JPH06345289A - 搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板等の板状の被搬送物を簡単な構成で確実
にパレットに吸着して搬送する。 【構成】 基板排出搬送部８００は、対向する一対の基
板搬送ユニット８０２をリニアガイドレール１１０に沿
って移動自在に備える。各基板搬送ユニット８０２は、
パレット３１８をそのコーナー部で下方から保持するパ
レット吸着搬送アーム８１０を有する。それぞれのパレ
ット吸着搬送アーム８１０には、真空ポンプからエアー
配管がされており、当該ポンプの吸引力が作用する。そ
して、基板搬送時には、総てのパレット吸着搬送アーム
８１０にこの吸引力を作用させ、パレット３１８の吸着
プレート４３７に当接するパレット吸着搬送アーム８１
０により、パレット３１８のエアーホース４４２，基板
吸引用凹部４３５を介して基板をパレット３１８上面に
吸着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、板状の被搬送物をパレ
ットに載置したまま搬送する搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】板状の被搬送物を搬送する搬送装置が使
用される装置として、例えばプリント回路基板や印刷板
等の基板にフォトレジスト膜を形成する露光装置が挙げ
られる。この露光装置は、透明保持板に貼付されたパタ
ーンフィルムに基板を密着させて露光する露光部を有
し、この露光部への又は露光部からの基板の搬送に上記
した搬送装置を使用している。より詳述すると、露光部
の前後には基板の搬入部と排出部とが設けられており、
この搬入部と露光部との間および露光部と排出部との間
における基板搬送に搬送装置が用いられている。

【０００３】露光部において基板露光を行なう際には、
基板とパターンフィルムとが正確に位置決めされている
ことが必要である。よって、パターンフィルムに基板を
密着させるに当たり、予め基板とパターンフィルムとを
位置決めするアライメントが行なわれる。このアライメ
ントの際には、基板とパターンフィルムとを密着させた
り離間したりする必要があることから、基板を載置する
パレットを用い、このパレットと上記透明保持板とを接
近させたり離間させたりしている。

【０００４】例えば、特開平４−３５０８５７号におけ
る露光装置に使用される搬送装置では、透明保持板に基
板とパレットとを吸着した状態で、この透明保持板ごと
搬入部の位置合わせ部から露光部に基板を搬送する構成
が採られている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記搬送装置
では、透明保持板をも基板とともに搬送する必要がある
ため、透明保持板を固定・保持する枠体ごと移動させな
ければならない。このため、装置構成が大がかりとな
り、モータ等の駆動機器には駆動力の高いものが必要に
なるとともに、ガイドレール等の案内機器には大きな剛
性を必要とする。また、モータに高い駆動力が要求され
るとともに、搬送する枠体が重量物であるために、高速
搬送が困難であった。

【０００６】ところで、パレットに基板を載置した状態
でパレットと基板のみを搬送部材により搬送するよう構
成すれば、駆動機器には高い駆動力を必要とせず、ま
た、案内機器には大きな剛性を必要としない。しかしな
がら、搬送の過程や停止時においてパレット上で基板が
ずれたりパレットから落下することもあるため、実用的
ではないとともに、高速搬送を行なうこともできない。
そこで、このような搬送装置をパレットに載置された基
板を当該パレットに吸着して搬送するよう構成しても、
次のような異質の問題が指摘されている。即ち、搬送部
材へのパレットの吸着とパレットへの基板の吸着とを同
時に行なう必要があり、吸着のための配管の構成が複雑
になる。

【０００７】本発明は、上記従来の技術の問題を解決す
るものであり、板状の被搬送物を簡単な構成で確実にパ
レットに吸着して搬送することができる搬送装置を提供
することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
になされた本発明は、板状の被搬送物をパレットに載置
して搬送する搬送装置であって、上記被搬送物が載置さ
れる載置面に形成され該載置面に載置された上記被搬送
物により塞がれる吸引溝と、この吸引溝に連通する吸引
経路とを有するパレットと、このパレットを乗せる搬送
部材を有し、この搬送部材を移動させることで被搬送物
およびパレットを搬送する搬送手段と、吸引力を発生す
る吸引機器を有し、その吸引力により上記パレットを上
記搬送部材に吸着すると共に、該吸引力の一部を上記吸
引経路および吸引溝を介して上記被搬送物に加える吸引
手段と、を備えたことを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明に係る搬送装置では、パレットの載置面
に板状の被搬送物を載置し、パレットを搬送部材に乗せ
て該搬送部材を移動して、板状の被搬送物の搬送を行な
う。搬送部材は、吸引手段の吸引機器による吸引力が加
えられると、次のようにしてパレットと板状の被搬送物
とを同時に吸着する。すなわち、搬送部材は、吸引機器
の吸引力をパレットに加えてこのパレットを吸着する。
しかも、この搬送部材は、パレットに加えている吸引力
の一部をパレットの吸引経路およびパレット表面に形成
された吸引溝を介して板状の被搬送物にも加えるので、
該板状の被搬送物をパレットの載置面に吸着する。よっ
て、本発明の搬送装置では、板状の被搬送物をパレット
の載置面に吸着したままこのパレットとともに搬送する
ことができる。

【００１０】また、本発明の搬送装置では、上記したよ
うに吸引機器の吸引力により、搬送部材にはパレット
を、このパレットには板状の被搬送物を、それぞれ同時
に吸着するので、板状の被搬送物の吸着のための配管を
パレットの吸着のための配管と独立して設ける必要がな
い。

【００１１】

【実施例】次に、本発明に係る露光装置の好適な実施例
について、以下の順序に従い図面を用いて説明する。 Ａ：実施例の露光装置の全体構成および動作の概況 Ｂ：基板供給部の構成 Ｄ：基板露光部の構成 Ｆ：基板排出部の構成 Ｈ：基板供給搬送部の構成 Ｊ：基板排出搬送部の構成 Ｌ：露光装置の電気的構成 Ｍ：露光装置における制御

【００１２】Ａ：実施例の露光装置の全体構成および動
作の概況 実施例の露光装置１００は、プリント配線基板（以下、
基板という）の片面（例えば基板表面）にマスクプレー
トにおける配線パターンを露光するものであり、次のよ
うな構成を備える。図１に示すように、露光装置１００
は、外部から搬入された基板Ｋを後工程に適切に供給す
るための位置決めいわゆるプリアライメントを行なう基
板供給部２００と、基板Ｋとマスクプレートとを密着さ
せ基板Ｋに配線パターンを露光する基板露光部３００
と、露光済みの基板を装置外部に排出するための基板排
出部６００とを、装置フレーム１０２に固定して備え
る。また、露光装置１００は、基板供給部２００と基板
露光部３００との間における基板搬送を行なう基板供給
搬送部７００、および、基板露光部３００と基板排出部
６００との間における基板搬送を行なう基板排出搬送部
８００を、装置フレーム１０２に図中矢印方向に移動自
在に備える。

【００１３】この露光装置１００は、基板の保持，搬送
および基板露光等に関する一連の動作において常時２枚
のパレット３１８（図７参照）を用いる。つまり、露光
装置１００は、露光開始時には１枚のパレット３１８を
基板露光部３００に用意しておき、もう１枚のパレット
３１８を基板排出部６００に待機させている。この状態
から露光装置１００は基板露光のための動作を開始し、
その概略は次の通りである。

【００１４】まず、露光装置１００は、外部から搬入さ
れた基板Ｋを基板供給部２００にてプリアライメントす
る。次いで、露光装置１００は、プリアライメントした
基板Ｋを、基板供給搬送部７００により基板露光部３０
０のパレット３１８（第１のパレット３１８）上に搬送
する。そして、露光装置１００は、基板露光部３００に
て次の一連の動作を行なう。つまり、露光装置１００
は、第１のパレット３１８上の基板とマスクプレート下
面のパターンフィルムとの位置合わせ（アライメン
ト）、マスクプレートへの第１のパレット３１８および
基板の保持（真空密着）、並びに基板Ｋへの配線パター
ンの露光を順次行なう。そして、露光装置１００は、こ
の基板露光の間に、基板排出部６００に待機させおいた
もう図示しない１枚のパレット３１８（第２のパレット
３１８）を、第１の基板露光部３００において露光中の
基板Ｋが載置されマスクプレートに吸着されている第１
のパレット３１８の下方に搬送する。次いで、次に露光
処理する基板Ｋを基板供給部２００にてプリアライメン
トした後、基板供給搬送部７００により基板露光部３０
０の上記第２のパレット３１８上に搬送する。

【００１５】更に、露光装置１００は、露光済みの基板
を第１のパレット３１８とともに基板排出搬送部８００
により基板露光部３００から基板排出部６００に搬送す
る。次いで、次回の露光処理として、第２のパレット３
１８上の基板についての位置合わせ（アライメント）、
マスクプレートへの第２のパレット３１８および基板の
保持（真空密着）、並びに基板Ｋへの配線パターンの露
光を行なう。つまり、露光装置１００は、常時２枚のパ
レット３１８を用い連続的に露光処理する。そして、露
光装置１００は、この次回の露光処理と平行して、基板
排出部６００に搬送済みの露光済み基板を基板排出部６
００により装置外部、例えば基板反転装置（図示省略）
に排出する。この場合には、基板反転装置で反転された
基板の裏面に、もう１台の露光装置１００により別の配
線パターンが露光される。以下、露光装置１００の各部
の構成について、詳細に説明する。

【００１６】Ｂ：基板供給部の構成 基板供給部２００は、外部から搬入された基板Ｋをプリ
アライメントすべく、次のような構成を備える。図２に
示すように、基板供給部２００は、その上面に基板Ｋの
搬送のための３列のローラ列２０２，２０４，２０６を
備える。各ローラ列のそれぞれのローラは、上部枠体２
０８に回転自在に軸支されており、下部枠体２１０内に
組み付けられたモータ２１１（図２３参照）の駆動力を
タイミングベルト等の図示しない伝達機構を介して受
け、正逆回転する。よって、この基板供給部２００まで
外部から搬入された基板Ｋは、３列のローラ列２０２，
２０４，２０６の各ローラにより基板供給部２００に引
き込まれ、後述するようにプリアライメントされる。

【００１７】基板供給部２００は、ローラ列２０２とロ
ーラ列２０４との間およびローラ列２０４とローラ列２
０６との間に、各ローラ列２０２，２０４，２０６の被
搬送物（基板Ｋ）の搬送面から突出したＸ軸ガイドピン
２１２，２１４，２１６，２１８を有する。また、基板
供給部２００は、ローラ列２０２およびローラ列２０６
におけるローラとローラとの間に、上記基板Ｋの搬送面
から突出したＹ軸ガイドピン２２０，２２２，２２４，
２２６を有する。上記の各々のガイドピンは、図３に示
すように、その先端に樹脂製の基板当たりローラ２２８
をＥ型止め輪２２９にて回転自在に係止して備える。こ
の基板当たりローラ２２８の外周面は、上部が大径のテ
ーパ面となっている。

【００１８】上記した各Ｘ軸ガイドピンのうち、Ｘ軸ガ
イドピン２１２とＸ軸ガイドピン２１４とは対となって
後述のＸ軸センタリングユニット２３０を構成し、Ｘ軸
ガイドピン２１６とＸ軸ガイドピン２１８とは対となっ
てＸ軸センタリングユニット２５４を構成する。一方、
各Ｙ軸ガイドピンのうち、Ｙ軸ガイドピン２２０とＹ軸
ガイドピン２２２とは対となって後述のＹ軸センタリン
グユニット２６０を構成し、Ｙ軸ガイドピン２２４とＹ
軸ガイドピン２２６とは対となってＹ軸センタリングユ
ニット２８０を構成する。そして、各Ｘ軸センタリング
ユニットは図中矢印Ｘ（Ｘ軸）に沿って移動すべく、ま
た、Ｙ軸センタリングユニットは図中矢印Ｙ（Ｙ軸）に
沿って移動すべく、それぞれ次のように構成されてい
る。

【００１９】Ｘ軸センタリングユニット２３０は、図２
におけるＸ軸ガイドピン２１２，２１４の手前を図中４
−４線に沿って破断した図４に示すように、平行な２本
のＸ軸ガイドシャフト２３２に摺動自在に支持されてい
る。この２本のＸ軸ガイドシャフト２３２は、図２に示
すように、各ローラ列２０２，２０４，２０６の被搬送
物（基板Ｋ）の搬送面と平行に、且つ、Ｘ軸に沿って下
部枠体２１０の側面間に掛け渡されている。

【００２０】Ｘ軸センタリングユニット２３０は、Ｘ軸
ガイドシャフト２３２にブシュ２３４を介して嵌合しＸ
軸ガイドシャフト２３２に沿って摺動するユニットベー
ス２３６と、Ｘ軸ガイドピン２１２，２１４が立設され
るプレート２３８と、このプレート２３８の両端に固定
された左右の上下動シャフト２４０と、Ｘ軸ガイドピン
２１２に平行にプレート２３８に立設された基板検出セ
ンサ２４２とを備える。基板検出センサ２４２は反射型
の光センサであり、当該センサの検出面は、図４に示す
ように、各ローラ列２０２，２０４，２０６により搬送
される基板Ｋの下方に位置する。そして、この基板検出
センサ２４２は、基板Ｋの有無を検出するために用いら
れる。また、上下動シャフト２４０は、プレート２３８
の両端（Ｘ軸ガイドピン２１２，２１４の下方）に固定
されたブシュ２４４に嵌合されており、当該ブシュを介
して上下に摺動する。ユニットベース２３６の中央凹部
には、シリンダ２４６が設置されており、このシリンダ
２４６のロッドはその先端においてプレート２３８と固
定されている。

【００２１】更に、Ｘ軸センタリングユニット２３０
は、図４および各ローラ列２０２等を省略した基板供給
部２００の平面図である図５に示すように、タイミング
ベルト２４８（歯付ベルト）に、連結金具２５０により
連結固定されている。このタイミングベルト２４８は、
図５に示すように、下部枠体２１０内にＸ軸に沿って駆
動側タイミングプーリ２５１（歯付プーリ）と従動側タ
イミングプーリ２５２の間に掛け渡されており、正逆回
転するパルスモータ２５３により駆動する。なお、説明
の便宜上、図中矢印ａの回転方向を、パルスモータ２５
３の正転方向とする。

【００２２】図５に示すように、このＸ軸センタリング
ユニット２３０と対向するＸ軸センタリングユニット２
５４は、上記したＸ軸センタリングユニット２３０と同
一の構成を備える。そして、Ｘ軸センタリングユニット
２５４は、連結金具２５６によりタイミングベルト２４
８に連結固定されている。なお、Ｘ軸センタリングユニ
ット２３０は、パルスモータ２５３が正転した場合のタ
イミングベルト２４８の往路側に、Ｘ軸センタリングユ
ニット２５４はタイミングベルト２４８の復路側に、そ
れぞれ連結固定されている。図４および図５に示すよう
に、Ｘ軸センタリングユニット２５４も、基板Ｋの有無
を検出するための基板検出センサ２５８をＸ軸ガイドピ
ン２１８の手前（基板供給部２００の中央側）に備え
る。

