JPH06333905A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
- Publication number
- JPH06333905A JPH06333905A JP5142606A JP14260693A JPH06333905A JP H06333905 A JPH06333905 A JP H06333905A JP 5142606 A JP5142606 A JP 5142606A JP 14260693 A JP14260693 A JP 14260693A JP H06333905 A JPH06333905 A JP H06333905A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tank
- water
- cleaning
- chemical liquid
- valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 停電等により電源が遮断された場合であって
も室内の安全性を確保できる洗浄装置を提供すること。 【構成】 薬液槽21を備えた洗浄槽2の下側に、電源
遮断の際に開放して薬液槽21内から薬液2aを排出さ
せる排出用バルブを備えた排出機構4を設ける。さら
に、電源遮断の際に開放して薬液槽21内に水を供給す
る供給用バルブを備えた水供給機構5を設けた洗浄装置
1である。また、薬液2aが排出された後に供給されて
薬液槽21からあふれ出る水を受けるための外周槽を薬
液槽21の外側に備えたり、供給される水を一旦受けて
薬液槽21の内面に沿って供給する水受け槽を薬液槽2
1の上端外周部に備えた洗浄装置1でもある。
も室内の安全性を確保できる洗浄装置を提供すること。 【構成】 薬液槽21を備えた洗浄槽2の下側に、電源
遮断の際に開放して薬液槽21内から薬液2aを排出さ
せる排出用バルブを備えた排出機構4を設ける。さら
に、電源遮断の際に開放して薬液槽21内に水を供給す
る供給用バルブを備えた水供給機構5を設けた洗浄装置
1である。また、薬液2aが排出された後に供給されて
薬液槽21からあふれ出る水を受けるための外周槽を薬
液槽21の外側に備えたり、供給される水を一旦受けて
薬液槽21の内面に沿って供給する水受け槽を薬液槽2
1の上端外周部に備えた洗浄装置1でもある。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ等の被洗浄物を
薬液に浸漬してダスト等を除去するための洗浄装置に関
するものである。
薬液に浸漬してダスト等を除去するための洗浄装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造工程におけるウエハ等の洗
浄では、硫酸や塩酸、フッ酸、硝酸、アンモニア等から
成る洗浄用の薬液に被洗浄物を浸漬してナトリウムや重
金属等の除去を行う洗浄装置が用いられている。洗浄装
置は、主に、洗浄用の薬液を入れるための洗浄槽と、洗
浄槽の上方を覆うドラフトチャンバと、洗浄槽の下側か
ら薬液を排出するための排出機構とから構成されてい
る。
浄では、硫酸や塩酸、フッ酸、硝酸、アンモニア等から
成る洗浄用の薬液に被洗浄物を浸漬してナトリウムや重
金属等の除去を行う洗浄装置が用いられている。洗浄装
置は、主に、洗浄用の薬液を入れるための洗浄槽と、洗
浄槽の上方を覆うドラフトチャンバと、洗浄槽の下側か
ら薬液を排出するための排出機構とから構成されてい
る。
【0003】また、洗浄槽の上方を覆うドラフトチャン
バには排気口が設けられており、薬液から発生する蒸気
をファンの作動により吸い込んで、排気ダクトへ逃がす
ようにしている。これにより、薬液から発生した蒸気が
ドラフトチャンバから外部に漏れて室内(クリーンルー
ム等)の環境を悪化させたり、作業者に悪影響を与えた
りしないようにしている。
バには排気口が設けられており、薬液から発生する蒸気
をファンの作動により吸い込んで、排気ダクトへ逃がす
ようにしている。これにより、薬液から発生した蒸気が
ドラフトチャンバから外部に漏れて室内(クリーンルー
ム等)の環境を悪化させたり、作業者に悪影響を与えた
りしないようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、停電等
により電源が遮断されてしまった場合には、排気ダクト
と連通するファンが作動しなくなり排気口から薬液の蒸
気を吸い込むことができなくなってしまう。この状態の
まま放置してしまうと、洗浄槽内の薬液から発生する蒸
