JPH06336693A - 陽極酸化方法および装置 - Google Patents
陽極酸化方法および装置Info
- Publication number
- JPH06336693A JPH06336693A JP5154398A JP15439893A JPH06336693A JP H06336693 A JPH06336693 A JP H06336693A JP 5154398 A JP5154398 A JP 5154398A JP 15439893 A JP15439893 A JP 15439893A JP H06336693 A JPH06336693 A JP H06336693A
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- JP
- Japan
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- electrolytic solution
- substrate
- anodic oxidation
- oxidized
- liquid level
- Prior art date
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- Pending
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- Formation Of Insulating Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電解液の液面がゆれてもピンホールが発生し
ない陽極酸化方法と装置を提供する。 【構成】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電解液
に浸漬して陽極酸化する方法において、初めは被酸化基
板の酸化領域を広くし、その後狭くして酸化することを
特徴とする。
ない陽極酸化方法と装置を提供する。 【構成】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電解液
に浸漬して陽極酸化する方法において、初めは被酸化基
板の酸化領域を広くし、その後狭くして酸化することを
特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体および液晶パネル
の金属膜に陽極酸化法で絶縁膜を形成する方法および装
置に関する。
の金属膜に陽極酸化法で絶縁膜を形成する方法および装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶パネルの陽極酸化を例にとり説明す
る。液晶パネルでは絶縁性基板としてガラスを金属膜と
してアルミニュームまたはタンタルが使用される。
る。液晶パネルでは絶縁性基板としてガラスを金属膜と
してアルミニュームまたはタンタルが使用される。
【０００３】パターン化した金属膜を有する被酸化基板
を電解液、例えば酒石酸アンモニュームの５％水溶液に
浸漬し、基板を直流電源の陽極に、ステンレススチール
板を陰極に接続してアルミニュームの表面に酸化アルミ
の絶縁膜を形成する。
を電解液、例えば酒石酸アンモニュームの５％水溶液に
浸漬し、基板を直流電源の陽極に、ステンレススチール
板を陰極に接続してアルミニュームの表面に酸化アルミ
の絶縁膜を形成する。
【０００４】図３は陽極酸化の説明図である。酸化槽２
１の電解液２２に被酸化基板２３を浸漬する。被酸化基
板２３の大きさは３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚み１．１
ｍｍである。被酸化基板２３には厚み３０００オングス
トロームのアルミ膜パターン２６が形成されており、そ
のパターンに連結したプローブ接続部２５に陽極プロー
ブを接続する。
１の電解液２２に被酸化基板２３を浸漬する。被酸化基
板２３の大きさは３００ｍｍ×４００ｍｍ、厚み１．１
ｍｍである。被酸化基板２３には厚み３０００オングス
トロームのアルミ膜パターン２６が形成されており、そ
のパターンに連結したプローブ接続部２５に陽極プロー
ブを接続する。
【０００５】図４は従来の陽極酸化法の電流と電圧のタ
イムチャートである。２７は定電流の設定値Ｉ１、２８
は最大電圧の設定値Ｖ１であり、２９は実電流、３０は
実電圧の波形である。アルミニュームの場合、通常、Ｉ
１＝１Ａ、Ｖ１＝１００Ｖである。
イムチャートである。２７は定電流の設定値Ｉ１、２８
は最大電圧の設定値Ｖ１であり、２９は実電流、３０は
実電圧の波形である。アルミニュームの場合、通常、Ｉ
１＝１Ａ、Ｖ１＝１００Ｖである。
【０００６】初めは抵抗値が小さいので定電流Ｉ１が流
れる。アルミ膜の表面に酸化アルミの絶縁膜が形成され
るに従い抵抗値が増大し、電圧は直線的に上昇する。こ
の電圧が設定最大電圧Ｖ１に達すると、電圧は一定とな
り電流が減少する。この領域では定電圧で酸化が行われ
る。
れる。アルミ膜の表面に酸化アルミの絶縁膜が形成され
るに従い抵抗値が増大し、電圧は直線的に上昇する。こ
の電圧が設定最大電圧Ｖ１に達すると、電圧は一定とな
り電流が減少する。この領域では定電圧で酸化が行われ
る。
【０００７】以上述べた従来の酸化方法では、酸化膜が