【００２３】従って、パルスモータ２５３を図中矢印ａ
の回転方向に正転させると、Ｘ軸センタリングユニット
２３０およびＸ軸センタリングユニット２５４は、図５
中に二点鎖線で示す原点位置からＸ軸ガイドシャフト２
３２に沿って、即ちＸ軸に沿って基板供給部２００中央
部にそれぞれ前進する。一方、パルスモータ２５３を逆
転させると、Ｘ軸センタリングユニット２３０およびＸ
軸センタリングユニット２５４は、Ｘ軸に沿って原点位
置に後退（退避）する。また、この両Ｘ軸センタリング
ユニット２３０，２５４のそれぞれのシリンダ２４６を
駆動してそのロッドを伸長させると、Ｘ軸センタリング
ユニット２３０，２５４は、図４中に実線で示すよう
に、各Ｘ軸ガイドピン２１２，２１４，２１６，２１８
先端の基板当たりローラ２２８を、各ローラ列２０２，
２０４，２０６の被搬送物（基板Ｋ）の搬送面から突出
させる。更に、それぞれのシリンダ２４６を駆動してそ
のロッドを引き戻すと、Ｘ軸センタリングユニット２３
０，２５４は、各Ｘ軸ガイドピン先端の基板当たりロー
ラ２２８を、上記搬送面から下方に退避させ基板Ｋと干
渉させない。

【００２４】Ｙ軸センタリングユニット２６０は、図２
におけるＹ軸ガイドピン２２０，２２２の手前を図中６
−６線に沿って破断した図６に示すように、平行な２本
のＹ軸ガイドシャフト２６２に摺動自在に支持されてい
る。この２本のＹ軸ガイドシャフト２６２は、図２およ
び図５に示すように、各ローラ列２０２，２０４，２０
６の被搬送物（基板Ｋ）の搬送面と平行に、且つ、Ｙ軸
に沿って下部枠体２１０の側面間に掛け渡されている。

【００２５】Ｙ軸センタリングユニット２６０は、Ｙ軸
ガイドシャフト２６２にブシュ２６４を介して嵌合しＹ
軸ガイドシャフト２６２に沿って摺動するユニットベー
ス２６６と、このユニットベース２６６の上面に固定さ
れＹ軸ガイドピン２２０，２２２が立設されるプレート
２６８とを備える。

【００２６】更に、Ｙ軸センタリングユニット２６０
は、図６および図５に示すように、タイミングベルト２
７０に、連結金具２７２により連結固定されている。こ
のタイミングベルト２７０は、図５に示すように、下部
枠体２１０内にＹ軸に沿って駆動側タイミングプーリ２
７４と従動側タイミングプーリ２７６の間に掛け渡され
ており、正逆回転するパルスモータ２７７により駆動す
る。なお、説明の便宜上、図中矢印ｂの回転方向を、パ
ルスモータ２７７の正転方向とする。

【００２７】図５に示すように、このＹ軸センタリング
ユニット２６０と対向するＹ軸センタリングユニット２
８０は、上記したＹ軸センタリングユニット２６０と同
一の構成を備え、連結金具２８２によりタイミングベル
ト２７０に連結固定されている。なお、Ｙ軸センタリン
グユニット２６０は、パルスモータ２７７が正転した場
合のタイミングベルト２７０の復路側に、Ｙ軸センタリ
ングユニット２８０はタイミングベルト２７０の往路側
に、それぞれ連結固定されている。

【００２８】従って、パルスモータ２７７を図中矢印ｂ
の回転方向に正転させると、Ｙ軸センタリングユニット
２６０およびＹ軸センタリングユニット２８０は、図５
中に二点鎖線で示す原点位置からＹ軸ガイドシャフト２
６２に沿って、即ちＹ軸に沿って基板供給部２００中央
部にそれぞれ前進する。一方、パルスモータ２７７を逆
転させると、Ｙ軸センタリングユニット２６０およびＹ
軸センタリングユニット２８０は、Ｙ軸に沿って原点位
置に後退（退避）する。

【００２９】なお、各Ｙ軸センタリングユニットにおけ
るＹ軸ガイドピン２２０，２２２ないしＹ軸ガイドピン
２２４，２２６は、それぞれのユニットのプレートに固
定されており、各ローラ列２０２，２０４，２０６の被
搬送物（基板Ｋ）の搬送面から常時突出されている。ま
た、Ｙ軸センタリングユニット２８０は、基板Ｋの有無
を検出するための基板検出センサ２８４をＹ軸ガイドピ
ン２２４，２２６の間に備える。この基板検出センサ２
８４は、図２および図５に示すように、Ｙ軸ガイドピン
２２４，２２６より基板供給部２００の中央側に配置さ
れている。

【００３０】このほか、基板供給部２００は、各軸のセ
ンタリングユニットがそれぞれ原点位置にある時にオン
信号を出力する原点センサ２８５，２８７と、各軸のセ
ンタリングユニットがそれぞれ前進端位置にある時にオ
ン信号を出力する前進端センサ２８６，２８８とを有す
る。これら各センサは、各軸のセンタリングユニットの
原点復帰やオーバーラン確認等に用いられる。なお、各
軸のセンタリングユニットの前進端位置は、各軸のセン
タリングユニットがこれ以上前進すると隣合うセンタリ
ングユニットやその他の構成部材等に干渉してしまう位
置を規定するものである。そして、各軸のセンタリング
ユニットのストロークエンドは、該当するパルスモータ
に与えられるパルス数で定まり、この前進端位置の手前
に設定されている。また、基板供給部２００は、図２に
示すように、基板Ｋの搬入側に基板搬入センサ２９０を
有する。これら各センサは、反射型の光センサである。

【００３１】Ｄ：基板露光部の構成 基板露光部３００は、露光装置１００全体の概略側面図
である図７に示すように、装置フレーム１０２の中央に
位置し基板供給部２００と基板排出部６００に挟まれて
いる。そして、基板露光部３００は、基板供給搬送部７
００が図中実線で示す位置から図中二点鎖線で示す位置
まで左方に移動してこの基板供給搬送部７００が搬送す
る基板Ｋを受け取り、この基板Ｋとマスクプレートとを
密着させ基板Ｋに配線パターンを露光するものである。
なお、基板供給搬送部７００の構成および基板Ｋの搬送
の様子については後述する。

【００３２】この基板露光部３００は、最上部に紫外領
域の波長の光を照射する光源３０２を有し、その下方に
露光枠体３０４を装置フレーム１０２に固定して備え
る。露光枠体３０４は、上部露光枠体３０６と下部露光
枠体３０８とを有し、この下部露光枠体３０８によりマ
スクプレート３１０を保持する。このマスクプレート３
１０は、紫外領域の波長の光の透過効率の高い透明な樹
脂製の板材であり、例えばアクリル樹脂等を用いて作成
される。

【００３３】マスクプレート３１０の下面には、基板Ｋ
に露光する配線パターンが描かれたパターンフィルム
（図示省略）が密着して予め貼り付けられている。ま
た、上部露光枠体３０６には２つのＣＣＤカメラ３１
２，３１４が備え付けられており、基板露光部３００
は、このＣＣＤカメラ３１２，３１４により、後述する
ように、マスクプレート３１０下面のパターンフィルム
のアライメントマークと基板Ｋのアライメントマークと
の一致・不一致を検出する。

【００３４】このほか、基板露光部３００は、露光枠体
３０４の下方で装置フレーム１０２内に基板保持ユニッ
ト４００を備える。この基板保持ユニット４００は、基
板供給搬送部７００により基板供給部２００から搬送さ
れた基板Ｋを、当該基板が載置されるパレット３１８と
ともに吸着・保持する。更に、基板保持ユニット４００
は、パレット３１８に吸着・保持した基板Ｋと露光枠体
３０４におけるマスクプレート３１０下面のパターンフ
ィルムとの位置合わせを行なう。以下、露光枠体３０４
および基板保持ユニット４００について説明する。

【００３５】露光枠体３０４の上部露光枠体３０６は、
その概略斜視図である図８および図１に示すように、図
中Ｘ軸方向に沿った両サイドフレーム３２０，３２２を
有し、各サイドフレームには、一対のガイドレール３２
４が対向して、且つＸ軸に沿って設置されている。この
一対のガイドレール３２４には、当該レールに沿って摺
動する２組のプレート３２６，３２８が係合されてい
る。各組のプレートの間には、２本のガイドシャフト３
３０が上下に、且つＹ軸に沿って掛け渡されている。そ
して、このガイドシャフト３３０には、ＣＣＤカメラ３
１２，３１４がそれぞれ固定されたカメラ保持プレート
３３２が摺動自在に組み込まれている。従って、各ＣＣ
Ｄカメラ３１２，３１４は、ガイドシャフト３３０（Ｙ
軸）に沿って自在に移動可能であるとともに、ガイドレ
ール３２４（Ｘ軸）に沿って自在に移動可能である。

【００３６】このように各軸に沿ってＣＣＤカメラ３１
２，３１４を移動するために、上部露光枠体３０６に
は、以下のような駆動系が組み込まれている。即ち、両
サイドフレーム３２０，３２２の各々のガイドレール３
２４（一方のみ図示）の下方には、タイミングベルト３
３４（一方のみ図示）がＸ軸に沿って掛け渡されてお
り、上部露光枠体３０６の端部フレーム３３６内に収納
され正逆回転するパルスモータ３３８により駆動する。
このタイミングベルト３３４にパルスモータ３３８の駆
動力を伝達する伝達機構（プーリ，シャフト等）は、端
部フレーム３３６および各サイドフレーム３２０，３２
２内に組み込まれている。なお、説明の便宜上、タイミ
ングベルト３３４の図中矢印ｃの回転方向を、パルスモ
ータ３３８の正転方向とする。

【００３７】プレート３２６の各々は、パルスモータ３
３８が正転した場合のタイミングベルト３３４の往路側
に、プレート３２８の各々は、タイミングベルト３３４
の復路側に、それぞれ連結固定されている。従って、タ
イミングベルト３３４が図中矢印ｃの方向に回転するよ
うパルスモータ３３８を正転させると、各組のプレート
３２６，３２８は、それぞれ上部露光枠体３０６の中央
に向けてＸ軸に沿って移動する。一方、パルスモータ３
３８を逆転させると、プレート３２６の各々は端部フレ
ーム３３６と対向する側の端部フレーム３４０側に、プ
レート３２８の各々は端部フレーム３３６側に移動す
る。従って、基板露光部３００は、パルスモータ３３８
を正逆回転制御して、ＣＣＤカメラ３１２，３１４をＸ
軸に沿って移動させる。

【００３８】上部露光枠体３０６の端部フレーム３３
６，３４０の一方には、ＣＣＤカメラ３１２，３１４が
各端部フレーム近傍のそれぞれのＸ軸原点位置にある時
にオン信号を出力するＣＣＤカメラＸ軸原点センサ４８
０（図２２参照）が設けられている。また、サイドフレ
ーム３２０，３２２の一方の中央近傍には、ＣＣＤカメ
ラ３１２，３１４が上部露光枠体３０６の中央のＸ軸前
進端位置にある時にオン信号を出力するＣＣＤカメラＸ
軸前進端センサ４８２（図２２参照）が設けられてい
る。これら各センサは、ＣＣＤカメラ３１２，３１４の
Ｘ軸方向の原点復帰やオーバーラン確認等に用いられ
る。なお、このＸ軸前進端位置は、各ＣＣＤカメラがこ
れ以上前進するとＣＣＤカメラ同志は干渉しないものの
プレート３２８等が衝突してしまう位置を規定するもの
である。そして、各ＣＣＤカメラのストロークエンド
は、該当するパルスモータに与えられるパルス数で定ま
り、このＸ軸前進端位置の手前に設定されている。

【００３９】各組のプレート３２６，３２８の間には、
タイミングベルト３４２（プレート３２８側のみ図示）
がＹ軸に沿って掛け渡されている。そして、このタイミ
ングベルト３４２は、各組のプレートの一方の側に設置
され正逆回転するパルスモータ３４４，３４６により回
転駆動する。このタイミングベルト３４２には、ＣＣＤ
カメラ３１２の固定されたカメラ保持プレート３３２が
連結固定されている。なお、プレート３２６側について
も同様である。

【００４０】従って、パルスモータ３４４，３４６の正
逆回転により、各カメラ保持プレート３３２はＹ軸に沿
って両サイドフレーム３２０，３２２の間を移動する。
従って、基板露光部３００は、上記両パルスモータ３４
４，３４６を正逆回転制御して、ＣＣＤカメラ３１２，
３１４をＹ軸に沿って移動させる。

【００４１】対向するプレート３２６，プレート３２８
の一方には、ＣＣＤカメラ３１２，３１４が当該一方の
プレート近傍のそれぞれのＹ軸原点位置にある時にオン
信号を出力するＣＣＤカメラＹ軸原点センサ４８４，４
８６（図２２参照）が設けられている。また、他方のプ
レート３２６，プレート３２８には、ＣＣＤカメラ３１
２，３１４が当該他方のプレート近傍のＹ軸前進端位置
にある時にオン信号を出力するＣＣＤカメラＹ軸前進端
センサ４８８，４９０（図２２参照）が設けられてい
る。これら各センサは、ＣＣＤカメラ３１２，３１４の
Ｙ軸方向の原点復帰やオーバーラン確認等に用いられ
る。なお、このＹ軸前進端位置は、各ＣＣＤカメラがこ
れ以上前進するとＣＣＤカメラが図８に示すようにパル
スモータ等に衝突してしまう位置を規定するものであ
る。そして、各ＣＣＤカメラのストロークエンドは、該
当するパルスモータに与えられるパルス数で定まり、こ
のＹ軸前進端位置の手前に設定されている。

【００４２】図７に示すように、上記した露光枠体３０
４下方の基板保持ユニット４００は、基板Ｋをパレット
３１８とともに吸着・保持するための基板吸着機構４５
０と、露光枠体３０４のマスクプレート３１０と平行な
平面（ＸＹ平面）において直交するＸ軸，Ｙ軸およびＸ
Ｙ平面に直交する軸（旋回軸）の３軸において上記基板
吸着機構４５０を駆動制御する３軸制御テーブル、いわ
ゆるＸＹθテーブル４１０と、上記基板吸着機構４５０
をＸＹθテーブル４１０ごと上下動させる上下動機構４
２０とを有する。上下動機構４２０は、装置フレーム１
０２の中央の脚１０４，１０６間に掛け渡して固定され
た下部プレート４２２内にシリンダ４２４を内蔵する。
また、上下動機構４２０の下部プレート４２２上面に
は、４本（図には２本のみ示す）のガイドシャフト４２
６，４２８が立設されている。なお、ＸＹθテーブル４
１０は、各軸ごとにパルスモータ４１６，４１７，４１
８（図２１参照）を内蔵し、ボールネジ，ガイドレール
等の駆動力伝達機器を介して、基板吸着機構４５０を３
軸駆動制御する。

