JPH0211323A - ポリカーボネートボードおよびその製造方法 - Google Patents
ポリカーボネートボードおよびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、主としてポリカーボネート樹脂から製造され
る耐汚染性パネルに関する。
る耐汚染性パネルに関する。
ポリカーボネート樹脂は、その透明性、機械的強度、及
び寸法安定度を特徴とする。これらの特性により、ポリ
カーボネートは、透明板のｌ；めに使用されるシートの
製造に理想的な選択である。
び寸法安定度を特徴とする。これらの特性により、ポリ
カーボネートは、透明板のｌ；めに使用されるシートの
製造に理想的な選択である。
自動販売機の７０ントパ不ルとしてポリカーボネートを
使用する場合の欠点の１つとしては、汚染食物と接触す
るうちにそれらが汚染されるということである。
使用する場合の欠点の１つとしては、汚染食物と接触す
るうちにそれらが汚染されるということである。
そのような汚染に耐性を有するポリカーボネートを基礎
とするシートを与えることが、本発明の目的である。
とするシートを与えることが、本発明の目的である。
該技術は紫外線照射にたいして耐性のあるポリカーボネ
ートを基礎とするパネルを開示するカナダ国特許第１，
２０８，８７３号を含むことが注目される。それによれ
ば、パネルは、中間の紫外線吸収層および表層が粘着的
に結合しているポリカーボネートの核となる層を含有す
る構造である。
ートを基礎とするパネルを開示するカナダ国特許第１，
２０８，８７３号を含むことが注目される。それによれ
ば、パネルは、中間の紫外線吸収層および表層が粘着的
に結合しているポリカーボネートの核となる層を含有す
る構造である。
表層の目的は、中間層から、紫外線吸収体の蒸発を防止
することである。中間の紫外線吸収層は、ポリカーボネ
ートから製造され、紫外線吸収体として、ベンゾトリア
ゾール誘導体を含有する。それとともに本発明のビス−
ベンゾトリアゾール化金物を混入させることにより紫外
線照射にたいして耐性を示すリボンを含有するポリカー
ボネート成形品を開示するドイツ特許願第１．６７０．
９５１号もまた注目される。ポリカーボネートシートを
防護層によって被覆する方法は、イギリス国特許願第２
，０２８，２２８号に開示されている。
することである。中間の紫外線吸収層は、ポリカーボネ
ートから製造され、紫外線吸収体として、ベンゾトリア
ゾール誘導体を含有する。それとともに本発明のビス−
ベンゾトリアゾール化金物を混入させることにより紫外
線照射にたいして耐性を示すリボンを含有するポリカー
ボネート成形品を開示するドイツ特許願第１．６７０．
９５１号もまた注目される。ポリカーボネートシートを
防護層によって被覆する方法は、イギリス国特許願第２
，０２８，２２８号に開示されている。
好ましくはポリメタクリレートであり、そして有利には
、紫外線吸収体を含有する層は、同時押出によってシー
トに付着させるとされる。米国特許第３，８９２．８８
９号は、ベンゾトリアゾールを含有する溶液で処理され
た表面を有する紫外線安定化ポリカーボネート成形品を
開示する。ドイツ特許公告第３，６１７．９７８号は、
本発明のビス−ベンゾトリアゾールを含有する枝別れし
たポリカーボネート樹脂から製造される紫外線吸収層に
よって覆われたポリカーボネートを基礎とする同時押出
シートを開示する。０．５重量％以下の紫外線吸収体を
含有し、そして少なくとも一方の側に中心層と同時押出
されそして少なくとも３％の紫外線吸収体を含有する被
覆層を有する、ポリカーボネートの中心層からなるパネ
ルを開示するヨーロッパ特許願第１１０．２２１号が関
連する。
、紫外線吸収体を含有する層は、同時押出によってシー
トに付着させるとされる。米国特許第３，８９２．８８
９号は、ベンゾトリアゾールを含有する溶液で処理され
た表面を有する紫外線安定化ポリカーボネート成形品を
開示する。ドイツ特許公告第３，６１７．９７８号は、
本発明のビス−ベンゾトリアゾールを含有する枝別れし
たポリカーボネート樹脂から製造される紫外線吸収層に
よって覆われたポリカーボネートを基礎とする同時押出
シートを開示する。０．５重量％以下の紫外線吸収体を
含有し、そして少なくとも一方の側に中心層と同時押出
されそして少なくとも３％の紫外線吸収体を含有する被
覆層を有する、ポリカーボネートの中心層からなるパネ
ルを開示するヨーロッパ特許願第１１０．２２１号が関
連する。
少なくとも一方の表面を、直鎖のポリカーボネートシー
ト樹脂および特定のビス−ベンゾトリアゾールからなる
付着層によって被覆することによりポリカーボネートシ
ートは、改善された耐汚染性を示す。好ましい具体例に
おいては、シートおよび被覆層を同時押出させ、粘着を
もたらすため、両方が押し出しの結果として生じる昇温
下にある間にそれらの表面を接触させる。
ト樹脂および特定のビス−ベンゾトリアゾールからなる
付着層によって被覆することによりポリカーボネートシ
ートは、改善された耐汚染性を示す。好ましい具体例に
おいては、シートおよび被覆層を同時押出させ、粘着を
もたらすため、両方が押し出しの結果として生じる昇温
下にある間にそれらの表面を接触させる。
本発明の実施において有用なポリカーボネート樹脂は、
ホモポリカーボネート、コポリカーボネート、およびタ
ーポリカーボネート樹脂、もしくはそれらの混合物であ
る。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、１８，００
０ないし２００．０００（重量平均分子量）、より好ま
しくは２０゜０００ないし８０．０００の分子量を有し
、そして、択一的には、それらの３００°ＣにおけるＡ
ＳＴＭ Ｄ−１２３８あたり１〜６５ ｇｍ／ｍ ｉ
ｎの溶融流によって特徴づけられてもよい。これらポ
リカーボネートは、ホスゲン及びジヒドロキシ化合物か
ら既知の二相の界面法による重縮合により製造される［
ドイツ特許公告第２，０６３，０５０号、１、５７０．
７０３号、２，２１１，９５６号、２，２１１．９５７
号及び２，２４８゜８１７号、及びフランス国特許第１
，５６１，５１８号、及びモノグラフ、エイチ・シュネ
ル、ケミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリ
カーボネート、インターサイエンス・パブリッシャーズ
、ニューヨーク、（Ｈ，５ｃｈｎｅ Ｉ Ｉ。
ホモポリカーボネート、コポリカーボネート、およびタ
ーポリカーボネート樹脂、もしくはそれらの混合物であ
る。好ましくは、ポリカーボネート樹脂は、１８，００
０ないし２００．０００（重量平均分子量）、より好ま
しくは２０゜０００ないし８０．０００の分子量を有し
、そして、択一的には、それらの３００°ＣにおけるＡ
ＳＴＭ Ｄ−１２３８あたり１〜６５ ｇｍ／ｍ ｉ
ｎの溶融流によって特徴づけられてもよい。これらポ
リカーボネートは、ホスゲン及びジヒドロキシ化合物か
ら既知の二相の界面法による重縮合により製造される［
