JPH06386A - 金属又は酸化物を含有する触媒素子及び焼却プラントからの排ガス中の環式有機化合物を酸化分解する方法 - Google Patents
金属又は酸化物を含有する触媒素子及び焼却プラントからの排ガス中の環式有機化合物を酸化分解する方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/8668—Removing organic compounds not provided for in B01D53/8603 - B01D53/8665
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
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- B01D53/8659—Removing halogens or halogen compounds
- B01D53/8662—Organic halogen compounds
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 焼却プラントからの排ガス中の環式有機化合
物、特にジオキシンの濃度をできるかぎり最低にするこ
とができるように、触媒寸法が最適化された、焼却プラ
ントからの排ガス中の環式有機化合物を分解する方法の
ための触媒素子を提供する。 【構成】 触媒素子は、その形状が方程式(1): 【数1】 [式中、x,d,u,DT,CO,CX及びパラメータA
は、請求項1に定義されている]に基づいて構成されて
いる。
物、特にジオキシンの濃度をできるかぎり最低にするこ
とができるように、触媒寸法が最適化された、焼却プラ
ントからの排ガス中の環式有機化合物を分解する方法の
ための触媒素子を提供する。 【構成】 触媒素子は、その形状が方程式(1): 【数1】 [式中、x,d,u,DT,CO,CX及びパラメータA
は、請求項1に定義されている]に基づいて構成されて
いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属及び/又は酸化物
を含有する触媒素子並びに該触媒を使用して焼却プラン
トからの排ガス中の環式有機化合物を酸化分解する方法
に関する。
を含有する触媒素子並びに該触媒を使用して焼却プラン
トからの排ガス中の環式有機化合物を酸化分解する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】焼却炉排ガスはしばしばなお、環境汚染
を軽減するために排ガスから除去すべき未燃焼有機化合
物を含有する。
を軽減するために排ガスから除去すべき未燃焼有機化合
物を含有する。
【0003】特に困難な有機化合物は、ハロゲン化され
た環式有機化合物及び特に多塩素化されたジベンゾジオ
キシン及びジベンゾフラン(以下には総称してジオキシ
ンと称する)であることが知られている。
た環式有機化合物及び特に多塩素化されたジベンゾジオ
キシン及びジベンゾフラン(以下には総称してジオキシ
ンと称する)であることが知られている。
【0004】初歩的手段、特に焼却条件の変更(例え
ば、Chemische Industrie 7/90, pp.21−25参照)によ
って前記の不完全燃焼生成物を減少させる又は煙道ガス
NIトリエタノールアミン及びトリエチルアミンを加え
ることによってジオキシンの形成を抑制する(UWSF-Z.
Umweltchem. Oekotox.,4 (1989) pp.3-6参照)、不完全
燃焼の前記生成物を減少させる方法が存在するが、これ
らの手段は排ガス中のジオキシンの最高許容濃度(0.
1ng/m3)には容易には達しない。
ば、Chemische Industrie 7/90, pp.21−25参照)によ
って前記の不完全燃焼生成物を減少させる又は煙道ガス
NIトリエタノールアミン及びトリエチルアミンを加え
ることによってジオキシンの形成を抑制する(UWSF-Z.
Umweltchem. Oekotox.,4 (1989) pp.3-6参照)、不完全
燃焼の前記生成物を減少させる方法が存在するが、これ
らの手段は排ガス中のジオキシンの最高許容濃度(0.
