JPH0638915B2 - 窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒 - Google Patents
窒素酸化物の選択的還元法に使用できる新規な触媒Info
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- JPH0638915B2 JPH0638915B2 JP1152453A JP15245389A JPH0638915B2 JP H0638915 B2 JPH0638915 B2 JP H0638915B2 JP 1152453 A JP1152453 A JP 1152453A JP 15245389 A JP15245389 A JP 15245389A JP H0638915 B2 JPH0638915 B2 JP H0638915B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、新規な触媒、この触媒の製造法並びにこの触
媒を使用してガス流れ中に含まれる窒素酸化物を除去す
る方法に関する。
媒を使用してガス流れ中に含まれる窒素酸化物を除去す
る方法に関する。
［従来の技術とその問題点］ フランス特許出願第７９．０５５９８号によれば、ガス
流れ中に含まれる窒素酸化物ＮＯ及びNO2(NOx)をアンモ
ニアにより窒素に還元せしめる触媒が知られている。
流れ中に含まれる窒素酸化物ＮＯ及びNO2(NOx)をアンモ
ニアにより窒素に還元せしめる触媒が知られている。
この触媒は、多孔質アルミナ担体と触媒活性相からなっ
ていて、酸素によるアンモニアの酸化によって硝酸を合
成するときに生成する残留窒素酸化物の還元にとって特
に有効であることが示されている。また、この触媒は、
１９０〜２５０℃程度の比較的低い温度で使用できると
いう利点を有し、そのために処理すべきガス流れを再加
熱しないという点でエネルギーの節約となる。しかしな
がら、このような触媒は、さらに硫黄酸化物を低含有量
で含むガス流れ中に含まれる窒素酸化物をアンモニアで
接触還元するのに使用したときにいくつかの不都合を有
することが明らかにされた。
ていて、酸素によるアンモニアの酸化によって硝酸を合
成するときに生成する残留窒素酸化物の還元にとって特
に有効であることが示されている。また、この触媒は、
１９０〜２５０℃程度の比較的低い温度で使用できると
いう利点を有し、そのために処理すべきガス流れを再加
熱しないという点でエネルギーの節約となる。しかしな
がら、このような触媒は、さらに硫黄酸化物を低含有量
で含むガス流れ中に含まれる窒素酸化物をアンモニアで
接触還元するのに使用したときにいくつかの不都合を有
することが明らかにされた。
事実、ガス流れ中の硫黄酸化物ＳＯ２及びSO３(SOx) の
存在が触媒の迅速な失活を引起すことが認められた。
存在が触媒の迅速な失活を引起すことが認められた。
この失活は、硫黄酸化物とガス流れ中に存在する水と窒
素酸化物の接触還元に必須のアンモニアとの間の反応に
よって重硫酸アンモニウムNH4HSO４及び硫酸アンモニウ
ム(NH4)2SO４が生成するためであろう。
素酸化物の接触還元に必須のアンモニアとの間の反応に
よって重硫酸アンモニウムNH4HSO４及び硫酸アンモニウ
ム(NH4)2SO４が生成するためであろう。
事実、重硫酸アンモニウムは触媒の細孔上に沈着し、そ
れによりその容積と表面積を減少させてしまう。さら
に、重硫酸アンモニウムはアルミナと反応して化合物NH
4Al(SO4)２及びAl2(SO4)３を形成し、これらも触媒を失
活させることが認められた。
れによりその容積と表面積を減少させてしまう。さら
に、重硫酸アンモニウムはアルミナと反応して化合物NH
4Al(SO4)２及びAl2(SO4)３を形成し、これらも触媒を失
活させることが認められた。
窒素酸化物ＮＯｘと少量の硫黄酸化物ＳＯｘを含有する
この種のガス流れは、特に、排気ガス、燃焼ボイラーや
他の固定ユニットの廃ガス、例えば火力発電所から生じ
かつ既に実質的に脱硫されている廃ガス中にしばしば見
られる。
この種のガス流れは、特に、排気ガス、燃焼ボイラーや
他の固定ユニットの廃ガス、例えば火力発電所から生じ
かつ既に実質的に脱硫されている廃ガス中にしばしば見
られる。
また、前記の条件と近似した条件でＮＯｘを接触還元で
きる触媒が既に提案されている。
きる触媒が既に提案されている。
二酸化チタン担体上に活性相が担持されている触媒がそ
うである。
うである。
しかしながら、これらの触媒は、３００〜４００℃程度
の温度で最適の活性を示す。さらに、これらは、二酸化
チタンがアルミナよりも高価であるという点で比較的経
費がかかる。これらの担体の別の不都合は、それらの機
械的性質が低いことである。
の温度で最適の活性を示す。さらに、これらは、二酸化
チタンがアルミナよりも高価であるという点で比較的経
費がかかる。これらの担体の別の不都合は、それらの機
械的性質が低いことである。
［発明が解決しようとする課題］ したがって、本発明の目的は、ガス流れ中に少量でＳＯ
３が存在するにもかかわらず、そのガス流れ中に含まれ
る窒素酸化物をアンモニアにより選択的に還元するのを
特に可能ならしめる新規な触媒を提供することである。
３が存在するにもかかわらず、そのガス流れ中に含まれ
る窒素酸化物をアンモニアにより選択的に還元するのを
特に可能ならしめる新規な触媒を提供することである。
本発明の他の目的は、２００〜４００℃の温度（この温
度は有利には２００〜３００℃である）で窒素酸化物を
選択的に還元するのを可能ならしめる触媒を提供するこ
とである。
度は有利には２００〜３００℃である）で窒素酸化物を
選択的に還元するのを可能ならしめる触媒を提供するこ
とである。
本発明の第三の目的は、このような触媒の製造法を提供
することである。
することである。
［課題を解決するための手段］ このために、本発明は、多孔質アルミナを基体とした担
体と少なくとも１種の触媒活性相よりなる触媒におい
て、該担体が、少なくとも１種のスピネル型化合物の表
面層を含むことを特徴とする触媒を提案する。
体と少なくとも１種の触媒活性相よりなる触媒におい
て、該担体が、少なくとも１種のスピネル型化合物の表
面層を含むことを特徴とする触媒を提案する。
本発明に従うスピネル型化合物は、次の一般式 Ｍ１Ａｌ２Ｏ４ （ここで、Ｍ１は亜鉛又はニッケルよりなる群から選ば
れる少なくとも１種の２価金属元素を表わす） を有する。
れる少なくとも１種の２価金属元素を表わす） を有する。
触媒の２価金属元素Ｍ１の含有量は、その酸化物Ｍ１Ｏ
として表わして、触媒の全重量に対して２〜４５重量
％、好ましくは５〜３０重量％である。
として表わして、触媒の全重量に対して２〜４５重量
％、好ましくは５〜３０重量％である。
本発明においては、１００ｎｍ以上の直径の細孔の容積
が２５ cm3／１００ｇ以上、特に２５〜７０ cm3／１０
０ｇであり、３０ｎｍ以上の直径の細孔の容積が４０ c
m3／１００ｇ以上、特に４３〜７０ cm3／１００ｇであ
りかつ全細孔容積が８０〜１２０ cm3／１００ｇである
アルミナを基体とした触媒担体を使用するのが好まし
い。
が２５ cm3／１００ｇ以上、特に２５〜７０ cm3／１０
０ｇであり、３０ｎｍ以上の直径の細孔の容積が４０ c
m3／１００ｇ以上、特に４３〜７０ cm3／１００ｇであ
りかつ全細孔容積が８０〜１２０ cm3／１００ｇである
アルミナを基体とした触媒担体を使用するのが好まし
い。
アルミナを基体とした上記担体の表面積は好ましくは多
くとも１６０m2/gであって、一般には９０〜１５０m2/g
である。
くとも１６０m2/gであって、一般には９０〜１５０m2/g
である。
使用することができるアルミナは、通常γ、θ、δ及び
α結晶形を示し、一般にγ、θ及びδ形が優勢である
が、α形は痕跡状態で存在する。
α結晶形を示し、一般にγ、θ及びδ形が優勢である
が、α形は痕跡状態で存在する。
本発明に従う触媒活性相は、バナジウム、タングステ
ン、モリブデンの酸化物のような少なくとも１種の金属
酸化物よりなっていてよい。
ン、モリブデンの酸化物のような少なくとも１種の金属
酸化物よりなっていてよい。
触媒の活性相の含有量は、触媒の全重量に対して０．５
〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％であってよ
い。
〜５０重量％、好ましくは２〜３０重量％であってよ
い。
有利には、触媒活性相は一方では酸化バナジウムＶ２Ｏ
５を、他方では酸化モリブデンＭｏＯ３又は酸化タング
ステンＷＯ３を包含できることが認められた。１〜０．
１のＶ２ＯとＭｏＯ３又はＷＯ３との間の重量比が好ま
しい。
５を、他方では酸化モリブデンＭｏＯ３又は酸化タング
ステンＷＯ３を包含できることが認められた。１〜０．
１のＶ２ＯとＭｏＯ３又はＷＯ３との間の重量比が好ま
しい。
また、本発明は、前記したような触媒の製造法を目的と
する。
する。
この製造法は、第一工程において、例えば小球状又は顆
粒状の多孔質アルミナ担体を少なくとも１種の２価金属
元素Ｍ１化合物の溶液で含浸することからなる。その
際、該化合物の溶液中の濃度は２価金属元素Ｍ１の最終
含有量が前記の範囲にあるような濃度とする。
粒状の多孔質アルミナ担体を少なくとも１種の２価金属
元素Ｍ１化合物の溶液で含浸することからなる。その
際、該化合物の溶液中の濃度は２価金属元素Ｍ１の最終
含有量が前記の範囲にあるような濃度とする。
このようにし処理されたアルミナ担体は、第二工程にお
いて、約半時間から６時間１００〜２００℃の温度で乾
燥される。次いで、一般に空気中で７００〜１，０００
℃程度、好ましくは７５０〜８５０℃程度の温度で約１
〜６時間行われる焼成操作が実施される。
いて、約半時間から６時間１００〜２００℃の温度で乾
燥される。次いで、一般に空気中で７００〜１，０００
℃程度、好ましくは７５０〜８５０℃程度の温度で約１
〜６時間行われる焼成操作が実施される。
かくして、この処理の後、アルミナを基体とした担体の
表面上に式Ｍ１Ａｌ２Ｏ４のスピネル型化合物の層が形
成されることを認めることができる。
表面上に式Ｍ１Ａｌ２Ｏ４のスピネル型化合物の層が形
成されることを認めることができる。
前記の含浸、乾燥及び焼成操作は１回又は数回繰り返す
ことができる。
ことができる。
含浸用溶液は、一般に、ニッケル及び（又は）亜鉛の塩
を含有できる水溶液である。
を含有できる水溶液である。
これらの塩は、例えばこれらの金属の硝酸塩又は酢酸塩
であってよい。
であってよい。
本発明に従う第三工程では、スピネル型化合物の層で覆
われたアルミナ担体に、触媒活性相を構成する金属酸化
物を与える少なくとも１種の金属化合物の溶液が含浸さ
れる。その際に、該金属化合物の溶液中の濃度は、金属
酸化物の最終含有量が前記した範囲内にあるような濃度
とする。
われたアルミナ担体に、触媒活性相を構成する金属酸化
物を与える少なくとも１種の金属化合物の溶液が含浸さ
れる。その際に、該金属化合物の溶液中の濃度は、金属
酸化物の最終含有量が前記した範囲内にあるような濃度
とする。
第四工程において、触媒は１００〜２００℃の温度に約
半時間から６時間乾燥され、次いで一般に空気中で４０
０〜６００℃、好ましくは４５０〜５５０℃１〜３時間
焼成される。
半時間から６時間乾燥され、次いで一般に空気中で４０
０〜６００℃、好ましくは４５０〜５５０℃１〜３時間
焼成される。