気がドラフトチャンバ内に充満し、やがて外部に漏れ出
してクリーンルーム等の室内の環境を悪化させることに
なる。これにより、室内に居る作業者へ悪影響を与えた
り、また、停電が解除された後に作業者が室内に入って
洗浄装置の復旧作業を行う場合の妨げとなる。また、洗
浄装置による1日の作業が終了し、洗浄槽内に薬液が残
った状態で電源を切ってしまった場合には、残った薬液
による洗浄槽の浸食等を招いたり、緊急時(地震等)に
より薬液が洗浄槽から溢れ出したりする危険性がある。
このため、作業の終了の際には薬液を排出しておき、し
かも次に作業を始めるまでの間に洗浄槽の内側に残って
いた薬液による悪影響を防ぐため、作業者がハンドシャ
ワーを用いて洗浄槽内を洗ったり、または、洗浄槽に水
を入れたりして内側に残っている薬液を洗い流す必要が
ある。このような作業を怠ると、停電の際と同様に室内
の環境を悪化させる原因となる。
により電源が遮断されてしまった場合には、排気ダクト
と連通するファンが作動しなくなり排気口から薬液の蒸
気を吸い込むことができなくなってしまう。この状態の
まま放置してしまうと、洗浄槽内の薬液から発生する蒸
気がドラフトチャンバ内に充満し、やがて外部に漏れ出
してクリーンルーム等の室内の環境を悪化させることに
なる。これにより、室内に居る作業者へ悪影響を与えた
り、また、停電が解除された後に作業者が室内に入って
洗浄装置の復旧作業を行う場合の妨げとなる。また、洗
浄装置による1日の作業が終了し、洗浄槽内に薬液が残
った状態で電源を切ってしまった場合には、残った薬液
による洗浄槽の浸食等を招いたり、緊急時(地震等)に
より薬液が洗浄槽から溢れ出したりする危険性がある。
このため、作業の終了の際には薬液を排出しておき、し
かも次に作業を始めるまでの間に洗浄槽の内側に残って
いた薬液による悪影響を防ぐため、作業者がハンドシャ
ワーを用いて洗浄槽内を洗ったり、または、洗浄槽に水
を入れたりして内側に残っている薬液を洗い流す必要が
ある。このような作業を怠ると、停電の際と同様に室内
の環境を悪化させる原因となる。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するために成された洗浄装置である。すなわ
ち、この洗浄装置は、洗浄用の薬液を入れる薬液槽を備
えた洗浄槽の下側に、電源遮断の際に開放して薬液槽内
から薬液を排出させる排出用バルブを備えた排出機構を
設けたものである。さらに、電源遮断の際に開放して薬
液槽内に水を供給するための供給用バルブを備えた水供
給機構を設けた洗浄半導体装置でもある。また、薬液が
排出された後に水供給機構から供給されて薬液槽からあ
ふれ出る水を受けるための外周槽を薬液槽の外側に備え
た洗浄槽を用いたり、また、水供給機構から供給される
水を一旦受けて、薬液槽の内面に沿ってその水を供給す
るための水受け槽を薬液槽の上端外周部に備えた洗浄槽
を用いる洗浄装置でもある。
題を解決するために成された洗浄装置である。すなわ
ち、この洗浄装置は、洗浄用の薬液を入れる薬液槽を備
えた洗浄槽の下側に、電源遮断の際に開放して薬液槽内
から薬液を排出させる排出用バルブを備えた排出機構を
設けたものである。さらに、電源遮断の際に開放して薬
液槽内に水を供給するための供給用バルブを備えた水供
給機構を設けた洗浄半導体装置でもある。また、薬液が
排出された後に水供給機構から供給されて薬液槽からあ
ふれ出る水を受けるための外周槽を薬液槽の外側に備え
た洗浄槽を用いたり、また、水供給機構から供給される
水を一旦受けて、薬液槽の内面に沿ってその水を供給す
るための水受け槽を薬液槽の上端外周部に備えた洗浄槽
を用いる洗浄装置でもある。
【0006】
【作用】薬液を入れる薬液槽を備えた洗浄槽の下側に、
電源遮断の際に開放する排出用バルブを備えた排出機構
を設けているため、停電等で電源が供給されなくなった
場合であっても排出用バルブが開放して薬液槽内の薬液
を排出することができるようになる。しかも、電源遮断
の際に開放する供給バルブを備えた水供給機構により、
薬液が排出される薬液槽内へ水を供給して、薬液槽の内
面に残る薬液を完全に洗い流すことができる。
電源遮断の際に開放する排出用バルブを備えた排出機構
を設けているため、停電等で電源が供給されなくなった
場合であっても排出用バルブが開放して薬液槽内の薬液
を排出することができるようになる。しかも、電源遮断
の際に開放する供給バルブを備えた水供給機構により、
薬液が排出される薬液槽内へ水を供給して、薬液槽の内
面に残る薬液を完全に洗い流すことができる。
【0007】また、洗浄槽として、薬液槽の外側に外周