成長し電流が十分小さくなった時点で液面２４がゆれる
と、液面２４の境界で酸化膜のない部分と電解液が接す
るのでそこに設定電流Ｉ１の電流が集中して流れアルミ
膜が溶けてピンホールとなり、最悪の場合断線するとい
う欠陥があった。
成長し電流が十分小さくなった時点で液面２４がゆれる
と、液面２４の境界で酸化膜のない部分と電解液が接す
るのでそこに設定電流Ｉ１の電流が集中して流れアルミ
膜が溶けてピンホールとなり、最悪の場合断線するとい
う欠陥があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液面
がゆれてもピンホールが発生しない陽極酸化方法と装置
を提供することである。
がゆれてもピンホールが発生しない陽極酸化方法と装置
を提供することである。
【０００９】
【問題を解決するための手段】本発明は、初めは被酸化
基板の酸化領域を広くし、その後狭くして酸化すること
を特徴とする。
基板の酸化領域を広くし、その後狭くして酸化すること
を特徴とする。
【００１０】
【実施例】本発明を図面を参照して説明する。図１は本
発明の第１の実施例の陽極酸化装置の構成図である。
発明の第１の実施例の陽極酸化装置の構成図である。
【００１１】オーバフロ槽２を備えた酸化槽１の電解液
３は循環ポンプ４によって、並列に接続された絞り５と
バルブ６を介して循環される。被酸化基板７は酸化槽１
の基板受け１３に載置して浸漬され直流電源８によっ
て、陰極極板９を通して酸化が行われる。
３は循環ポンプ４によって、並列に接続された絞り５と
バルブ６を介して循環される。被酸化基板７は酸化槽１
の基板受け１３に載置して浸漬され直流電源８によっ
て、陰極極板９を通して酸化が行われる。
【００１２】酸化当初はバルブ６を開として循環量を大
きくすることにより液面１０を上昇させ、酸化膜が大方
形成された後、バルブ６を閉として絞り弁５により循環
量を少なくして液面１０を１〜２ｍｍ下降させ液面１０
のゆれによる未酸化部分への電解液の接触をなくす。
きくすることにより液面１０を上昇させ、酸化膜が大方
形成された後、バルブ６を閉として絞り弁５により循環
量を少なくして液面１０を１〜２ｍｍ下降させ液面１０
のゆれによる未酸化部分への電解液の接触をなくす。
【００１３】液面１０を下降させるタイミングはほぼ酸
化膜ができる最大設定電圧に到達した後がよい。しか
し、電流が十分小さくなってからではピンホール発生の
危険があるので均一性には欠けるが、最大設定電圧に到
達してから数分の間が最適である。
化膜ができる最大設定電圧に到達した後がよい。しか
し、電流が十分小さくなってからではピンホール発生の
危険があるので均一性には欠けるが、最大設定電圧に到
達してから数分の間が最適である。
【００１４】上記説明ではバルブ６と絞り弁５を流路に
並列に接続した場合について述べたが、バルブ６のみと
して当初は循環を行い、その後バルブ６を閉として循環
を停止することによっても本発明を実現することができ
る。
並列に接続した場合について述べたが、バルブ６のみと
して当初は循環を行い、その後バルブ６を閉として循環
を停止することによっても本発明を実現することができ
る。
【００１５】図２ａは本発明の第２の実施例の陽極酸化
装置の構成図、図２ｂは酸化槽の側面図である。
装置の構成図、図２ｂは酸化槽の側面図である。
【００１６】酸化当初オーバフロ壁１１はエアシリンダ
１２ａ、１２ｂにより上方にあって、液面１０は高い状
態にある。酸化膜が形成された後オーバフロ壁１１を下
げて液面１０を低くする。
１２ａ、１２ｂにより上方にあって、液面１０は高い状
態にある。酸化膜が形成された後オーバフロ壁１１を下
げて液面１０を低くする。
【００１７】上記説明では液面高さを高い状態から低い
状態に変化させた場合について述べたが、基板受け１３
をエアシリンダを用いて低い状態から高い状態にして被
酸化基板７を持ち上げることによっても全く同様に本発
明を実現できる。
状態に変化させた場合について述べたが、基板受け１３
をエアシリンダを用いて低い状態から高い状態にして被
酸化基板７を持ち上げることによっても全く同様に本発
明を実現できる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように本発明は次のような
効果を奏するものである。電解液の液面がゆれてもすで
に電気抵抗の大きい酸化膜ができているので大電流が流
れてアルミニュームが溶けてピンホールになることがな
く液晶パネルの歩留りが上がる。
効果を奏するものである。電解液の液面がゆれてもすで
に電気抵抗の大きい酸化膜ができているので大電流が流
れてアルミニュームが溶けてピンホールになることがな
く液晶パネルの歩留りが上がる。
【図１】本発明の第１の実施例の陽極酸化装置の構成図
である。
である。
【図２ａ】本発明の第２の実施例の陽極酸化装置の構成
図である。
図である。
【図２ｂ】酸化槽の側面図である。
【図３】陽極酸化の説明図である。
【図４】従来の陽極酸化法の電流と電圧のタイムチャー
トである。
トである。
１…酸化槽、２…オーバフロ槽、３…電解液、４…循環
ポンプ、５…絞り、６…バルブ、７…被酸化基板、８…
直流電源、９…陰極極板、１０…液面、１１…オーバフ
ロ壁、１２ａ…エアシリンダ、１２ｂ…エアシリンダ、