【００４３】ＸＹθテーブル４１０は、その底面プレー
ト４１２に設けられたガイドブシュ４１４に上下動機構
４２０の各ガイドシャフト４２６，４２８を嵌合させ、
底面プレート４１２にシリンダ４２４のロッド先端を固
定して、上下動機構４２０と連結されている。つまり、
ＸＹθテーブル４１０は、ガイドシャフト４２６，４２
８を介して位置決めされて上下動機構４２０と連結され
ている。この場合、装置フレーム１０２への上下動機構
４２０の固定は、ＸＹθテーブル４１０の制御軸である
旋回軸が露光枠体３０４に位置決めされたマスクプレー
ト３１０の中心と一致するよう配慮して行なわれる。そ
して、このＸＹθテーブル４１０に、基板吸着機構４５
０が固定されている。

【００４４】従って、基板露光部３００は、上下動機構
４２０のシリンダ４２４を駆動して、基板吸着機構４５
０およびＸＹθテーブル４１０を一体に、且つ上下動機
構４２０の各ガイドシャフト４２６，４２８に沿って上
下動させる。つまり、基板露光部３００は、このように
して基板吸着機構４５０を上昇させて、パレット３１８
上の基板Ｋを露光枠体３０４のマスクプレート３１０の
下面に密着させる。また、基板露光部３００の下部露光
枠体３０８におけるマスクプレート３１０は、図示しな
いマスクプレートリフト機構により単独で持ち上げ可能
である。

【００４５】装置フレーム１０２の上記した脚１０４に
は、上下動機構４２０により上下動される基板吸着機構
４５０がその原点位置（下端位置）にあることを検出す
るテーブル原点検出センサ４９２（図２２参照）と、基
板吸着機構４５０がその上昇端位置にあることを検出す
るテーブル上昇端検出センサ４９４（図２２参照）とが
設けられている。これら各センサは、基板吸着機構４５
０の原点復帰やオーバーラン確認等に用いられる。ま
た、ＸＹθテーブル４１０には、図２２に示すように、
各軸の原点検出センサであるテーブルＸ軸原点センサ４
９６，テーブルＹ軸原点センサ４９８，テーブルθ軸原
点センサ５００と、各軸の駆動終端センサであるテーブ
ルＸ軸終端センサ５０２，テーブルＹ軸終端センサ５０
４，テーブルθ軸終端センサ５０６が内蔵されている。
これら各センサも、ＸＹθテーブル４１０についての各
制御軸における原点復帰やオーバーラン確認等に用いら
れる。

【００４６】基板吸着機構４５０は、図７に示すよう
に、ＸＹθテーブル４１０に直接固定される架台４５２
と、この架台４５２の上面に設置された４つのシリンダ
４５４（図には２つを示す）により上下動する皿状の真
空枠４５６と、真空枠４５６内部に配置され後述の基板
供給搬送部７００が搬送する基板Ｋをパレット３１８と
ともに吸着する真空枠ベース４５８とを備える。真空枠
ベース４５８は、上下方向に伸縮可能なシール材４６０
により、その周囲に亘って気密に真空枠４５６に取り付
けられている。また、真空枠４５６の開口部端面には、
その全周に亘ってシール材４６２が取り付けられてい
る。

【００４７】このほか、架台４５２の各コーナーには、
真空枠４５６底面を貫通してパレット受けシリンダ４６
４が設置されている。このパレット受けシリンダ４６４
は、そのロッドを真空枠ベース４５８を貫通して伸縮さ
せて、後述の基板排出搬送部８００が真空枠ベース４５
８上方に搬送したパレット３１８の受け取りおよび受け
取ったパレット３１８の真空枠ベース４５８上面への載
置を行なう。

【００４８】基板吸着機構４５０の真空枠ベース４５８
に吸着されるパレット３１８は、マスクプレート３１０
より小さく形成されており、次のような構成を備える。
パレット３１８は、図９およびこの図９における１０−
１０線拡大断面図である図１０に示すように、断面コの
字状のアルミニウム型鋼（板厚約１ｍｍ）を用いて形成
した枠体４３０を２本のアルミニウム型鋼の梁４３１で
補強し、この枠体４３０に樹脂プレート４３２を載置し
て構成される。この樹脂プレート４３２は、基板露光の
際に照射する紫外領域の波長の光を透過させない性質を
有する樹脂、例えばアクリルやポリカーボネート等を用
いて形成されている。なお、樹脂プレート４３２は、照
射される紫外領域の波長の光を透過させなければ、透明
であっても差し障りないことは勿論である。

【００４９】樹脂プレート４３２は、枠体４３０にネジ
止めされた断面Ｌ字状の金具４３３により、枠体４３０
に組み付けられている。金具４３３のネジ止めに当たっ
ては、樹脂プレート４３２が枠体４３０の上面において
摺動できるよう、金具４３３と樹脂プレート４３２との
間に隙間が設けられている。

【００５０】樹脂プレート４３２の周縁には、ゴム製
（シリコンゴム）のパレットシール材４３４が樹脂プレ
ート４３２の上面に気密に接着されている。よって、既
述したようにマスクプレート３１０の下面にパレット３
１８が密着されると、このパレットシール材４３４によ
りマスクプレート３１０とパレット３１８との間がシー
ルされることになる。また、樹脂プレート４３２の中央
上面には、樹脂プレート４３２に載置された基板Ｋ（図
１０参照）との間にエアー溜まりを設けるための基板吸
引用凹部４３５が形成されている。

【００５１】パレット３１８の各コーナー周辺には、吸
着プレート４３６，４３７が枠体４３０の内部にネジ止
めされている。なお、この吸着プレート４３６，４３７
は、後述の基板排出搬送部８００が図１に示すように基
板露光部３００に侵入したときに、基板排出搬送部８０
０のパレット吸着搬送アーム８１０が位置する場所に設
置されている。

【００５２】各吸着プレート４３６，４３７の下面に
は、図９における１１−１１線拡大断面図である図１１
および１２−１２線拡大断面図である図１２に示すよう
に、ゴム製の吸着座リング４３８がそれぞれ埋設されて
いる。このパレット３１８の基板排出搬送部８００への
吸着は、次のようになされる。つまり、後述の基板排出
搬送部８００におけるパレット吸着搬送アーム８１０が
吸着プレート４３６，４３７の吸着座リング４３８に密
着すると、図中矢印で示すようにパレット吸着搬送アー
ム８１０の吸引孔８１１から空気が吸引される。よっ
て、パレット吸着搬送アーム８１０と吸着プレート４３
６等との間が負圧となるので、パレット３１８は、この
吸着プレート４３６，４３７を介して、基板排出搬送部
８００のパレット吸着搬送アーム８１０に吸着・保持さ
れることになる。

【００５３】また、図１２に示すように、吸着プレート
４３７にはエアー溜まり４３９が形成されている。一
方、基板吸引用凹部４３５の形成箇所において樹脂プレ
ート４３２下面には、逆止弁４４０が気密に接着されて
いる。そして、吸着プレート４３７と逆止弁４４０との
間には、エアー溜まり４３９と逆止弁４４０の吸引室４
４１とを連通するエアーホース４４２が配管されてい
る。この逆止弁４４０は、ゴム製のいわゆる傘バルブ４
４３を弁体として内蔵し、この傘バルブ４４３により透
孔４４４を介して吸引室４４１と基板吸引用凹部４３５
の吸引孔４４５ａを連通する。即ち、この逆止弁４４０
は、傘バルブ４４３により、吸引室４４１と基板吸引用
凹部４３５における基板Ｋ下面のエアー溜まりとを連通
する。

【００５４】従って、図中矢印で示すように吸着プレー
ト４３７においてパレット吸着搬送アーム８１０の吸引
孔８１１から空気が吸引されると、吸引室４４１が負圧
となるので、逆止弁４４０は傘バルブ４４３により透孔
４４４を開放する。よって、基板Ｋ下面のエアー溜まり
と吸引室４４１、延いてはエアー溜まり４３９とは連通
するので、基板Ｋ下面のエアー溜まりが負圧となって基
板Ｋはパレット３１８の上面に吸着される。しかも、パ
レット３１８は、吸着プレート４３６，４３７を介して
パレット吸着搬送アーム８１０に吸着・保持されること
になる。そして、パレット吸着搬送アーム８１０が吸着
プレート４３６，４３７から離れ或いは上記した吸引が
停止されて吸着プレート４３７のエアー溜まり４３９が
大気開放されても、逆止弁４４０により基板Ｋ下面のエ
アー溜まりは負圧に維持されるので、基板Ｋはパレット
３１８の上面に吸着されたままである。

【００５５】また、図９および図１２に示すように、樹
脂プレート４３２の中央下面には、パレット３１８上面
の基板Ｋを直接吸引してパレット３１８に吸着するため
の吸着ポート４４６が気密に接着されている。この吸着
ポート４４６は、上記した逆止弁４４０と同様に傘バル
ブ４４７を内蔵し、この傘バルブ４４７により透孔４４
８を介して吸引室４４９と基板吸引用凹部４３５の吸引
孔４４５ｂを連通する。即ち、この吸着ポート４４６
は、傘バルブ４４７により、吸引室４４９と基板吸引用
凹部４３５における基板Ｋ下面のエアー溜まりとを連通
する。

【００５６】従って、真空枠ベース４５８（図７参照）
の中央に設置されている吸着ソケット４６７が、図１２
に示すようにこの吸着ポート４４６に装着され、図中矢
印で示すように吸着ソケット４６７から空気が吸引され
ると、吸引室４４９は負圧となり傘バルブ４４７により
透孔４４８は開放される。よって、基板Ｋ下面のエアー
溜まりが負圧となり、基板Ｋはパレット３１８の上面に
吸着されるとともに、パレット３１８は真空枠ベース４
５８に吸着・保持されることになる。そして、吸着ソケ
ット４６７が吸着ポート４４６から離れ或いは上記した
吸引が停止されて吸引室４４９が大気開放されても、傘
バルブ４４７を内蔵する吸着ポート４４６により基板Ｋ
下面のエアー溜まりは負圧に維持される。よって、基板
Ｋはパレット３１８の上面に吸着されたままである。

【００５７】更に、図９および図１２に示すように、パ
レット３１８の各コーナーには、枠体４３０を補強する
コーナープレート４７０が枠体４３０の内部にネジ止め
されている。そして、各コーナープレート４７０の下面
には、基板吸着機構４５０の架台４５２の各コーナーに
設置されたパレット受けシリンダ４６４（図７参照）の
ロッドが侵入するパレット位置決め穴４７２が形成され
ている。このパレット位置決め穴４７２の斜面は図示す
るようにテーパ面とされている。このため、次のように
してパレット３１８の真空枠ベース４５８への載置がな
される。

【００５８】つまり、基板排出搬送部８００が図１に示
すように基板露光部３００に侵入し、後述するように基
板排出部６００側からパレット３１８を単独で真空枠ベ
ース４５８上方に搬送すると、架台４５２の各コーナー
のパレット受けシリンダ４６４はそのロッドを伸長させ
る。よって、パレット受けシリンダ４６４の各ロッドは
パレット３１８の各コーナーのパレット位置決め穴４７
２のそれぞれに侵入する。このため、パレット３１８
は、各パレット受けシリンダ４６４のロッドに位置決め
されてロッド先端に保持されることになる。従って、こ
のようにパレット３１８を位置決めしたパレット受けシ
リンダ４６４がそのロッドを引き込めば、パレット３１
８は真空枠ベース４５８に対して位置決めされて載置さ
れることになる。この結果、真空枠ベース４５８（図７
参照）の中央に設置されている吸着ソケット４６７はパ
レット３１８中央の吸着ポート４４６に装着されので、
既述した基板Ｋのパレット３１８の上面への吸着・保持
が可能となる。なお、基板供給搬送部７００による基板
Ｋの搬送・載置に先立ち、真空枠ベース４５８には、パ
レット３１８（第１のパレット３１８）が吸着・保持さ
れている。つまり、第１のパレット３１８は、吸着ソケ
ット４６７，吸着ポート４４６を介して吸引されるとと
もに、真空枠ベース４５８上面に設けた図示しない溝か
らも吸引されて、真空枠ベース４５８に吸着・保持され
ている。

【００５９】Ｆ：基板排出部の構成 基板排出部６００は、図１および図７に示すように、基
板露光部３００に隣接して装置フレーム１０２に設置さ
れている。そして、この基板排出部６００は、５枚のマ
スクプレート３１０を多段に出し入れ自在に収納しマス
クプレート３１０を交換するためのマスクプレートスト
ッカー６１０と、露光済み基板Ｋを装置外部（例えば基
板反転装置）に排出するための基板搬出ローラ列６３０
と、後述の基板排出搬送部８００が保持するパレット３
１８上面の露光済み基板Ｋをこのパレット３１８から離
脱し基板搬出ローラ列６３０に載置する基板離脱機構６
５０とを有する。そして、基板排出部６００は、図７に
示すように、マスクプレートストッカー６１０の上面
に、基板搬出ローラ列６３０および基板離脱機構６５０
を固定して備える。なお、基板排出搬送部８００の構成
および露光済み基板Ｋの保持の様子や基板露光部３００
からの露光済み基板Ｋの搬送の様子については後述す
る。

【００６０】基板排出部６００は、その上部の主要部を
しめす図１３に示すように、マスクプレートストッカー
６１０の上面に固定された側面板６１６，６１７の間
に、基板搬出ローラ列６３０の各ローラを回転自在に軸
支する。基板搬出ローラ列６３０は、その各ローラを両
側面板６１６，６１７の間に図示しない伝達機構ととも
に組み込まれているモータ６１８（図２３参照）により
図中矢印ｅ方向に回転させる。そして、基板搬出ローラ
列６３０は、ローラ上の基板ＫをＸ軸方向に搬送し、図
示しない外部装置にこの基板Ｋを搬出する。

【００６１】基板離脱機構６５０は、基板Ｋを吸着し基
板搬出ローラ列６３０上に載置する二つの基板離脱ユニ
ット６５１，６５２を、枠体６５３内に有する。この各
基板離脱ユニット６５１，６５２は、枠体６５３内にＹ
軸に沿って掛け渡された一対のガイドシャフト６５４に
ガイドブシュ６５５を介して係合されており、Ｙ軸に沿
って摺動可能である。この枠体６５３は、一対のガイド
シャフト６５４を含む平面が基板搬出ローラ列６３０上
の基板Ｋと略平行になるよう、マスクプレートストッカ
ー６１０の上面および上記両側面板６１６，６１７に固
定された支柱６５６，６５７により固定・支持されてい
る。よって、各基板離脱ユニット６５１，６５２は、基
板搬出ローラ列６３０上の基板Ｋと略平行にＹ軸に沿っ
て移動することになる。

【００６２】枠体６５３内には、各基板離脱ユニット６
５１，６５２を移動させるためのタイミングベルト６５
８がＹ軸に沿って掛け渡されている。このタイミングベ
ルト６５８が掛け渡される駆動側タイミングプーリ６５
９は、枠体６５３に固定され正逆回転するパルスモータ
６６０（図２１参照）と、シャフト，カップリング等を
介して連結されている。このため、タイミングベルト６
５８は、パルスモータ６６０により駆動する。なお、説
明の便宜上、図中矢印ｆの回転方向を、パルスモータ６
６０の正転方向とする。

【００６３】上記した二つの基板離脱ユニット６５１，
６５２は、このタイミングベルト６５８に、連結金具６
６１，６６２により連結固定されている。しかも、基板
離脱ユニット６５１は、パルスモータ６６０が正転した
場合のタイミングベルト６５８の往路側に、基板離脱ユ
ニット６５２は、タイミングベルト６５８の復路側に、
それぞれ連結固定されている。

【００６４】従って、パルスモータ６６０を図中矢印ｆ
の回転方向に正転させると、基板離脱ユニット６５１お
よび基板離脱ユニット６５２は、ガイドシャフト６５４
に沿って、即ちＹ軸に沿って枠体６５３の中央側にそれ
ぞれ前進する。一方、パルスモータ６６０を逆転させる
と、基板離脱ユニット６５１および基板離脱ユニット６
５２は、互いに離間するよう、Ｙ軸に沿って枠体６５３
側に後退する。

【００６５】そして、枠体６５３には、基板離脱ユニッ
ト６５１，６５２がそれぞれ原点位置（枠体６５３側の
所定位置）にあることを検出するための原点センサ６６
３，６６４と、基板離脱ユニット６５２が前進端位置
（枠体６５３の中央側の所定位置）にあることを検出す
るための前進端センサ６６５が、設けられている。これ
ら各センサは、各基板離脱ユニットが原点位置或いは前
進端位置にある時にオフとなる透過型の光センサであ
り、各基板離脱ユニット６５１，６５２の原点復帰やオ
ーバーラン確認等に用いられる。なお、各基板離脱ユニ
ット６５１，６５２の前進端位置は、各基板離脱ユニッ
ト６５１，６５２がこれ以上接近すると基板離脱ユニッ
ト同志が衝突してしまう位置を規定するものである。そ
して、各基板離脱ユニットのストロークエンドは、該当
するパルスモータに与えられるパルス数で定まり、この
前進端位置の手前に設定されている。更に、この前進端
位置は、露光装置１００にて処理可能な最小基板サイズ
等によっても制約され、一方の基板離脱ユニット６５２
のみにより両ユニットが共に前進端位置まで前進したこ
とが検出される。

【００６６】基板離脱ユニット６５１，６５２は、次の
ようにして構成される。なお、両基板離脱ユニットは、
その構成が同一であるので、基板離脱ユニット６５１に
ついてのみ説明する。この基板離脱ユニット６５１は、
その中心をガイドシャフト６５４に交差する平面で切断
した図１４に示すように、ガイドシャフト６５４が嵌合
するガイドブシュ６５５をその上面に固定した支持プレ
ート６７０と、その下方に位置する中間支持プレート６
７１と、更にその下方に位置する中空の基板吸着中空体
６７２とを有する。

【００６７】この中間支持プレート６７１は、支持プレ
ート６７０の上面に固定されたシリンダ６７３のロッド
とダブルナットで固定されており、このシリンダ６７３
を介して支持プレート６７０の下方位置に保持されてい
る。また、中間支持プレート６７１の上面には、支持プ
レート６７０の上面に固定されたガイドブシュ６７４を
貫通する薄肉鋼管のエアー吸引管６７５が嵌合される吸
引管案内ブシュ６７６が固定されている。この吸引管案
内ブシュ６７６は、エアー吸引管６７５が支障なく上下
に摺動できるよう形成されており、シリンダ６７３のロ
ッド上下動におけるガイドの役割を吸引管案内ブシュ６
７６と協同して果たしている。なお、このエアー吸引管
６７５は、枠体６５３に固定された管継手６７５ａを経
て、図示しない吸引ブロアとフレキシブルエアーホース
（図示省略）により接続されている。

【００６８】基板吸着中空体６７２の上面板には、中間
支持プレート６７１の両端に配置された支持シャフト６
７７が気密に立設・固定されている。また、中間支持プ
レート６７１と基板吸着中空体６７２との間には、支持
シャフト６７７を取り囲むようスプリング６７８が圧縮
して組み込まれている。よって、基板吸着中空体６７２
は、スプリング６７８により下方に常時付勢された状態
で、２本の支持シャフト６７７により中間支持プレート
６７１の下方に釣り下げ支持されている。なお、このス
プリング６７８は、一方の支持シャフト６７７にのみ設
けてもよい。更に、基板吸着中空体６７２の上面板に
は、エアー吸引管６７５の下端とフレキシブルエアーホ
ース６７９を介して接続される口金６８０が気密に固定
されている。

【００６９】支持シャフト６７７の上端には、その組み
付け箇所周辺の拡大図である図１５に示すように、鍔６
８１が形成されており、この鍔６８１とシャフト部との
間には、テーパ部６８２が形成されている。そして、こ
の支持シャフト６７７は、中間支持プレート６７１の両
端に固定された中空のシャフト受け具６８３に挿入さ
れ、鍔６８１でこのシャフト受け具６８３に支持されて
いる。このため、支持シャフト６７７は、このシャフト
受け具６８３から離れて上下動できるとともに、シャフ
ト受け具６８３の上面で鍔６８１がいずれかの箇所で受
けられた状態で、前後・左右いずれの方向にも傾くこと
ができる。

【００７０】上記した支持シャフト６７７により中間支
持プレート６７１の下方に釣り下げ支持されている基板
吸着中空体６７２の底面板６８４には、吸着孔６８５が
その全面に亘り多数穿孔されている。よって、エアー吸
引管６７５，口金６８０を介して基板吸着中空体６７２
の内部の空気が吸引されると、基板吸着中空体６７２の
底面板６８４に密着している吸着対称物（基板Ｋ）は、
多数の吸着孔６８５により基板吸着中空体６７２の底面
板６８４に吸着・保持されることになる。

【００７１】なお、図１５に示すように、基板離脱ユニ
ット６５１のガイドブシュ６５５には、枠体６５３に設
けられた原点センサ６６３をオン・オフするための光遮
蔽板６９０が固定されている。基板離脱ユニット６５２
についても同様である。

【００７２】従って、基板排出部６００は、パルスモー
タ６６０を正逆回転して基板離脱ユニット６５１，基板
離脱ユニット６５２をＹ軸に沿って移動させる。また、
基板排出部６００は、シリンダ６７３を駆動して各基板
離脱ユニットにおける基板吸着中空体６７２を上下動さ
せる。

【００７３】Ｈ：基板供給搬送部の構成 基板供給搬送部７００は、図１および図７に示すよう
に、基板供給部２００と基板露光部３００との間に亘っ
て移動できるよう構成されている。そして、この基板供
給搬送部７００は、基板供給部２００にてプリアライメ
ントした基板Ｋを基板露光部３００における真空枠ベー
ス４５８上のパレット３１８の上面に搬送すべく、次の
ような構成を備える。基板供給搬送部７００は、その概
略斜視図である図１６に示すように、基板供給部２００
の各ローラ列２０２，２０４，２０６の上方に位置し基
板Ｋを吸着するための基板吸着ボード７０２と、この基
板吸着ボード７０２を上下動可能にその基部７０３の両
端で保持する一対のベース部７０４とを有する。

【００７４】ベース部７０４の上面には、基板吸着ボー
ド７０２の基部７０３にロッドの先端が係合されたシリ
ンダ７０６がそれぞれ設置されている。また、この基部
７０３とベース部７０４との間には、基板吸着ボード７
０２が上下動する際の案内となるガイドシャフト７０７
と図示しないブシュがシリンダ７０６の両側に配設され
ている。一方、ベース部７０４の下面には、装置フレー
ム１０２の左右の段部にＸ軸と平行に施設されたリニア
ガイドレール１１０に係合するリニアガイド７０８が固
定されている。よって、基板吸着ボード７０２は、基板
供給部２００の各ローラ列２０２，２０４，２０６と基
板露光部３００におけるパレット３１８との間に亘り、
リニアガイドレール１１０（Ｘ軸）に沿って移動自在で
ある。更に、この基板吸着ボード７０２は、ガイドシャ
フト７０７とブシュに案内されて、ベース部７０４上面
のシリンダ７０６により上下動する。

【００７５】また、装置フレーム１０２の内側左右側面
には、基板供給部２００と基板露光部３００との間に亘
り、タイミングベルト７１０（一方のみ図示）が掛け渡
されている。そして、ベース部７０４のおのおのは、タ
イミングベルト７１０駆動用のサーボモータ７１２（図
２１参照）の回転により同方向に移動するよう、このタ
イミングベルト７１０と連結固定されている。例えば、
各ベース部７０４は、掛け渡されたタイミングベルト７
１０のループの上側に当たるベルトに連結固定されてい
る。

【００７６】従って、サーボモータ７１２が正逆回転す
ると、基板吸着ボード７０２は、基板供給部２００と基
板露光部３００におけるパレット３１８との間に亘っ
て、Ｘ軸に沿って往復動する。また、この基板吸着ボー
ド７０２は、その停止位置において、ベース部７０４上
面のシリンダ７０６により上下動する。なお、装置フレ
ーム１０２の端部には、基板吸着ボード７０２のＸ軸に
沿った移動を規制するストッパ１１２が固定されてい
る。

【００７７】このように移動する基板吸着ボード７０２
の位置を検出するために、装置フレーム１０２には、次
のセンサが設けられている。つまり、図１６に示すよう
に、基板吸着ボード７０２が基板供給部２００の中央部
の真上、即ちプリアライメントされた基板Ｋの真上にあ
ることを検出するためのＸ軸原点センサ７１４（図２２
参照）と、図中一点鎖線で示すように基板吸着ボード７
０２が基板吸着機構４５０におけるパレット３１８の中
央部の真上を所定距離だけ越えたオーバーラン位置にあ
ることを検出するためのＸ軸前進端センサ７１５（図２
２参照）が、設けられている。そして、この基板吸着ボ
ード７０２のストロークエンドは、該当するサーボモー
タ７１２に与えられる制御信号で定まり、パレット３１
８の中央部の真上である。つまり、基板吸着ボード７０
２は、基板露光時にあってはＸ軸原点とパレット３１８
の中央部の真上との間を往復動することになる。

【００７８】また、基板吸着ボード７０２の基部７０３
の一端には、シリンダ７０６のストロークで規定される
基板吸着ボード７０２の位置、即ち基板吸着ボード７０
２が基板供給部２００上の基板Ｋから離間した最上点位
置にあることを検出するための上下動原点センサ７１６
（図２２参照）と、基板吸着ボード７０２が基板供給部
２００上の基板Ｋに密着した最下点位置にあることを検
出するための上下動下端位置センサ７１７（図２２参
照）が、設けられている。これら各センサは、基板吸着
ボード７０２が上記したそれぞれの位置にある時にオン
となるリミットスイッチであり、基板吸着ボード７０２
の原点復帰やオーバーラン確認等に用いられる。

【００７９】基板吸着ボード７０２は、中空の箱体であ
り、その下面には、この基板吸着ボード７０２が基板供
給部２００上の基板Ｋに密着した時に基板供給部２００
におけるＸ軸ガイドピン２１２ないし２１８との干渉を
避けるためのＸ軸ガイドピン埋没溝７２０，７２２がＸ
軸に沿って形成されている。また、基板吸着ボード７０
２の下面には、Ｙ軸ガイドピン２２０ないし２２６との
干渉を避けるためのＹ軸ガイドピン埋没溝７２４，７２
６がＹ軸に沿って形成されている。

【００８０】そして、基板供給搬送部７００は、この基
板吸着ボード７０２内の空気を吸引することにより、基
板供給部２００にてプリアライメントされた基板Ｋを基
板吸着ボード７０２底面に吸着・保持する。なお、基板
吸着ボード７０２は、基部７０３に内蔵された図示しな
い吸引切換バルブ体のロータリーバルブにより、基板の
サイズに応じて基板Ｋの有効吸着面積が変わるよう構成
されている。

【００８１】Ｊ：基板排出搬送部の構成 基板排出搬送部８００は、図１および図７に示すよう
に、基板露光部３００と基板排出部６００との間に亘っ
て移動するよう構成されている。そして、この基板排出
搬送部８００は、露光済み基板Ｋの基板排出部６００へ
の搬入と、露光済み基板Ｋが取り去られたパレット３１
８のみの基板露光部３００への返送とを行なうべく、次
のような構成を備える。

【００８２】基板排出搬送部８００は、図１およびその
概略斜視図である図１７に示すように、向かい合う一対
の基板搬送ユニット８０２を有する。そして、各基板搬
送ユニット８０２には、パレット３１８を吸着・保持す
るためのパレット吸着搬送アーム８１０がそれぞれ２個
ずつ設けられている。各基板搬送ユニット８０２はベー
ス部８０４に載置・固定されており、ベース部８０４下
面には、リニアガイドレール１１０に係合するリニアガ
イド８０６が固定されている。よって、各基板搬送ユニ
ット８０２は、基板露光部３００と基板排出部６００の
基板搬出ローラ列６３０との間に亘り、リニアガイドレ
ール１１０（Ｘ軸）に沿って移動自在である。

【００８３】なお、このリニアガイドレール１１０は、
基板供給搬送部７００の基板吸着ボード７０２と基板排
出搬送部８００の基板搬送ユニット８０２とに共通に使
用される。しかし、図１に示すように、両基板搬送ユニ
ット８０２間に基板吸着ボード７０２が入り込めること
から、この両者が基板露光部３００に侵入しても干渉す
ることはない。また、基板吸着ボード７０２，基板搬送
ユニット８０２のＸ軸前進端は、基板搬送ユニット８０
２に基板吸着ボード７０２の基部７０３が衝突しないよ
うセンサにて規制されている。

【００８４】また、装置フレーム１０２の内側左右側面
には、基板露光部３００と基板排出部６００との間に亘
り、タイミングベルト８０８（一方のみ図示）が掛け渡
されている。そして、ベース部８０４のおのおのは、タ
イミングベルト８０８駆動用のサーボモータ８０９（図
２１参照）の回転により同方向に移動するよう、このタ
イミングベルト８０８と連結固定されている。例えば、
各基板搬送ユニット８０２のベース部８０４は、掛け渡
されたタイミングベルト８０８のループの上側に当たる
ベルトに連結固定されている。しかも、連結に当たって
は、各基板搬送ユニット８０２が対向するようその位置
が調整されている。なお、タイミングベルト８０８は、
基板吸着ボード７０２を移動させるためのタイミングベ
ルト７１０と干渉することなく掛け渡されている。

【００８５】従って、サーボモータ８０９が正逆回転す
ると、各基板搬送ユニット８０２は、基板露光部３００
の下部露光枠体３０８に吸着・保持されているパレット
３１８と基板排出部６００における基板搬出ローラ列６
３０との間に亘って、Ｘ軸に沿って対向したまま往復動
する。

【００８６】このように移動する基板搬送ユニット８０
２の位置を検出するために、装置フレーム１０２の内側
両側面には、次のセンサが設けられている。つまり、図
２８に示すように、各基板搬送ユニット８０２が基板搬
出ローラ列６３０の中央部にあることを検出するための
Ｘ軸原点センサ８１２（図２２参照）と、図中一点鎖で
示すように各基板搬送ユニット８０２が下部露光枠体３
０８に吸着・保持されているパレット３１８の中央部の
真下を所定距離だけ越えたオーバーラン位置にあること
を検出するためのＸ軸前進端センサ８１４（図２２参
照）が、それぞれ設けられている。そして、この各基板
搬送ユニット８０２のストロークエンドは、該当するサ
ーボモータ８０９に与えられる制御信号で定まり、パレ
ット３１８の中央部の真下である。つまり、各基板搬送
ユニット８０２は、基板露光時にあってはＸ軸原点とパ
レット３１８の中央部の真下との間を往復動することに
なる。これら各センサは、各基板搬送ユニット８０２が
上記したそれぞれの位置にある時にオンとなるリミット
スイッチであり、基板搬送ユニット８０２の原点復帰や
オーバーラン確認等に用いられる。

【００８７】各パレット吸着搬送アーム８１０は、その
間隔がパレット３１８における吸着プレート４３６，４
３７の取付ピッチ（図９参照）に適合するよう、それぞ
れの基板搬送ユニット８０２に設けられている。そし
て、各パレット吸着搬送アーム８１０は、図１７中に矢
印で示すように、ガイドシャフト８１６に沿って上下動
自在であるとともに、ガイドシャフト８１６を中心に旋
回自在であり、次のようにして構成されている。

【００８８】ガイドシャフト８１６に沿ったパレット吸
着搬送アーム８１０の断面図である図１８に示すよう
に、ガイドシャフト８１６には、当該シャフト沿って上
下に摺動するスライドブシュ８１８が組み込まれてい
る。また、このスライドブシュ８１８にはベアリング８
２０，８２２がその内輪を嵌合固定して組み込まれてい
る。そして、パレット吸着搬送アーム８１０には、この
ベアリング８２０がその外輪を嵌合固定して、パレット
吸着搬送アーム８１０のサポート８２４には、ベアリン
グ８２２がその外輪を嵌合固定して、それぞれ組み込ま
れている。更に、このサポート８２４の上面には、タイ
ミングプーリ８２６が固定されている。

【００８９】よって、パレット吸着搬送アーム８１０
は、両ベアリングを介してスライドブシュ８１８と一体
とされており、ガイドシャフト８１６に沿って上下動可
能である。しかも、ガイドシャフト８１６，スライドブ
シュ８１８との間にはベアリング８２０，８２２が介在
するので、パレット吸着搬送アーム８１０は、ガイドシ
ャフト８１６を中心に旋回可能である。

【００９０】また、スライドブシュ８１８には連結プレ
ート８２８が固定されており、この連結プレート８２８
は、同一の基板搬送ユニット８０２における両パレット
吸着搬送アーム８１０のスライドブシュ８１８に亘って
設けられている。そして、この連結プレート８２８は、
図示するように上下のタイミングプーリ８３０，８３２
の間に掛け渡されたタイミングベルト８３４に、連結金
具８３６を介して連結固定されている。よって、パルス
モータ８３８の回転がタイミングベルト８４０を介して
タイミングプーリ８３０に伝達され当該プーリが図中矢
印ｇ方向に回転すると、連結プレート８２８は上昇す
る。この連結プレート８２８は両パレット吸着搬送アー
ム８１０のスライドブシュ８１８に固定されているの
で、同一の基板搬送ユニット８０２における両パレット
吸着搬送アーム８１０は、同時に上昇することになる。
一方、パルスモータ８３８が逆転すれば、両パレット吸
着搬送アーム８１０は降下する。なお、このパレット吸
着搬送アーム８１０と一緒にタイミングプーリ８２６も
上下動する。

【００９１】また、パレット吸着搬送アーム８１０先端
に穿孔された吸引孔８１１には、図示しない真空ポンプ
と接続された吸引用のエアーホース８４６が配管されて
いる。よって、このエアーホース８４６，吸引孔８１１
を介して吸引されると、パレット３１８は、向かい合う
一対の基板搬送ユニット８０２における各パレット吸着
搬送アーム８１０の先端部上面に吸着・保持されること
になる。

【００９２】このように上下動するパレット吸着搬送ア
ーム８１０の位置を検出するために、各基板搬送ユニッ
ト８０２には、次のセンサが設けられている。つまり、
図示するようにパレット吸着搬送アーム８１０が最下端
位置にあることを検出するための上下動原点センサ８４
２（図２２参照）と、パレット吸着搬送アーム８１０が
図中一点鎖線で示す最上端位置にあることを検出するた
めの上下動上端位置センサ８４４（図２２参照）が、設
けられている。これら各センサは、パレット吸着搬送ア
ーム８１０が上記したそれぞれの位置にある時にオンと
なるリミットスイッチであり、パレット吸着搬送アーム
８１０の原点復帰やオーバーラン確認等に用いられる。

【００９３】このパレット吸着搬送アーム８１０の最上
端位置は、次のように規定されている。つまり、パレッ
ト吸着搬送アーム８１０が基板露光部３００内において
最上端位置まで上昇したときには、パレット吸着搬送ア
ーム８１０は、基板露光部３００におけるマスクプレー
ト３１０の下面に吸着・保持されたパレット３１８の吸
着プレート４３６，吸着プレート４３７に、吸着座リン
グ４３８を介在させて密着する（図１１，図１２参
照）。一方、パレット吸着搬送アーム８１０が基板排出
部６００において最上端位置まで上昇したときには、パ
レット吸着搬送アーム８１０に吸着・保持したパレット
３１８上の基板Ｋが、基板排出部６００の基板離脱ユニ
ット６５１における基板吸着中空体６７２の底面板６８
４下面に密着する（図１４，図２０参照）。

【００９４】同一の基板搬送ユニット８０２における両
パレット吸着搬送アーム８１０の各タイミングプーリ８
２６には、図１９の概略斜視図に示すように、表裏面に
亘って歯付の有端のタイミングベルト８４８がいわゆる
８の字状に掛けられており、このタイミングベルト８４
８の両端は、コの字状の連結金具８５０で連結されてい
る。従って、この連結金具８５０にロッド先端が固定さ
れたシリンダ８５１（図２３参照）を駆動して、図中矢
印ｈに示す方向にタイミングベルト８４８を駆動する
と、各パレット吸着搬送アーム８１０は、図中矢印ｉに
示す方向にガイドシャフト８１６を中心に約９０度だけ
同時に旋回することになる。一方、矢印ｈと反対方向に
タイミングベルト８４８を駆動すれば、各パレット吸着
搬送アーム８１０は矢印ｉと反対方向に同時に旋回し図
示する旋回原点位置に復帰することになる。

【００９５】このように旋回するパレット吸着搬送アー
ム８１０の位置を検出するために、各基板搬送ユニット
８０２には、次のセンサが設けられている。つまり、各
パレット吸着搬送アーム８１０が図１７，図１８，図１
９に示す旋回原点位置にあることを検出するための旋回
原点センサ８５２（図２２参照）と、パレット吸着搬送
アーム８１０が約９０度だけ旋回した旋回完了位置にあ
ることを検出するための旋回完了位置センサ８５４（図
２２参照）が、設けられている。これら各センサは、パ
レット吸着搬送アーム８１０が上記したそれぞれの位置
にある時にオンとなるリミットスイッチであり、パレッ
ト吸着搬送アーム８１０の原点復帰や位置確認等に用い
られる。

【００９６】なお、パレット吸着搬送アーム８１０が旋
回完了位置に旋回したときには、パレット吸着搬送アー
ム８１０は、図１７中に二点鎖線で示すように、装置フ
レーム１０２の段部まで退避する。

【００９７】Ｌ：露光装置の電気的構成 次に、上記した露光装置１００の電気的な構成につい
て、図２１に示すブロック図を用いて説明する。図２１
に示すように、露光装置１００の制御装置９００は、予
め書き込まれたプログラムに基づき各種の制御対象機器
をシーケンス制御するプログラマブルコントローラ（以
下、ＰＣという）９１０を中心に構成されている。そし
て、制御装置９００は、ＰＣ９１０と相互にデータの授
受を行なう画像処理装置９１２およびパネルコントロー
ラ９１４と、上記した各パルスモータを駆動するための
モータドライバ群９１６と、各サーボモータを駆動する
ためのサーボドライバ群９１８と、基板供給部２００，
基板露光部３００等の構成部ごとのＩ／Ｏポートからな
るＩ／Ｏポート９２０とを有する。

【００９８】画像処理装置９１２は、ＰＣ９１０からの
制御信号に応じてＣＣＤカメラ３１２，ＣＣＤカメラ３
１４から画像情報を入力する。そして、この画像処理装
置９１２は、入力した画像情報に基づいて、基板Ｋおよ
びパターンフィルムのアライメントマークのズレ量を画
像処理して求め、その結果をＰＣ９１０に出力する。こ
の場合、両アライメントマークのズレ量の許容範囲、即
ち基板Ｋとパターンフィルムとの位置ズレの許容範囲は
画像処理装置９１２の記憶素子に予め記憶されているの
で、画像処理装置９１２では上記ズレ量の算出ととも
に、その適否が判定される。そして、この画像処理装置
９１２からは、次のような制御信号が出力される。ま
ず、両アライメントマークのズレ量が許容範囲である場
合には、画像処理装置９１２からは、両アライメントマ
ークのズレ量の良否判定の結果（ＯＫ信号）のみが出力
される。一方、両アライメントマークのズレ量の許容範
囲外である場合には、画像処理装置９１２からは、両ア
ライメントマークのズレ量の算出値と良否判定の結果
（ＮＧ信号）が出力される。この信号を受けるＰＣ９１
０は、上記ズレ量が許容範囲内となるよう、ＸＹθテー
ブル４１０をその各軸について駆動制御する。

【００９９】パネルコントローラ９１４は、ＰＣ９１０
の記憶したプログラムや露光装置１００の駆動の状態、
例えば各構成部における基板Ｋの搬送或いは露光の状態
等を、ディスプレイ９２２に表示するものである。な
お、このディスプレイ９２２における表示は、パネルコ
ントローラ９１４に接続されたキーボード９２４の所定
キーの操作やＰＣ９１０からの制御信号に基づき適宜実
行される。また、このキーボード９２４からは、処理す
る基板のロットにおけるロット枚数や使用するマスクプ
レート３１０の指示等のデータが入力され、これら入力
データがパネルコントローラ９１４を経てＰＣ９１０に
出力される。

【０１００】モータドライバ群９１６を構成する各モー
タドライバには、ＸＹθテーブル４１０をＸＹθの各軸
ごとに駆動するパルスモータ４１６，４１７，４１８
と、ＣＣＤカメラ３１２，３１４をＸ軸に沿って移動す
るためのパルスモータ３３８と、ＣＣＤカメラ３１２，
３１４をＹ軸に沿って移動するためのパルスモータ３４
４，３４６と、Ｘ軸ガイドピン２１２ないし２１８をＸ
軸に沿って移動するためのパルスモータ２５３と、Ｙ軸
ガイドピン２２０ないし２２６をＹ軸に沿って移動する
ためのパルスモータ２７７と、パレット吸着搬送アーム
８１０を上下動するための各基板搬送ユニット８０２ご
とのパルスモータ８３８と、基板離脱ユニット６５１，
６５２をＹ軸に沿って移動するためのパルスモータ６６
０とが、それぞれ接続されている。

【０１０１】サーボドライバ群９１８を構成する各サー
ボドライバには、基板供給搬送部７００の基板吸着ボー
ド７０２をＸ軸に沿って移動するためのサーボモータ７
１２と、基板排出搬送部８００の各基板搬送ユニット８
０２をＸ軸に沿って移動するためのサーボモータ８０９
とが、それぞれ接続されている。

【０１０２】Ｉ／Ｏポート９２０には、基板検出センサ
２４２等のセンサ群９２６と、駆動対象となるモータ２
１１等の種々のモータやパレット受けシリンダ４６４等
の種々のシリンダからなる駆動機器群９２８とが接続さ
れている。このセンサ群９２６には、図２２に示すよう
に、基板供給部２００，基板露光部３００等の各構成部
ごとの種々のセンサのほか、空気圧回路における種々の
空気圧測定機器群９３０、例えばプレッシャーゲージ等
が含まれる。一方、駆動機器群９２８には、図２３に示
すように、種々のモータ，シリンダのほか、光源３０２
や空気圧回路における電磁弁等の種々の空気圧駆動機器
群９３２と、基板供給部２００，基板露光部３００等の
各構成部ごとの複数の吸引ブロア９３４と、パレット３
１８や基板Ｋの吸着用の真空ポンプ９３５とが含まれ
る。そして、これらセンサの出力がＩ／Ｏポート９２０
を介してＰＣ９１０に出力され、ＰＣ９１０からの制御
信号に基づきモータ２１１，パレット受けシリンダ４６
４等のモータやシリンダが駆動される。なお、各シリン
ダには、油圧或いは空圧の電磁弁を介して接続されてい
る。また、各モータには、それぞれのドライバを介して
接続されている。また、真空ポンプ９３５からは、基板
露光部３００における基板吸引機構３９１の吸引ブロッ
ク３９６や真空枠ベース４５８の吸着ソケット４６７等
に到るまでエアー配管されており、当該配管途中に電磁
弁が組み込まれている。

【０１０３】Ｍ：露光装置における制御 次に、上記した構成を備える本実施例の露光装置１００
が行う制御について、図２４以降のフローチャートに基
づき説明する。

【０１０４】図２４は、露光装置１００が行なう制御の
うち、基板供給部２００における基板供給準備ルーチン
のフローチャートである。このルーチンでは、まず、各
軸のパルスモータ２５３，パルスモータ２７７を駆動し
て、Ｘ軸センタリングユニット２３０，２５４およびＹ
軸センタリングユニット２６０，２８０を図５に示す原
点位置に復帰する（ステップＳ１０００）。次いで、基
板露光部３００の真空枠ベース４５８への一連のプリア
ライメント処理を行ない（ステップＳ１００２）、この
プリアライメントを指示された所定枚数だけ行なったか
否かを判断する（ステップＳ１００４）。そして、所定
枚数の処理が完了すれば本ルーチンを一旦終了し、上記
したステップＳ１０００からの処理を繰り返す。

【０１０５】なお、ステップＳ１０００における各軸の
センタリングユニットの原点位置復帰は、電源投入時等
にも実行される。また、ステップＳ１００４における所
定枚数は、キーボード９２４から指示されるものであ
り、基板Ｋのロット数等である。

【０１０６】このプリアライメント処理では、図２５の
フローチャートに示すように、まず、各Ｘ軸センタリン
グユニットにおけるシリンダ２４６を駆動して、Ｘ軸セ
ンタリングユニット２３０，２５４の各Ｘ軸ガイドピン
２１２，２１４，２１６，２１８をその下端に降下させ
る（ステップＳ１００６）。このようにＸ軸ガイドピン
２１２，２１４，２１６，２１８が降下することによ
り、その先端の基板当たりローラ２２８は各ローラ列２
０２，２０４，２０６における基板Ｋの搬送面から下方
に退避し、外部から基板Ｋを搬入することができるよう
になる。

【０１０７】次いで、外部の基板搬入機器に基板搬入指
令を出して基板Ｋを基板供給部２００に搬入させるとと
もに、基板供給部２００のモータ２１１を駆動して各ロ
ーラ列２０２，２０４，２０６を回転させ、この基板Ｋ
を基板露光部３００側にＸ軸に沿って搬送する（ステッ
プＳ１００８）。その後、基板Ｋの搬送が完了したか否
かを基板露光部３００側のＸ軸センタリングユニット２
５４の基板検出センサ２５８の出力により判断し（ステ
ップＳ１０１０）、搬送が完了するまで待機する。

【０１０８】基板検出センサ２５８により基板Ｋの搬送
が検出されると、基板供給部２００に搬入された基板Ｋ
は基板露光部３００側の基板供給部２００の端部まで搬
送されることになる。よって、ステップＳ１０１０で肯
定判断した時点でモータ２１１の駆動を停止し、基板Ｋ
の搬送を停止する（ステップＳ１０１２）。次いで、Ｘ
軸センタリングユニット２３０，２５４におけるそれぞ
れのシリンダ２４６を駆動してそのロッドを伸長させ、
各Ｘ軸ガイドピン２１２，２１４，２１６，２１８先端
の基板当たりローラ２２８を基板Ｋの搬送面から突出さ
せる（ステップＳ１０１４）。

【０１０９】その後、パルスモータ２５３を駆動してＸ
軸センタリングユニット２３０，２５４をそれぞれ基板
供給部２００の中央に前進移動する（ステップＳ１０１
６）。これにより、基板Ｋは、各Ｘ軸ガイドピン２１２
等の基板当たりローラ２２８に押されて、Ｘ軸において
基板供給部２００の基板露光部３００側からその中央に
移動される。そして、外部からの基板搬入側のＸ軸セン
タリングユニット２３０における基板検出センサ２４２
が基板Ｋを検出するまで待機する（ステップＳ１０１
８）。この場合、Ｘ軸センタリングユニット２３０，２
５４の移動は、基板検出センサ２４２が基板Ｋを検出
し、パルスモータ２５３のモータ軸に設けられたトルク
リミッタが作動するまで継続される。つまり、Ｘ軸セン
タリングユニット２３０，２５４は、基板検出センサ２
４２が基板Ｋを検出した後も所定時間だけ継続して移動
し、基板Ｋをその両側から各Ｘ軸ガイドピン先端の基板
当たりローラ２２８により確実に押し付ける。ここで、
基板Ｋを検出し、上記トルクリミッタにより基板当たり
ローラ２２８が確実に基板Ｋを押し付けたことを確認し
て、パルスモータ２５３の駆動を停止し各Ｘ軸ガイドピ
ン２１２等の前進を停止する（ステップＳ１０２０）。
このステップＳ１０１６〜１０２０までの処理により、
基板Ｋは、Ｘ軸において基板供給部２００の中央に移動
され、Ｘ軸におけるセンタに停止する。

【０１１０】そして、Ｙ軸の各Ｙ軸センタリングユニッ
ト２６０，２８０についても、Ｘ軸のＸ軸センタリング
ユニット２３０等と同様に、前進移動（ステップＳ１０
２２），基板検出センサ２８４による基板検出（ステッ
プＳ１０２４），前進停止（ステップＳ１０２６）を行
なう。これにより、基板Ｋは、Ｙ軸において基板供給部
２００の中央に移動され、Ｙ軸のセンタに停止する。よ
って、各軸についての各センタリングユニットにより、
基板Ｋは基板供給部２００の中央部に位置決めされ、基
板Ｋのプリアライメントが完了する。

【０１１１】その後、基板供給搬送部７００の基板吸着
ボード７０２にプリアライメント済みの基板Ｋを吸着す
る（ステップＳ１０３０）。このステップＳ１０３０に
あっては、次のような動作が基板供給搬送部７００で行
なわれる。

【０１１２】基板供給搬送部７００は、基板Ｋが基板供
給部２００の中央部にプリアライメントされると、この
基板Ｋから離間した最上点位置にある基板吸着ボード７
０２を、シリンダ７０６をロッドの引き込み側に駆動し
て最下点位置まで降下させる。こうして、基板供給搬送
部７００は、基板吸着ボード７０２を基板供給部２００
の中央部にプリアライメントされた基板Ｋに密着させ
る。

【０１１３】次に、基板供給搬送部７００は、基板Ｋが
基板吸着ボード７０２の底面板に密着すると、吸引ブロ
アを駆動して基板吸着ボード７０２の内部を吸引する。
そして、基板供給搬送部７００は、基板供給部２００中
央部の基板Ｋを基板吸着ボード７０２の底面板に吸着・
保持する。

【０１１４】この基板Ｋの吸着・保持が完了すると、パ
ルスモータ２５３，パルスモータ２７７を数パルス分
（各ガイドピンの基板当たりローラ２２８が基板Ｋから
僅かに離間し基板Ｋの上昇を阻害しないよう退避する
分）逆転駆動して、Ｘ軸センタリングユニット２３０，
２５４およびＹ軸センタリングユニット２６０，２８０
の各ガイドピンを、移動（退避）させる（ステップＳ１
０４０）。この各ガイドピンの退避により、基板Ｋは、
各軸のセンタリングユニットのＸ軸ガイドピン２１２な
いし２１８およびＹ軸ガイドピン２２０ないし２２６の
先端の基板当たりローラ２２８のテーパ面と干渉しなく
なる（図３参照）。よって、基板Ｋの持ち上げが可能と
なる。

【０１１５】次に、基板供給搬送部７００におけるシリ
ンダ７０６をロッドの伸長側に駆動し、基板吸着ボード
７０２を最上点位置まで上昇させ、基板Ｋを、基板吸着
ボード７０２の底面板に吸着・保持したまま基板供給部
２００の中央部の上方へ持ち上げる（ステップＳ１０４
２）。その後、Ｘ軸センタリングユニット２３０，２５
４のそれぞれのシリンダ２４６を復帰駆動して、各Ｘ軸
ガイドピン２１２，２１４，２１６，２１８先端の基板
当たりローラ２２８を基板Ｋの搬送面から下方に引き込
む（ステップＳ１０４４）。なお、本実施例において
は、基板露光部３００側のＸ軸センタリングユニット２
５４のＸ軸ガイドピン２１６，２１８も上下動するよう
構成したが、これは基板Ｋとの隙間を設けるためであ
り、Ｘ軸センタリングユニット２５４にあってはＸ軸ガ
イドピン２１６，２１８が上下動しないよう構成するこ
ともできる。

【０１１６】このようにセンタリングユニットが退避し
Ｘ軸ガイドピン２１２，２１４，２１６，２１８が降下
すれば、ステップＳ１０４２にて基板Ｋが持ち上げられ
各ローラ列２０２，２０４，２０６上には既に基板Ｋが
ないことと相俟って、次の基板Ｋを基板供給部２００に
搬入できることになる。

【０１１７】ステップＳ１０４４までの処理が終了すれ
ば、基板供給部２００に関する基板の露光開始条件も成
立するので、露光開始条件をオンとして（ステップＳ１
０６０）、既述したステップＳ１００４に移行する。そ
して、このステップＳ１００４で所定枚数の上記処理を
実施したと判断されるまで、ステップＳ１００２からの
上記処理が繰り返される。

【０１１８】よって、基板供給部２００では、基板供給
の準備に関する上記した処理（基板Ｋの搬入，プリアラ
イメント，吸着・持ち上げ等）が一旦完了すれば、次の
基板Ｋが搬入できるとして、ステップＳ１０００からの
処理が後述する露光準備処理，露光処理，基板排出処
理，パレット循環処理等と関係なく繰り返される。換言
すれば、基板露光部３００において基板Ｋが露光されて
いる間にも、次の基板Ｋについて基板供給準備が行なわ
れる。しかも、基板Ｋの露光処理に要する時間は基板供
給準備処理に要する時間より長いので、基板Ｋの露光処
理の間に、次の基板Ｋについての基板供給準備は終了す
る。なお、ステップ１０６０においてオンされた露光開
始条件は、所定のタイミング、例えば次の基板Ｋの基板
供給部２００への搬入が完了した時点でオフとされる。

【０１１９】この基板供給準備ルーチンに続く露光準備
ルーチンでは、図２６のフローチャートに示すように、
まず、露光開始条件およびＸＹθテーブル条件が共に成
立しているか否かを判断する（ステップＳ１１００，１
１１０）。この露光開始条件は、既述した基板供給準備
ルーチンにてオンされるものである。一方、ＸＹθテー
ブル条件が成立するには、基板露光部３００におけるＸ
Ｙθテーブル４１０がマスクプレート３１０から離間し
た原点位置（下端位置）にあり、且つ、ＸＹθテーブル
４１０の真空枠ベース４５８にはパレット３１８（最初
の当該ルーチンにおける処理にあっては第１のパレット
３１８）のみが吸着されていることが少なくとも必要で
ある。そして、このＸＹθテーブル条件は、後述する処
理にて成立する。

【０１２０】ステップＳ１１００，１１１０で共に肯定
判断すると、基板供給搬送部７００により、基板供給部
２００から基板露光部３００の真空枠ベース４５８に基
板Ｋを供給する（ステップＳ１１２０）。つまり、サー
ボモータ７１２を駆動して基板吸着ボード７０２を基板
供給部２００の中央部上方からＸ軸方向に沿ってその前
進端まで移動させ、基板Ｋを基板露光部３００における
パレット３１８の中央部の真上まで搬送する。次いで、
基板供給搬送部７００のシリンダ７０６をロッドの引き
込み側に駆動して基板吸着ボード７０２を最下点位置ま
で降下させる。こうして、基板供給搬送部７００は、基
板吸着ボード７０２に吸着・保持している基板Ｋを基板
露光部３００におけるパレット３１８の中央部に密着す
る。その後、吸引ブロアを停止して基板吸着ボード７０
２による基板Ｋの吸着を解除し、基板Ｋを基板露光部３
００における第１のパレット３１８の中央部に載置し
て、基板Ｋを供給する。

【０１２１】次いで、吸着ソケット４６７からの吸引に
より基板Ｋを第１のパレット３１８とともに真空枠ベー
ス４５８の上面に吸着・保持し（ステップＳ１１３
０）、基板供給搬送部７００の基板吸着ボード７０２を
基板供給部２００側の元の位置（原点位置）に復帰させ
る（ステップＳ１１４０）。この基板吸着ボード７０２
の復帰は、シリンダ７０６の復帰駆動およびサーボモー
タ７１２を逆転駆動を順次行なうことで、基板吸着ボー
ド７０２の最上点位置までの上昇および基板吸着ボード
７０２のＸ軸に沿った搬送により完了する。このように
基板吸着ボード７０２をＸ軸原点である基板供給部２０
０中央部の真上までリターンすることで、次回の基板Ｋ
の吸着・搬送に備える。

【０１２２】その後、基板排出搬送部８００の基板搬送
ユニット８０２が基板排出部６００側の原点位置にある
か否かの判断（ステップＳ１１５０）と、マスクプレー
ト３１０下面には第１のパレット３１８および基板Ｋが
存在しないか否かの判断（ステップＳ１１５５）とを、
順次行なう。この後者の判断は、露光枠体３０４の図示
しない基板吸引機構の駆動状況から下される。そして、
基板搬送ユニット８０２が原点位置にあり、且つマスク
プレート３１０下面に基板Ｋ等がなければ、ＸＹθテー
ブル４１０を上昇させ基板Ｋとマスクプレート３１０下
面のパターンフィルムとのアライメントを行なう（ステ
ップＳ１１６０）。

【０１２３】つまり、まず、真空枠ベース４５８の上面
に第１のパレット３１８とともに吸着・保持した基板Ｋ
を、基板吸着機構４５０のシリンダ４２４により上昇さ
せ、露光枠体３０４のマスクプレート３１０下面のパタ
ーンフィルムに密着させる。次いで、露光枠体３０４の
ＣＣＤカメラ３１２，３１４をＸ軸およびＹ軸に沿って
所定のアライメント実行座標まで移動させる。そして、
ＣＣＤカメラ３１２，３１４からの画像信号に基づき基
板Ｋとパターンフィルムとのズレ量を求める。このズレ
量は、基板Ｋおよびパターンフィルムに設けられたアラ
イメントマークのズレから求められる。

【０１２４】次いで、マスクプレート３１０を単独で僅
かに持ち上げて基板Ｋとマスクプレート３１０とを離間
させる。そして、この間に、ＸＹθテーブル４１０を上
記ズレ量に基づいて３軸制御し、両アライメントマーク
が所定許容差内で一致するよう、基板Ｋとパターンフィ
ルムとのアライメントを行なう。次いで、マスクプレー
ト３１０を降下させ、基板Ｋとマスクプレート３１０と
を再度密着させる。続いて、基板Ｋとパターンフィルム
とのズレ量を再度求め、基板Ｋおよびパターンフィルム
の両アライメントマークが所定許容差内で一致していれ
ば、ＣＣＤカメラ３１２，３１４を各々原点復帰させて
露光処理に備える。