槽を備えることにより、薬液が排出した後の薬液槽内に
水を供給して内面を洗い流し、薬液槽からあふれ出る水
を受けることができる。また、洗浄槽として、薬液槽の
上端外周部に水受け槽を備えることで、水供給機構から
供給する水をこの水受け槽にて一旦受けた後に、薬液槽
の内面に沿って水を供給できるため、薬液槽の内面に残
っている薬液を十分に洗い流すことができるようにな
る。
槽を備えることにより、薬液が排出した後の薬液槽内に
水を供給して内面を洗い流し、薬液槽からあふれ出る水
を受けることができる。また、洗浄槽として、薬液槽の
上端外周部に水受け槽を備えることで、水供給機構から
供給する水をこの水受け槽にて一旦受けた後に、薬液槽
の内面に沿って水を供給できるため、薬液槽の内面に残
っている薬液を十分に洗い流すことができるようにな
る。
【0008】
【実施例】以下に、本発明の洗浄装置の実施例を図に基
づいて説明する。図1は、本発明の洗浄装置を説明する
概略斜視図である。すなわち、この洗浄装置1は、主と
して洗浄用の薬液2aを入れる薬液槽21を備えた洗浄
槽2と、洗浄槽2の上方を覆うドラフトチャンバ3と、
洗浄槽2の下側に設けられた排出機構4とから構成され
るものである。また、洗浄槽2の上方から水を供給する
ための水供給機構5を備えた洗浄装置1でもある。
づいて説明する。図1は、本発明の洗浄装置を説明する
概略斜視図である。すなわち、この洗浄装置1は、主と
して洗浄用の薬液2aを入れる薬液槽21を備えた洗浄
槽2と、洗浄槽2の上方を覆うドラフトチャンバ3と、
洗浄槽2の下側に設けられた排出機構4とから構成され
るものである。また、洗浄槽2の上方から水を供給する
ための水供給機構5を備えた洗浄装置1でもある。
【0009】洗浄槽2の上方を覆うドラフトチャンバ3
には、排気ダクト31と連通する排気口32が設けられ
ており、図示しないファンの作動により薬液2aから発
生する蒸気を吸い込んで排気できるようになっている。
また、ドラフトチャンバ3の正面には図示しない扉が設
けられており、洗浄作業中に薬液2aが外に飛び跳ねな
いようになっている。
には、排気ダクト31と連通する排気口32が設けられ
ており、図示しないファンの作動により薬液2aから発
生する蒸気を吸い込んで排気できるようになっている。
また、ドラフトチャンバ3の正面には図示しない扉が設
けられており、洗浄作業中に薬液2aが外に飛び跳ねな
いようになっている。
【0010】次に、図2の模式図に基づいて本発明の洗
浄装置1の具体的な構成を説明する。なお、以下の説明
において使用する符号であって図中にないものは、図1
に示す符号と同一な箇所を示すものとする。すなわち、
この洗浄装置1の洗浄槽2としては、薬液槽21の外側
に外周槽22を備えたものが用いられており、しかも、
薬液槽21の下側と外周槽22の下側にそれぞれ排出機
構4が設けられている。薬液槽21に設けられた排出機
構4は、通常の電源のON、OFFにより開閉できるノ
ーマリクローズバルブ(以下、NCバルブとする)から
成るバルブ4bと、停電等により電源が遮断された際に
開状態となるノーマリオープンバルブ(以下、NOバル
ブとする)から成る排出用バルブ4aとから構成されて
いる。一方の外周槽22も同様に、NCバルブから成る
バルブ4dと、NOバルブから成る排出用バルブ4cと
から構成されている。
浄装置1の具体的な構成を説明する。なお、以下の説明
において使用する符号であって図中にないものは、図1
に示す符号と同一な箇所を示すものとする。すなわち、
この洗浄装置1の洗浄槽2としては、薬液槽21の外側
に外周槽22を備えたものが用いられており、しかも、
薬液槽21の下側と外周槽22の下側にそれぞれ排出機
構4が設けられている。薬液槽21に設けられた排出機
構4は、通常の電源のON、OFFにより開閉できるノ
ーマリクローズバルブ(以下、NCバルブとする)から
成るバルブ4bと、停電等により電源が遮断された際に
開状態となるノーマリオープンバルブ(以下、NOバル
ブとする)から成る排出用バルブ4aとから構成されて
いる。一方の外周槽22も同様に、NCバルブから成る
バルブ4dと、NOバルブから成る排出用バルブ4cと
から構成されている。
【0011】また、洗浄槽2の上方に設けられた水供給
機構5は、通常の電源のON、OFFにより開閉できる
NCバルブから成るバルブ5bと、電源遮断の際に開状
態となるNOバルブから成る供給用バルブ5aとから構
成されている。なお、NOバルブから成る各バルブ4
a、4c、5aは、電源が供給されている間はのみ閉状
