JPH0636233A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH0636233A JPH0636233A JP19103592A JP19103592A JPH0636233A JP H0636233 A JPH0636233 A JP H0636233A JP 19103592 A JP19103592 A JP 19103592A JP 19103592 A JP19103592 A JP 19103592A JP H0636233 A JPH0636233 A JP H0636233A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chromate
- film
- magnetic
- protective film
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 高飽和磁束密度及び高耐食性を有する薄膜磁
気ヘッドを、量産性に優れた湿式クロメート処理により
実現する。 【構成】 Ｃｏまたは、かつＦｅを主成分とする薄膜磁
気ヘッドのポール部分にエッチング量が２００A以下で
あるクロメート皮膜を形成したヘッド。耐食性が良く、
ＣＳＳ特性の劣化もない。
気ヘッドを、量産性に優れた湿式クロメート処理により
実現する。 【構成】 Ｃｏまたは、かつＦｅを主成分とする薄膜磁
気ヘッドのポール部分にエッチング量が２００A以下で
あるクロメート皮膜を形成したヘッド。耐食性が良く、
ＣＳＳ特性の劣化もない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、薄膜磁気ヘッドに関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】薄膜磁気ヘッドの磁性薄膜には、低保磁
力、高飽和磁束密度、低磁歪等の優れた軟磁気特性が要
求されると同時に信頼性向上の為に高耐食性が必要であ
る。
力、高飽和磁束密度、低磁歪等の優れた軟磁気特性が要
求されると同時に信頼性向上の為に高耐食性が必要であ
る。
【０００３】特に近年の記録密度の上昇は記録媒体の保
磁力の上昇による部分が大きい。保磁力の大きな記録媒
体に十分に書き込む為には記録ヘッドからより強い磁界
を発生する必要がある。このために従来から広く使用さ
れていたＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）以上の高飽和磁
束密度材料が求められている。この磁気特性的な要求を
満たす磁性めっき膜としてはＣｏ−Ｆｅ合金等が挙げら
れる。
磁力の上昇による部分が大きい。保磁力の大きな記録媒
体に十分に書き込む為には記録ヘッドからより強い磁界
を発生する必要がある。このために従来から広く使用さ
れていたＮｉ−Ｆｅ合金（パーマロイ）以上の高飽和磁
束密度材料が求められている。この磁気特性的な要求を
満たす磁性めっき膜としてはＣｏ−Ｆｅ合金等が挙げら
れる。
【０００４】しかし、耐食性では従来から広く使用され
ている比較的低飽和磁束密度材料であるＮｉ−Ｆｅ合金
と比較すると劣っていた。
ている比較的低飽和磁束密度材料であるＮｉ−Ｆｅ合金
と比較すると劣っていた。
【０００５】Ｃｏ−Ｆｅ合金等の耐食性向上のためには
第３元素の添加が有効であるが、優れた軟磁気特性を損
なわないで耐食性を向上させることは困難であった。
第３元素の添加が有効であるが、優れた軟磁気特性を損
なわないで耐食性を向上させることは困難であった。
【０００６】また耐食性を向上させる為に膜厚の厚い保
護膜を形成することは磁気ヘッドの磁極としてはスペー
シングロスのために好ましいことではなかった。
護膜を形成することは磁気ヘッドの磁極としてはスペー
シングロスのために好ましいことではなかった。
【０００７】また加工して磁極部が露出したのちに保護
膜を形成する必要があり、スパッタ法等での成膜では目
的とする磁性層表面だけでなくスライダーの摺動部にま
で保護膜が形成されてしまいＣＳＳ特性等での信頼性に
悪影響を及ぼすことが懸念され、さらに量産性等の理由
から真空成膜保護膜での解決は困難である。
膜を形成する必要があり、スパッタ法等での成膜では目
的とする磁性層表面だけでなくスライダーの摺動部にま
で保護膜が形成されてしまいＣＳＳ特性等での信頼性に
悪影響を及ぼすことが懸念され、さらに量産性等の理由
から真空成膜保護膜での解決は困難である。
【０００８】クロメート処理は特に亜鉛めっき、錫めっ
きにおいて良く知られている。たとえばめっき技術便覧
（日刊工業新聞社刊、昭和４６年）２４３ページには亜
鉛めっき上のクロメート膜について膜組成、メカニズ
ム、作業方法について詳細に記されている。またニッケ
ルめっきにおいても一般的に使用されている。
きにおいて良く知られている。たとえばめっき技術便覧
（日刊工業新聞社刊、昭和４６年）２４３ページには亜
鉛めっき上のクロメート膜について膜組成、メカニズ
ム、作業方法について詳細に記されている。またニッケ
ルめっきにおいても一般的に使用されている。
【０００９】さらに特開５１−４７４０１号、特開６２
−１８３０２１号にはめっき磁気記録媒体の耐食性向上
のためのクロメート皮膜が述べられている。
−１８３０２１号にはめっき磁気記録媒体の耐食性向上
のためのクロメート皮膜が述べられている。
【００１０】しかし従来のクロメート処理は処理される
金属皮膜を１ミクロンメートル以上溶かし出し、形成さ
れるクロメート皮膜も１０００A以上であった。また大
面積試料全面にわたって処理が行われる量産性が重視さ
れていた。
金属皮膜を１ミクロンメートル以上溶かし出し、形成さ
