JPH0633193B2 - 硬質ムライト―ウィスカーフェルトの製造法 - Google Patents
硬質ムライト―ウィスカーフェルトの製造法Info
- Publication number
- JPH0633193B2 JPH0633193B2 JP1508238A JP50823889A JPH0633193B2 JP H0633193 B2 JPH0633193 B2 JP H0633193B2 JP 1508238 A JP1508238 A JP 1508238A JP 50823889 A JP50823889 A JP 50823889A JP H0633193 B2 JPH0633193 B2 JP H0633193B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mullite
- alf
- sio
- felt
- whisker
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 107
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 claims description 106
- 229910016569 AlF 3 Inorganic materials 0.000 claims description 72
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 71
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 44
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 31
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000011031 topaz Substances 0.000 claims description 26
- 229910052853 topaz Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 18
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 11
- 239000011153 ceramic matrix composite Substances 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 9
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 9
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 7
- 239000011156 metal matrix composite Substances 0.000 claims description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 229910052878 cordierite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[(1-oxido-3-oxo-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3-disila-5,7-dialuminabicyclo[3.3.1]nonan-7-yl)oxy]silane Chemical compound [Mg++].[Mg++].[O-][Si]([O-])(O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2)O[Al]1O[Al]2O[Si](=O)O[Si]([O-])(O1)O2 JSKIRARMQDRGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 claims 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 239000000047 product Substances 0.000 description 13
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 9
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 5
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 2
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007569 slipcasting Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910004018 SiF Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000009694 cold isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000000462 isostatic pressing Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000010587 phase diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000007666 vacuum forming Methods 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
- C04B35/16—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay
- C04B35/18—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on silicates other than clay rich in aluminium oxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/71—Ceramic products containing macroscopic reinforcing agents
- C04B35/78—Ceramic products containing macroscopic reinforcing agents containing non-metallic materials
- C04B35/80—Fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T442/00—Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
- Y10T442/50—FELT FABRIC
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明はセラミックに関し、更に詳細にはムライトに関
する。
する。
繊維状セラミック断熱材およびセラミック/金属マトリ
ックス複合体の繊維状セラミックプレフォームを製造す
るための従来技術は、有機または無機結合剤の添加を伴
うプレス成形および真空成形である。いずれの技術で
も、成形前に繊維を解凝集して結合剤と混合した後、乾
燥し、機械加工し、結合剤を除去し、(所望ならば)成
形後に予備焼成することが必要である。例えば、1960年
4 月25日にケネス・エル・ベリー(Kenneth L. Berry)に
発行された「紡糸可能なムライト繊維およびその製造」
という名称の米国特許第3,104,943 号公報には、800 〜
1200℃で少なくとも1 %のH2を含む雰囲気中でSi、
Al、O2およびSの熱源から誘導される気相から、ム
ライト繊維を結晶させる方法が開示されている。次に、
こうして調製した繊維の懸濁液を濾過して、フェルトを
形成させる。この工程では余分な操作が必要となるの
で、費用が増し、また、繊維を損なうことがある。ま
た、フェルトまたはマットの形状の複雑さは、濾過技術
によって限定される。更に、生成するフェルトは、単一
の結晶性ウイスカーよりはむしろ多結晶繊維から成って
いる。補強材として、ウイスカーは、単結晶でありかつ
それらの特性は高温での粒子成長および粒子境界誘導ク
リープに影響されないので、繊維より優れている。多結
晶性材料に比較してウイスカーの自由エネルギーが低く
かつ弾性率と強度が高いので、ウイスカーを用いて前記
組成物のマトリックスを強化することが可能である。
ックス複合体の繊維状セラミックプレフォームを製造す
るための従来技術は、有機または無機結合剤の添加を伴
うプレス成形および真空成形である。いずれの技術で
も、成形前に繊維を解凝集して結合剤と混合した後、乾
燥し、機械加工し、結合剤を除去し、(所望ならば)成
形後に予備焼成することが必要である。例えば、1960年
4 月25日にケネス・エル・ベリー(Kenneth L. Berry)に
発行された「紡糸可能なムライト繊維およびその製造」
という名称の米国特許第3,104,943 号公報には、800 〜
1200℃で少なくとも1 %のH2を含む雰囲気中でSi、
Al、O2およびSの熱源から誘導される気相から、ム
ライト繊維を結晶させる方法が開示されている。次に、
こうして調製した繊維の懸濁液を濾過して、フェルトを
形成させる。この工程では余分な操作が必要となるの
で、費用が増し、また、繊維を損なうことがある。ま
た、フェルトまたはマットの形状の複雑さは、濾過技術
によって限定される。更に、生成するフェルトは、単一
の結晶性ウイスカーよりはむしろ多結晶繊維から成って
いる。補強材として、ウイスカーは、単結晶でありかつ
それらの特性は高温での粒子成長および粒子境界誘導ク
リープに影響されないので、繊維より優れている。多結
晶性材料に比較してウイスカーの自由エネルギーが低く
かつ弾性率と強度が高いので、ウイスカーを用いて前記
組成物のマトリックスを強化することが可能である。
それ故、複雑な形状でも寸法が良好に調整される高品質
の単結晶ムライト−ウイスカーフェルトを生成すること
ができる簡単で経済的な現場法を提供するのが望まれて
いる。
の単結晶ムライト−ウイスカーフェルトを生成すること