態となるものや、あるいは蓄電池等の無停電電源により
開閉できるものを用いればよい。
機構5は、通常の電源のON、OFFにより開閉できる
NCバルブから成るバルブ5bと、電源遮断の際に開状
態となるNOバルブから成る供給用バルブ5aとから構
成されている。なお、NOバルブから成る各バルブ4
a、4c、5aは、電源が供給されている間はのみ閉状
態となるものや、あるいは蓄電池等の無停電電源により
開閉できるものを用いればよい。
【0012】次に、このような洗浄装置1の動作を電源
の供給状態に基づいて説明する。先ず、電源が正常に供
給されている場合には、排出機構4の排出用バルブ4
a、4cが閉じた状態となっており、他のバルブ4b、
4dにより開閉するようになっている。すなわち、薬液
槽21内にてウエハ等の被洗浄物(図示せず)の洗浄作
業を行う場合にはバルブ4bを閉じて薬液2aを蓄積で
きるようにする。この際、外周槽22に設けられた排出
機構4のバルブ4dは開放しておき、薬液槽21から外
周槽22へあふれ出た薬液2aを排出できるようにして
おいてもよい。
の供給状態に基づいて説明する。先ず、電源が正常に供
給されている場合には、排出機構4の排出用バルブ4
a、4cが閉じた状態となっており、他のバルブ4b、
4dにより開閉するようになっている。すなわち、薬液
槽21内にてウエハ等の被洗浄物(図示せず)の洗浄作
業を行う場合にはバルブ4bを閉じて薬液2aを蓄積で
きるようにする。この際、外周槽22に設けられた排出
機構4のバルブ4dは開放しておき、薬液槽21から外
周槽22へあふれ出た薬液2aを排出できるようにして
おいてもよい。
【0013】次に、このような洗浄作業中に停電等が発
生して通常の電源が遮断された場合、排気口32からの
吸い込みが停止し、さらに排出機構4のバルブ4b、4
dの開閉動作もできなくなり閉状態のままになってしま
う。この時点で、薬液槽21に設けられたNOバルブか
ら成る排出機構4の排出用バルブ4aが開放(または、
無停電電源にからの電源供給により開放)し、薬液槽2
1内の薬液2aを排出できるようになる。排出機構4の
排出バルブ4aを開放して薬液2aを薬液槽21内から
排出することにより、クリーンルーム内の一応の安全性
を確保できることになる。
生して通常の電源が遮断された場合、排気口32からの
吸い込みが停止し、さらに排出機構4のバルブ4b、4
dの開閉動作もできなくなり閉状態のままになってしま
う。この時点で、薬液槽21に設けられたNOバルブか
ら成る排出機構4の排出用バルブ4aが開放(または、
無停電電源にからの電源供給により開放)し、薬液槽2
1内の薬液2aを排出できるようになる。排出機構4の
排出バルブ4aを開放して薬液2aを薬液槽21内から
排出することにより、クリーンルーム内の一応の安全性
を確保できることになる。
【0014】この状態からさらに安全性を高めるため
に、以下の動作を行う。先ず、排出用バルブ4aを無停
電電源により作動するタイマー等を用いて一定時間開放
し薬液槽21内の薬液2aが全て排出させた後に閉じる
ようにする。そして、排出用バルブ4aが閉じた後に、
水供給機構5の供給用バルブ5aを無停電電源により開
放し、薬液槽21内に水を供給する。
に、以下の動作を行う。先ず、排出用バルブ4aを無停
電電源により作動するタイマー等を用いて一定時間開放
し薬液槽21内の薬液2aが全て排出させた後に閉じる
ようにする。そして、排出用バルブ4aが閉じた後に、
水供給機構5の供給用バルブ5aを無停電電源により開
放し、薬液槽21内に水を供給する。
【0015】これにより、薬液槽21内に水が蓄積さ
れ、やがて薬液槽21からあふれ出て外側に設けられた
外周槽22へ入るようになる。また、外周槽22に溜ま
った水は、外周槽22に設けられたNOバルブから成る
排出機構4の排出用バルブ4cを開状態にするか、ある
いは無停電電源により開放するかにより排出される。こ
のように、水を薬液槽21からあふれさせることで、薬
液槽21の内面に残っていた薬液2aを洗い流すことが
でき、しかも、あふれ出た水を外周槽22から排出する
こともできる。
れ、やがて薬液槽21からあふれ出て外側に設けられた
外周槽22へ入るようになる。また、外周槽22に溜ま
った水は、外周槽22に設けられたNOバルブから成る
排出機構4の排出用バルブ4cを開状態にするか、ある
いは無停電電源により開放するかにより排出される。こ
のように、水を薬液槽21からあふれさせることで、薬
液槽21の内面に残っていた薬液2aを洗い流すことが
でき、しかも、あふれ出た水を外周槽22から排出する
こともできる。
【0016】次に、本発明の洗浄装置1の他の例を図3