1ng/m3)には容易には達しない。
【0005】従って、適当な触媒で酸化分解によりジオ
キシン含量を更に減少させる必要がある。この目的のた
めに、欧州特許公開第252521号明細書、欧州特許
公開第387417号明細書及びドイツ国特許出願公開
第3933480号明細書は、金属又は酸化物を含有す
る触媒を使用することを開示した。
キシン含量を更に減少させる必要がある。この目的のた
めに、欧州特許公開第252521号明細書、欧州特許
公開第387417号明細書及びドイツ国特許出願公開
第3933480号明細書は、金属又は酸化物を含有す
る触媒を使用することを開示した。
【0006】従来、このような触媒の開発においては、
特に化学組成物に関する分解速度の依存性が重要視され
た、即ち触媒の活性度が、排ガスの温度及び空間速度の
ような技術的観点に加えて第一の重要性を有していた
(H. Fahlenkamp, G. Mittelbach, H. Hagenmaier et a
l., Katalytische Oxidation: Eine Technik zur Vermi
nderung der PLDD/PCDF-Emission aus Muellverbrennun
gsanlagen auf kleiner0/1 ng TE/m3, VGB-Fachtagung,
Thermische Abfallverwetung 1990, Essen, Germany,
28 Sept. 1990)。この関係で体積当たりの触媒表面積
も示されているが、しかしながら、触媒の構造は同じ箇
所に重要でないと見なされている(ドイツ国特許出願公
開第3933480号明細書、第3頁参照)。
特に化学組成物に関する分解速度の依存性が重要視され
た、即ち触媒の活性度が、排ガスの温度及び空間速度の
ような技術的観点に加えて第一の重要性を有していた
(H. Fahlenkamp, G. Mittelbach, H. Hagenmaier et a
l., Katalytische Oxidation: Eine Technik zur Vermi
nderung der PLDD/PCDF-Emission aus Muellverbrennun
gsanlagen auf kleiner0/1 ng TE/m3, VGB-Fachtagung,
Thermische Abfallverwetung 1990, Essen, Germany,
28 Sept. 1990)。この関係で体積当たりの触媒表面積
も示されているが、しかしながら、触媒の構造は同じ箇
所に重要でないと見なされている(ドイツ国特許出願公
開第3933480号明細書、第3頁参照)。
【0007】しかしながら、触媒素子の立体形状の正確
な決定は、少なくとも最大許容濃度が達成されるべき場
合には、益々重要である。
な決定は、少なくとも最大許容濃度が達成されるべき場
合には、益々重要である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、焼却
プラントからの排ガス中の環式有機化合物、特にジオキ
シンの濃度をできるかぎり最低にすることができるよう
に、触媒寸法が最適化された、焼却プラントからの排ガ
ス中の環式有機化合物を分解する方法のための触媒素子
を提供することである。
プラントからの排ガス中の環式有機化合物、特にジオキ
シンの濃度をできるかぎり最低にすることができるよう
に、触媒寸法が最適化された、焼却プラントからの排ガ
ス中の環式有機化合物を分解する方法のための触媒素子
を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】前記課題は、触媒形状
が、方程式(1):
が、方程式(1):
【0010】
【数3】
【0011】[式中、x=触媒素子の長さ、d=貫通孔
に関する貫通孔の水圧直径又は板状触媒素子に関する板
離隔距離の2倍、u=平均速度、DT=排ガス中の汚染
物質の温度依存性拡散係数、CO=汚染物質の初期濃
度、CX=長さx後の汚染物質の濃度を表し、かつパラ
メータAは、通路状貫通孔の形状に依存して以下の値を
有する: 形状 A 多角形(n=3〜∞) 1.2〜4.4 板 <8.3 ]に基づく、通路状の貫通孔を有する触媒素子によって
解決される。
に関する貫通孔の水圧直径又は板状触媒素子に関する板
離隔距離の2倍、u=平均速度、DT=排ガス中の汚染
物質の温度依存性拡散係数、CO=汚染物質の初期濃
度、CX=長さx後の汚染物質の濃度を表し、かつパラ
メータAは、通路状貫通孔の形状に依存して以下の値を
有する: 形状 A 多角形(n=3〜∞) 1.2〜4.4 板 <8.3 ]に基づく、通路状の貫通孔を有する触媒素子によって
解決される。
【0012】本発明は、触媒素子上の環式化合物、特に
ジオキシンの酸化分解の速度は拡散によって決定され、
反対に、触媒素子の表面上の化合物の化学的分解速度は
重要でないという驚異的発見を基礎とする。
ジオキシンの酸化分解の速度は拡散によって決定され、
反対に、触媒素子の表面上の化合物の化学的分解速度は
重要でないという驚異的発見を基礎とする。
【0013】従って、専ら、触媒素子の設計のために特
に重要である、前記の方程式を基礎として触媒形状を決
定することが可能である。
に重要である、前記の方程式を基礎として触媒形状を決
定することが可能である。
【0014】Aに関する最大値は、形成される層流に適
用されかつ以下の表に種々の通路形状に関して示すシャ
ーウッド(Sherwood)数、Shαに依存する: 通路形状 Shα 三角形 2.05 四角形 2.98 六角形 3.35 円形 3.65 板状 7.54 前記方程式における量は、一定の方法に関しては既知で
ある(CX,CO,u)か又は物質定数(DT)である。
従って、触媒素子の多角形の水圧直径(d=4F/U,
F=面積及びU=貫通孔の周)又は板状触媒の場合の板
離隔距離、及び長さは、パラメータAの関数として計算
することができる。Aに関する経験的に決められる範囲
限界は、前記範囲内で、個々の値の測定の分析精度によ
って大体において決まる。
用されかつ以下の表に種々の通路形状に関して示すシャ
ーウッド(Sherwood)数、Shαに依存する: 通路形状 Shα 三角形 2.05 四角形 2.98 六角形 3.35 円形 3.65 板状 7.54 前記方程式における量は、一定の方法に関しては既知で
ある(CX,CO,u)か又は物質定数(DT)である。
従って、触媒素子の多角形の水圧直径(d=4F/U,
F=面積及びU=貫通孔の周)又は板状触媒の場合の板
離隔距離、及び長さは、パラメータAの関数として計算
することができる。Aに関する経験的に決められる範囲
限界は、前記範囲内で、個々の値の測定の分析精度によ
って大体において決まる。
【0015】パラメータAは、通路状貫通孔の形状に依
存して、以下の値を有する: 形状 A 三角形 1.2〜2.8 四角形 2.2〜3.8 六角形 2.5〜4.2 円形 2.8〜4.4 板状 <8.3 触媒の失活及び/又は排ガス中のダストの存在は、Aの
値における一層の減少を惹起する。
存して、以下の値を有する: 形状 A 三角形 1.2〜2.8 四角形 2.2〜3.8 六角形 2.5〜4.2 円形 2.8〜4.4 板状 <8.3 触媒の失活及び/又は排ガス中のダストの存在は、Aの
値における一層の減少を惹起する。
【0016】排ガスが実質的にダスト不含である(ダス
ト含量:0〜30mg/m3(s.t.p))、即ち例
えば静電気フィルタ又は煙道ガス浄化後の排ガスである
場合には、Aの関して以下の最低値が得られる:三角形
1.5;四角形2.4;六角形2.8;円形3.0;板
状4.0。
ト含量:0〜30mg/m3(s.t.p))、即ち例
えば静電気フィルタ又は煙道ガス浄化後の排ガスである
場合には、Aの関して以下の最低値が得られる:三角形
1.5;四角形2.4;六角形2.8;円形3.0;板
状4.0。
【0017】本発明は、また、触媒素子を使用して10
0〜500℃で実施する、焼却プラントからの排ガス中
の環式有機化合物を酸化分解する方法を提供し、該方法
は、転化率u、滞留時間r及び触媒の寸法を、以下の方
程式(2):
0〜500℃で実施する、焼却プラントからの排ガス中
の環式有機化合物を酸化分解する方法を提供し、該方法
は、転化率u、滞留時間r及び触媒の寸法を、以下の方
程式(2):
【0018】
【数4】
【0019】[式中、U=汚染物質の転化率(=1−C
X/CO)、r=滞留時間(=x/u、uは平均ガス速度
である)、及びDT,d及びAは通路形状の貫通孔の形
状に基づき前記に定義したものを表す]に基づいて構成
することよりなる。
X/CO)、r=滞留時間(=x/u、uは平均ガス速度
である)、及びDT,d及びAは通路形状の貫通孔の形
状に基づき前記に定義したものを表す]に基づいて構成
することよりなる。
【0020】この方程式(2)は、触媒と関連して前記
の方程式(1)から展開したものである。
の方程式(1)から展開したものである。
【0021】本発明は、必要である触媒形状に関する精
確な詳細を初めて提供するものである。
確な詳細を初めて提供するものである。
【0022】挙げることができる環式有機化合物は、芳
香族と脂肪族環式化合物の両者であり、かつ複素環式又
は置換された環式化合物も分解される。特に、多環式で
あってもよいハロゲン化された化合物、例えば多塩素化
されたビフェニル、もちろん多環式フェノールも、本発
明による触媒又は方法により分解される。本発明による
触媒及び本発明による方法は、特に前記ジオキシンの分
解のための特に好適である。
香族と脂肪族環式化合物の両者であり、かつ複素環式又
は置換された環式化合物も分解される。特に、多環式で
あってもよいハロゲン化された化合物、例えば多塩素化
されたビフェニル、もちろん多環式フェノールも、本発
明による触媒又は方法により分解される。本発明による
触媒及び本発明による方法は、特に前記ジオキシンの分
解のための特に好適である。
【0023】以下に前記の数量について記載する:CX
及びCOは、標準温度及び圧力での立方メートル当たり
のノナグラムで示される。この場合、ジオキシン濃度は
通常の方法で測定される。温度に依存する拡散係数DT
は,公知方法で決定され(例えばVDI-Waermeatlas, 4t
h, Edition,1988, Da32/Da33参照)、かつ例えば30
3℃で、テトラクロロジベンゾジオキシンに関しては
0.175cm2/s、ヘキサクロロジベンゾジオキシ