ができる簡単で経済的な現場法を提供するのが望まれて
いる。
発明の概要 したがって、本発明の目的は、プレフォームおよび断熱
材用の高品質の硬質ムライトウイスカーフェルトを製造
する方法を提供することである。
材用の高品質の硬質ムライトウイスカーフェルトを製造
する方法を提供することである。
本発明のもう一つの目的は、プレフォームおよび断熱材
用の高品質のムライト−ウイスカーフェルトを製造する
簡単で経済的な現場法を提供することである。
用の高品質のムライト−ウイスカーフェルトを製造する
簡単で経済的な現場法を提供することである。
本発明の更にもう一つの目的は、プレフォームおよび断
熱材用の複雑な形状のムライト−ウイスカーフェルトを
製造する方法を提供することである。
熱材用の複雑な形状のムライト−ウイスカーフェルトを
製造する方法を提供することである。
本発明の更にもう一つの目的は、適切に規定された寸法
公差内でムライト−ウイスカーの製品を製造する方法を
提供することである。
公差内でムライト−ウイスカーの製品を製造する方法を
提供することである。
これらおよび他の本発明の目的は、下記の段階の工程を
提供することによって達成される: (1) 化学量論的ムライトを生成するように選択された量
のAlF3とSiO2またはAlF3とSiO2とAl
2O3とのよく混りあった均一な混合物または化学量論
的ムライトのAl2O3の固溶体から所望な形状と寸法
の素地を形成させ、 (2) 約700 ℃〜約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの素地を加熱して、AlF3がSiO2と反応し
て棒様のトパーズ結晶を形成させ、 (3) 約1150℃〜約1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこのトパーズ結晶を加熱して、この棒様のトパーズ
結晶を多孔性で硬質のフェルト構造を形成する針様の単
結晶ムライトウイスカーに変換させる。
提供することによって達成される: (1) 化学量論的ムライトを生成するように選択された量
のAlF3とSiO2またはAlF3とSiO2とAl
2O3とのよく混りあった均一な混合物または化学量論
的ムライトのAl2O3の固溶体から所望な形状と寸法
の素地を形成させ、 (2) 約700 ℃〜約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの素地を加熱して、AlF3がSiO2と反応し
て棒様のトパーズ結晶を形成させ、 (3) 約1150℃〜約1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこのトパーズ結晶を加熱して、この棒様のトパーズ
結晶を多孔性で硬質のフェルト構造を形成する針様の単
結晶ムライトウイスカーに変換させる。
このフェルト構造は、単結晶ムライトウイスカーを含ん
で成り、このウイスカーは均一に分布しかつランダムに
三次元的に配向しており、しかも結合剤なしで形状を保
持することが可能な硬質のフェルト構造を形成するよう
に機械的に結合している。この単結晶性ムライトウイス
カーは、化学量論的ムライトまたは化学量論的ムライト
中のAl2O3の固溶体から成っている。
で成り、このウイスカーは均一に分布しかつランダムに
三次元的に配向しており、しかも結合剤なしで形状を保
持することが可能な硬質のフェルト構造を形成するよう
に機械的に結合している。この単結晶性ムライトウイス
カーは、化学量論的ムライトまたは化学量論的ムライト
中のAl2O3の固溶体から成っている。
このフェルトは、セラミック−マトリックスおよび金属
−マトリックス複合体用のプレフォームとしてまたは単
独で断熱材として用いることができる。
−マトリックス複合体用のプレフォームとしてまたは単
独で断熱材として用いることができる。
図面の簡単な説明 本発明およびそれに付随する利点の多くは、添付の走査
型電子顕微鏡(SEM)写真を考慮しながら、下記の詳
細な説明を参照することによって一層よく理解されるの
で、これらは容易に理解されることであろう。
型電子顕微鏡(SEM)写真を考慮しながら、下記の詳
細な説明を参照することによって一層よく理解されるの
で、これらは容易に理解されることであろう。
第1A〜1C図は、(A)1250℃、(B)1400℃および
(C)1550℃の最終焼成温度で生成したムライト−ウイ
スカーフェルトを示し、 第2A〜2D図は、出発材料中のAlF3の(A)0、
(B)25、(C)50および(D)75%をAl2O3で置
換したときに生成するムライト−ウイスカーフェルトを
示し、 第3A〜3B図は、AlF3の(A)80および(B)85
%をAl2O3で置換したときに、生成物は未反応のA
l2O3とクリストバライトとしてのSiO2とを多量
に含む幾つかのムライトウイスカーから成ることを示
し、第4A〜4D図は、出発材料中のAl2O3の粒度
が(A)0.05ミクロン以下および(B)0.3 ミクロン以
下であれば、所望なムライト−ウイスカーフェルト生成
物を生成するが、平均Al2O3粒度が(CおよびD)
4 ミクロン以上であれば、所望なムライト−ウイスカー
フェルト生成物は生成されないことを示し、 第5A〜5B図は、(A)無水のSiF4雰囲気中では
所望なムライト−ウイスカーフェルトが生成するが、
(B)酸化性(空気)雰囲気中では遥かに小さなムライ
トウイスカーおよびムライト凝集体から成る不均一構造
をしたフェルトが生成することを示し、 第6A、6Bおよび6C図は、(A)無水条件下(融解
石英)では所望なムライト−ウイスカーフェルトが生成
するが、(BおよびC)SiF4雰囲気中で水の存在下
(シリカゲル)ではAl2O3を含有する小さめの寸法
のムライトウイスカーから成るフェルトが生成すること
を示している。
(C)1550℃の最終焼成温度で生成したムライト−ウイ
スカーフェルトを示し、 第2A〜2D図は、出発材料中のAlF3の(A)0、
(B)25、(C)50および(D)75%をAl2O3で置
換したときに生成するムライト−ウイスカーフェルトを
示し、 第3A〜3B図は、AlF3の(A)80および(B)85
%をAl2O3で置換したときに、生成物は未反応のA
l2O3とクリストバライトとしてのSiO2とを多量
に含む幾つかのムライトウイスカーから成ることを示
し、第4A〜4D図は、出発材料中のAl2O3の粒度
が(A)0.05ミクロン以下および(B)0.3 ミクロン以
下であれば、所望なムライト−ウイスカーフェルト生成
物を生成するが、平均Al2O3粒度が(CおよびD)
4 ミクロン以上であれば、所望なムライト−ウイスカー
フェルト生成物は生成されないことを示し、 第5A〜5B図は、(A)無水のSiF4雰囲気中では
所望なムライト−ウイスカーフェルトが生成するが、
(B)酸化性(空気)雰囲気中では遥かに小さなムライ
トウイスカーおよびムライト凝集体から成る不均一構造
をしたフェルトが生成することを示し、 第6A、6Bおよび6C図は、(A)無水条件下(融解
石英)では所望なムライト−ウイスカーフェルトが生成
するが、(BおよびC)SiF4雰囲気中で水の存在下
(シリカゲル)ではAl2O3を含有する小さめの寸法
のムライトウイスカーから成るフェルトが生成すること
を示している。
好ましい態様の詳細な説明 本発明は、高純度の硬質フェルトおよび現場でそれらを
製造する実際的方法を包含する。本発明の方法では、出
発材料(SiO2、AlF3および所望ならばAl2O
3)を粉体として均質に混合し、加圧、低温アイソスタ
ティック加圧、押出、射出成形、スリップ鋳造などの通
常のセラミック技術によって所望な形状および寸法の素
地に成形する。最終的ムライト−ウイスカー硬質フェル
トの形状は、線寸法変化が約1.5 %以下の素地と同じと
なる。本発明の方法では、用いられる素地の寸法または
形状は限定されない。
製造する実際的方法を包含する。本発明の方法では、出
発材料(SiO2、AlF3および所望ならばAl2O
3)を粉体として均質に混合し、加圧、低温アイソスタ
ティック加圧、押出、射出成形、スリップ鋳造などの通
常のセラミック技術によって所望な形状および寸法の素
地に成形する。最終的ムライト−ウイスカー硬質フェル
トの形状は、線寸法変化が約1.5 %以下の素地と同じと
なる。本発明の方法では、用いられる素地の寸法または
形状は限定されない。
材料の取扱を、本発明の方法では最少限に保つことがで
きる。素地は、工程中に無水のSiF4雰囲気(100 %
SiF4)を保持することができる反応装置(蓋付坩
堝、密封した炉など)に入れるのが好ましい。この材料
は、最終高純度のムライト−ウイスカー硬質フェルト生
成物が反応装置から取出されるまで取扱いが省略され
る。
きる。素地は、工程中に無水のSiF4雰囲気(100 %
SiF4)を保持することができる反応装置(蓋付坩
堝、密封した炉など)に入れるのが好ましい。この材料
は、最終高純度のムライト−ウイスカー硬質フェルト生
成物が反応装置から取出されるまで取扱いが省略され
る。
高純度のムライト−ウイスカー硬質フェルトは断熱材と
して用いることができる。このフェルトはムライトウイ
スカー強化セラミック−マトリックスおよび金属−マト
リックス複合体のプレフォームとして用いることもでき
る。
して用いることができる。このフェルトはムライトウイ
スカー強化セラミック−マトリックスおよび金属−マト
リックス複合体のプレフォームとして用いることもでき
る。
本発明の方法の操作にとって重要なことは、約700 ℃〜
約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気中でAlF3と
溶融SiO2とを反応させて反応(1) : (1) 2AlF3+2SiO2→Al2(SiO4)F2+SiF4 にしたがって棒様のトパーズ結晶を形成すること、およ
び1150℃〜1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気中で棒
様のトパーズ結晶を分解して、反応(2) : (2) 6Al2(SiO4)F2+SiO2→ 2(3Al2O3・2SiO2)+3SiF4 にしたがって単結晶ムライトウイスカーを形成すること
である。ムライトウイスカーを形成させるAlF3と溶
融SiO2との全体的反応は、(3) : (3) 12AlF3+13SiO2→ 2(3Al2O3・2SiO2)+9SiF4 である。したがって、AlF36 モルが溶融SiO26.
5 モルと反応して、ムライト1モルを形成する。AlF
3対SiO2の正確な化学量論的比率6 :6.5 を用いる
と、処理中にAlF3の損失があるため、最終のムライ
ト−ウイスカーフェルトに過剰のSiO2が含まれるこ
とがある。これは、用いられるAlF3の量を増加させ
て処理中のAlF3の損失を補償することによって補正
することができる。
約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気中でAlF3と
溶融SiO2とを反応させて反応(1) : (1) 2AlF3+2SiO2→Al2(SiO4)F2+SiF4 にしたがって棒様のトパーズ結晶を形成すること、およ
び1150℃〜1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気中で棒
様のトパーズ結晶を分解して、反応(2) : (2) 6Al2(SiO4)F2+SiO2→ 2(3Al2O3・2SiO2)+3SiF4 にしたがって単結晶ムライトウイスカーを形成すること
である。ムライトウイスカーを形成させるAlF3と溶
融SiO2との全体的反応は、(3) : (3) 12AlF3+13SiO2→ 2(3Al2O3・2SiO2)+9SiF4 である。したがって、AlF36 モルが溶融SiO26.
5 モルと反応して、ムライト1モルを形成する。AlF
3対SiO2の正確な化学量論的比率6 :6.5 を用いる
と、処理中にAlF3の損失があるため、最終のムライ
ト−ウイスカーフェルトに過剰のSiO2が含まれるこ
とがある。これは、用いられるAlF3の量を増加させ
て処理中のAlF3の損失を補償することによって補正
することができる。
無水のSiF4雰囲気は、本発明の方法にとって重要で
ある。SiF4雰囲気は、SiF4から本質的に成る
(すなわち、約100 %のSiF4)。本発明の方法を酸
化性雰囲気(空気)中または乾燥した流動する不活性ガ
ス(アルゴン)中であっても、開放した坩堝中で行った
ときには、AlF3とSiO2から針様の単結晶ムライ
トウイスカーを生成させる試みは失敗に終わった。それ
故、本発明の方法の反応によって多量に生成するSiF
4を使用することは望ましい方法である。
ある。SiF4雰囲気は、SiF4から本質的に成る
(すなわち、約100 %のSiF4)。本発明の方法を酸
化性雰囲気(空気)中または乾燥した流動する不活性ガ
ス(アルゴン)中であっても、開放した坩堝中で行った
ときには、AlF3とSiO2から針様の単結晶ムライ
トウイスカーを生成させる試みは失敗に終わった。それ
故、本発明の方法の反応によって多量に生成するSiF
4を使用することは望ましい方法である。
出発材料の組成は、最終組成物としてのムライト−ウイ
スカーフェルトに関してAlF3の代わりにAl2O3
としてアルミニウムを最大75%まで導入することによっ
て改良することができる。これは、置換されるAlF3
1 モルに対してAl2O30.5 モルを用いることによっ
て行われる。本発明の方法を行うには、アルミニウムの
少なくとも25%をAlF3によって供給しなければなら
ないことに留意する必要がある。AlF3の代わりに75
%を上回る量のAl2O3を置換すると、第3A図(80
%Al2O3)および第3B図(85%Al2O3)に示
されるように、未反応のAl2O3とクリストバライト
としてのSiO2とを多量に有するある種のムライトウ
イスカーから成る生成物が形成されることになる。
スカーフェルトに関してAlF3の代わりにAl2O3
としてアルミニウムを最大75%まで導入することによっ
て改良することができる。これは、置換されるAlF3
1 モルに対してAl2O30.5 モルを用いることによっ
て行われる。本発明の方法を行うには、アルミニウムの
少なくとも25%をAlF3によって供給しなければなら
ないことに留意する必要がある。AlF3の代わりに75
%を上回る量のAl2O3を置換すると、第3A図(80
%Al2O3)および第3B図(85%Al2O3)に示
されるように、未反応のAl2O3とクリストバライト
としてのSiO2とを多量に有するある種のムライトウ
イスカーから成る生成物が形成されることになる。
Al2O3を用いることの利点は、比較的高価なAlF
3の量が少なくて済み、SiO2の量も少なくて済み、
有害なSiF4の発生量がムライト−ウイスカーフェル
トの生成における反応で少ないことである。更に、実施
例2の表−3に示されるように、AlF3の代わりのA
l2O3の量が最大75%の限界まで増加するとムライト
−ウイスカーフェルトの曲げ強さが増加する。
3の量が少なくて済み、SiO2の量も少なくて済み、
有害なSiF4の発生量がムライト−ウイスカーフェル
トの生成における反応で少ないことである。更に、実施
例2の表−3に示されるように、AlF3の代わりのA
l2O3の量が最大75%の限界まで増加するとムライト
−ウイスカーフェルトの曲げ強さが増加する。
AlF3、SiO2およびAl2O3の混合物を用いる
ときには、(約700℃〜約950℃の)低温で棒様のトパー
ズ結晶が最初に生成する。このトパーズは、反応(1): にしたがってAlF3とSiO2とから生成される。発
成したSiF4がAl2O3と反応して、反応(4): (4) 3SiF4+2Al2O3→4AlF3+3SiO2 にしたがって、AlF3とSiO2を生成するものと思
われる。反応(1)と(4) は、AlF3、Al2O3およ
びSiO2がトパーズに変換されるまで同時に進行す
る。
ときには、(約700℃〜約950℃の)低温で棒様のトパー
ズ結晶が最初に生成する。このトパーズは、反応(1): にしたがってAlF3とSiO2とから生成される。発
成したSiF4がAl2O3と反応して、反応(4): (4) 3SiF4+2Al2O3→4AlF3+3SiO2 にしたがって、AlF3とSiO2を生成するものと思
われる。反応(1)と(4) は、AlF3、Al2O3およ
びSiO2がトパーズに変換されるまで同時に進行す
る。
50%を上回る量のAl2O3がAlF3の代わりに用い
られると、700 〜950 ℃で加熱した後に棒様のトパーズ
結晶と共に幾分かの未反応のAl2O3およびSiO2
が含まれることがある。しかしながら、更に高温では、
未反応のSiO2とAl2O3および(複数の)反応に
よって発成したSiF4が相互作用して、最終生成物と
してのムライトウイスカーを形成する。
られると、700 〜950 ℃で加熱した後に棒様のトパーズ
結晶と共に幾分かの未反応のAl2O3およびSiO2
が含まれることがある。しかしながら、更に高温では、
未反応のSiO2とAl2O3および(複数の)反応に
よって発成したSiF4が相互作用して、最終生成物と
してのムライトウイスカーを形成する。
第2A〜2D図に示されるように、Al2O3で置換さ
れるAlF3のモル百分率が増加すると、フェルトに生
成する化学量論的単結晶ムライトウイスカーは少なくな
る。また、AlF3の75%までしかAl2O3で置換す
ることができない。
れるAlF3のモル百分率が増加すると、フェルトに生
成する化学量論的単結晶ムライトウイスカーは少なくな
る。また、AlF3の75%までしかAl2O3で置換す
ることができない。
表−1に、Al2O3で置換されるAlF3のモルパー
セントに対してムライト1 モルを生成するのに要する出
発材料の化学量論的量を示す。
セントに対してムライト1 モルを生成するのに要する出
発材料の化学量論的量を示す。
表−1 置換される ムライト1 モル当たりのモル数 % AlF3の AlF3 SiO2 Al2O3 0 6.000 6.500 0 25 4.500 5.375 0.750 50 3.000 4.250 1.500 75 1.500 3.125 2.250 AlF3、SiO2およびAl2O3を正確な化学量論
的で用いると、処理中のAlF3の損失によって、ムラ
イトウイスカー中のSiO2の量が過剰になることがあ
る。これを防止するため、AlF3の過剰量を出発混合
物中において用いて、失われるAlF3を補償する。し
かしながら、余り多量のAlF3を加えると、ムライト
イウイスカー中のAl2O3の量が過剰になる。一般的
には、用いられる量を調整して、AlF3の損失量の変
動に適合させるようにすることができる。この目的は、
ムライト最終生成物中のAl2O3おびSiO2の所望
な重量百分率を達成することである。
的で用いると、処理中のAlF3の損失によって、ムラ
イトウイスカー中のSiO2の量が過剰になることがあ
る。これを防止するため、AlF3の過剰量を出発混合
物中において用いて、失われるAlF3を補償する。し
かしながら、余り多量のAlF3を加えると、ムライト
イウイスカー中のAl2O3の量が過剰になる。一般的
には、用いられる量を調整して、AlF3の損失量の変
動に適合させるようにすることができる。この目的は、
ムライト最終生成物中のAl2O3おびSiO2の所望
な重量百分率を達成することである。
本発明の方法の出発材料は、無水のAlF3、溶融Si
O2および所望ならばAl2O3であり、これらはさら
さらな粉体として均質に混合される。市販のAlF
3(99.90 %)、溶融SiO2(99.50 %)およびAl
2O3(99.99 %)を用いるのが好ましい。Al2O3
の粒度が重要であり、1 ミクロン未満であるのが好まし
く、更に好ましくは0.3 ミクロン以下であり、更に好ま
しくは0.05ミクロン以下である。例えば、第5A図およ
び第5B図に示されるように(A)0.05ミクロン以下お
よび(B)0.3 ミクロン以下のAl2O3の粒度から所
望なムライト−ウイスカーフェルトが生成した。一方、
第5C図および第5D図は、粒度が45ミクロン以上のA
l2O3では、所望なムライト−ウイスカーフェルトを
生成することができなかったことを示している。AlF
3とSiO2の粒度は、余り重要ではない。AlF3と
SiO2またはAlF3とSiO2とAl2O3とのよ
く混りあった均一な混合物は、エタノールのような適当
な不活性で揮発性の溶媒中でこれらの粉体を混合した
後、生成する混合物を乾燥することによって形成させる
ことができる。実施例において、混合物を次にコランダ
ム乳鉢と乳棒とで磨砕して、40ミクロンの篩を通して、
凝集体を粉砕した。
O2および所望ならばAl2O3であり、これらはさら
さらな粉体として均質に混合される。市販のAlF
3(99.90 %)、溶融SiO2(99.50 %)およびAl
2O3(99.99 %)を用いるのが好ましい。Al2O3
の粒度が重要であり、1 ミクロン未満であるのが好まし
く、更に好ましくは0.3 ミクロン以下であり、更に好ま
しくは0.05ミクロン以下である。例えば、第5A図およ
び第5B図に示されるように(A)0.05ミクロン以下お
よび(B)0.3 ミクロン以下のAl2O3の粒度から所
望なムライト−ウイスカーフェルトが生成した。一方、
第5C図および第5D図は、粒度が45ミクロン以上のA
l2O3では、所望なムライト−ウイスカーフェルトを
生成することができなかったことを示している。AlF
3とSiO2の粒度は、余り重要ではない。AlF3と
SiO2またはAlF3とSiO2とAl2O3とのよ
く混りあった均一な混合物は、エタノールのような適当
な不活性で揮発性の溶媒中でこれらの粉体を混合した
後、生成する混合物を乾燥することによって形成させる
ことができる。実施例において、混合物を次にコランダ
ム乳鉢と乳棒とで磨砕して、40ミクロンの篩を通して、
凝集体を粉砕した。
市販のAlF3の組成はかなり変動するものと思われ
る。それ故、AlF3の試料を秤量し、数時間600 ℃に
加熱した後、再度秤量しまたは熱重量分析に付すのが好
ましい。重量の損失は3 %未満であるのが好ましく、更
に好ましくは1.5 %未満である。用いられるAlF3の
量を増加して、測定される損失を補うべきである。
る。それ故、AlF3の試料を秤量し、数時間600 ℃に
加熱した後、再度秤量しまたは熱重量分析に付すのが好
ましい。重量の損失は3 %未満であるのが好ましく、更
に好ましくは1.5 %未満である。用いられるAlF3の
量を増加して、測定される損失を補うべきである。
本発明の方法の素地の形態は、AlF3、SiO2およ
び所望ならばAl2O3の混合物から、低温加圧、低温
アイソスタティック加圧、押出、射出成形、スリップ鋳
造などの通常の方法によって形成させることができる。
生成する素地は、細孔度が約40〜約60%である。パラフ
ィンワックスのような任意の通常の結合剤をこの方法に
用いることができる。結合剤の量は、選択される成形手
法によって変わる。例えば、ワックス約5 容量%は低温
加圧に十分であるが、射出成形には最大50容量%までの
ワックスが用いられる。また、結合剤の量および種類
は、セラミック粉末を処理するのに通常に用いられるも
のである。
び所望ならばAl2O3の混合物から、低温加圧、低温
アイソスタティック加圧、押出、射出成形、スリップ鋳
造などの通常の方法によって形成させることができる。
生成する素地は、細孔度が約40〜約60%である。パラフ
ィンワックスのような任意の通常の結合剤をこの方法に
用いることができる。結合剤の量は、選択される成形手
法によって変わる。例えば、ワックス約5 容量%は低温
加圧に十分であるが、射出成形には最大50容量%までの
ワックスが用いられる。また、結合剤の量および種類
は、セラミック粉末を処理するのに通常に用いられるも
のである。
素地を所望な形状に成形した後、焼成工程の前に結合剤
を除去する。例えば、実施例では、パラフィンワックス
結合剤を酸化性雰囲気中で300 ℃まで極めて徐々に(0.
5 〜1.0 ℃/分)加熱することによって焼却する。
を除去する。例えば、実施例では、パラフィンワックス
結合剤を酸化性雰囲気中で300 ℃まで極めて徐々に(0.
5 〜1.0 ℃/分)加熱することによって焼却する。
本発明の方法の第一の焼成段階では、素地を無水のSi
F4雰囲気中で約700 ℃〜約950 ℃で加熱して、棒様の
トパーズ結晶を形成させる。AlF3とSiO2または
AlF3とSiO2とAl2O3とを用いると、トパー
ズは反応(1) にしたがって形成される。一般的には、棒
様のトパーズ結晶を完全に形成させるには、3 〜10時間
で十分である。反応は、この反応によって発成するかま
たは外部源から供給される無水のSiF4雰囲気中で行
われる。実施例では、蓋付の鋼玉坩堝を用いて、反応に
よって発成したSiF4を閉じ込めた。坩堝の雰囲気は
最初は空気であるが、棒様のトパーズを形成する臨界的
段階の前に空気を総て置換するに十分なSiF4が反応
によって生成する。前記のTalmy らの同時係属特許出願
(米国特許出願第07/070,757号、1987年7 月6 日出願)
には、棒様のトパーズ結晶の形成に対する無水のSiF
4雰囲気の臨界状態を示す実施例とデーターが示されて
いる。無水のSiF4雰囲気は、AlF3とSiO2と
Al2O3から棒様のトパーズ結晶を形成するのにも重
要である。
F4雰囲気中で約700 ℃〜約950 ℃で加熱して、棒様の
トパーズ結晶を形成させる。AlF3とSiO2または
AlF3とSiO2とAl2O3とを用いると、トパー
ズは反応(1) にしたがって形成される。一般的には、棒
様のトパーズ結晶を完全に形成させるには、3 〜10時間
で十分である。反応は、この反応によって発成するかま
たは外部源から供給される無水のSiF4雰囲気中で行
われる。実施例では、蓋付の鋼玉坩堝を用いて、反応に
よって発成したSiF4を閉じ込めた。坩堝の雰囲気は
最初は空気であるが、棒様のトパーズを形成する臨界的
段階の前に空気を総て置換するに十分なSiF4が反応
によって生成する。前記のTalmy らの同時係属特許出願
(米国特許出願第07/070,757号、1987年7 月6 日出願)
には、棒様のトパーズ結晶の形成に対する無水のSiF
4雰囲気の臨界状態を示す実施例とデーターが示されて
いる。無水のSiF4雰囲気は、AlF3とSiO2と
Al2O3から棒様のトパーズ結晶を形成するのにも重
要である。
次に、棒様のトパーズ結晶は、無水のSiF4雰囲気中
で約1150℃〜約1700℃、好ましくは1250℃〜1350℃、最
も好ましくは約1250℃で加熱することによって、分解し
て、針様の単結晶ムライトウイスカーを形成する。棒様
のトパーズ結晶を単結晶ムライトウイスカーに完全に変
換するには、約3 〜10時間で十分である。
で約1150℃〜約1700℃、好ましくは1250℃〜1350℃、最
も好ましくは約1250℃で加熱することによって、分解し
て、針様の単結晶ムライトウイスカーを形成する。棒様
のトパーズ結晶を単結晶ムライトウイスカーに完全に変
換するには、約3 〜10時間で十分である。
また、棒様のトパーズ結晶の形成段階およびムライトウ
イスカー形成段階の両方に無水のSiF4を用いること
の重要性は、第5A、5Bおよび6図に示される。第5
Aおよび6A図は、両方の反応段階において無水のSi
F4雰囲気を用いるときに所望なムライト−ウイスカー
フェルト生成物が生成することを示している。第5B図
は、極めて小さなムライトウイスカーおよび乾燥した酸
化性雰囲気(空気)を用いるときに生成するムライト凝
集体を示す。第6Bおよび6C図は、SiF4雰囲気中
においても水の存在下(シリカゲル)において生成した
Al2O3を包含する小さめの粒度のムライトウイスカ
ーから成るフェルトを示す。
イスカー形成段階の両方に無水のSiF4を用いること
の重要性は、第5A、5Bおよび6図に示される。第5
Aおよび6A図は、両方の反応段階において無水のSi
F4雰囲気を用いるときに所望なムライト−ウイスカー
フェルト生成物が生成することを示している。第5B図
は、極めて小さなムライトウイスカーおよび乾燥した酸
化性雰囲気(空気)を用いるときに生成するムライト凝
集体を示す。第6Bおよび6C図は、SiF4雰囲気中
においても水の存在下(シリカゲル)において生成した
Al2O3を包含する小さめの粒度のムライトウイスカ
ーから成るフェルトを示す。
前記の方法は、素地を最初に焼成して棒様のトパーズ結
晶を形成させた後、焼成を行ってムライトウイスカーを
生成させることによって行うことができる。または、こ
れらの2種類の別個な焼成を単一の焼成に纏めて、温度
を約700 ℃〜約950 ℃に保持して棒様のトパーズ結晶を
形成させた後、約1150℃〜約1700℃の温度に上昇させて
ムライトウイスカーを生成させることができる。この一
焼成工程は、工業的規模での生産に一層好適であるの
で、好ましい。更に、この工程は、0.5 〜2.0 ℃/分の
遅い加熱速度で700 ℃〜950 ℃に保持することなく、室
温から1150℃〜1700℃の温度まで連続的に加熱すること
により成功裡に行うことができる。
晶を形成させた後、焼成を行ってムライトウイスカーを
生成させることによって行うことができる。または、こ
れらの2種類の別個な焼成を単一の焼成に纏めて、温度
を約700 ℃〜約950 ℃に保持して棒様のトパーズ結晶を
形成させた後、約1150℃〜約1700℃の温度に上昇させて
ムライトウイスカーを生成させることができる。この一
焼成工程は、工業的規模での生産に一層好適であるの
で、好ましい。更に、この工程は、0.5 〜2.0 ℃/分の
遅い加熱速度で700 ℃〜950 ℃に保持することなく、室
温から1150℃〜1700℃の温度まで連続的に加熱すること
により成功裡に行うことができる。
化学量論的ムライト(3Al2O3・2SiO2)は、
Al2O371.80 重量%とSiO228.20 重量%を含
む。しかしながら、許容可能な組成物は、70.50 重量%
から化学量論的ムライト固溶体中のAl2O3がAl2
O3で飽和し(Aksay とPask,Science,1974,183,69
のAl2O3−SiO2状態図によれば、Al2O3約
74重量%)、SiO2は残りの部分である点までの範囲
でAl2O3を含む。好ましい組成範囲は、Al2O3
71.80 重量%から化学量論的ムライト固溶体中のAl2
O3の飽和点(Al2O3約74重量%)までであり、S
iO2はムライトウイスカー組成物の残りの部分であ
る。この好ましい範囲は、化学量論的ムライトと化学量
論的ムライト中のAl2O3の固溶体範囲を含む。化学
量論的ムライト中のAl2O3の固溶範囲における組成
物の単結晶ムライトウイスカーは、化学量論的ムライト
ウイスカーと本質的に同じ化学的および物理的特性を有
することになる。Al2O3の更に好ましい範囲は71.8
0 〜73.00 重量%であり、71.80 〜72.00 重量%が更に
一層好ましく、単結晶ムライト組成物の残りの部分はS
iO2である。最も好ましいものは、化学量論的ムライ
トである。
Al2O371.80 重量%とSiO228.20 重量%を含
む。しかしながら、許容可能な組成物は、70.50 重量%
から化学量論的ムライト固溶体中のAl2O3がAl2
O3で飽和し(Aksay とPask,Science,1974,183,69
のAl2O3−SiO2状態図によれば、Al2O3約
74重量%)、SiO2は残りの部分である点までの範囲
でAl2O3を含む。好ましい組成範囲は、Al2O3
71.80 重量%から化学量論的ムライト固溶体中のAl2
O3の飽和点(Al2O3約74重量%)までであり、S
iO2はムライトウイスカー組成物の残りの部分であ
る。この好ましい範囲は、化学量論的ムライトと化学量
論的ムライト中のAl2O3の固溶体範囲を含む。化学
量論的ムライト中のAl2O3の固溶範囲における組成
物の単結晶ムライトウイスカーは、化学量論的ムライト
ウイスカーと本質的に同じ化学的および物理的特性を有
することになる。Al2O3の更に好ましい範囲は71.8
0 〜73.00 重量%であり、71.80 〜72.00 重量%が更に
一層好ましく、単結晶ムライト組成物の残りの部分はS
iO2である。最も好ましいものは、化学量論的ムライ
トである。
Al2O3の重量百分率が71.80 (固溶体領域の下限)
を下回ると、生成する過剰のSiO2がクリストバライ
トの形態になることがある。したがって、生成物は、化
学量論的ムライトウイスカーと幾らかのクリストバライ
トとを含んでなることになる。クリストバライトは、使
用中の熱サイクル中に実質的な容量変化を伴う可逆的相
変換を行う。更に、複合体に用いるには、ムライトがマ
トリックス材料と反応することができるクリストバライ
トを含まないことが好ましい。
を下回ると、生成する過剰のSiO2がクリストバライ
トの形態になることがある。したがって、生成物は、化
学量論的ムライトウイスカーと幾らかのクリストバライ
トとを含んでなることになる。クリストバライトは、使
用中の熱サイクル中に実質的な容量変化を伴う可逆的相
変換を行う。更に、複合体に用いるには、ムライトがマ
トリックス材料と反応することができるクリストバライ
トを含まないことが好ましい。
組成物中のAl2O3の重量百分率が化学量論的ムライ
ト溶液中のAl2O3の飽和点(Al2O3約74.0%)
を超過すると、生成物はムライトウイスカーとマトリッ
クス材料と反応することができる有利Al2O3を含ん
で成り、複合体の特性を劣化させる。このため、Al2
O3の重量百分率の上限は約74.0重量%(化学量論的ム
ライト中のAl2O3の飽和点)であり、残りはSiO
2である。
ト溶液中のAl2O3の飽和点(Al2O3約74.0%)
を超過すると、生成物はムライトウイスカーとマトリッ
クス材料と反応することができる有利Al2O3を含ん
で成り、複合体の特性を劣化させる。このため、Al2
O3の重量百分率の上限は約74.0重量%(化学量論的ム
ライト中のAl2O3の飽和点)であり、残りはSiO
2である。
AlF2−SiO2およびAlF3−Al2O3−Si
O2混合物から製造される最終的な硬質ムライトウイス
カーウェルトは、通常はムライトの理論的密度の約15〜
約25%の密度を有する。すなわち、これらのフェルトの
細孔度は、約85〜約75%である。このフェルトは、元の
素地と同じ形状のもので、線変化が約1.5 %以下のもの
となる。第1A、1Bおよび1C図は、無水のSiF4
雰囲気中でそれぞれ1250℃、1400℃および1550℃で焼成
したAlF3とSiO2の混合物からのムライト−ウイ
スカーフェルトの構造を示す。このフェルトは、ランダ
ムに(三次元的に)配向しかつ均一に分布したムライト
ウイスカーであって、機械的に結合して、硬質フェルト
構造を形成するものから成る。第2A、2B、2Cおよ
び2D図は、AlF3の(A)0 、(B)25、(C)50
および(D)75%を出発材料中のAl2O3に代えたと
きに生成するムライト−ウイスカーフェルトの構造を示
す。フェルト中のムライトウイスカーの粒度は、Al2
O3による置換が増加すると共に次第に減少する。した
がって、本発明の方法は、出発材料組成物中における変
化によってフェルトの構造および特性を改良することが
できる。この方法を行おうとする場合にも、AlF3の
75%までしかAl2O3によって置換することができな
いことに留意されたい。
O2混合物から製造される最終的な硬質ムライトウイス
カーウェルトは、通常はムライトの理論的密度の約15〜
約25%の密度を有する。すなわち、これらのフェルトの
細孔度は、約85〜約75%である。このフェルトは、元の
素地と同じ形状のもので、線変化が約1.5 %以下のもの
となる。第1A、1Bおよび1C図は、無水のSiF4
雰囲気中でそれぞれ1250℃、1400℃および1550℃で焼成
したAlF3とSiO2の混合物からのムライト−ウイ
スカーフェルトの構造を示す。このフェルトは、ランダ
ムに(三次元的に)配向しかつ均一に分布したムライト
ウイスカーであって、機械的に結合して、硬質フェルト
構造を形成するものから成る。第2A、2B、2Cおよ
び2D図は、AlF3の(A)0 、(B)25、(C)50
および(D)75%を出発材料中のAl2O3に代えたと
きに生成するムライト−ウイスカーフェルトの構造を示
す。フェルト中のムライトウイスカーの粒度は、Al2
O3による置換が増加すると共に次第に減少する。した
がって、本発明の方法は、出発材料組成物中における変
化によってフェルトの構造および特性を改良することが
できる。この方法を行おうとする場合にも、AlF3の
75%までしかAl2O3によって置換することができな
いことに留意されたい。
本発明の成形した硬質のムライト−ウイスカーフェルト
は、断熱剤としてまたはセラミック−マトリックスおよ
び金属−マトリックス複合体のプレフォームとして有用
である。
は、断熱剤としてまたはセラミック−マトリックスおよ
び金属−マトリックス複合体のプレフォームとして有用
である。
セラミック−マトリックス材料または金属−マトリック
ス材料の範囲は、複合体の0 容量%を上回る範囲から約
85容量%までである。セラミック−マトリックスまたは
金属−マトリックス材料の容量%とムライト−ウイスカ
ーウェルトの容量%の和が100 未満であるときには、そ
の差が細孔度である。
ス材料の範囲は、複合体の0 容量%を上回る範囲から約
85容量%までである。セラミック−マトリックスまたは
金属−マトリックス材料の容量%とムライト−ウイスカ
ーウェルトの容量%の和が100 未満であるときには、そ
の差が細孔度である。
ムライト−ウイスカーフェルト/金属マトリックス複合
体は、溶融金属または合金の硬質ムライト−ウイスカー
フェルトの加圧または真空浸潤のような通常の技法によ
って製造することができる。ムライトと相溶性の任意の
金属または合金を、マトリックスとして用いることがで
きる。好ましい金属マトリックス材料には、アルミニウ
ム、マグネシウム、アルミニウムを基材とした合金およ
びマグネシウムを基材とした合金が挙げられる。
体は、溶融金属または合金の硬質ムライト−ウイスカー
フェルトの加圧または真空浸潤のような通常の技法によ
って製造することができる。ムライトと相溶性の任意の
金属または合金を、マトリックスとして用いることがで
きる。好ましい金属マトリックス材料には、アルミニウ
ム、マグネシウム、アルミニウムを基材とした合金およ
びマグネシウムを基材とした合金が挙げられる。
ムライト−ウイスカーフェルト/セラミックマトリック
ス複合体は、通常の技法によって製造することができ
る。例てば、気相セラミック−マトリックス前駆体を、
化学蒸着または化学蒸着浸潤法に用いることができる。
更に溶融物またなゾル−ゲル形態の液相セラミック−マ
トリックス前駆体をムライト−ウイスカーフェルトプレ
フォームへ加圧または真空含浸した後、セラミック−マ
トリックス材料へ転換させることができる。セラミック
スリップは、用いることができるもう一つの通常の技法
である。
ス複合体は、通常の技法によって製造することができ
る。例てば、気相セラミック−マトリックス前駆体を、
化学蒸着または化学蒸着浸潤法に用いることができる。
更に溶融物またなゾル−ゲル形態の液相セラミック−マ
トリックス前駆体をムライト−ウイスカーフェルトプレ
フォームへ加圧または真空含浸した後、セラミック−マ
トリックス材料へ転換させることができる。セラミック
スリップは、用いることができるもう一つの通常の技法
である。
ムライトと相溶性の任意のセラミック材料を用いてもよ
い。このセラミック材料は、オキシドセラミックまたは
非オキシドセラミックであることができる。好ましいオ
キシドセラミックには、ジルコン、ムライト、アルミ
ナ、コージライト、酸化クロム、酸化チタンおよびシリ
カが挙げられる。好ましい非オキシドセラミックには、
炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウムおよび窒化
ホウ素が挙げられる。
い。このセラミック材料は、オキシドセラミックまたは
非オキシドセラミックであることができる。好ましいオ
キシドセラミックには、ジルコン、ムライト、アルミ
ナ、コージライト、酸化クロム、酸化チタンおよびシリ
カが挙げられる。好ましい非オキシドセラミックには、
炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウムおよび窒化
ホウ素が挙げられる。
相溶性のセラミックマトリックスと金属マトリックス材
料の組み合わせを用いることもできる。
料の組み合わせを用いることもできる。
下記の実施例に記載されている本発明の一般的性状を、
その具体的例示として挙げる。本発明はこれらの特殊な
実施例に限定されるものではなく、当該技術において通
常の技術を有する者によって認められる各種の改良が可
能であることが理解されるであろう。
その具体的例示として挙げる。本発明はこれらの特殊な
実施例に限定されるものではなく、当該技術において通
常の技術を有する者によって認められる各種の改良が可
能であることが理解されるであろう。
実施例1 AlF3(Atomergic Chemetals Corp.、99.9%)1.26
gと溶融SiO2(Thermo Materials)、99.5%)0.91
gの混合物をエタノール中で十分に混合した後、55〜60
℃で真空オーブン中で乾燥した。0.22gの量(一時的結
合剤としての)ワックスをシクロヘキサンに溶解して、
混合物に加えた。混合物を55〜60℃で乾燥して(溶媒を
蒸発させ)、コランダム乳鉢と乳棒とで磨砕した後、40
μmの篩を通して整粒した。次いで、生成する粉体を25
MPaで鋼性ダイ中でプレスして、5 x 5 x 50mmの棒を成
形した。ワックスを酸化性雰囲気中で0.5 ℃/分で300
℃まで加熱して、この温度に1時間保持して焼却した。
棒(1回に5、6本)を、蓋付のコランダム坩堝(85ml
容量)中で焼成した。これらの棒を、炉中で2 ℃/分の
温度勾配で1250℃まで加熱してこの温度に5時間保持し
て焼成した。1400および1500まで加熱しての最終温度に
5時間保持して焼成することによって、更に2回の実験
を行った。X線回折および走査型電子顕微鏡(SEM)
によって評価を行ったところ、生成物は第1A、1Bお
よび1C図に示されるように化学量論的針様ムライトか
ら成ることを示した。フェルトの寸法変化、細孔度およ
び曲げ強さを測定して、表−2に纏める。
gと溶融SiO2(Thermo Materials)、99.5%)0.91
gの混合物をエタノール中で十分に混合した後、55〜60
℃で真空オーブン中で乾燥した。0.22gの量(一時的結
合剤としての)ワックスをシクロヘキサンに溶解して、
混合物に加えた。混合物を55〜60℃で乾燥して(溶媒を
蒸発させ)、コランダム乳鉢と乳棒とで磨砕した後、40
μmの篩を通して整粒した。次いで、生成する粉体を25
MPaで鋼性ダイ中でプレスして、5 x 5 x 50mmの棒を成