れるクロメート皮膜も１０００A以上であった。また大
面積試料全面にわたって処理が行われる量産性が重視さ
れていた。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、低保磁力、高飽和磁束密度
な磁性薄膜の特性を損なうことなく十分な耐食性を有す
る薄膜磁気ヘッドを製造することにある。
情からなされたものであり、低保磁力、高飽和磁束密度
な磁性薄膜の特性を損なうことなく十分な耐食性を有す
る薄膜磁気ヘッドを製造することにある。
【００１２】
【問題点を解決するための手段】本発明者は、上記課題
を解決するために鋭意検討、研究した結果、Ｃｏまた
は、かつＦｅを主成分とする合金層表面に湿式クロメー
ト皮膜を形成することで耐食性に優れ、磁気特性を損な
わないで、かつヘッドの媒体との摩擦特性も劣化させな
いヘッドを完成するに至った。
を解決するために鋭意検討、研究した結果、Ｃｏまた
は、かつＦｅを主成分とする合金層表面に湿式クロメー
ト皮膜を形成することで耐食性に優れ、磁気特性を損な
わないで、かつヘッドの媒体との摩擦特性も劣化させな
いヘッドを完成するに至った。
【００１３】このような目的は、下記の本発明により達
成される。
成される。
【００１４】（１） Ｃｏまたは、かつＦｅを主成分と
する合金層の表面部分にエッチング量が２００A以下で
ある湿式クロメート保護膜を設けたことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
する合金層の表面部分にエッチング量が２００A以下で
ある湿式クロメート保護膜を設けたことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
【００１５】
【作用】本発明の磁性薄膜は特に好ましくは湿式めっき
法、すなわち電気めっき法、無電解めっき法及び置換め
っき法により形成される。しかしスパッタ、蒸着法等で
成膜されたものでもなんら差し支えない。
法、すなわち電気めっき法、無電解めっき法及び置換め
っき法により形成される。しかしスパッタ、蒸着法等で
成膜されたものでもなんら差し支えない。
【００１６】磁性層組成はＣｏまたは、かつＦｅを主成
分とすることでＢｓ≧１．３T以上の高飽和磁束密度の
膜が形成出来る。
分とすることでＢｓ≧１．３T以上の高飽和磁束密度の
膜が形成出来る。
【００１７】また、本発明の磁性合金にはＲｈ、Ｓ、
Ｎ、Ｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｒｕ、Ａ
ｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｏ、Ｐｂ、Ｒｅ、
Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ及びＰｔ等から選択される１種以上の元
素を含有することで各種特性の向上等も期待される。ま
たこのような元素を不純物として若干量含有することも
特に支障は認められないので安価な材料の使用によるコ
スト低減も可能である。
Ｎ、Ｂ、Ｎｉ、Ｎｂ、Ｃ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｓｎ、Ｒｕ、Ａ
ｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｍｎ、Ｐ、Ｉｎ、Ｍｏ、Ｐｂ、Ｒｅ、
Ｗ、Ｚｎ、Ｚｒ及びＰｔ等から選択される１種以上の元
素を含有することで各種特性の向上等も期待される。ま
たこのような元素を不純物として若干量含有することも
特に支障は認められないので安価な材料の使用によるコ
スト低減も可能である。
【００１８】本発明はこれらの磁性層上に湿式クロメー
ト処理によりクロメート保護膜を設けてなる。
ト処理によりクロメート保護膜を設けてなる。
【００１９】本発明に用いられるクロメート処理は薄膜
磁気ヘッドの特徴にかんがみ、極薄膜化が要求される。
このため従来から使用されているクロメート条件よりも
ソフトな条件での処理が好ましく、クロム酸のみで、他
の無機酸の添加はわずかか、なくても良い。
磁気ヘッドの特徴にかんがみ、極薄膜化が要求される。
このため従来から使用されているクロメート条件よりも
ソフトな条件での処理が好ましく、クロム酸のみで、他
の無機酸の添加はわずかか、なくても良い。
【００２０】クロメート処理は元の皮膜をエッチングす
るが通常の防錆クロメートでは数ミクロンメートル以上
のエッチングが一般的である。しかし本発明のクロメー
ト処理では２００A以下であることが必要で特に１００A
以下が好ましい。エッチング量が前記以上だとスペーシ
ングロスが大きくなりヘッド出力が低下してしまう。
るが通常の防錆クロメートでは数ミクロンメートル以上
のエッチングが一般的である。しかし本発明のクロメー
ト処理では２００A以下であることが必要で特に１００A
以下が好ましい。エッチング量が前記以上だとスペーシ
ングロスが大きくなりヘッド出力が低下してしまう。
【００２１】また特に薄膜ヘッド磁極の保護膜として特
筆すべきは防錆膜を設ける必要のある磁極表面にのみ形
成されスライダーの摺動面には一切成膜されないことで
ある。さらに僅かにＣｏＦｅ表面を溶解したのちクロメ
ート層が形成されるためにポール部は凹状態となり薄膜
保護膜であるがＣＳＳ等でダメージを受けない。
筆すべきは防錆膜を設ける必要のある磁極表面にのみ形
成されスライダーの摺動面には一切成膜されないことで
ある。さらに僅かにＣｏＦｅ表面を溶解したのちクロメ
ート層が形成されるためにポール部は凹状態となり薄膜
保護膜であるがＣＳＳ等でダメージを受けない。
【００２２】さらに完成品ヘッド状態での表面処理も可