ンに関しては0.163cm2/s,オクタクロロジベ
ンゾジオキシンに関しては0.153cm2/s及びヘ
キサクロロジベンゾジフランに関しては0.165cm
2/sである。
及びCOは、標準温度及び圧力での立方メートル当たり
のノナグラムで示される。この場合、ジオキシン濃度は
通常の方法で測定される。温度に依存する拡散係数DT
は,公知方法で決定され(例えばVDI-Waermeatlas, 4t
h, Edition,1988, Da32/Da33参照)、かつ例えば30
3℃で、テトラクロロジベンゾジオキシンに関しては
0.175cm2/s、ヘキサクロロジベンゾジオキシ
ンに関しては0.163cm2/s,オクタクロロジベ
ンゾジオキシンに関しては0.153cm2/s及びヘ
キサクロロジベンゾジフランに関しては0.165cm
2/sである。
【0024】排ガスは一般に種々のジオキシンの混合物
を含有するので、少なくとも相応するジオキシンの分解
を保証するためには極めて小さい拡散係数に関する計算
を実施するのが好ましい。
を含有するので、少なくとも相応するジオキシンの分解
を保証するためには極めて小さい拡散係数に関する計算
を実施するのが好ましい。
【0025】平均ガス速度uは商VR/ACから計算され
る。この場合、VRは排ガスの空間速度(m3/h)及び
ACは接触面積である。一方接触面積は、触媒素子の全
横断面積(これは例えば製造又は反応器によって決定さ
れる)から、開口比ε(例えば面積の60%が開口であ
る場合には0.6である)で割ることにより計算され
る。従って、開口比εは、自由横断面積と全横断面積と
の比によって決まる。
る。この場合、VRは排ガスの空間速度(m3/h)及び
ACは接触面積である。一方接触面積は、触媒素子の全
横断面積(これは例えば製造又は反応器によって決定さ
れる)から、開口比ε(例えば面積の60%が開口であ
る場合には0.6である)で割ることにより計算され
る。従って、開口比εは、自由横断面積と全横断面積と
の比によって決まる。
【0026】本発明による方法におけ平均ガス速度u
は、一般に5〜10m/sの範囲内にある。
は、一般に5〜10m/sの範囲内にある。
【0027】量dは、通路状貫通孔の横断面が正多角形
又は円である場合には、水圧直径として既知である。従
って、正方形の貫通孔の関する水圧直径は、例えばd=
4・a2/4a=a(a=1辺の長さ)である。板状触
媒のためには、dは板離隔距離を表す。
又は円である場合には、水圧直径として既知である。従
って、正方形の貫通孔の関する水圧直径は、例えばd=
4・a2/4a=a(a=1辺の長さ)である。板状触
媒のためには、dは板離隔距離を表す。
【0028】通路状貫通孔を有する触媒素子は、該触媒
素子が前記の条件を満足する限り、任意の所望の形状を
有することができる。従って、公知のハネカム触媒、更
にまた板状触媒も可能である。ハネカム通路は、前記の
多角形の形であってよいが、円又は丸形の通路でも可能
である。
素子が前記の条件を満足する限り、任意の所望の形状を
有することができる。従って、公知のハネカム触媒、更
にまた板状触媒も可能である。ハネカム通路は、前記の
多角形の形であってよいが、円又は丸形の通路でも可能
である。
【0029】前記の2つの方程式(1)及び(2)は、
管内の層流の場合の熱伝達のために開発された従来公知
の方程式:
管内の層流の場合の熱伝達のために開発された従来公知
の方程式:
【0030】
【数5】
【0031】から導かれる(Graetz, Ann. Phys., 18
(1883) 79/94, 25 (1885) 337/357; Nusselt, Z. VDI 5
4 (1910) 1154/1158)。
(1883) 79/94, 25 (1885) 337/357; Nusselt, Z. VDI 5
4 (1910) 1154/1158)。
【0032】貫通孔の数はセルzの数の平方に相当しか
つ排ガス中のダスト含量に基づき変動することができ
る、例えば正方形の貫通孔に関しては、以下の方程式:
つ排ガス中のダスト含量に基づき変動することができ
る、例えば正方形の貫通孔に関しては、以下の方程式:
【0033】
【数6】
【0034】[式中、a=セル開口(即ち、貫通孔の辺
の長さ)、b=触媒素子の辺長さ、z=セルの数(触媒
素子の1辺に沿った貫通孔の数)、ε=開口比、この場
合、実質的にダスト不含の排ガスの関しては40≦z≦
25、低ダスト含量を有する排ガスに関しては39≦z
≦25及び高ダスト含量を有する排ガスに関しては24
≦z≦20である]が当てはまる。
の長さ)、b=触媒素子の辺長さ、z=セルの数(触媒
素子の1辺に沿った貫通孔の数)、ε=開口比、この場
合、実質的にダスト不含の排ガスの関しては40≦z≦
25、低ダスト含量を有する排ガスに関しては39≦z
≦25及び高ダスト含量を有する排ガスに関しては24
≦z≦20である]が当てはまる。
【0035】用語“実質的にダスト不含の排ガス”と
は、標準温度及び圧力で立方メートル当たりダスト粒子
0〜30mg(mg/m3(s.t.p))を含有する排
ガスを意味し、用語“低ダスト含量を有する排ガス”と
は、1つのガイドとして、30〜500mg/m3(s.
t.p)を意味し、かつ用語“高ダスト含量を有する排
ガス”とは、500mg/m3(s.t.p)より大で
あることを意味する。
は、標準温度及び圧力で立方メートル当たりダスト粒子
0〜30mg(mg/m3(s.t.p))を含有する排
ガスを意味し、用語“低ダスト含量を有する排ガス”と
は、1つのガイドとして、30〜500mg/m3(s.
t.p)を意味し、かつ用語“高ダスト含量を有する排
ガス”とは、500mg/m3(s.t.p)より大で
あることを意味する。
【0036】これは触媒素子上での極めて低い圧力損失
を達成するための1つの手段である。この圧力損失に
は、以下の方程式(4):
を達成するための1つの手段である。この圧力損失に
は、以下の方程式(4):
【0037】
【数7】
【0038】[式中、η=排ガスの動力学粘度、及び
u,x及びd=は前記に定義したものを表し、かつ0.
89≦φ≦1.5である]が適用される(VDI-Waemeatl
as, 4thEdition, 1983, 267)。
u,x及びd=は前記に定義したものを表し、かつ0.
89≦φ≦1.5である]が適用される(VDI-Waemeatl
as, 4thEdition, 1983, 267)。
【0039】本発明による方法のためには、触媒素子に
よる環式有機化合物の吸着は活性物質の組成に関係な
く、常に、実質的に層状の通路流れ内の拡散性物質輸送
のみが触媒素子での汚染物質の酸化性分解の速度に関す
る決定要因であるほど急速であるということは真実であ
る。従って、触媒素子の有効性は、実質的に形状によっ
て決まる。この場合、正六角形の形の通路状貫通孔が特
に好ましい。
よる環式有機化合物の吸着は活性物質の組成に関係な
く、常に、実質的に層状の通路流れ内の拡散性物質輸送
のみが触媒素子での汚染物質の酸化性分解の速度に関す
る決定要因であるほど急速であるということは真実であ
る。従って、触媒素子の有効性は、実質的に形状によっ
て決まる。この場合、正六角形の形の通路状貫通孔が特
に好ましい。
【0040】この認識に基づき、方程式(1)〜(4)
を本発明による触媒及び本発明による方法のために利用
することができる。これらの方程式は、絶対的に触媒材
料の吸着性及び動力学的特性に関する情報を含まない。
を本発明による触媒及び本発明による方法のために利用
することができる。これらの方程式は、絶対的に触媒材
料の吸着性及び動力学的特性に関する情報を含まない。
【0041】従って、原理的には、本発明による方法
と、例えば同じタイプの触媒上でNH3を使用す窒素酸
化物の触媒還元(SCR反応)との間に差異が存在す
る。というのも、両者の拡散性物質輸送及び触媒材料で
のNH3吸着の熱動力学及びSCR反応の動力学が、こ
の還元において観察されるはずであるからである。
と、例えば同じタイプの触媒上でNH3を使用す窒素酸
化物の触媒還元(SCR反応)との間に差異が存在す
る。というのも、両者の拡散性物質輸送及び触媒材料で
のNH3吸着の熱動力学及びSCR反応の動力学が、こ
の還元において観察されるはずであるからである。
【0042】使用することができる触媒材料は、金属及
び/又は酸化物を含有する酸化触媒のために公知の材料
である。記述の通り、多環式有機化合物の分解は第一に
触媒通路内の拡散に依存しかつ触媒に活性には依存しな
いので、触媒材料の選択は重要でない。
び/又は酸化物を含有する酸化触媒のために公知の材料
である。記述の通り、多環式有機化合物の分解は第一に
触媒通路内の拡散に依存しかつ触媒に活性には依存しな
いので、触媒材料の選択は重要でない。
【0043】使用することができる材料は、Ti
O2,,SiO2又は鉄をべーすとするものであり、これ
らは付加的成分としてクロム、タングステン、モリブデ
ン又はバナジウムの酸化物と一緒に使用することもでき
る。このタイプの触媒は、多数従来技術に記載された
(例えば欧州特許公開第252521号明細書、欧州特
許公開第387417号明細書及びドイツ国特許出願公
開第3894722号明細書参照)。
O2,,SiO2又は鉄をべーすとするものであり、これ
らは付加的成分としてクロム、タングステン、モリブデ
ン又はバナジウムの酸化物と一緒に使用することもでき
る。このタイプの触媒は、多数従来技術に記載された