１３…基板受け、２１…酸化槽、２２…電解液、２３…
被酸化基板、２４…液面、２５…プローブ接続部、２７
…定電流の設定値、２８…最大電圧の設定値、２９…実
電流、３０…実電圧の波形。
ポンプ、５…絞り、６…バルブ、７…被酸化基板、８…
直流電源、９…陰極極板、１０…液面、１１…オーバフ
ロ壁、１２ａ…エアシリンダ、１２ｂ…エアシリンダ、
１３…基板受け、２１…酸化槽、２２…電解液、２３…
被酸化基板、２４…液面、２５…プローブ接続部、２７
…定電流の設定値、２８…最大電圧の設定値、２９…実
電流、３０…実電圧の波形。
Claims (7)
- 【請求項１】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電
解液に浸漬して陽極酸化する方法において、初めは被酸
化基板の酸化領域を広くし、その後狭くして酸化するこ
とを特徴とした陽極酸化方法。 - 【請求項２】 酸化領域を狭くするタイミングが最大設
定電圧に到達した後であることを特徴とした請求項１記
載の陽極酸化方法。 - 【請求項３】 電解液液面を初めは高くし、その後低く
して酸化することを特徴とした請求項１記載の陽極酸化
方法。 - 【請求項４】 被酸化基板を初めは深く浸漬し、その後
浅く浸漬して酸化することを特徴とした請求項１記載の
陽極酸化方法。 - 【請求項５】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電
解液に浸漬して陽極酸化する装置において、直流電源と
オーバフロ槽を具備した酸化槽と電解液循環ポンプと並
列接続された２つ以上の流路からなることを特徴とした
陽極酸化装置。 - 【請求項６】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電
解液に浸漬して陽極酸化する装置において、直流電源と
オーバフロ槽を具備した酸化槽と可動オーバフロ壁と電
解液循環ポンプからなることを特徴とした陽極酸化装
置。 - 【請求項７】 絶縁性基板上に形成された金属膜を、電
解液に浸漬して陽極酸化する装置において、直流電源と
オーバフロ槽を具備した酸化槽と電解液循環ポンプと上
下に可動な基板受けからなることを特徴とした陽極酸化
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5154398A JPH06336693A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 陽極酸化方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5154398A JPH06336693A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 陽極酸化方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06336693A true JPH06336693A (ja) | 1994-12-06 |
Family
ID=15583276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5154398A Pending JPH06336693A (ja) | 1993-05-31 | 1993-05-31 | 陽極酸化方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06336693A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109423674A (zh) * | 2017-08-23 | 2019-03-05 | 株式会社爱发科 | 表面处理方法及表面处理装置 |
| CN111793816A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-10-20 | 常州费曼生物科技有限公司 | 单面阳极氧化多孔输液器滤膜连续阳极氧化设备及工艺 |
-
1993
- 1993-05-31 JP JP5154398A patent/JPH06336693A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109423674A (zh) * | 2017-08-23 | 2019-03-05 | 株式会社爱发科 | 表面处理方法及表面处理装置 |
| JP2019039030A (ja) * | 2017-08-23 | 2019-03-14 | 株式会社アルバック | 表面処理方法及び表面処理装置 |
| CN111793816A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-10-20 | 常州费曼生物科技有限公司 | 单面阳极氧化多孔输液器滤膜连续阳极氧化设备及工艺 |
| CN111793816B (zh) * | 2020-07-31 | 2022-03-25 | 常州费曼生物科技有限公司 | 单面阳极氧化多孔输液器滤膜连续阳极氧化设备及工艺 |
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