能で、この場合には磁極露出部だけでなく金属が露出し
ているジンバルやボンディングパット部にもクロメート
皮膜が形成され、これらの部分の信頼性向上にも寄与す
る。
能で、この場合には磁極露出部だけでなく金属が露出し
ているジンバルやボンディングパット部にもクロメート
皮膜が形成され、これらの部分の信頼性向上にも寄与す
る。
【００２３】さらにこのクロメート層の上に他の種類の
保護層を形成することも差し支えない。たとえはフッ素
系潤滑剤（モンテジソン社製、フォンブリンＡＭ−２０
０１等）やスパッタカーボン膜、プラズマダイヤモンド
ライクカーボン膜等の形成が可能である。ただしスペー
シングロスとなるために膜厚は注意せねばならない。
保護層を形成することも差し支えない。たとえはフッ素
系潤滑剤（モンテジソン社製、フォンブリンＡＭ−２０
０１等）やスパッタカーボン膜、プラズマダイヤモンド
ライクカーボン膜等の形成が可能である。ただしスペー
シングロスとなるために膜厚は注意せねばならない。
【００２４】このように第２保護膜を形成する場合にク
ロメート膜は超薄膜のため下地層として有利である。
ロメート膜は超薄膜のため下地層として有利である。
【００２５】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げる。
【００２６】めっき法により成膜されたＣｏ−４Ｆｅ軟
磁性薄膜を有する薄膜磁気ヘッド製造工程においてダイ
ヤモンド砥粒によりポール部分が加工された直後に以下
のクロメート処理を施したヘッドをサンプル１、２、３
とする。またクロメート処理を施さなかったヘッドをサ
ンプル４とした。
磁性薄膜を有する薄膜磁気ヘッド製造工程においてダイ
ヤモンド砥粒によりポール部分が加工された直後に以下
のクロメート処理を施したヘッドをサンプル１、２、３
とする。またクロメート処理を施さなかったヘッドをサ
ンプル４とした。
【００２７】クロメート処理
【００２８】
【表１】
【００２９】ヘッド動特性評価は、６５℃９５％、１０
００時間の耐食性試験の前後で９．５MHzでの出力を測
定した。また非接触表面変位計エリオニクスにてポール
部の凹量を測定した。
００時間の耐食性試験の前後で９．５MHzでの出力を測
定した。また非接触表面変位計エリオニクスにてポール
部の凹量を測定した。
【００３０】結果を表２に示す。また別途ＣＳＳテスト
を行ったが全て５万回をクリアした。
を行ったが全て５万回をクリアした。
【００３１】また３インチウエハー上に成膜されたＣｏ
Ｆｅ膜にサンプル１と同様のクロメート処理を施した試
料を用いて蛍光Ｘ線分析装置でＣｒ層厚を測定したとこ
ろ金属クロム換算で４．６Aであった。
Ｆｅ膜にサンプル１と同様のクロメート処理を施した試
料を用いて蛍光Ｘ線分析装置でＣｒ層厚を測定したとこ
ろ金属クロム換算で４．６Aであった。
【００３２】
【表２】
【００３３】
【発明の効果】本発明によれば、高耐食性な磁性薄膜が
容易に得られる。しかもＣＳＳ特性を損なわない。
容易に得られる。しかもＣＳＳ特性を損なわない。
【１図】 本発明の実施例を示す薄膜磁気ヘッドの断面
図を示すである。
図を示すである。
１ 磁性層 ２ クロメート層 ３ ギャップ層 ４ コイル ５ 絶縁層 ６ 保護層
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｃｏまたは、かつＦｅを主成分とする合
金層の表面部分にエッチング量が２００A以下である湿
式クロメート保護膜を設けたことを特徴とする薄膜磁気
ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19103592A JPH0636233A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19103592A JPH0636233A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0636233A true JPH0636233A (ja) | 1994-02-10 |
Family
ID=16267815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19103592A Withdrawn JPH0636233A (ja) | 1992-07-17 | 1992-07-17 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0636233A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2405026A (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-16 | Alps Electric Co Ltd | Thin film magnetic head including NiPRe alloy gap layer |
| GB2392922B (en) * | 2002-09-13 | 2006-04-05 | Alps Electric Co Ltd | Soft magnetic film and thin film magnetic head using the same |
-
1992
- 1992-07-17 JP JP19103592A patent/JPH0636233A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2392922B (en) * | 2002-09-13 | 2006-04-05 | Alps Electric Co Ltd | Soft magnetic film and thin film magnetic head using the same |