(例えば欧州特許公開第252521号明細書、欧州特
許公開第387417号明細書及びドイツ国特許出願公
開第3894722号明細書参照)。
【0044】有利であるのは、酸化物成分が酸化バナジ
ウム0.01〜1.0重量%だけを含有するか又は有利
には含有しない、さもなければTiO250〜90重量
%、WO3及び/又はMoO32〜15重量%及び充填
剤、例えばシリカ、酸化アルミニウム、ゼオライト、ベ
ントナイト、アルミノ珪酸塩(クレイ及びカオリン)1
〜40重量%からなる触媒素子である。
ウム0.01〜1.0重量%だけを含有するか又は有利
には含有しない、さもなければTiO250〜90重量
%、WO3及び/又はMoO32〜15重量%及び充填
剤、例えばシリカ、酸化アルミニウム、ゼオライト、ベ
ントナイト、アルミノ珪酸塩(クレイ及びカオリン)1
〜40重量%からなる触媒素子である。
【0045】しかしながら、該触媒は金属又は金属塩、
例えば白金又はパラジウム、又はアルカリ土類金属硫酸
塩、特にBaSO4を含有することもできる(ドイツ国
特許出願公告第3531871号明細書及び米国特許第
4929586号明細書参照)。
例えば白金又はパラジウム、又はアルカリ土類金属硫酸
塩、特にBaSO4を含有することもできる(ドイツ国
特許出願公告第3531871号明細書及び米国特許第
4929586号明細書参照)。
【0046】また、適当な触媒材料は、排ガス中のNO
Xの分解のために記載された触媒組成物であり、かつT
iO2及び更に金属酸化物の混合物を含有するものであ
る。このことは、特にドイツ国特許出願公告第2458
888号明細書に記載されている。
Xの分解のために記載された触媒組成物であり、かつT
iO2及び更に金属酸化物の混合物を含有するものであ
る。このことは、特にドイツ国特許出願公告第2458
888号明細書に記載されている。
【0047】更に、該触媒は公知の加工助剤を含有する
ことができる(例えばドイツ国特許第3906136号
明細書参照)。
ことができる(例えばドイツ国特許第3906136号
明細書参照)。
【0048】触媒素子は、ここでは全部が前記材料から
なっている必要はない。触媒材料で被覆した素子、すな
わち表面が少なくとも部分的に触媒によって被覆され
た、例えば金属又はセラミックからなる前成形された担
体も、本発明に包含される。
なっている必要はない。触媒材料で被覆した素子、すな
わち表面が少なくとも部分的に触媒によって被覆され
た、例えば金属又はセラミックからなる前成形された担
体も、本発明に包含される。
【0049】焼却プラントは、ごみ焼却プラント、発電
所、産業廃棄物焼却プラント又はプロセス炉であってよ
い。
所、産業廃棄物焼却プラント又はプロセス炉であってよ
い。
【0050】本発明による方法は、100〜500℃、
有利には250〜300℃で実施する。
有利には250〜300℃で実施する。
【0051】従って、本発明による方法を使用すること
により、触媒を収容した反応器内の温度を100℃に低
下させるか、又は相応して触媒材料中の活性成分(例え
ばV2O5)の含量を減少させることが可能である。
により、触媒を収容した反応器内の温度を100℃に低
下させるか、又は相応して触媒材料中の活性成分(例え
ばV2O5)の含量を減少させることが可能である。
【0052】従って、本発明に基づく形状を有する触媒
は、V2O5を必要としないか、又は0.05〜1.0重
量%のV2O5含量を有する、このことは特に、その際低
下せしめられるSO2/SO2転化率に基づき特に有利で
ある。
は、V2O5を必要としないか、又は0.05〜1.0重
量%のV2O5含量を有する、このことは特に、その際低
下せしめられるSO2/SO2転化率に基づき特に有利で
ある。
【0053】本発明による方法は、間歇法として実施す
ることできる。このことは、2つの連続した工程を異な
った温度で実施することを意味する。第1工程では、汚
染物質を主として低温で吸着させ、かつ第2工程での分
解は第1工程に比較して高めた温度で実施する。2つの
工程の温度は好ましくは少なくとも50℃異なる、特に
第1工程の温度100〜250℃でありかつ第2工程の
温度は300〜550℃である。分解を起こさないで加
熱する最中の汚染物質の脱着を阻止するために、少なく
とも2つの触媒素子を次々に設置し、低温での吸着は、
汚染物質吸着物の少量だけが最後の触媒素子で行われる
か、又は全く行われないようになるまで行い、かつこの
最後の素子を次いで最初に加熱過程で加熱するのが有利
である。
ることできる。このことは、2つの連続した工程を異な
った温度で実施することを意味する。第1工程では、汚
染物質を主として低温で吸着させ、かつ第2工程での分
解は第1工程に比較して高めた温度で実施する。2つの
工程の温度は好ましくは少なくとも50℃異なる、特に
第1工程の温度100〜250℃でありかつ第2工程の
温度は300〜550℃である。分解を起こさないで加
熱する最中の汚染物質の脱着を阻止するために、少なく
とも2つの触媒素子を次々に設置し、低温での吸着は、
汚染物質吸着物の少量だけが最後の触媒素子で行われる
か、又は全く行われないようになるまで行い、かつこの
最後の素子を次いで最初に加熱過程で加熱するのが有利
である。
【0054】図1は、触媒を入れた反応器1を有する相
応する実験プラントの線図である。煙道ガス副流7は、
管6を有する管束型熱交換器5を貫流する。この場合、
管6の回りを流れる煙道ガス7を、加熱ロッド4を備え
た電気予熱器3内で発生しかつ管6を貫流する熱気9に
よって加熱することができる。浄化後に、清浄ガス流8
は該プラントから出る。該プラントは、分解すべき環式
有機化合物の含量を測定するための測定地点10を有す
る。
応する実験プラントの線図である。煙道ガス副流7は、
管6を有する管束型熱交換器5を貫流する。この場合、
管6の回りを流れる煙道ガス7を、加熱ロッド4を備え
た電気予熱器3内で発生しかつ管6を貫流する熱気9に
よって加熱することができる。浄化後に、清浄ガス流8
は該プラントから出る。該プラントは、分解すべき環式
有機化合物の含量を測定するための測定地点10を有す
る。
【0055】
【実施例】ごみ及び産業廃棄物焼却プラントで、静電気
フィルタ及びスクラバを通過したジオキシン含有煙道ガ
ス副流7を採集することにより実験を行った。該煙道ガ
スを、スクラバ後の図1に示されているような循環路内
で冷却限界温度と、360℃の間の温度に加熱した。こ
の加熱は、間接的に二次循環路内で、誘導棒を有する電
気予熱器3によって加熱された熱気9を、煙道ガス流内
に配置された管束型熱交換器を通過させることにより行
った。この場合、煙道ガス副流は熱交換器の管束6の回
りを流動する。この形式の煙道ガス再加熱によって、管
の過剰温度を小さく保ったので、加熱管の壁温度はいか
なる場合も所望の煙道ガス温度よりも約30℃高かった
に過ぎない。
フィルタ及びスクラバを通過したジオキシン含有煙道ガ
ス副流7を採集することにより実験を行った。該煙道ガ
スを、スクラバ後の図1に示されているような循環路内
で冷却限界温度と、360℃の間の温度に加熱した。こ
の加熱は、間接的に二次循環路内で、誘導棒を有する電
気予熱器3によって加熱された熱気9を、煙道ガス流内
に配置された管束型熱交換器を通過させることにより行
った。この場合、煙道ガス副流は熱交換器の管束6の回
りを流動する。この形式の煙道ガス再加熱によって、管
の過剰温度を小さく保ったので、加熱管の壁温度はいか
なる場合も所望の煙道ガス温度よりも約30℃高かった
に過ぎない。
【0056】次いで、このようにして加熱したジオキシ
ン含有ガスを、2つの触媒帯域2を備え、それぞれの帯
域はそれぞれ1辺が150mmを有する1〜4個の触媒
素子(正方形)を有する、触媒を充填した反応器1に流
入させ、反応器1から実質的にジオキシン不含の形でガ
ス流8として流出させた。もう1つの効果として、煙道
ガス流7内に最初から存在するNOXは、NH3が計量供
給される速度で実質的に定量的に転化される。
ン含有ガスを、2つの触媒帯域2を備え、それぞれの帯
域はそれぞれ1辺が150mmを有する1〜4個の触媒
素子(正方形)を有する、触媒を充填した反応器1に流
入させ、反応器1から実質的にジオキシン不含の形でガ
ス流8として流出させた。もう1つの効果として、煙道
ガス流7内に最初から存在するNOXは、NH3が計量供
給される速度で実質的に定量的に転化される。
【0057】ジオキシンを触媒の前と後ろの地点10で
測定した。種々の触媒タイプ、煙道ガス体積流量及び温
度、入り口及び出口濃度、触媒長さ、比表面積、開口比
及び開口直径の関する実施例1〜7の結果は、表1にま
とめて示す。表2は、相応する方程式(1)及び(2)
の評価を、半対数プロットで縦座標としてCX/COをか
つ横座標としてδ=D・x/u・d2を示す。
測定した。種々の触媒タイプ、煙道ガス体積流量及び温
度、入り口及び出口濃度、触媒長さ、比表面積、開口比
及び開口直径の関する実施例1〜7の結果は、表1にま
とめて示す。表2は、相応する方程式(1)及び(2)
の評価を、半対数プロットで縦座標としてCX/COをか
つ横座標としてδ=D・x/u・d2を示す。
【0058】ハネカム触媒の比表面積は、545〜78
4m2であり、ハネカム内の速度(平均ガス速度u)は
2.63〜7.98m/s(作業温度で)、及び温度は
250〜300℃であった。
4m2であり、ハネカム内の速度(平均ガス速度u)は
2.63〜7.98m/s(作業温度で)、及び温度は
250〜300℃であった。
【0059】図2から明らかなように、測定地点は、方
程式(1)に基づき選択したプロットにおいて傾斜4A
(A=2.98)の直線に十分に一致する。図2に示さ
れた測定地点は、表1からの実施例1〜7に相当する。
程式(1)に基づき選択したプロットにおいて傾斜4A
(A=2.98)の直線に十分に一致する。図2に示さ
れた測定地点は、表1からの実施例1〜7に相当する。
【0060】
【表1】
【0061】
【表2】
【図1】本発明による触媒をいれた反応器を有する実験
プラントの構成図である。
プラントの構成図である。
【図2】本発明による方法の実験結果を示す図である。
【符号の説明】 1 触媒充填反応器、 2 触媒帯域、 3 電気予熱
器、 4 加熱棒、5 熱交換器、 6 管、 7 煙
道ガス、 8 清浄ガス流、 9 熱気、10 測定地
点
器、 4 加熱棒、5 熱交換器、 6 管、 7 煙
道ガス、 8 清浄ガス流、 9 熱気、10 測定地
点
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルント モルスバッハ ドイツ連邦共和国 ルートヴィッヒスハー フェン ウーテシュトラーセ 22 (72)発明者 ヴィリ レーゲナウアー ドイツ連邦共和国 オターシュタット パ ッペルシュトラーセ 6
Claims (2)
- 【請求項1】 焼却プラントからの排ガス中の環式有機
化合物を酸化分解するための、金属及び/又は酸化物を
含有しかつ通路状貫通孔を有する触媒素子において、該
触媒素子の寸法が方程式(1): 【数1】 [式中、 x=触媒素子の長さ、 d=多角形貫通孔NI関する貫通孔の水圧直径又は板状
触媒素子に関する板離隔距離の2倍、 u=排ガスの平均速度、 DT=排ガス中の汚染物質の温度依存性拡散係数、 CO=汚染物質の初期濃度、 CX=長さx後の汚染物質の濃度 を表し、かつパラメータAは、通路状貫通孔の形状に依
存して以下の値を有する: 形状 A 多角形(n=3〜∞) 1.2〜4.4 板 <8.3 ]に基づくことを特徴とする、金属及び/又は酸化物を
含有する触媒素子。 - 【請求項2】 触媒素子を使用して100〜500℃で
実施する、焼却プラントからの排ガス中の環式有機化合
物を酸化分解する方法において、汚染物質の転化率、触
媒素子中の排ガスの滞留時間及び触媒の寸法が、方程式
(2): 【数2】 [式中、 U=汚染物質の転化率、 r=滞留時間、 DT=排ガス中の汚染物質の温度依存性拡散係数、 d=多角形貫通孔に関する貫通孔の水圧直径又は板状触
媒素子に関する板離隔距離の2倍 を表し、かつパラメータAは、通路状貫通孔の形状に依
存して以下の値を有する: 形状 A 多角形(n=3〜∞) 1.2〜4.4 板 <8.3 ]に基づくことを特徴とする、焼却プラントからの排ガ
ス中の環式有機化合物を酸化分解する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE4206599.2 | 1992-03-03 | ||
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