含浸用溶液は、一般に、バナジウム、モリブデン、タン
グステンの酸化物の先駆体金属塩を含有できる水溶液で
ある。
グステンの酸化物の先駆体金属塩を含有できる水溶液で
ある。
塩としては、ジモリブデン酸アンモニウム、ヘプタモリ
ブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウ
ムのようなアンモニウム塩があげられる。
ブデン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウ
ムのようなアンモニウム塩があげられる。
バナジウム化合物を含有する含浸用溶液としては、五酸
化バナジウムをしゅう酸溶液に溶解することによって得
られる溶液を使用することができる。
化バナジウムをしゅう酸溶液に溶解することによって得
られる溶液を使用することができる。
第一及び第三工程の含浸操作は、１回又は数回繰り返す
ことができ、そして各回ごとに前記の第二及び第四工程
に記載のような乾燥及び焼成操作が続けられる。
ことができ、そして各回ごとに前記の第二及び第四工程
に記載のような乾燥及び焼成操作が続けられる。
また、本発明は、前記のような触媒を使用して窒素酸化
物をアンモニアにより還元する方法に関する。
物をアンモニアにより還元する方法に関する。
窒素酸化物を含有するガス流れからこの窒素酸化物を除
去する方法に本発明の触媒を使用するためには、一般に
触媒は適当な反応器に固定床又は流動床として装入され
る。
去する方法に本発明の触媒を使用するためには、一般に
触媒は適当な反応器に固定床又は流動床として装入され
る。
典型的には、本発明に従って浄化すべきガス流れは、化
学工程又は固定された燃焼ユニットからの廃ガス流れで
あって、他にもあるが、下記のもの 窒素、 通常10,000〜100,000vpmの含有量の酸素、 一般に 100〜10,000vpm の含有量の窒素酸化物ＮＯｘ 通常 1〜2,000vpmの含有量の硫黄酸化物ＳＯｘ、及び 一般に 100〜200,000vpmの含有量の水 を含有するものである。
学工程又は固定された燃焼ユニットからの廃ガス流れで
あって、他にもあるが、下記のもの 窒素、 通常10,000〜100,000vpmの含有量の酸素、 一般に 100〜10,000vpm の含有量の窒素酸化物ＮＯｘ 通常 1〜2,000vpmの含有量の硫黄酸化物ＳＯｘ、及び 一般に 100〜200,000vpmの含有量の水 を含有するものである。
通常、本発明に従って実施されるＮＯｘの選択的還元
は、所期の転化率及び被処理ガスのＮＯｘ含有量に応じ
て１．１以下、好ましくは０．８〜１のNH3/NOｘモル比
を要求する。
は、所期の転化率及び被処理ガスのＮＯｘ含有量に応じ
て１．１以下、好ましくは０．８〜１のNH3/NOｘモル比
を要求する。
被処理ガス流れの加圧はＮＯｘからＮ２への転化にとっ
て好ましい。
て好ましい。
加圧は１〜２０バール、好ましくは１〜１２バールであ
ってよい。
ってよい。
本発明の方法を実施するのに使用される温度は被処理ガ
スの空時速度に応じて変るが、通常２００〜４００℃、
有利には２００〜３００℃である。
スの空時速度に応じて変るが、通常２００〜４００℃、
有利には２００〜３００℃である。
被処理ガスの空時速度（ＶＶＨ）は触媒の温度の関数で
あって、一定の結果に対しては温度が高いほど大きなＶ
ＶＨが可能である。
あって、一定の結果に対しては温度が高いほど大きなＶ
ＶＨが可能である。
通常、上記の温度範囲ではＶＶＨは４，０００〜２５
０，０００hr-1、好ましくは７，０００〜４０，０００
hr-1である。
０，０００hr-1、好ましくは７，０００〜４０，０００
hr-1である。
［実施例］ 本発明は、下記の実施例を参照することにより一層理解
されよう。
されよう。
例１ 本発明に従う触媒Ａの製造 触媒Ａを製造するため、 比表面積が１２０m2/gであり、 全細孔容積が９８cm３／１００ｇであり、 １００ｎｍ以上の直径の細孔の細孔容積が３０cm３／１
００ｇであり、 ３０ｎｍ以上の直径の細孔の細孔容積が４３cm３／１０
０ｇである 直径３ｍｍの小球状のアルミナを使用する。
００ｇであり、 ３０ｎｍ以上の直径の細孔の細孔容積が４３cm３／１０
０ｇである 直径３ｍｍの小球状のアルミナを使用する。
１００ｇのこの担体に９８ｍｌの硝酸ニッケル水溶液を
含浸させる。
含浸させる。
含浸後、得られた生成物乾燥機で１２０℃で４時間乾燥
してから空気中で７５０℃で４時間焼成する。
してから空気中で７５０℃で４時間焼成する。
このように得られた生成物のニッケル含有量は、その酸
化物として表わして２０重量％になった。
化物として表わして２０重量％になった。
次いで、この生成物にメタタングステン酸アンモニウム
としゅう酸バナジルの水溶液を含浸する。
としゅう酸バナジルの水溶液を含浸する。
得られた生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾燥し、次
いで、空気中で５００℃で２時間焼成する。
いで、空気中で５００℃で２時間焼成する。
得られた触媒Ａの組成を下記の表Ｉに示す。
例２ 本発明に従う触媒Ｂの製造 例１に記載のようなアルミナ担体１００ｇに９８ｍｌの
硝酸亜鉛水溶液を含浸させる。
硝酸亜鉛水溶液を含浸させる。
含浸させた後、得られた生成物を例１と同じ条件で乾燥
し、これを焼成する。このようにして得られた生成物の
亜鉛含有量は、酸化物として表わして２０重量％になっ
た。
し、これを焼成する。このようにして得られた生成物の
亜鉛含有量は、酸化物として表わして２０重量％になっ
た。
次いで、この生成物を同じ硝酸亜鉛水溶液により２回目
の含浸を行う。
の含浸を行う。
次いで、これを例１と同じ条件で乾燥し、再び焼成す
る。
る。
このようにして得られた生成物の亜鉛含有量は酸化物と
して表わして４０重量％になった。
して表わして４０重量％になった。
次いでこの生成物をメタタングステン酸アンモニウムと
しゅう酸バナジルの水溶液により含浸させ、次いで得ら
れた生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾燥してから空
気中で５００℃で２時間焼成する。
しゅう酸バナジルの水溶液により含浸させ、次いで得ら
れた生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾燥してから空
気中で５００℃で２時間焼成する。
得られた触媒Ｂの組成を下記の表Ｉに示す。
例３ 本発明を代表しない触媒Ｃの製造 触媒Ｃを製造するため例１で使用したものと同じアルミ
ナを使用する。
ナを使用する。
１００ｇのこの担体をメタタングステン酸アンモニウム
としゅう酸バナジルの水溶液９８ｍｌにより含浸させ
る。
としゅう酸バナジルの水溶液９８ｍｌにより含浸させ
る。
次いで、得られた生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾
燥してから空気中で５００℃で２時間焼成する。
燥してから空気中で５００℃で２時間焼成する。
得られた触媒Ｃの組成を下記の表Ｉに示す。
例４ 本発明を代表しない触媒Ｄの製造 触媒Ｄを製造するため、 比表面積が２５０m2/gであり、 全細孔容積が５５cm３／１００ｇであり、１００ｎｍ以
上の直径の細孔の細孔容積が１３cm3/gであり、 ３０ｎｍ以上の直径の細孔の細孔容積が１６cm3/gであ
る 直径３ｍｍの小球状のシリカを使用する。
上の直径の細孔の細孔容積が１３cm3/gであり、 ３０ｎｍ以上の直径の細孔の細孔容積が１６cm3/gであ
る 直径３ｍｍの小球状のシリカを使用する。
１００ｇのこの担体に９８ｍｌの硝酸ニッケル水溶液を
含浸させる。
含浸させる。
含浸させた後、得られた生成物を乾燥機で１２０℃で４
時間乾燥してから空気中で７５０℃で４時間焼成する。
時間乾燥してから空気中で７５０℃で４時間焼成する。
このようにして得られた生成物のニッケル含有量は酸化
物として表わして２０重量％になった。
物として表わして２０重量％になった。
次いでこの生成物にメタタングステン酸アンモニウムと
しゅう酸バナジルの水溶液を含浸させ、次いで得られた
生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾燥してから空気中
で５００℃で２時間焼成する。
しゅう酸バナジルの水溶液を含浸させ、次いで得られた
生成物を乾燥機で１２０℃で４時間乾燥してから空気中
で５００℃で２時間焼成する。
得られた触媒Ｄの組成を下記の表Ｉに示す。
例５ 触媒Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの評価 前記の例にその製造を記載した触媒について、圧力及び
流量を調節したＮＯ、ＮＯ２、ＳＯ２、ＮＨ３、Ｈ２Ｏ
及びＮ２源からなる合成物におけるＮＯｘ除去効率及び
ＳＯｘの存在下での失活抵抗性を決定するため試験す
る。ガス混合物から生じたガス流れを、２５ｃｍ３容積
の触媒を収納しかつ温度調節した室に入れた反応器に供
給し、次いで化学発光によるＮＯｘ測定装置に通じる。
ＮＯｘの除去効率は次式により与えられる。
流量を調節したＮＯ、ＮＯ２、ＳＯ２、ＮＨ３、Ｈ２Ｏ
及びＮ２源からなる合成物におけるＮＯｘ除去効率及び
ＳＯｘの存在下での失活抵抗性を決定するため試験す
る。ガス混合物から生じたガス流れを、２５ｃｍ３容積
の触媒を収納しかつ温度調節した室に入れた反応器に供
給し、次いで化学発光によるＮＯｘ測定装置に通じる。
ＮＯｘの除去効率は次式により与えられる。
（ここで、NOx入口＝反応器の入口でのNOｘ濃度、NOx出
口＝反応器の出口でのNOｘ濃度） １５００vpm のＮＯｘ １５０vpm のＳＯｘ １４００vpm のＮＨ３ ３％のＯ２ ３％のＨ２Ｏ 残りのＮ２ を含有するガス混合物を使用し、８，０００hr-1の空時
速度で、触媒床を２８０℃の温度にもたらし、そして被
処理ガスの圧力を１バール（絶対）として得られた結果
を表Ｉに示す。
口＝反応器の出口でのNOｘ濃度） １５００vpm のＮＯｘ １５０vpm のＳＯｘ １４００vpm のＮＨ３ ３％のＯ２ ３％のＨ２Ｏ 残りのＮ２ を含有するガス混合物を使用し、８，０００hr-1の空時
速度で、触媒床を２８０℃の温度にもたらし、そして被
処理ガスの圧力を１バール（絶対）として得られた結果
を表Ｉに示す。
表Ｉの結果は、本発明に従って得られた触媒が本発明に
従わない触媒よりも優れたＮＯｘ除去性及び耐久性を有
することを示している。
従わない触媒よりも優れたＮＯｘ除去性及び耐久性を有
することを示している。
例６ 本発明に従う２種の触媒を例１に記載の方法に従って製
造する。これらの２種の触媒は、下記の酸化物混合物を
含む触媒活性相を有する。
造する。これらの２種の触媒は、下記の酸化物混合物を
含む触媒活性相を有する。
触媒Ｅ：酸化バナジウム＋酸化タングステン 触媒Ｆ：酸化バナジウム＋酸化モリブデン これらの触媒をＮｉＡｌ２Ｏ４の表面被覆を有する例１
のアルミナ上に担持させる。
のアルミナ上に担持させる。
これを行うために、しゅう酸バナジル、メタタングステ
ン酸アンモニウム及びヘプタモリブデン酸アンモニウム
の各水溶液を使用した。
ン酸アンモニウム及びヘプタモリブデン酸アンモニウム
の各水溶液を使用した。
これらの触媒の組成を下記の表IIに示す。
例７ 触媒Ｅ及びＦをそのＮＯｘの除去効率について決定する
ために試験を行う。
ために試験を行う。
ＮＯｘの還元は例５に記載したような方法に従って行
う。ただし、温度は３００℃、時間は２時間とした。Ｎ
Ｏｘ除去率（Ｒ１）を測定する。
う。ただし、温度は３００℃、時間は２時間とした。Ｎ
Ｏｘ除去率（Ｒ１）を測定する。
得られた結果を下記の表IIに示す。
触媒Ｅ及びＦについても良好なＮＯｘ除去が可能であ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 23/88 ＺＡＢ Ａ 8017−4Ｇ
Claims (9)
- 【請求項１】次の一般式 Ｍ１Ａｌ２Ｏ４ （ここで、Ｍ１は亜鉛及びニッケルよりなる群から選ば
れる少なくとも１種の２価金属元素を表わす） を有する少なくとも１種のスピネル型化合物の表面層を
含む多孔質アルミナを基体とした担体と、一方で酸化バ
ナジウムを及び他方で酸化タングステン又は酸化モリブ
デンのうちの少なくとも１種を含有する触媒活性相とを
含む窒素酸化物の還元用触媒。 - 【請求項２】２価金属元素Ｍ１の含有量がその酸化物Ｍ
１Ｏとして表わして触媒の全重量に対して２〜４５重量
％であることを特徴とする請求項１記載の触媒。 - 【請求項３】１００ｎｍ以上の直径の細孔の容積が２５
cm３／１００ｇ以上であり、３０ｎｍ以上の直径の細孔
の容積が４０ cm3／１００ｇ以上であり、全細孔容積が
８０〜１２０ cm3／１００ｇでありかつ多くとも１６０
m2/gの表面積を示すアルミナを基体とした担体を含むこ
とを特徴とする請求項１又は２記載の触媒。 - 【請求項４】アルミナ担体がγ、θ及びδ結晶相と痕跡
状態のα結晶相を含むことを特徴とする請求項１〜３の
いずれかに記載の触媒。 - 【請求項５】触媒活性相の含有量が触媒の全重量に対し
て０．５〜５０重量％であることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の触媒。 - 【請求項６】触媒活性相が一方で酸化バナジウムＶ２Ｏ
５を、他方で酸化モリブデンＭｏＯ３又は酸化タングス
テンＷＯ３を、１〜０．１のＶ２Ｏ５対ＭｏＯ３又はＷ
Ｏ３の重量比で含むことを特徴とする請求項１〜５のい
ずれかに記載の触媒。 - 【請求項７】ａ）アルミナ担体に少なくとも１種の２価
金属Ｍ１の化合物の溶液を含浸させ、 ｂ）乾燥し焼成し、 ｃ）バナジウム、タングステン又はモリブデンの酸化物
の少なくとも１種の先駆体化合物の溶液を含浸させ、 ｄ）乾燥し焼成する ことからなることを特徴とする請求項１〜６のいずれか
に記載の触媒の製造法。 - 【請求項８】ガス流れを請求項１〜６のいずれかに記載
の触媒で処理することを特徴とする、ガス流れ中に含ま
れる窒素酸化物をアンモニアで還元する方法。 - 【請求項９】ガス流れが窒素酸化物ＮＯｘ以外に硫黄酸
化物ＳＯｘを含むことを特徴とする請求項８記載の方
法。
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|---|---|
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| KR101971085B1 (ko) * | 2016-12-30 | 2019-04-22 | 에스케이가스 주식회사 | 올레핀 제조용 촉매 및 이를 이용한 연속 반응-재생 올레핀 제조방법 |
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| JPS5610334A (en) * | 1979-07-06 | 1981-02-02 | Toyota Motor Corp | Catalyst for cleaning up exhaust gas and manufacture of said catalyst |
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