| US7113367B2 (en) | 2002-09-13 | 2006-09-26 | Alps Electric Co., Ltd. | FeNiRe soft magnetic film and thin film magnetic head using the same for simultaneous adjustment of resistivity and saturated magnetic flux density |
| GB2405026A (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-16 | Alps Electric Co Ltd | Thin film magnetic head including NiPRe alloy gap layer |
| GB2405026B (en) * | 2003-08-13 | 2006-08-16 | Alps Electric Co Ltd | Thin film magnetic head including NiPre alloy gap layer |
| US7359148B2 (en) | 2003-08-13 | 2008-04-15 | Tdk Corporation | Thin film magnetic head including NiPRe alloy gap layer |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6603637B1 (en) | Ion beam treatments for magnetic recording heads and magnetic recording media | |
| JP2791015B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4079169A (en) | Cobalt base alloy as protective layer for magnetic recording media | |
| US7515380B2 (en) | Magnetic head and method for production therefor | |
| US5024903A (en) | Magnetic recording medium having a magnetic layer of a quaternary alloy | |
| US5837392A (en) | Soft magnetic thin film and thin film magnetic head using same | |
| US4074016A (en) | Magnetic record carrier | |
| US6372367B1 (en) | Magnetic recording medium, method for producing the same and magnetic recording apparatus using the same | |
| JPH05274644A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| US4735853A (en) | Magnetic recording medium having an amorphous, nonmagnetic nickel-tungston-phosphorus underlayer | |
| JPH0613237A (ja) | 磁気記録媒体及びその保磁率を増加する方法 | |
| JPH0636233A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| US20080085427A1 (en) | Amorphous soft magnetic layers for perpendicular magnetic recording media | |
| JPS59180829A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH08227813A (ja) | 軟磁性薄膜及びこれを用いた薄膜磁気ヘッド | |
| JP3432667B2 (ja) | 高密度磁気記録ヘッド用軟磁性薄膜 | |
| JPH0581613A (ja) | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 | |
| EP1199713A2 (en) | Thin film magnetic head | |
| JPH038164A (ja) | 磁気テープ摺動部材 | |
| JP3233538B2 (ja) | 軟磁性合金、軟磁性薄膜および多層膜 | |
| JPH0740342B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH08236349A (ja) | 軟磁性薄膜およびそれを用いた薄膜磁気デバイス | |
| JPH0740341B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH0673170B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0451884B2 (ja) |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |