JPH06333902A - 洗浄装置 - Google Patents

洗浄装置

Info

Publication number
JPH06333902A
JPH06333902A JP11612193A JP11612193A JPH06333902A JP H06333902 A JPH06333902 A JP H06333902A JP 11612193 A JP11612193 A JP 11612193A JP 11612193 A JP11612193 A JP 11612193A JP H06333902 A JPH06333902 A JP H06333902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid level
liquid
chemical
photoelectric sensor
detecting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11612193A
Other languages
English (en)
Inventor
Mizuo Sato
水男 佐藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP11612193A priority Critical patent/JPH06333902A/ja
Publication of JPH06333902A publication Critical patent/JPH06333902A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Weting (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体基板・液晶デバイスの洗浄・エッチング
を行う処理槽の薬液の液面検出を行う洗浄装置に関し、
非洗浄物の洗浄・エッチングする工程での処理槽内の薬
液の液面検出する際に、窒素の圧力変動等に起因した誤
判定を防止し、安定した液面管理が出来る洗浄装置を提
供する。 【構成】処理槽内にウキ式液面検出部とウキ式液面検出
できる手段より構成し、薬液の液面の高さを検出する。
薬液2を入れる処理槽1と薬液2を循環濾過するため
の、循環ポンプ4・フィルタ−5・配管3と、薬液2を
給廃液するための給液用エア−バルブ7と廃液用エア−
バルブ6、液面下限検出光電センサ−8・液面定量検出
光電センサ−9・液面上限検出光電センサ−10・ウキ
式液面検出部11・ウキ式液面検出部11を支持するウ
キ式液面検出部支持12、液面下限検出・液面定量検出
・液面上限検出をするための遮蔽板13より構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板・液晶デバ
イスの洗浄・エッチングを行う処理槽の薬液の液面検出
を行う洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2に示す、従来の処理槽内の薬液の液
面を検出する洗浄装置の構成は、薬液2を入れる処理槽
1と薬液2を循環濾過するための、循環ポンプ4・フィ
ルタ−5・配管3と、薬液2を給廃液するための給液用
エア−バルブ7と廃液用エア−バルブ6と窒素の圧力を
利用した液面下限検出センサ−8・液面定量検出センサ
−9・液面上限検出センサ−10より構成される。
【0003】処理槽1に薬液2を供給する際、液面定量
検出センサ−9がONしたら薬液の供給を止める。その
際、液面上限検出センサ−10がONしたら液面オ−バ
−のエラ−を出力する。薬液2を循環させるには、液面
下限検出センサ−8がONしていないと循環ポンプ3が
作動しない。
【0004】また、薬液の蒸発・デバイスの持ち出しに
よる液面レベルが低下した際、液面定量検出センサ−9
がOFFしていたとき、液面定量検出センサ−9がON
するまで給液用エア−バルブ7を開け薬液2を処理槽1
に補充する。
【0005】この窒素の圧力を利用した、液面下限検出
センサ−8・液面定量検出センサ−9・液面上限検出セ
ンサ−10は、元圧の変動またはセンサ−の検出部内の
ダイヤフラムの損傷により、誤動作が発生し、洗浄装置
がエラ−を検出し停止するものであった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では、窒素の圧力を利用した液面下限検出センサ−8
・液面定量検出センサ−9・液面上限検出センサ−10
は、圧力の変動またはダイヤフラムの損傷が発生すると
誤判定するという問題が発生する。
【0007】そこで、本発明はこのような問題点を解決
するもので、その目的とするところは、ウキ式液面検出
部と液面検出できる手段を用い液面検出することを特徴
とする洗浄装置を提供するところにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の洗浄装置は、ウ
キ式液面検出部と液面検出できる手段を用い薬液の液面
検出することを手段とする。
【0009】
【実施例】図1は、本発明の実施例におけるフロ−図で
ある。
【0010】本発明の構成は、薬液2を入れる処理槽1
と薬液2を循環濾過するための、循環ポンプ4・フィル
タ−5・配管3と、薬液2を給廃液するための給液用エ
ア−バルブ7と廃液用エア−バルブ6、液面下限検出光
電センサ−8・液面定量検出光電センサ−9・液面上限
検出光電センサ−10・ウキ式液面検出部11・ウキ式
液面検出部11を支持するウキ式液面検出部支持12、
液面下限検出・液面定量検出・液面上限検出をするため
の遮蔽板13より構成する。
【0011】処理槽1に薬液2を供給する際、ウキ式液
面検出部11に設けた遮蔽板13が液面定量検出光電セ
ンサ−9を遮蔽することにより、液面定量検出光電セン
サ−9がONとなり薬液2の供給を止める。その際、ウ
キ式液面検出部11に設けた遮蔽板13が液面上限検出
光電センサ−10を遮蔽することにより、液面上限検出
光電センサ−10がONとなり液面オ−バ−のエラ−を
出力する。
【0012】薬液2を循環濾過させるには、ウキ式液面
検出部11に設けた遮蔽板13が液面下限検出光電セン
サ−8を遮蔽することにより液面下限検出光電センサ−
8がONとなり、循環ポンプ3が作動する。
【0013】また、薬液の蒸発・デバイスの持ち出しに
よる液面レベルが低下した際、処理槽1に薬液2を補充
するには、ウキ式液面検出部11に設けた遮蔽板13が
液面定量検出光電センサ−9を遮蔽していない時、遮蔽
板13が液面定量検出光電センサ−9を遮蔽するまで、
給液用エア−バルブ7を開け薬液2を処理槽1に補充す
る。
【0014】ウキ式液面検出部11・ウキ式液面検出部
支持12・遮蔽板13の材質は、耐薬品、耐熱性、金属
汚染の可能性ないフッ素系の樹脂を使用する。
【0015】ウキ式液面検出部と液面検出光電センサ−
を使用することにより、圧力の変動または、センサ−の
検出部内のダイヤフラムの損傷に起因した誤判定の問題
が解決でき、処理槽1の薬液2において安定した液面管
理が可能となる。
【0016】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、薬液
の液面検出をウキ式液面検出部と液面検出できる手段を
用いることにより、圧力の変動またはセンサ−の検出部
内のダイヤフラムの損傷に起因した誤判定するという問
題がなくなり安定した液面管理が、出来るという効果を
有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の洗浄装置の処理槽フロ−図。
【図2】 従来の洗浄装置の処理槽フロ−図。
【符号の説明】
1・・・・・処理槽 2・・・・・薬液 3・・・・・配管 4・・・・・循環ポンプ 5・・・・・フィルタ− 6・・・・・廃液用エア−バルブ 7・・・・・給液用エア−バルブ 8・・・・・液面下限検出光電センサ− 9・・・・・液面定量検出光電センサ− 10・・・・・液面上限検出光電センサ− 11・・・・・ウキ式液面検出部 12・・・・・ウキ式液面検出部支持 13・・・・・遮蔽板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非洗浄物の洗浄・エッチングを行う工程に
    おいて、処理槽内の薬液の液面を検出する際に、ウキ式
    液面検出部と液面検出のできる手段を用い液面の検出す
    ることを特徴とする洗浄装置。
JP11612193A 1993-05-18 1993-05-18 洗浄装置 Pending JPH06333902A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11612193A JPH06333902A (ja) 1993-05-18 1993-05-18 洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11612193A JPH06333902A (ja) 1993-05-18 1993-05-18 洗浄装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06333902A true JPH06333902A (ja) 1994-12-02

Family

ID=14679219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11612193A Pending JPH06333902A (ja) 1993-05-18 1993-05-18 洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06333902A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111520605A (zh) * 2020-05-26 2020-08-11 东光县华宇纸箱机械有限公司 印刷模切用油位平衡机构

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111520605A (zh) * 2020-05-26 2020-08-11 东光县华宇纸箱机械有限公司 印刷模切用油位平衡机构

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960035756A (ko) 기판처리장치에 있어서 처리액 치환방법 및 기판처리방법 및 기판처리장치
JPS6213634B2 (ja)
JPH06333902A (ja) 洗浄装置
KR100441249B1 (ko) 반도체 제조 공정에서의 티오씨 측정 장치 및 그 측정 방법
KR100203398B1 (ko) 반도체 세정 장치
TW554168B (en) Apparatus and method for detecting fluid transparency
JPH0338827A (ja) 半導体ウエハ用洗浄装置
KR100248152B1 (ko) 웨이퍼 세정장치
JP3074089B2 (ja) 基板処理装置
KR100598914B1 (ko) 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비
KR100801656B1 (ko) 처리액 공급 방법
KR100190279B1 (ko) 오버 플로우를 방지하기 위한 케미컬 공급 장치 및 그 방법
JP3460045B2 (ja) 洗浄処理装置
KR100247907B1 (ko) 반도체 웨이퍼 세정장치
KR20030045268A (ko) 습식 식각 설비의 약액 순환 장치
JPH05299403A (ja) 処理槽への薬液定量供給方法および装置
JPS614627A (ja) 電気加工装置
JP3519603B2 (ja) 基板処理装置
JPS5919727Y2 (ja) エツチングマシン
KR20050030507A (ko) 웨이퍼 세정장치 및 세정 방법
KR810001907B1 (ko) 세정 배수중에 혼입하는 유기용제의 검출분리장치
JP2002253950A (ja) 基板処理装置
JPS6452152A (en) Circulating liquid flow detector for automatic photosensitive material developing machine
JPH01310355A (ja) 感光性平版印刷版処理機
SE500593C2 (sv) Anordning för mätning av koncentrationen av radioaktivitet i en vätska