の模式図に基づいて説明する。すなわち、この洗浄装置
1は、洗浄槽2として薬液槽21の上端外周部に水受け
槽23を備えたものである。通常の電源が供給されてい
る場合には、薬液槽21に設けられた排出機構4の排出
用バルブ4aを閉じておき、他のバルブ4bの開閉によ
り薬液槽21内の薬液の蓄積や排出を行うことで所定の
洗浄作業を行うようにする。
の模式図に基づいて説明する。すなわち、この洗浄装置
1は、洗浄槽2として薬液槽21の上端外周部に水受け
槽23を備えたものである。通常の電源が供給されてい
る場合には、薬液槽21に設けられた排出機構4の排出
用バルブ4aを閉じておき、他のバルブ4bの開閉によ
り薬液槽21内の薬液の蓄積や排出を行うことで所定の
洗浄作業を行うようにする。
【0017】この洗浄作業中に停電等が発生して電源が
遮断された場合には、NOバルブから成る排出機構4の
排出用バルブ4aが開状態となるか、無停電電源により
開放して薬液槽21内の薬液を排出できるようになる。
さらに、この時点でNOバルブから成る水供給機構5の
供給バルブ5aを開状態にするか、無停電電源により開
放して水を薬液槽21の上端外周部に設けられた水受け
槽23内に流し込む。
遮断された場合には、NOバルブから成る排出機構4の
排出用バルブ4aが開状態となるか、無停電電源により
開放して薬液槽21内の薬液を排出できるようになる。
さらに、この時点でNOバルブから成る水供給機構5の
供給バルブ5aを開状態にするか、無停電電源により開
放して水を薬液槽21の上端外周部に設けられた水受け
槽23内に流し込む。
【0018】これにより、薬液槽21内の薬液が排出機
構4から排出されるとともに、水受け槽23で一旦受け
た水が薬液槽21の内面に沿って供給されるようにな
る。薬液槽21の内面に沿って流れる水は、内面に残っ
た薬液2aを徐々に洗い流していき排出機構4から排出
される。これをタイマー等を用いて一定時間行うこと
で、薬液槽21内に薬液2aを残すことなくきれいに排
出することができる。
構4から排出されるとともに、水受け槽23で一旦受け
た水が薬液槽21の内面に沿って供給されるようにな
る。薬液槽21の内面に沿って流れる水は、内面に残っ
た薬液2aを徐々に洗い流していき排出機構4から排出
される。これをタイマー等を用いて一定時間行うこと
で、薬液槽21内に薬液2aを残すことなくきれいに排
出することができる。
【0019】いずれの実施例においても、洗浄装置1に
供給される電源が停電により遮断された場合について説
明したが、例えば、作業者が洗浄作業の終了により電源
を自ら切った場合であっても、上記と同様に薬液2aの
排出と水の供給を行うようにしてもよい。すなわち、作
業者が洗浄作業を終了した時点で薬液2aの排出を行わ
なかったり、排出を行っても薬液槽21の内面を洗い流
さなかったりした場合には、緊急時における安全性の低
下や、翌日等、次に作業を行うまでの間に残った薬液2
aによる不都合が生じてしまう。このような問題をなく
すために、作業者が自ら電源を切った場合にも自動的に
薬液2aの排出と水の供給を行うことで、電源を切った
後に薬液2aが薬液槽21内に残ることを防止すること
ができ、クリーンルーム等の室内の安全性を確保できる
ようになる。
供給される電源が停電により遮断された場合について説
明したが、例えば、作業者が洗浄作業の終了により電源
を自ら切った場合であっても、上記と同様に薬液2aの
排出と水の供給を行うようにしてもよい。すなわち、作
業者が洗浄作業を終了した時点で薬液2aの排出を行わ
なかったり、排出を行っても薬液槽21の内面を洗い流
さなかったりした場合には、緊急時における安全性の低
下や、翌日等、次に作業を行うまでの間に残った薬液2
aによる不都合が生じてしまう。このような問題をなく
すために、作業者が自ら電源を切った場合にも自動的に
薬液2aの排出と水の供給を行うことで、電源を切った
後に薬液2aが薬液槽21内に残ることを防止すること
ができ、クリーンルーム等の室内の安全性を確保できる
ようになる。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の洗浄装置
を用いれば次のような効果がある。すなわち、停電等に
より電源が遮断された場合であっても、排出機構に備え
られた排出バルブの開放により薬液槽内の薬液を排出す
ることができる。しかも、水供給機構から水を供給して
薬液槽内から外周槽にあふれ出させたり、水受け槽から
薬液槽の内面に沿って水を供給することで、薬液槽の内
面に残る薬液を洗い流して排出することができるため薬
液槽内に薬液が残らなくなる。これにより、ドラフトチ
ャンバ内に薬液から発生する蒸気が充満することがなく
なるため、クリーンルーム等の室内の安全な環境を維持
できるようになる。また、洗浄装置による作業が終了し
た後に、作業者が自ら電源を切った場合にも薬液の排出
と水の供給を行えば、作業者の不注意で薬液を残してし
まうことがなくなり、次に洗浄装置を使用する際の室内
における安全性を確保できるようになる。
を用いれば次のような効果がある。すなわち、停電等に
より電源が遮断された場合であっても、排出機構に備え
られた排出バルブの開放により薬液槽内の薬液を排出す
ることができる。しかも、水供給機構から水を供給して
薬液槽内から外周槽にあふれ出させたり、水受け槽から
薬液槽の内面に沿って水を供給することで、薬液槽の内
面に残る薬液を洗い流して排出することができるため薬
液槽内に薬液が残らなくなる。これにより、ドラフトチ
ャンバ内に薬液から発生する蒸気が充満することがなく
なるため、クリーンルーム等の室内の安全な環境を維持
できるようになる。また、洗浄装置による作業が終了し
た後に、作業者が自ら電源を切った場合にも薬液の排出
と水の供給を行えば、作業者の不注意で薬液を残してし
まうことがなくなり、次に洗浄装置を使用する際の室内
における安全性を確保できるようになる。
【図1】本発明の洗浄装置を説明する概略斜視図であ
る。
る。
【図2】本発明の洗浄装置を説明する模式図である。
【図3】他の例を説明する模式図である。
1 洗浄装置 2 洗浄槽 2a 薬液 3 ドラフトチャンバ 4 排出機構 5 水供給機構 21 薬液槽 22 外周槽 23 水受け槽 31 排気ダクト 32 排気口
Claims (4)
- 【請求項1】 洗浄用の薬液を入れる薬液槽を備えた洗
浄槽と、 前記洗浄槽の下側に設けられ、電源遮断の際に開放して
前記薬液槽内から前記薬液を排出させる排出用バルブを
備えた排出機構とから成ることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の洗浄装置において、前記
電源遮断の際に開放して前記薬液槽内に水を供給するた
めの供給用バルブを備えた水供給機構が設けられている
ことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項3】 前記洗浄槽は、前記薬液が排出された後
に前記水供給機構から供給されて前記薬液槽からあふれ
出る水を受けるための外周槽を該薬液槽の外側に備えて
いることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。 - 【請求項4】 前記洗浄槽は、前記水供給機構から供給
される水を一旦受けて、前記薬液槽の内面に沿って該水
を供給するための水受け槽を該薬液槽の上端外周部に備
えていることを特徴とする請求項1記載の洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14260693A JP3453786B2 (ja) | 1993-05-21 | 1993-05-21 | 洗浄装置および洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14260693A JP3453786B2 (ja) | 1993-05-21 | 1993-05-21 | 洗浄装置および洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06333905A true JPH06333905A (ja) | 1994-12-02 |
JP3453786B2 JP3453786B2 (ja) | 2003-10-06 |
Family
ID=15319239
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14260693A Expired - Fee Related JP3453786B2 (ja) | 1993-05-21 | 1993-05-21 | 洗浄装置および洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3453786B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093764A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-03-29 | Nisso Engineering Co Ltd | ウエハ洗浄装置 |
CN104445030A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-03-25 | 攀枝花钢企欣宇化工有限公司 | 自动清洗式废液收集排出装置 |
-
1993
- 1993-05-21 JP JP14260693A patent/JP3453786B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002093764A (ja) * | 2000-09-11 | 2002-03-29 | Nisso Engineering Co Ltd | ウエハ洗浄装置 |
JP4565718B2 (ja) * | 2000-09-11 | 2010-10-20 | アプリシアテクノロジー株式会社 | ウエハ洗浄装置 |
CN104445030A (zh) * | 2014-11-25 | 2015-03-25 | 攀枝花钢企欣宇化工有限公司 | 自动清洗式废液收集排出装置 |
CN104445030B (zh) * | 2014-11-25 | 2017-03-29 | 攀枝花钢企欣宇化工有限公司 | 自动清洗式废液收集排出装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3453786B2 (ja) | 2003-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3338134B2 (ja) | 半導体ウエハ処理方法 | |
JP4426036B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3453786B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 | |
EP0674343A2 (en) | Method for storing silicon wafers | |
JP2005045206A (ja) | 基板処理方法および基板処理装置 | |
JPS61247034A (ja) | 半導体スライスの洗浄方法 | |
US6514355B1 (en) | Method and apparatus for recovery of semiconductor wafers from a chemical tank | |
US20030209259A1 (en) | Method for decreasing wafer scrap rate for a chemical treatment apparatus | |
TWI749295B (zh) | 基板處理方法及基板處理裝置 | |
JP3437728B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JPH03240977A (ja) | 薬液処理装置 | |
JP3321726B2 (ja) | 洗浄処理方法及びその装置 | |
KR950007964B1 (ko) | 일조식 웨이퍼 세정장치 | |
JP3615951B2 (ja) | 基板洗浄方法 | |
KR20070069340A (ko) | 웨이퍼 세정장치 및 방법 | |
JP2994113B2 (ja) | 部品洗浄装置 | |
JP3891776B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR0175280B1 (ko) | 수중이동식 반도체 웨이퍼의 세정장치 | |
JPH1041264A (ja) | 処理液制御方法 | |
JP2000005710A (ja) | 基板洗浄装置 | |
JP4149625B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
KR100508078B1 (ko) | 습식 식각 설비 | |
KR100431809B1 (ko) | 웨이퍼 세정 장치 및 세정 방법 | |
KR200177287Y1 (ko) | 웨트 스테이션의 식각 베스 | |
KR20000015651A (ko) | 반도체장치 제조용 자동세정설비 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080725 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090725 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |