の前述のビス−ベンゾトリアゾールが存在す
る上記１のパネル。
１０％の量の前述のビス−ベンゾトリアゾールが存在す
る上記１のパネル。
４、架橋が、 を表し、前述のヒドロキシル基に対してパラの位置にあ
り、そしてＲ2は、前述のヒドロキシル基に対してオル
トの位置にある３級ブチルである上記１のパネル。
り、そしてＲ2は、前述のヒドロキシル基に対してオル
トの位置にある３級ブチルである上記１のパネル。
５、ポリカーボネートシートおよび少なくとも１つの付
着層を同時押出し、そして両者が押出の結果により高め
られた温度下にある間に、必要により圧力の適用を組み
合わせて、前述のシートの少なくとも１つの表面を、前
述の層の表面と接触させて表面間接触上の粘着をもたら
すことからなるポリカーボネートパネルの製造方法であ
って、前述のシートが、ポリカーボネート樹脂、並びに
直鎖のポリカーボネート層と下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アルキル、
シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数
でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 または、 のいずれかであり、 ここに、ｐは、０〜３であり、ｑは、１〜１０であり、
そしてＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基である、 と一致する化合物からなる付着層からなるシートであ
り、そして前述の付着層が、約５ないし１００ミクロン
の厚さであり、そしてその表面のうちの１つの表面のみ
が結合していることを特徴とする方法。
着層を同時押出し、そして両者が押出の結果により高め
られた温度下にある間に、必要により圧力の適用を組み
合わせて、前述のシートの少なくとも１つの表面を、前
述の層の表面と接触させて表面間接触上の粘着をもたら
すことからなるポリカーボネートパネルの製造方法であ
って、前述のシートが、ポリカーボネート樹脂、並びに
直鎖のポリカーボネート層と下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
１８アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１０アルキル、
シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基で
あり、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリー
ルアルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数
でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 または、 のいずれかであり、 ここに、ｐは、０〜３であり、ｑは、１〜１０であり、
そしてＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基である、 と一致する化合物からなる付着層からなるシートであ
り、そして前述の付着層が、約５ないし１００ミクロン
の厚さであり、そしてその表面のうちの１つの表面のみ
が結合していることを特徴とする方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ラリイ・デイ・サーバー アメリカ合衆国ペンシルベニア州15090 ウエクスフオード・マツカンドレスプレイ ス 130 (56)参考文献 特開 昭63−10653（ＪＰ，Ａ)
Claims (4)
- 【請求項１】一枚のポリカーボネートボードの少なくと
も１つの表面は付着層で被覆されており、該付着層は直
鎖のポリカーボネート樹脂および該直鎖のポリカーボネ
ート樹脂の重量に基いて約１〜１５％のビス−ベンゾト
リアゾールを含有し、該ビス−ベンゾトリアゾールは下
記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ18
アリールオキシまたはＣ１〜Ｃ10アルキル、シクロアル
キル、アラルキルまたはアリール基を表わし、 ｎは０〜４の整数を表わしそして ｍは１〜３の整数を表わし、 架橋は、式 ここに、ｐは０〜３の整数を表わし、 ｑは１〜１０の整数を表わし、そして Ｙは、 を表わし、 そして、 Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して、水素原子、Ｃ１
〜Ｃ10アルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはア
リール基を表わす、 に相当する架橋である、 に相当するビス−ベンゾトリアゾールであり、 該付着層は約５ないし１００μｍの厚さを有し、該付着
層の１つの表面だけが結合している上記の一枚のポリカ
ーボネートボードを含有するポリカーボネートボード。 - 【請求項２】該ビス−ベンゾトリアゾールは該付着層中
に該付着層の重量に基いて３ないし１０％の量にて存在
する特許請求の範囲第１項記載のポリカーボネートボー
ド。 - 【請求項３】該架橋は、ヒドロキシ基に対してパラの位
置にある式 の基を表わし、そしてＲ2は該ヒドロキシル基に対して
オルトの位置にある三級ブチル基を表わし特許請求の範
囲第１項記載のポリカーボネートボード。 - 【請求項４】ポリカーボネートボードおよび少なくとも
１つの付着層を同時に押出し、該ポリカーボネートボー
ドおよび該少なくとも１つの付着層の両者が押出しの結
果である高められた温度下にある間に、該ポリカーボネ
ートボードの少なくとも１つの表面と該付着層の１つの
表面を、必要に応じて圧力の適用と組み合わせて、接触
させ、該ポリカーボネートボードの少なくとも１つの表
面と該付着層の１つの表面を結合させることを含んでな
るポリカーボネートボードの製造方法であって、該ポリ
カーボネートボードはポリカーボネート樹脂および接着
層を含んでなり、該付着層は直鎖のポリカーボネート樹
脂および下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原
子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ12アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ18
アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ10アルキル、シクロ
アルキル、アラルキルまたはアリール基を表わし、 ｎは０〜４の整数を表わしそして ｍは１〜３の整数を表わし、 架橋は、式 ここに、ｐは０〜３の整数を表わし、 ｑは１〜１０の整数を表わし、そして Ｙは、下記式 に相当し、 そして、 Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して、水素原子、Ｃ１
〜Ｃ10アルキル、シクロアルキル、アラルキルまたはア
リール基を表わす、 に相当する架橋である、 に相当する化合物を含んでなり、 該付着層は約５ないし１００μｍの厚さを有し、該付着
層の１つの表面だけが結合していることを特徴とするポ
リカーボネートボードの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/184,850 US4948666A (en) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | Stain resistant polycarbonate panels |
| US184850 | 2002-06-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211323A JPH0211323A (ja) | 1990-01-16 |
| JPH0645228B2 true JPH0645228B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=22678626
Family Applications (1)
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