ドイツ特許公告第２，０６３，０５０号、１、５７０．
７０３号、２，２１１，９５６号、２，２１１．９５７
号及び２，２４８゜８１７号、及びフランス国特許第１
，５６１，５１８号、及びモノグラフ、エイチ・シュネ
ル、ケミストリイ・アンド・フィジックス・オブ・ポリ
カーボネート、インターサイエンス・パブリッシャーズ
、ニューヨーク、（Ｈ，５ｃｈｎｅ Ｉ Ｉ。
Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈｙｓｉｃｓｏｆ
Ｐｏ１ｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ、１ｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ）１９６４年、すべてここに参照として編入される］
。
Ｐｏ１ｙｃａｒｂｏｎａｔｅｓ、１ｎｔｅｒｓｃｉ
ｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ）１９６４年、すべてここに参照として編入される］
。
これに関連して、本発明のポリカーボネートの製造のた
めに適したジヒドロキシ化合物は、下記構造式（１）ま
ｔ；は（ＩＩ）、 式中、 Ａは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜
８個の炭素原子を有するアルキリデン基、５〜１５個の
炭素原子を有するシクロアルキレン基、５〜１５個の炭
素原子を有するシクロアルキリデン基、カルボニル基、
酸素原子、硫黄原子、−５〇−または−ＳＯ７基、また
は下記一般式 ｇは、０または１の数を表し、 ｅは、０またはｌの数を表し、 ２は、Ｆ、ＣＩ、ＢｒまたはＣ３ないしＣ２のアルキル
基を表し、そしてもしいくつかのＺ基が１つのアリール
基中の置換基であるならば、それらは同一でも異なって
いてもよく、ｄは、０または１から４までの整数を表し
、ｆは、０または１から３までの整数を表す、と合致す
る。
めに適したジヒドロキシ化合物は、下記構造式（１）ま
ｔ；は（ＩＩ）、 式中、 Ａは、１〜８個の炭素原子を有するアルキレン基、２〜
８個の炭素原子を有するアルキリデン基、５〜１５個の
炭素原子を有するシクロアルキレン基、５〜１５個の炭
素原子を有するシクロアルキリデン基、カルボニル基、
酸素原子、硫黄原子、−５〇−または−ＳＯ７基、また
は下記一般式 ｇは、０または１の数を表し、 ｅは、０またはｌの数を表し、 ２は、Ｆ、ＣＩ、ＢｒまたはＣ３ないしＣ２のアルキル
基を表し、そしてもしいくつかのＺ基が１つのアリール
基中の置換基であるならば、それらは同一でも異なって
いてもよく、ｄは、０または１から４までの整数を表し
、ｆは、０または１から３までの整数を表す、と合致す
る。
本発明の実施に有用なジヒドロキシ化合物は、ヒドロキ
ノン、レゾルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）
−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロア
ルカン、ビス−（ヒドロキンフェニル）−エーテル、ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−スルホキシド、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）−スルホンおよびα、α−ビスー（ヒドロキシ
フェニル）−ジイソプロピル−ベンゼン等である。これ
らおよびより適した芳香族ジヒドロキシ化合物は、例え
ば、米国特許第３．０２８．３６５号、第２，９９９，
８３５号、第３，１４８，１７２号、第３，２７１．３
６８号、第２，９９１．２７３号、第３．２７１．３６
７号、第３．２８０゜０７８号、第３．０１４．８９１
号および第２゜９９９．８４６号（すべてここに参照と
して編入される）ドイツ特許公告明細書第１．５７０．
７０３号、２，０６３．０５０号、第２．０６３゜０５
２号、第２，２１１，９５６号および第２゜２１１．９
５７号、フランス国特許明細書第１゜５６１．４１８号
、およびモノグラフ、エイチ・シュネル、ケミストリイ
・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネート、イ
ンターサイエンス・パブリッシャーズ、ニューヨーク、
（Ｈ，５ｃｈｎｅｌ１、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ
Ｆ’ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏ１５Ｔｃａｒｂ
ｏｎａｔｅｓ。
ノン、レゾルシノール、ビス−（ヒドロキシフェニル）
−アルカン、ビス−（ヒドロキシフェニル）−シクロア
ルカン、ビス−（ヒドロキンフェニル）−エーテル、ビ
ス−（ヒドロキシフェニル）−ケトン、ビス−（ヒドロ
キシフェニル）−スルホキシド、ビス−（ヒドロキシフ
ェニル）−スルホンおよびα、α−ビスー（ヒドロキシ
フェニル）−ジイソプロピル−ベンゼン等である。これ
らおよびより適した芳香族ジヒドロキシ化合物は、例え
ば、米国特許第３．０２８．３６５号、第２，９９９，
８３５号、第３，１４８，１７２号、第３，２７１．３
６８号、第２，９９１．２７３号、第３．２７１．３６
７号、第３．２８０゜０７８号、第３．０１４．８９１
号および第２゜９９９．８４６号（すべてここに参照と
して編入される）ドイツ特許公告明細書第１．５７０．
７０３号、２，０６３．０５０号、第２．０６３゜０５
２号、第２，２１１，９５６号および第２゜２１１．９
５７号、フランス国特許明細書第１゜５６１．４１８号
、およびモノグラフ、エイチ・シュネル、ケミストリイ
・アンド・フィジックス・オブ・ポリカーボネート、イ
ンターサイエンス・パブリッシャーズ、ニューヨーク、
（Ｈ，５ｃｈｎｅｌ１、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ
Ｆ’ｈｙｓｉｃｓ ｏｆ Ｐｏ１５Ｔｃａｒｂ
ｏｎａｔｅｓ。
１ｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ、
Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、に記載されている。
Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）１９６４年、に記載されている。
好適なジヒドロキシ化合物のさらなる例としては、２，
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フロパン（ヒ
スフェノールＡ）、２．４−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−メチル−ブタン、１、ｌ−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、σ、α−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピル−
ベンゼン、２．２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキ
ンフェニル）−プロパン、ヒドロキシベンゾフェノンお
よび４，４′−スルホニルジフェノールであり、最も好
ましいものは、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン（ビスフェノールＡ）である。
２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−フロパン（ヒ
スフェノールＡ）、２．４−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−メチル−ブタン、１、ｌ−ビス−（４−
ヒドロキシフェニル）−シクロヘキサン、σ、α−ビス
−（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイソプロピル−
ベンゼン、２．２−ビス−（３−クロロ−４−ヒドロキ
ンフェニル）−プロパン、ヒドロキシベンゾフェノンお
よび４，４′−スルホニルジフェノールであり、最も好
ましいものは、２．２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−プロパン（ビスフェノールＡ）である。
本発明のポリカーボネートは、それらの構造中に１つも
しくはそれ以上の適したジヒドロキシ化合物から誘導さ
れＩ；単位を必要とする。
しくはそれ以上の適したジヒドロキシ化合物から誘導さ
れＩ；単位を必要とする。
ポリカーボネート樹脂の製造は、当該技術分野において
既知のいかなる方法、例えば、界面重縮合法、均一相中
での重縮合、もしくはエステル交換に従って行うことが
できる。
既知のいかなる方法、例えば、界面重縮合法、均一相中
での重縮合、もしくはエステル交換に従って行うことが
できる。
適した反応過程、および付随する反応物、触媒、溶媒お
よび条件は該技術分野において既知のものであり、とり
わけドイツ国特許第１，０４６，３１１号および第９６
２，２７４号、および米国特許第３，２４８．４１４号
、３，１５３，００８号、第３．２１５，６６８号、第
３，１８７．０６５号、第３，０２８，３６５号、第２
，９９９゜８４６号、第２．９９９，８３５号、第２，
９６４、９７４号、第２，９７０．１３７号、第３゜９
１２．６３８号および第１，９９１．２７３号に記載さ
れている。
よび条件は該技術分野において既知のものであり、とり
わけドイツ国特許第１，０４６，３１１号および第９６
２，２７４号、および米国特許第３，２４８．４１４号
、３，１５３，００８号、第３．２１５，６６８号、第
３，１８７．０６５号、第３，０２８，３６５号、第２
，９９９゜８４６号、第２．９９９，８３５号、第２，
９６４、９７４号、第２，９７０．１３７号、第３゜９
１２．６３８号および第１，９９１．２７３号に記載さ
れている。
本発明のポリカーボネート樹脂の製造において単官能反
応物例えばモノフェノールは、それぞれの分子量を限定
するために用いてもよい。枝別れ剤もまた本発明のシー
ト（中心層または支持体）の製造に用いられる樹脂中に
使用してもよい。
応物例えばモノフェノールは、それぞれの分子量を限定
するために用いてもよい。枝別れ剤もまた本発明のシー
ト（中心層または支持体）の製造に用いられる樹脂中に
使用してもよい。
３官能または３官能以上の化合物、とりわけ３またはそ
れ以上の芳香族ヒドロキシル基を有する化合物を少量、
好ましくは０．０５ないし２．０モル％（使用されるジ
フェノールと比較して）添加させることにより枝別れを
得ることができる。
れ以上の芳香族ヒドロキシル基を有する化合物を少量、
好ましくは０．０５ないし２．０モル％（使用されるジ
フェノールと比較して）添加させることにより枝別れを
得ることができる。
このタイプのポリカーボネートは、ドイツ国公告明細書
第１．５７０．５３３号、第１，５９５゜７６２号、第
２．１１６．９７４号および第２゜１１３，３４７号、
イギリス国特許明細書第１゜０７９．８２１号および米
国特許第３，５４４゜５１４号０ 本文脈の付着層は、直鎖のポリカーボネートから製造さ
れる。
第１．５７０．５３３号、第１，５９５゜７６２号、第
２．１１６．９７４号および第２゜１１３，３４７号、
イギリス国特許明細書第１゜０７９．８２１号および米
国特許第３，５４４゜５１４号０ 本文脈の付着層は、直鎖のポリカーボネートから製造さ
れる。
使用することができる３または３以上のフェニルヒドロ
キシル基を有する化合物の例は、７０口グルシノール、
４．６−シメチルー２．４．６−トリー（４−ヒドロキ
シフェニル）−へブタン、２．４．６−１−ジメチル−
２，４，６−トリー（４−ヒドロキシフェニル）−へブ
タン、１．４．５−トリー（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１．１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）
−二タン、トリー（４−ヒドロキシフェニル）−フェニ
ルメタン、２，２−ビス１４．４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキシル］−フロパン、２，４
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−
フェノール、２．６−ビス−（２−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−
ヒドロキシフェニル）２（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフェニ
ルインプロピル）−フェニル）−オルトチレフタル酸エ
ステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン
、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピ
ル）−フェノキシ）−メタンおよび１．４−ビス−１：
４’、４”−ジヒドロキシトリフェニル）−メチル）−
ベンゼン等である。他の３官能化合物は、２．４−ジヒ
ドロキシ−安息香酸、トリメチン酸、塩化シアヌリルお
よび３．３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−２−オ
キソ−２，３−ジヒドロインドール等である。
キシル基を有する化合物の例は、７０口グルシノール、
４．６−シメチルー２．４．６−トリー（４−ヒドロキ
シフェニル）−へブタン、２．４．６−１−ジメチル−
２，４，６−トリー（４−ヒドロキシフェニル）−へブ
タン、１．４．５−トリー（４−ヒドロキシフェニル）
−ベンゼン、１．１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）
−二タン、トリー（４−ヒドロキシフェニル）−フェニ
ルメタン、２，２−ビス１４．４−ビス−（４−ヒドロ
キシフェニル）−シクロヘキシル］−フロパン、２，４
−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−イソプロピル）−
フェノール、２．６−ビス−（２−ヒドロキシ−５′−
メチルベンジル）−４−メチルフェノール、２−（４−
ヒドロキシフェニル）２（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−プロパン、ヘキサ（４−（４−ヒドロキシフェニ
ルインプロピル）−フェニル）−オルトチレフタル酸エ
ステル、テトラ−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン
、テトラ−（４−（４−ヒドロキシフェニルイソプロピ
ル）−フェノキシ）−メタンおよび１．４−ビス−１：
４’、４”−ジヒドロキシトリフェニル）−メチル）−
ベンゼン等である。他の３官能化合物は、２．４−ジヒ
ドロキシ−安息香酸、トリメチン酸、塩化シアヌリルお
よび３．３−ビス−（４−ヒドロキシフェニル−２−オ
キソ−２，３−ジヒドロインドール等である。
本発明の実施に適する樹脂は、フェノールフタレインを
基本とするポリカーボネート、コポリカーボネートおよ
びターポリカーボネート、例えば、米国特許第３．０３
６．０３６号および第４，２１０．７４１号に記載され
ているものを含む。両者ともここに参照として編入され
る。
基本とするポリカーボネート、コポリカーボネートおよ
びターポリカーボネート、例えば、米国特許第３．０３
６．０３６号および第４，２１０．７４１号に記載され
ているものを含む。両者ともここに参照として編入され
る。
本発明によるビス−ベンゾトリアゾールは、下記式（３
） ％式％ こに、架橋は、 Ｃ′ ′＼ この場合、ＯＨは、架橋基に対してオルトの位置に在る
ことが好ましく、 または、架橋は、 ここに、ｐは、０〜３の整数であり、ｑは、を表し、こ
の場合、ＯＨ基は、架橋基に対してパラの位置にあるこ
とが好ましい、 のいずれかと一致する。
） ％式％ こに、架橋は、 Ｃ′ ′＼ この場合、ＯＨは、架橋基に対してオルトの位置に在る
ことが好ましく、 または、架橋は、 ここに、ｐは、０〜３の整数であり、ｑは、を表し、こ
の場合、ＯＨ基は、架橋基に対してパラの位置にあるこ
とが好ましい、 のいずれかと一致する。
上記式において％Ｒ’およびＲ２は、たがいに独立して
、水素、ハロゲン原子、０１〜ＣＩ２アルコキシ、Ｃ７
〜Ｃ３，アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１，アルキ
ル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基であ
り、そしてＲ３およびＲ◆は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基であり、ｎは、０〜４の整数
でありモしてｍは１〜３の整数である。
、水素、ハロゲン原子、０１〜ＣＩ２アルコキシ、Ｃ７
〜Ｃ３，アリールアルコキシまたはＣ１〜Ｃ１，アルキ
ル、シクロアルキル、アラルキルまたはアリール基であ
り、そしてＲ３およびＲ◆は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基であり、ｎは、０〜４の整数
でありモしてｍは１〜３の整数である。
より好ましい具体例では、架橋は、
１−１０の整数であり、モしてＹは、
式中、Ｒ３およびＲ４は、水素原子であり、ｎは０、ｍ
はｌであり、Ｒ１は、３級オクチル基である。
はｌであり、Ｒ１は、３級オクチル基である。
他の好ましい具体例は、架橋が
を表し、モしてＯＨ基に対してパラ位であり、モしてＲ
２は、３級ブチルであり、ヒドロキシル基に対してオル
ト位であるところのビス−ベンゾトリアゾールによって
表される。
２は、３級ブチルであり、ヒドロキシル基に対してオル
ト位であるところのビス−ベンゾトリアゾールによって
表される。
本発明のポリカーボネートシートは、既知の方法の押出
によって製造することができる。それは、透明でも潰色
されていてもよく、そしてこのことは、本発明にとって
臨界的ではないが、その厚さは、好ましくはｌ／８”〜
ｌ／４”の範囲である。
によって製造することができる。それは、透明でも潰色
されていてもよく、そしてこのことは、本発明にとって
臨界的ではないが、その厚さは、好ましくはｌ／８”〜
ｌ／４”の範囲である。
７−トを形成するためのポリカーボネートの押出は、既
知であり当該技術分野において開示されている。
知であり当該技術分野において開示されている。
本発明の付着層は、ポリカーボネート樹脂およびポリカ
ーボネート樹脂の重量と比較してｌないし１５パーセン
トの式（３）のビス−ベンゾトリアゾールから成る。付
着層は、５ないし１００ミクロンの厚さを有することが
好ましい。
ーボネート樹脂の重量と比較してｌないし１５パーセン
トの式（３）のビス−ベンゾトリアゾールから成る。付
着層は、５ないし１００ミクロンの厚さを有することが
好ましい。
本発明の実施において、パネルはポリカーボネートシー
トの少なくとも１つの面を付着層の１つの面と粘着的に
結合させることにより製造される。
トの少なくとも１つの面を付着層の１つの面と粘着的に
結合させることにより製造される。
このため、本発明のパネルは、それが、（ｉ）好ましく
は押出により製造され、そして好ましくは１ ／ ４
”までの厚さ有するポリカーボネートシート及び（ｉ）
ポリカーボネートシート樹脂から製造され、そしてビス
−ベンゾトリアゾールを含有し、前述のシートの少なく
とも１つの面と接している付着層からなることを特徴と
する。ざらに該パネルは、前述の付着層が、表面層であ
ることを特徴とする。即ちポリカーボネートシートから
離れたさらなる層がその表面に塗布されない。該パネル
は、前述のシートと前述の付着層の間に挿入された他の
中間層を含んでいてもよく、そして付着層が、該シート
の表面の一方もしくは両方に塗布されていてもよいが、
付着層の第２の表面は、どのような方法においても被覆
されておらず、そしてそれは、汚染液と接触するべき表
面である。
は押出により製造され、そして好ましくは１ ／ ４
”までの厚さ有するポリカーボネートシート及び（ｉ）
ポリカーボネートシート樹脂から製造され、そしてビス
−ベンゾトリアゾールを含有し、前述のシートの少なく
とも１つの面と接している付着層からなることを特徴と
する。ざらに該パネルは、前述の付着層が、表面層であ
ることを特徴とする。即ちポリカーボネートシートから
離れたさらなる層がその表面に塗布されない。該パネル
は、前述のシートと前述の付着層の間に挿入された他の
中間層を含んでいてもよく、そして付着層が、該シート
の表面の一方もしくは両方に塗布されていてもよいが、
付着層の第２の表面は、どのような方法においても被覆
されておらず、そしてそれは、汚染液と接触するべき表
面である。
好ましい具体例においては、シート及び粘着層は既知の
教えにより同時押出され、そしてシートの粘着をもたら
すために、それらの表面を、必要により圧力の適用を組
み合わせて、押出の結果による昇温下において接触させ
る。同時押出は、当該技術分野においてよく知られた手
段である。
教えにより同時押出され、そしてシートの粘着をもたら
すために、それらの表面を、必要により圧力の適用を組
み合わせて、押出の結果による昇温下において接触させ
る。同時押出は、当該技術分野においてよく知られた手
段である。
本発明は、以下の実施例によってさらに例証されるが、
しかしそれらによって限定しようとするものではない。
しかしそれらによって限定しようとするものではない。
実施例においては、すべての部及び割合は、他の特定が
ない限り重量による。
ない限り重量による。
実施例
ポリカーボネートシートは、本発明の好ましいビス−ベ
ンゾトリアゾールを含有する付着層と共に同時押出させ
た。パネルは、押出後すぐに対応する表面どうしを接触
させることにより製造した。
ンゾトリアゾールを含有する付着層と共に同時押出させ
た。パネルは、押出後すぐに対応する表面どうしを接触
させることにより製造した。
対照として、下記式
％式％
のベンゾトリアゾールを含有する付着層を含む同様のパ
ネルを製造した。
ネルを製造した。
該パネルは、ＡＳＴＭ Ｄ ２２５５−６８ （１
９７７年に再承認された）に従い、マスタード、ケチャ
ツプ、マヨネーズ、薬味（ｒｅｌｉｓｈ）、ギネス黒ビ
ール、コカコーラ、グレープジュースおよびチョコレー
トミルクを含む様々な汚染食物に対して試験された。５
０°Ｃにおいて１６時間の間、食物と接触させた後に、
過剰の食物は、はじめに柔らかい乾いた布によって、そ
して次に蒸留水によるサンプルの洗浄によって除去され
た。次に曇り価が、デイアノ・マツチ・スキャンスペク
トロフォトメーターを用いてＡＳＴＭ Ｄ ｔ。
９７７年に再承認された）に従い、マスタード、ケチャ
ツプ、マヨネーズ、薬味（ｒｅｌｉｓｈ）、ギネス黒ビ
ール、コカコーラ、グレープジュースおよびチョコレー
トミルクを含む様々な汚染食物に対して試験された。５
０°Ｃにおいて１６時間の間、食物と接触させた後に、
過剰の食物は、はじめに柔らかい乾いた布によって、そ
して次に蒸留水によるサンプルの洗浄によって除去され
た。次に曇り価が、デイアノ・マツチ・スキャンスペク
トロフォトメーターを用いてＡＳＴＭ Ｄ ｔ。
０３−６１に従って計測された。 すべての場合におい
て、シートは、相対粘度約１．３１を有するビスフェノ
ール−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネートおよびおお
よそ８０ミクロンの厚さを有し、相対粘度１、３３を有
するビスフェノール−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネ
ート１１脂９０％および式（４）のベンゾトリアゾール
または下記式 と同一の本発明の好ましいビス−ベンゾトリアゾールの
どちらか１０％からなる粘着層から製造され ｔこ 。
て、シートは、相対粘度約１．３１を有するビスフェノ
ール−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネートおよびおお
よそ８０ミクロンの厚さを有し、相対粘度１、３３を有
するビスフェノール−Ａを基礎とする直鎖ポリカーボネ
ート１１脂９０％および式（４）のベンゾトリアゾール
または下記式 と同一の本発明の好ましいビス−ベンゾトリアゾールの
どちらか１０％からなる粘着層から製造され ｔこ 。
実施例１および２（下記表１参照）は、本発明のシート
に関して食物汚染がより少ないことを示している。
に関して食物汚染がより少ないことを示している。
表１
曇り価
本発明 対照
＃ｉ 婬
対照 ０．１７ ０．１５マスター
ド ０．７９ ０．８７ケチヤツプ
０．３３ ０．４７マヨネーズ ０
．５５ ０．６２レリツシユ ０．３７
１．１２ビール ０．２０ ０．
３６コーク＊ブランド飲料 ０．３１ ０．３９グレ
ープジユース ０．３３ ０．４３チヨコレート
ミルク ０．７１ １．１１＊コークは、登録商
標である。ザ・コヵーコーラ・カンパニー プラウエア
州つイルミントン 本発明に従い、核としてのポリカーボネートシートおよ
びビス−ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボ
ネートの付着層を有する同時押出されたパネルを製造す
る際において、付着層を製造するために、樹脂が良好な
溶融安定性を有することが重要である。それ故、ビス−
ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボネートの
溶融安定性は、対応する枝別れした樹脂のそれ、および
上記式（４）のベンゾトリアゾールを含有する直鎖もし
くは枝別れした樹脂のいずれよりも良好であることは、
おどろくべきことであり、そして予期しないことであっ
た。溶融安定性は、比較できる分子量（約３２，０００
）を有する、樹脂中に１０％の添加剤を含有する著名企
業についてＡＴＳＭ Ｄ ３８３５に従い、決定さ
れた。
ド ０．７９ ０．８７ケチヤツプ
０．３３ ０．４７マヨネーズ ０
．５５ ０．６２レリツシユ ０．３７
１．１２ビール ０．２０ ０．
３６コーク＊ブランド飲料 ０．３１ ０．３９グレ
ープジユース ０．３３ ０．４３チヨコレート
ミルク ０．７１ １．１１＊コークは、登録商
標である。ザ・コヵーコーラ・カンパニー プラウエア
州つイルミントン 本発明に従い、核としてのポリカーボネートシートおよ
びビス−ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボ
ネートの付着層を有する同時押出されたパネルを製造す
る際において、付着層を製造するために、樹脂が良好な
溶融安定性を有することが重要である。それ故、ビス−
ベンゾトリアゾールを含有する直鎖ポリカーボネートの
溶融安定性は、対応する枝別れした樹脂のそれ、および
上記式（４）のベンゾトリアゾールを含有する直鎖もし
くは枝別れした樹脂のいずれよりも良好であることは、
おどろくべきことであり、そして予期しないことであっ
た。溶融安定性は、比較できる分子量（約３２，０００
）を有する、樹脂中に１０％の添加剤を含有する著名企
業についてＡＴＳＭ Ｄ ３８３５に従い、決定さ
れた。
６０分における損失（％） ６３ ８６ ３
０ ６０例証の目的で前に本発明を詳細に記述した
けれども、このような詳説は、全く該目的のためである
ことおよび特許請求の範囲によって限定される以外には
、本発明の精神および視野から季離しない限りでの当該
技術分野における熟練者によりそれらの変形がなされる
ことが理解されるべきである。
０ ６０例証の目的で前に本発明を詳細に記述した
けれども、このような詳説は、全く該目的のためである
ことおよび特許請求の範囲によって限定される以外には
、本発明の精神および視野から季離しない限りでの当該
技術分野における熟練者によりそれらの変形がなされる
ことが理解されるべきである。
本発明の主なる態様と構成は、以下の通りである。
■、下記式
％式％
ポリカーボネート 直鎖 分枝 直鎖 分枝
溶融粘度、Ｐａ、５ ５ｍ１ｎ、５６．７ ２２７ ２８８
４４３ ６４４ｓｅｃ ’ 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原子
、ハロゲン原子、ＣＩ −ＣＩ２アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
ｌ１１アリールアルコキシまたは０１〜Ｃ１゜アルキル
、シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基
であり、モしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水
素原子、０１〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリ
ールアルキルまたはアリール基であり、ｎはＯ〜４の整
数でありモしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 ′＼ または、 のいずれかであり、 ここに、ｐはθ〜３であり、ｑは１−１０であり、モし
てＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原子
、Ｃ１〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリールア
ルキルまたはアリール基である、 と一致するビス−ベンゾトリアゾールを約１ないし１５
％および直鎖のポリカーボネート樹脂を含有する付着層
を、少なくともその１つの面に結合しているポリカーボ
ネートシートを含むポリカーボネートパネルであって、
前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの厚さであ
り、そしてその表面のうちの１つの表面のみが結合して
いることを特徴とする、ポリカーボネートパネル。
溶融粘度、Ｐａ、５ ５ｍ１ｎ、５６．７ ２２７ ２８８
４４３ ６４４ｓｅｃ ’ 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原子
、ハロゲン原子、ＣＩ −ＣＩ２アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ
ｌ１１アリールアルコキシまたは０１〜Ｃ１゜アルキル
、シクロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基
であり、モしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水
素原子、０１〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリ
ールアルキルまたはアリール基であり、ｎはＯ〜４の整
数でありモしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 ′＼ または、 のいずれかであり、 ここに、ｐはθ〜３であり、ｑは１−１０であり、モし
てＹは、 のいずれかを表し、 そして、Ｒ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原子
、Ｃ１〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリールア
ルキルまたはアリール基である、 と一致するビス−ベンゾトリアゾールを約１ないし１５
％および直鎖のポリカーボネート樹脂を含有する付着層
を、少なくともその１つの面に結合しているポリカーボ
ネートシートを含むポリカーボネートパネルであって、
前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの厚さであ
り、そしてその表面のうちの１つの表面のみが結合して
いることを特徴とする、ポリカーボネートパネル。
２、架橋
Ｒ５Ｒ４
／′ ＼
は、ヒドロキシル基に対してオルトの位置であり、Ｒ３
およびＲ３は、水素原子であり、ｎは０であり、ｍはｌ
であり Ｒ２はヒドロキシル基に対してバラの位置にあ
る３級オクチル基であることを特徴とする前述のビス−
ベンゾトリアゾールを有する上記ｌのパネル。
およびＲ３は、水素原子であり、ｎは０であり、ｍはｌ
であり Ｒ２はヒドロキシル基に対してバラの位置にあ
る３級オクチル基であることを特徴とする前述のビス−
ベンゾトリアゾールを有する上記ｌのパネル。
３、前述の付着層中に、核層の重量と比較して３ないし
１０％の量の前述のビス−ベンゾトリアゾールが存在す
る上記ｌのパネル。
１０％の量の前述のビス−ベンゾトリアゾールが存在す
る上記ｌのパネル。
４、架橋が、
を表し、前述のヒドロキシル基に対してパラの位置にあ
り、モしてＲ２は、前述のヒドロキシル基に対してオル
トの位置にある３級ブチルである上記ｌのパネル。
り、モしてＲ２は、前述のヒドロキシル基に対してオル
トの位置にある３級ブチルである上記ｌのパネル。
５、ポリカーボネートシートおよび少なくとも１つの付
着層を同時押出し、そして両者が押出の結果により高め
られた温度下にある間に、必要により圧力の適用を組み
合わせて、前述のシートの少なくとも１つの表面を、前
述の層の表面と接触させて表面間接触上の粘着をもたら
すことからなるポリカーボネートパネルの製造方法であ
って、前述のシートが、ポリカーボネート樹脂、並びに
直鎖のポリカーボネート層と下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原子
、ハロゲン原子、Ｃ３〜Ｃ１□アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１
，アリールアルコキシまたはＣ□〜Ｃ１０アルキル、シ
クロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基であ
り、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数で
ありモしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 し ／＼ ／ ＼ または、 して水素原子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル
、アリールアルキルまたはアリール基である、 と一致する化合物からなる付着層からなるシートであり
、そして前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの
厚さであり、そしてその表面のうちの１つの表面のみが
結合していることを特徴とする方法。
着層を同時押出し、そして両者が押出の結果により高め
られた温度下にある間に、必要により圧力の適用を組み
合わせて、前述のシートの少なくとも１つの表面を、前
述の層の表面と接触させて表面間接触上の粘着をもたら
すことからなるポリカーボネートパネルの製造方法であ
って、前述のシートが、ポリカーボネート樹脂、並びに
直鎖のポリカーボネート層と下記式 式中、Ｒ１およびＲ２は、たがいに独立して、水素原子
、ハロゲン原子、Ｃ３〜Ｃ１□アルコキシ、Ｃ７〜Ｃ１
，アリールアルコキシまたはＣ□〜Ｃ１０アルキル、シ
クロアルキル、アリールアルキルまたはアリール基であ
り、そしてＲ３およびＲ４は、たがいに独立して水素原
子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル、アリール
アルキルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の整数で
ありモしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 し ／＼ ／ ＼ または、 して水素原子、Ｃ３〜Ｃ１゜アルキル、シクロアルキル
、アリールアルキルまたはアリール基である、 と一致する化合物からなる付着層からなるシートであり
、そして前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの
厚さであり、そしてその表面のうちの１つの表面のみが
結合していることを特徴とする方法。
のいずれかであり、
ここに、ｐは、０〜３であり、ｑは、ｌ〜ｌＯであり、
モしてＹは、 −ＣＨｚ−ＣＨｚ−９−ＣＨ−ＣＨｚ−９−（ＣＨｉ茫
。
モしてＹは、 −ＣＨｚ−ＣＨｚ−９−ＣＨ−ＣＨｚ−９−（ＣＨｉ茫
。
ＣＨ３
−（ＣＨｚ＋Ｖ−、−（ＣＨ！ｈ−及び −（ＣＨ，ｈ
−のいずれかを表し、
−のいずれかを表し、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼（３） 式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、たがいに独立して、水素
原子、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜＿１＿２アルコキシ、Ｃ
＿７〜Ｃ＿１＿６アリールアルコキシまたはＣ＿１〜Ｃ
＿１＿０アルキル、シクロアルキル、アリールアルキル
またはアリー ル基であり、そしてＲ＾３およびＲ＾４は、たがいに独
立して水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、シクロ
アルキル、アリールアルキ ルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の 整数でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ のいずれかであり、 ここに、ｐは０〜３であり、ｑは１〜１０ であり、そしてＹは、 −ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼ のいずれかを表し、 そして、Ｒ＾３およびＲ＾４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、シクロアルキル、
アリールアルキルまたはア リール基である、 と一致するビス−ベンゾトリアゾールを約１ないし１５
％および直鎖のポリカーボネート樹脂を含有する付着層
を、少なくともその１つの面に結合しているポリカーボ
ネートシートを含むポリカーボネートパネルであって、
前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの厚さであ
り、そしてその表面のうちの１つの表面のみが結合して
いることを特徴とする、ポリカーボネートパネル。 ２、ポリカーボネートシートおよび少なくとも１つの付
着層を同時押出し、そして両者が押出の結果により高め
られた温度下にある間に、必要により圧力の適用を組み
合わせて、前述のシートの少なくとも１つの表面を、前
述の層の表面と接触させて表面間接触上の粘着をもたら
すことからなるポリカーボネートパネルの製造方法であ
って、前述のシートが、ポリカーボネート樹脂、並びに
直鎖のポリカーボネート層と下記式 ▲数式、化学式、表等があります▼（３） 式中、Ｒ＾１およびＲ＾２は、たがいに独立して、水素
原子、ハロゲン原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿２アルコキシ、
Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿■アリールアルコキシまたはＣ＿１〜
Ｃ＿１＿０アルキル、シクロアルキル、アリールアルキ
ルまたはアリー ル基であり、そしてＲ＾３およびＲ＾４は、たがいに独
立して水素原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、シクロ
アルキル、アリールアルキ ルまたはアリール基であり、ｎは０〜４の 整数でありそしてｍは１〜３の整数であり、架橋は、 ▲数式、化学式、表等があります▼ または、 ▲数式、化学式、表等があります▼ のいずれかであり、 ここに、ｐは、０〜３であり、ｑは、１〜 １０であり、そしてＹは、 −ＣＨ＿２−ＣＨ＿２−、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等があ
ります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼ のいずれかを表し、 そして、Ｒ＾３およびＲ＾４は、たがいに独立して水素
原子、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキル、シクロアルキル、
アリールアルキルまたはア リール基である、 と一致する化合物からなる付着層からなるシートであり
、そして前述の付着層が、約５ないし１００ミクロンの
厚さであり、そしてその表面のうちの１つの表面のみが
結合していることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/184,850 US4948666A (en) | 1988-04-22 | 1988-04-22 | Stain resistant polycarbonate panels |
| US184850 | 1988-04-22 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211323A true JPH0211323A (ja) | 1990-01-16 |
| JPH0645228B2 JPH0645228B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=22678626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1096548A Expired - Lifetime JPH0645228B2 (ja) | 1988-04-22 | 1989-04-18 | ポリカーボネートボードおよびその製造方法 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4948666A (ja) |
| EP (1) | EP0338355B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0645228B2 (ja) |
| AT (1) | ATE82195T1 (ja) |
| BR (1) | BR8901912A (ja) |
| CA (1) | CA1317428C (ja) |
| DE (1) | DE58902644D1 (ja) |
| ES (1) | ES2052799T3 (ja) |
| IL (1) | IL90010A0 (ja) |
| NZ (1) | NZ228814A (ja) |
| ZA (1) | ZA892947B (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3739765A1 (de) * | 1987-11-24 | 1989-06-08 | Bayer Ag | Beschichtete formkoerper und ein verfahren zu ihrer herstellung |
| US5292890A (en) * | 1993-05-05 | 1994-03-08 | Fairmount Chemical Company, Inc. | Asymmetrical benzotriazolylphenols |
| DE59407905D1 (de) * | 1993-10-18 | 1999-04-15 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von mehrschichtigen Kunststofftafeln |
| TW332827B (en) * | 1994-02-24 | 1998-06-01 | Ciba Sc Holding Ag | UV absorber |
| BE1008335A3 (nl) * | 1994-04-18 | 1996-04-02 | Axxis Nv | Kunststofplaat die een copolyester bevat, een werkwijze voor de vervaardiging van de kunststofplaat en vormdelen vervaardigd uit de kunststofplaat. |
| DE4417748A1 (de) * | 1994-05-20 | 1995-11-23 | Bayer Ag | UV-stabile Polycarbonate gegebenenfalls im Gemisch mit bekannten aromatischen Polycarbonaten, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
| DE4429697A1 (de) * | 1994-08-22 | 1996-02-29 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von UV-stabilen Polycarbonaten |
| US5484828A (en) * | 1994-11-18 | 1996-01-16 | Bayer Corporation | Color-stable polycarbonate composition and articles molded therefrom |
| DE4444868A1 (de) * | 1994-12-16 | 1996-06-20 | Bayer Ag | UV-geschützte, mehrschichtige Polycarbonatplatten |
| US6004678A (en) * | 1996-08-16 | 1999-12-21 | General Electric Company | Low plate out polycarbonate compositions |
| IT1298206B1 (it) * | 1998-01-27 | 1999-12-20 | Great Lakes Chemical Italia | "2-(2'-idrossifenil) benzotriazoli contenenti un gruppo 2,4- imidazoli- dinedione e procedimento per la loro preparazione" |
| US6239276B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-05-29 | Cytec Technology Corporation | Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
| JP2002518489A (ja) | 1998-06-22 | 2002-06-25 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | ポリ（トリスアリール−１，３，５−トリアジン＝カルバマート）紫外光吸収剤 |
| ATE305004T1 (de) | 1998-06-22 | 2005-10-15 | Cytec Tech Corp | Rotverschobene trisaryl-1,3,5-triazine als uv- licht-absorber |
| US6297377B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-10-02 | Cytec Technology Corporation | Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
| WO2001016224A2 (en) | 1999-09-01 | 2001-03-08 | The Dow Chemical Company | Polycarbonate resin compositions comprising cyanacrylic acid ester stabilizer compounds |
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-
1989
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