【０１２５】上記したステップＳ１１６０に続いては、
露光枠体３０４のマスクプレート３１０に基板Ｋを第１
のパレット３１８とともに吸着する（ステップＳ１１７
０）。つまり、真空枠４５６を、シリンダ４５４により
単独で上昇させ、真空枠４５６をもシール材４６２を介
在させてマスクプレート３１０下面に密着させる。その
後、下部露光枠体３０８の図示しない基板吸引機構を駆
動して、マスクプレート３１０とパレット３１８との間
の空気を吸引し、基板Ｋをパレット３１８とともにマス
クプレート３１０下面に真空密着する。この吸引を所定
時間継続した後には、基板Ｋ，第１のパレット３１８と
真空枠ベース４５８との吸着を解き、真空枠ベース４５
８をその原点位置（下端位置）まで降下させる。こうし
て、マスクプレート３１０に吸着された第１のパレット
３１８と基板吸着機構４５０の真空枠ベース４５８との
間に、第２のパレット３１８の搬入空間を形成する。

【０１２６】基板のアライメントを経てこのようにマス
クプレート３１０に基板Ｋが吸着されれば、基板Ｋの露
光を行なうことができる。また、マスクプレート３１０
に基板Ｋが吸着され基板吸着機構４５０が降下すれば、
基板吸着機構４５０とマスクプレート３１０との間には
第２のパレット３１８の搬入空間が形成されるので、基
板吸着機構４５０に第２のパレット３１８を搬入するこ
とができる。よって、露光条件をオン（ステップＳ１１
８０）とするとともに、次のパレットの搬入条件をオン
とする（ステップＳ１１９０）。そして、本ルーチンを
一旦終了し、上記処理を繰り返す。

【０１２７】よって、基板露光部３００では、基板露光
の準備に関する上記した処理（基板Ｋの供給，アライメ
ント等）が一旦完了すれば、次の基板Ｋについての露光
準備を実行できるとして、ステップＳ１１００からの処
理が、上記した基板供給準備処理や後述する露光処理，
基板排出処理，パレット循環処理等と関係なく繰り返さ
れる。換言すれば、基板Ｋが露光されている間にも、次
の基板Ｋについて基板露光準備が行なわれる。しかも、
基板Ｋの露光処理に要する時間は露光準備処理に要する
時間より長いので、基板Ｋの露光処理の間に、次の基板
Ｋについての露光準備は終了する。なお、ステップＳ１
１８０，１１９０においてオンされた露光条件および次
パレット搬入条件は、所定のタイミング、例えば次の基
板Ｋの真空枠ベース４５８への供給が完了した時点でオ
フとされる。

【０１２８】この露光準備ルーチンに続く露光ルーチン
では、図２７のフローチャートに示すように、まず、露
光条件が成立しているか否かを判断し（ステップＳ１２
００）、当該条件が成立するまで待機する。そして、露
光条件が成立すれば、基板露光部３００では、光源３０
２を点灯して基板Ｋの露光を開始する（ステップＳ１２
１０）。つまり、光源３０２を点灯させ所定時間に亘っ
て紫外領域の波長の光を照射し、マスクプレート３１０
下面のパターンフィルムにおける配線パターンを基板Ｋ
に露光する。

【０１２９】その後、基板排出搬送部８００の基板搬送
ユニット８０２における各パレット吸着搬送アーム８１
０が基板露光部３００において最上端位置にあるか否か
の判断（ステップＳ１２２０）と、基板Ｋの露光が完了
したか否かの判断（ステップＳ１２３０）とを、順次実
行する。このステップＳ１２２０，１２３０で共に肯定
判断すれば、パレット吸着搬送アーム８１０はマスクプ
レート３１０下面の第１のパレット３１８に密着し、し
かも露光が完了しているので、この第１のパレット３１
８をその上面の露光済み基板Ｋとともにパレット吸着搬
送アーム８１０に受け渡す（ステップＳ１２４０）。こ
の露光済み基板Ｋの受け渡しは、次のようにして行なわ
れる。

【０１３０】まず、露光の間に継続されていたマスクプ
レート３１０下面へのパレット３１８（第１のパレット
３１８）の吸着を解き、それまでマスクプレート３１０
下面に吸着・保持されていた第１のパレット３１８を、
その上面の露光済み基板Ｋとともに、吸着プレート４３
６，吸着プレート４３７においてパレット吸着搬送アー
ム８１０に載置する。そして、基板排出搬送部８００の
真空ポンプを駆動してエアーホース８４６，吸引孔８１
１を介してこの第１のパレット３１８を吸引する。この
場合には、総てのパレット吸着搬送アーム８１０におい
て、この吸引が行なわれる。

【０１３１】よって、パレット３１８の吸着プレート４
３６，吸着プレート４３７（図９，図１１，図１２参
照）を介して、第１のパレット３１８は、基板露光部３
００内においてパレット吸着搬送アーム８１０に吸着・
保持される。この際、第１のパレット３１８の上面に載
置されている露光済み基板Ｋは、吸着プレート４３７か
らの真空吸引により、図１２に示すように、エアーホー
ス４４２，逆止弁４４０を経てこの第１のパレット３１
８の上面に吸着・保持されることになる。このため、露
光済み基板Ｋは、第１のパレット３１８とともに基板排
出搬送部８００のパレット吸着搬送アーム８１０に吸着
・保持される。

【０１３２】次いで、この第１のパレット３１８および
露光済み基板Ｋを、基板排出搬送部８００により基板露
光部３００から基板排出部６００へ搬出する（ステップ
Ｓ１２５０）。つまり、パルスモータ８３８を逆転駆動
して、各パレット吸着搬送アーム８１０を最下端位置ま
で降下させ、パレット吸着搬送アーム８１０に露光済み
基板Ｋとともに吸着・保持した第１のパレット３１８を
マスクプレート３１０下面から降ろし、基板排出部６０
０への排出に備える。その後、サーボモータ８０９を逆
転駆動し、各基板搬送ユニット８０２を基板露光部３０
０から基板排出部６００側にＸ軸方向に沿ってその原点
位置まで移動させる。そして、図１４，図１７，図２０
に示すように、第１のパレット３１８を、基板排出部６
００における基板搬出ローラ列６３０の上方で基板離脱
ユニット６５１の下方に搬送する。

【０１３３】この露光済み基板Ｋの搬出に続いては、パ
レット吸着搬送アーム８１０の上昇を経て、第１のパレ
ット３１８から露光済み基板Ｋを、次のようにして基板
排出部６００の基板離脱機構６５０に受け渡す（ステッ
プＳ１２６０）。つまり、パルスモータ８３８を正転駆
動して各パレット吸着搬送アーム８１０を最上端位置ま
で上昇させ、パレット吸着搬送アーム８１０に第１のパ
レット３１８とともに吸着・保持している露光済み基板
Ｋを、基板離脱ユニット６５１における基板吸着中空体
６７２の底面板６８４下面に密着させる（図１４，図２
０）。次いで、４つのパレット吸着搬送アーム８１０の
うち、パレット３１８の吸着プレート４３７に密着して
いるパレット吸着搬送アーム８１０についてのみ、その
エアーホース８４６を図示しない電磁弁により大気開放
する。つまり、このパレット吸着搬送アーム８１０によ
る第１のパレット３１８への露光済み基板Ｋの吸着を解
き、露光済み基板Ｋを第１のパレット３１８から離脱可
能とする。その一方で、各基板離脱ユニット６５１，６
５２の基板吸着中空体６７２の内部を吸引し、各基板吸
着中空体６７２の底面板６８４に露光済み基板Ｋを吸着
・保持する。このため、基板排出搬送部８００のパレッ
ト吸着搬送アーム８１０には、第１のパレット３１８の
みが乗せられていることになる。しかも、この第１のパ
レット３１８は、吸着プレート４３６に密着している３
つのパレット吸着搬送アーム８１０においては吸引が継
続されているので、この３つのパレット吸着搬送アーム
８１０より吸引・保持されることになる。

【０１３４】こうして露光済み基板Ｋが受け渡されれ
ば、パレット吸着搬送アーム８１０の第１のパレット３
１８が基板排出部６００から基板露光部３００に搬出さ
れることを条件に、露光済み基板Ｋを外部に排出でき
る。また、露光済み基板Ｋはこの第１のパレット３１８
から分離されているので、この第１のパレット３１８を
基板露光部３００に搬入することが可能である。よっ
て、露光済み基板排出条件をオン（ステップＳ１２７
０）とするとともに、次のパレット（第１のパレット３
１８）の搬入実行条件をオンとする（ステップＳ１２８
０）。そして、本ルーチンを一旦終了し、上記処理を繰
り返す。

【０１３５】よって、基板露光部３００では、基板露光
と露光済み基板の搬出に関する上記した処理（基板Ｋの
露光，搬出，受け渡し等）が一旦完了すれば、次の基板
Ｋについての露光処理を実行できるとして、ステップＳ
１２００からの処理が、上記した基板供給準備処理，露
光準備処理や後述する基板排出処理，パレット循環処理
等と関係なく繰り返される。なお、ステップＳ１２７
０，１２８０においてオンされた露光済み基板排出条件
および次パレット搬入実行条件は、所定のタイミング、
例えば次の基板Ｋの露光が開始された時点でオフとされ
る。

【０１３６】この露光ルーチンに続く基板排出ルーチン
では、図２８のフローチャートに示すように、まず、露
光済み基板排出条件が成立しているか否かの判断（ステ
ップＳ１３００）と、基板排出搬送部８００の基板搬送
ユニット８０２が基板露光部３００側の真空枠ベース４
５８上方の前進位置にあるか否かの判断（ステップＳ１
３１０）とを、順次実行する。そして、両ステップＳで
肯定判断すれば、露光済み基板排出の条件が成立し且つ
基板離脱機構６５０の下方にはパレット３１８が存在し
ないので、基板離脱機構６５０により、次のようにし
て、露光済み基板Ｋを基板搬出ローラ列６３０に載置す
る（ステップＳ１３２０）。

【０１３７】つまり、後述のパレット循環ルーチンによ
り基板離脱ユニット６５１，６５２の下方からこの第１
のパレット３１８が基板露光部３００に返送されると、
各基板離脱ユニット６５１，６５２におけるシリンダ６
７３を駆動して、露光済み基板Ｋを基板搬出ローラ列６
３０の各ローラ上面に移動させる。次いで、吸引ブロア
による吸引を停止して露光済み基板Ｋを各基板吸着中空
体６７２の底面板６８４から開放し、露光済み基板Ｋを
基板搬出ローラ列６３０の各ローラ上面に載置する。

【０１３８】その後、基板離脱機構６５０の基板離脱ユ
ニット６５１，６５２を元の位置まで復帰させるととも
に、基板搬出ローラ列６３０により露光済み基板Ｋを外
部に排出する（ステップＳ１３３０）。そして、本ルー
チンを一旦終了し、上記処理を繰り返す。この基板離脱
ユニット６５１，６５２の復帰は、各基板離脱ユニット
におけるシリンダ６７３を復帰駆動して基板吸着中空体
６７２を元の位置まで上昇させることにより行なわれ、
露光済み基板Ｋの排出は、モータ６１８を所定量駆動し
て基板搬出ローラ列６３０を基板排出側に回転させるこ
とにより行なわれる。

【０１３９】よって、基板排出部６００では、露光済み
基板の排出に関する上記した処理（基板Ｋの載置，排出
等）が一旦完了すれば、次の基板Ｋについての露光処理
を実行できるとして、ステップＳ１３００からの処理
が、上記した基板供給準備処理，露光準備処理，露光処
理やパレット循環処理等と関係なく繰り返される。換言
すれば、基板露光部３００において次の基板Ｋが露光さ
れている間にも、露光済み基板Ｋについて基板排出が行
なわれる。しかも、基板Ｋの露光処理に要する時間は基
板排出処理に要する時間より長いので、次の基板Ｋの露
光処理の間に、前の基板Ｋについての基板排出は終了す
る。

【０１４０】第１のパレット３１８および第２のパレッ
ト３１８を基板露光部３００と基板排出部６００との間
で循環させるパレット循環ルーチンは、上記した基板供
給準備処理，露光準備処理，基板排出処理と同様、基板
露光部３００において基板Ｋが露光されている間に実行
される。このパレット循環ルーチンでは、図２９のフロ
ーチャートに示すように、まず、露光準備ルーチンにて
オンされる次パレット搬入条件および露光ルーチンにて
オンされる次パレット搬入実行条件が共に成立している
か否かを判断する（ステップＳ１４００，１４１０）。

【０１４１】次パレット搬入条件が成立していれば、露
光準備ルーチンのステップＳ１１７０を経ていることか
ら、基板吸着機構４５０の真空枠ベース４５８に保持さ
れていた基板Ｋおよびパレット３１８はマスクプレート
３１０に吸着され、且つ、この基板吸着機構４５０のＸ
Ｙθテーブル４１０はその原点位置（下端位置）にある
ことになる。つまり、原点位置にあるＸＹθテーブル４
１０の真空枠ベース４５８にはパレット３１８が存在し
ないことになる。一方、次パレット搬入実行条件が成立
していれば、露光ルーチンのステップＳ１２６０を経て
いることから、基板排出部６００においては基板排出搬
送部８００のパレット吸着搬送アーム８１０にパレット
３１８のみが保持されていることになる。このため、両
条件が成立すれば、新たなパレット３１８（最初の当該
ルーチンにおける処理にあっては第２のパレット３１
８）を、基板排出部６００から基板露光部３００の基板
吸着機構４５０に搬入できることになる。

【０１４２】よって、ステップＳ１４００，１４１０で
共に肯定判断すれば、基板排出搬送部８００により、次
のようにして新たなパレット３１８（第２のパレット３
１８）を基板吸着機構４５０に搬入する（ステップＳ１
４２０）。つまり、サーボモータ８０９を駆動（正転駆
動）し、各基板搬送ユニット８０２を、図１７中に一点
鎖線で示すように、基板排出部６００における基板搬出
ローラ列６３０の上方からＸ軸方向に沿って基板露光部
３００側に移動させる。このように基板排出搬送部８０
０を移動させ、第２のパレット３１８を基板露光部３０
０における基板吸着機構４５０の真空枠ベース４５８の
中央部の真上まで搬入する。

【０１４３】次いで、基板排出搬送部８００，基板吸着
機構４５０により、次のようにして、この第２のパレッ
ト３１８を真空枠ベース４５８に受け渡す（ステップＳ
１４３０）。まず、このように第２のパレット３１８を
搬送した後には、基板排出搬送部８００における真空ポ
ンプによる吸引を停止して第２のパレット３１８の吸着
を解くとともに、基板吸着機構４５０におけるパレット
受けシリンダ４６４を伸長駆動する。そして、第２のパ
レット３１８をパレット吸着搬送アーム８１０からこの
パレット受けシリンダ４６４により持ち上げ、シリンダ
のロッド先端に第２のパレット３１８を保持する。

【０１４４】その後、基板排出搬送部８００の各基板搬
送ユニット８０２におけるシリンダ８５１を駆動し、図
１９に示すようにタイミングプーリ８２６，タイミング
ベルト８４８を介して各パレット吸着搬送アーム８１０
を旋回させる。こうして、パレット吸着搬送アーム８１
０は、旋回して退避することになり、各パレット吸着搬
送アーム８１０は降下する第２のパレット３１８と干渉
しない。

【０１４５】こうして各パレット吸着搬送アーム８１０
が退避すると、各パレット受けシリンダ４６４を復帰駆
動してロッドを引き込み、第２のパレット３１８を真空
枠ベース４５８に対してその中央に位置決めして載置す
る。これと同時に、真空枠ベース４５８の中央の吸着ソ
ケット４６７に第２のパレット３１８中央の吸着ポート
４４６が装着される。真空枠ベース４５８上面にはパレ
ット３１８吸引用の溝（図示省略）が設けられており、
この溝を介して吸引を行なうことによってパレット３１
８（この場合は第２のパレット３１８）は真空枠ベース
４５８に吸着保持される。その後、シリンダ８５１を復
帰駆動し、各パレット吸着搬送アーム８１０を反対に旋
回し旋回原点位置に復帰させる。

【０１４６】次いで、パルスモータ８３８を駆動（正転
駆動）して、各パレット吸着搬送アーム８１０を最上端
位置まで上昇させる（ステップＳ１４４０）。つまり、
基板排出搬送部８００は、基板露光部３００におけるマ
スクプレート３１０の下面に吸着・保持されているパレ
ット３１８（第１のパレット３１８）の吸着プレート４
３６，吸着プレート４３７に、パレット吸着搬送アーム
８１０を密着させる。こうして、露光済み基板Ｋの搬出
準備が完了する。

【０１４７】このようにステップＳ１４４０までの処理
を経ると、ＸＹθテーブル４１０はその原点位置（下端
位置）にあり、且つ、ＸＹθテーブル４１０の真空枠ベ
ース４５８には第２のパレット３１８のみが吸着されて
いることになる。このため、次の基板Ｋを基板供給部２
００からこの真空枠ベース４５８に供給することができ
る。従って、ステップＳ１４４０に続いては、ＸＹθテ
ーブル条件が成立するとして、このＸＹθテーブル条件
をオンして（ステップＳ１４５０）本ルーチンを一旦終
了し、上記処理を繰り返す。

【０１４８】よって、基板露光部３００では、パレット
循環に関する上記した処理（パレット３１８の搬入，受
け渡し等）が一旦完了すれば、次のパレット３１８（第
１のパレット３１８）についてのパレット循環を実行で
きるとして、ステップＳ１４００からの処理が繰り返さ
れる。換言すれば、既述したように、基板Ｋが露光され
ている間にも、次のパレット３１８についてパレット循
環が行なわれる。しかも、基板Ｋの露光処理に要する時
間はパレット循環処理に要する時間より長いので、基板
Ｋの露光処理の間に、次の基板Ｋに用いるパレットにつ
いてのパレット循環は終了する。なお、ステップＳ１４
５０においてオンされたＸＹθテーブル条件は、所定の
タイミング、例えば次のパレット３１８の真空枠ベース
４５８への受け渡しが完了した時点でオフとされる。

【０１４９】以上説明したように本実施例の露光装置１
００は、基板排出搬送部８００を用いて、露光済み基板
Ｋをパレット３１８とともに基板露光部３００から基板
排出部６００に搬送する。この基板搬送に当たっては、
基板排出搬送部８００の真空ポンプを駆動して総てのパ
レット吸着搬送アーム８１０にこの真空ポンプの吸引力
を作用させる。そして、エアーホース８４６，吸引孔８
１１を介してこのパレット３１８を各パレット吸着搬送
アーム８１０に真空吸引する。これにより、パレット３
１８の吸着プレート４３６，吸着プレート４３７を介し
て、パレット３１８を、基板露光部３００内において各
パレット吸着搬送アーム８１０に吸着・保持する。この
際、このパレット３１８の吸着と同時に、パレット３１
８上面の露光済み基板Ｋを、吸着プレート４３７，エア
ーホース４４２，逆止弁４４０，基板吸引用凹部４３５
からの真空吸引を通して、パレット３１８の上面に吸着
・保持する。このため、露光済み基板Ｋは、パレット３
１８とともに基板排出搬送部８００のパレット吸着搬送
アーム８１０に吸着・保持された状態で搬送される。

【０１５０】上記したパレット３１８の吸着および露光
済み基板Ｋの吸着を行なうために、本実施例の基板排出
搬送部８００では、露光済み基板Ｋの吸着のための配管
をパレット３１８の吸着のための配管と独立して設ける
必要がなく、パレット３１８に吸着プレート４３７，エ
アーホース４４２および基板吸引用凹部４３５を設ける
だけでよい。この結果、本実施例の基板排出搬送部８０
０によれば、簡単な構成で露光済み基板Ｋを確実にパレ
ット３１８に吸着して、この露光済み基板Ｋをパレット
３１８に載置したまま、基板露光部３００から基板排出
部６００に搬送することができる。

【０１５１】また、露光済み基板Ｋをこのようにパレッ
ト３１８に吸着し当該パレットと一体にして搬送するの
で、本実施例の基板排出搬送部８００では、搬送中にパ
レット３１８の載置面上で露光済み基板Ｋがずれたりし
ない。このため、本実施例の基板排出搬送部８００によ
れば、露光済み基板Ｋを高速搬送することができ、搬送
効率を高めることができる。

【０１５２】更に、本実施例の基板排出搬送部８００で
は、露光済み基板Ｋをパレット３１８上面に吸着するた
めの基板吸引用凹部４３５とエアーホース４４２とを連
通するに当たり、この両者の間に、逆止弁４４０を設け
た。このため、吸着プレート４３７におけるパレット吸
着搬送アーム８１０の吸引が基板搬送中或いは基板受け
渡し中に解除されても、基板吸引用凹部４３５と基板と
の間のエアー溜まりを負圧に維持することができる。よ
って、本実施例の基板排出搬送部８００によれば、パレ
ット３１８への基板の吸着が不用意に解除されて基板が
ずれたりしないので、基板搬送の信頼性を向上させるこ
とができる。

【０１５３】加えて、パレット３１８の骨組みを軽量の
アルミニウム型鋼（板厚約１ｍｍ）で形成し、その上面
にやはり軽量の樹脂プレート４３２を固定して、パレッ
ト３１８を構成した。このため、露光済み基板Ｋととも
に搬送されるパレット３１８自体を軽量化して、パレッ
ト３１８および露光済み基板Ｋを吸着する際の真空ポン
プの負荷を軽くした。よって、本実施例の基板排出搬送
部８００によれば、小容量の真空ポンプで確実に露光済
み基板Ｋをパレット３１８に吸着したまま搬送できる。

【０１５４】また、露光済み基板Ｋの基板排出部６００
への搬送終了時に露光済み基板Ｋを基板離脱機構６５０
に受け渡す際に、パレット３１８の吸着プレート４３６
に対応する３つのパレット吸着搬送アーム８１０にパレ
ット３１８を吸着している。よって、本実施例の基板排
出搬送部８００によれば、確実に露光済み基板Ｋをパレ
ット３１８から分離して基板離脱機構６５０に受け渡す
ことができる。同様に、露光済み基板Ｋの受け渡し後に
パレット３１８を単独で基板露光部３００に返送する際
にも、上記３つのパレット吸着搬送アーム８１０にパレ
ット３１８を吸着している。よって、本実施例の基板排
出搬送部８００によれば、確実にパレット３１８を吸着
したまま基板露光部３００の所定位置に精度良く返送す
ることができる。

【０１５５】以上本発明の一実施例について説明した
が、本発明はこの様な実施例になんら限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々な
る態様で実施し得ることは勿論である。例えば、パレッ
ト吸着搬送アーム８１０を用いて基板をパレットに載置
したまま搬送する搬送装置、本実施例では基板排出搬送
部８００を、露光済み基板の排出側のみならず供給側に
用いることもできる。また、このような搬送装置を用い
る装置としては、上記した実施例のように露光装置に限
られる分けではなく、他の装置、例えばダイレクト製版
装置，電子写真製版装置等に使用することもできる。

【０１５６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の搬送装置
では、吸引機器の吸引力により、搬送部材にパレットを
吸着すると同時に、該パレットの載置面に載置された板
状の被搬送物をもパレットに吸着する。従って、板状の
被搬送物の吸着のための配管をパレットの吸着のための
配管と独立して設ける必要がなく、パレットに吸引経路
および吸引溝を設けるだけでよい。この結果、本発明の
搬送装置によれば、簡単な構成で板状の被搬送物を確実
にパレットに吸着して、この板状の被搬送物をパレット
に載置したまま搬送することができる。

【０１５７】また、板状の被搬送物は、その搬送の際に
パレットに吸着されて一体となり搬送される。よって、
本発明の搬送装置によれば、搬送中にパレットの載置面
上で板状の被搬送物がずれたりしないので、板状の被搬
送物を高速搬送することができ、搬送効率を高めること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施例の露光装置１００の概略平
面図。

【図２】実施例の露光装置１００における基板供給部２
００の概略斜視図。

【図３】基板供給部２００の各軸のセンタリングユニッ
トにおけるガイドピンの先端部を説明するための説明
図。

【図４】図２におけるＸ軸ガイドピン２１２，２１４の
手前を図中４−４線に沿って破断した概略断面図。

【図５】基板供給部２００における各ローラ列２０２等
を省略した基板供給部２００の平面図。

【図６】図２におけるＹ軸ガイドピン２２０，２２２の
手前を図中６−６線に沿って破断した概略断面図。

【図７】露光装置１００全体の概略側面図。

【図８】露光枠体３０４における上部露光枠体３０６の
概略斜視図。

【図９】パレット３１８の概略平面図。

【図１０】図９における１０−１０線拡大断面図。

【図１１】図９における１１−１１線拡大断面図。

【図１２】図９における１２−１２線拡大断面図。

【図１３】基板排出部６００の上部の主要部の概略斜視
図。

【図１４】基板離脱ユニット６５１の中心をガイドシャ
フト６５４に交差する平面で切断した拡大断面図。

【図１５】支持シャフト６７７およびその組み付け箇所
周辺の拡大図。

【図１６】基板供給搬送部７００の概略斜視図。

【図１７】基板排出搬送部８００の概略斜視図。

【図１８】ガイドシャフト８１６に沿ったパレット吸着
搬送アーム８１０の断面図。

【図１９】基板搬送ユニット８０２における両パレット
吸着搬送アーム８１０の概略斜視図。

【図２０】図１７における２０−２０線方向からの基板
排出搬送部８００の矢視図。

【図２１】露光装置１００の電気的な構成を示すブロッ
ク図。

【図２２】図２１におけるセンサ群９２６を説明するた
めの説明図。

【図２３】図２１における駆動機器群９２８を説明する
ための説明図。

【図２４】露光装置１００における制御のうち、基板供
給準備ルーチンを示すフローチャート。

【図２５】基板供給準備ルーチンにおける処理の詳細を
示すフローチャート。

【図２６】露光装置１００における制御のうち、露光準
備ルーチンを示すフローチャート。

【図２７】露光装置１００における制御のうち、露光ル
ーチンを示すフローチャート。

【図２８】露光装置１００における制御のうち、基板排
出ルーチンを示すフローチャート。

【図２９】露光装置１００における制御のうち、パレッ
ト循環ルーチンを示すフローチャート。

【符号の説明】

１００…露光装置 １０２…装置フレーム １０４，１０６…脚 １１０…リニアガイドレール １１２…ストッパ ２００…基板供給部 ２０２，２０４，２０６…ローラ列 ２０８…上部枠体 ２１０…下部枠体 ２１１…モータ ２１２，２１４，２１６，２１８…Ｘ軸ガイドピン ２２０，２２２，２２４，２２６…Ｙ軸ガイドピン ２２８…基板当たりローラ ２２９…Ｅ型止め輪 ２３０，２５４…Ｘ軸センタリングユニット ２６０，２８０…Ｙ軸センタリングユニット ３００…基板露光部 ３０２…光源 ３０４…露光枠体 ３１０…マスクプレート ３１２，３１４…ＣＣＤカメラ ３１８…パレット ３３０…ガイドシャフト ３３２…カメラ保持プレート ３３８…パルスモータ ４００…基板保持ユニット ４１０…ＸＹθテーブル ４２０…上下動機構 ４２４…シリンダ ４３２…樹脂プレート ４３４…パレットシール材 ４３５…基板吸引用凹部 ４３６，４３７…吸着プレート ４３８…吸着座リング ４５０…基板吸着機構 ４５８…真空枠ベース ４６４…パレット受けシリンダ ４６７…吸着ソケット ６００…基板排出部 ６１０…マスクプレートストッカー ６３０…基板搬出ローラ列 ６５０…基板離脱機構 ６５１，６５２…基板離脱ユニット ６７０…支持プレート ６７１…中間支持プレート ６７２…基板吸着中空体 ６７５…エアー吸引管 ６７７…支持シャフト ６７８…スプリング ６８４…底面板 ６８５…吸着孔 ７００…基板供給搬送部 ７０２…基板吸着ボード ７０３…基部 ８００…基板排出搬送部 ８０２…基板搬送ユニット ８００…基板排出搬送部 ８０２…基板搬送ユニット ８０４…ベース部 ８０６…リニアガイド ８０８…タイミングベルト ８０９…サーボモータ ８１０…パレット吸着搬送アーム ８１１…吸引孔 ８１２…Ｘ軸原点センサ ８１４…Ｘ軸前進端センサ ８１６…ガイドシャフト ８１８…スライドブシュ ８２０，８２２…ベアリング ８２４…サポート ８２６…タイミングプーリ ８２８…連結プレート ８３０，８３２…タイミングプーリ ８３４…タイミングベルト ８３６…連結金具 ８３８…パルスモータ ８４０…タイミングベルト ８４２…上下動原点センサ ８４４…上下動上端位置センサ ８４６…エアーホース ８４８…タイミングベルト ８５０…連結金具 ８５１…シリンダ ８５２…旋回原点センサ ８５４…旋回完了位置センサ ９００…制御装置 ９１０…ＰＣ（プログラマブルコントローラ） ９１２…画像処理装置 ９１４…パネルコントローラ Ｋ…基板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 板状の被搬送物をパレットに載置して搬
   送する搬送装置であって、 上記被搬送物が載置される載置面に形成され該載置面に
   載置された上記被搬送物により塞がれる吸引溝と、この
   吸引溝に連通する吸引経路とを有するパレットと、 このパレットを乗せる搬送部材を有し、この搬送部材を
   移動させることで被搬送物およびパレットを搬送する搬
   送手段と、 吸引力を発生する吸引機器を有し、その吸引力により上
   記パレットを上記搬送部材に吸着すると共に、該吸引力
   の一部を上記吸引経路および吸引溝を介して上記被搬送
   物に加える吸引手段と、 を備えたことを特徴とする搬送装置。