形した。ワックスを酸化性雰囲気中で0.5 ℃/分で300
℃まで加熱して、この温度に1時間保持して焼却した。
棒(1回に5、6本)を、蓋付のコランダム坩堝(85ml
容量)中で焼成した。これらの棒を、炉中で2 ℃/分の
温度勾配で1250℃まで加熱してこの温度に5時間保持し
て焼成した。1400および1500まで加熱しての最終温度に
5時間保持して焼成することによって、更に2回の実験
を行った。X線回折および走査型電子顕微鏡(SEM)
によって評価を行ったところ、生成物は第1A、1Bお
よび1C図に示されるように化学量論的針様ムライトか
ら成ることを示した。フェルトの寸法変化、細孔度およ
び曲げ強さを測定して、表−2に纏める。
実施例2 アルミナ(0.05μm、Buehler )を、表−2の比率にし
たがって最大75%までの量でAlF3の代わりに用い
た。エタノール中で十分に混合した後、55〜60℃の真空
オーブン中で乾燥することによって、混合物を調整し
た。(一時的な結合剤としての)0.22gの量のワックス
をシクロヘキサンに溶解して、混合物に加えた。次に、
混合物を55〜60℃で乾燥して(溶媒を蒸発させ)、コラ
ンダム製乳鉢と乳棒で磨砕し、40μmの篩を通して整粒
した。次に、生成する粉体を25 MPaで鋼製ダイ中でプレ
スして、5 x 5 x 50mmの棒を成形した。酸化性雰囲気中
で0.5℃/分で300℃まで加熱して1時間保持することに
よって、ワックスを焼却した。次いで、棒(1度に5〜
6本)を、蓋付のコランダム製坩堝(85ml容量)中で焼
成した。これらの棒を2 ℃/分の温度勾配で1250℃まで
加熱し、この温度に4時間保持した後、5 ℃/分の温度
勾配で1550℃まで加熱し、この温度に5時間保持するこ
とによって、焼成した。X線回折及び走査型電子顕微鏡
(SEM)によって評価を行ったところ、第2A、2
B、2Cおよび2D図示されるように、生成物は化学量
論的針様ムライトから成ることを示した。AlF3に代
わるAl2O3の量が増加すると、フェルト中のウイス
カーの寸法は減少する。フエルトの寸法変化、細孔度お
よび曲げ強さを測定して、表−3に纏める。
たがって最大75%までの量でAlF3の代わりに用い
た。エタノール中で十分に混合した後、55〜60℃の真空
オーブン中で乾燥することによって、混合物を調整し
た。(一時的な結合剤としての)0.22gの量のワックス
をシクロヘキサンに溶解して、混合物に加えた。次に、
混合物を55〜60℃で乾燥して(溶媒を蒸発させ)、コラ
ンダム製乳鉢と乳棒で磨砕し、40μmの篩を通して整粒
した。次に、生成する粉体を25 MPaで鋼製ダイ中でプレ
スして、5 x 5 x 50mmの棒を成形した。酸化性雰囲気中
で0.5℃/分で300℃まで加熱して1時間保持することに
よって、ワックスを焼却した。次いで、棒(1度に5〜
6本)を、蓋付のコランダム製坩堝(85ml容量)中で焼
成した。これらの棒を2 ℃/分の温度勾配で1250℃まで
加熱し、この温度に4時間保持した後、5 ℃/分の温度
勾配で1550℃まで加熱し、この温度に5時間保持するこ
とによって、焼成した。X線回折及び走査型電子顕微鏡
(SEM)によって評価を行ったところ、第2A、2
B、2Cおよび2D図示されるように、生成物は化学量
論的針様ムライトから成ることを示した。AlF3に代
わるAl2O3の量が増加すると、フェルト中のウイス
カーの寸法は減少する。フエルトの寸法変化、細孔度お
よび曲げ強さを測定して、表−3に纏める。
実施例3 蓋なしで材料で酸化性雰囲気に暴露されていたことを除
き、実施例1と同様にして、1.28gのAlF3と0.92g
の溶融SiO2の混合物を調製し、プレスし、焼成し
た。X線回折とSEMにより検討を行ったところ、生成
物は第5B図に示されるムライトウイスカーおよびムラ
イト凝集体から成ることを示した。
き、実施例1と同様にして、1.28gのAlF3と0.92g
の溶融SiO2の混合物を調製し、プレスし、焼成し
た。X線回折とSEMにより検討を行ったところ、生成
物は第5B図に示されるムライトウイスカーおよびムラ
イト凝集体から成ることを示した。
実施例4 1.28gのAlF3と(溶融SiO2の代わりに)0.92g
SiO2ゲルの混合物を、出発材料として用いた。Si
O2ゲルはテトラエチルオルトシリケート(TEOS)
(Stauffer Chemical Co.、40.95 %SiO2)を用い
て調製した。TEOSをエタノールで1:1の容量比に
希釈した。溶液を水性のAlF3懸濁液に加えた。アン
モニウム(NH4OH)を、攪拌しながら滴下して加え
たところ、TEOSの加水分解の結果として混合物は増
粘した。次いで、混合物を真空オーブン中で55〜60℃で
乾燥した。混合物をプレスした後、実施例1と同様にし
て1250℃まで5時間焼成した。X線回折およびSEMに
よって検討したところ(例えば、第6図参照)、生成物
はアルミナを含むムライトウイスカーから成ることを示
した。
SiO2ゲルの混合物を、出発材料として用いた。Si
O2ゲルはテトラエチルオルトシリケート(TEOS)
(Stauffer Chemical Co.、40.95 %SiO2)を用い
て調製した。TEOSをエタノールで1:1の容量比に
希釈した。溶液を水性のAlF3懸濁液に加えた。アン
モニウム(NH4OH)を、攪拌しながら滴下して加え
たところ、TEOSの加水分解の結果として混合物は増
粘した。次いで、混合物を真空オーブン中で55〜60℃で
乾燥した。混合物をプレスした後、実施例1と同様にし
て1250℃まで5時間焼成した。X線回折およびSEMに
よって検討したところ(例えば、第6図参照)、生成物
はアルミナを含むムライトウイスカーから成ることを示
した。
本発明の数多くの改良および変更は、前記の教示の観点
から可能であることは明らかである。それ故、請求の範
囲の範囲内で本明細書に具体的に記載したのとは別の方
法で実施することができることを理解すべきである。
から可能であることは明らかである。それ故、請求の範
囲の範囲内で本明細書に具体的に記載したのとは別の方
法で実施することができることを理解すべきである。
Claims (29)
- 【請求項1】(1) 化学量論的ムライトを生成するように
選択された量のAlF3と溶融SiO2粉体とのよく混
りあった均一な混合物から素地を形成させ、 (2) 約700 ℃〜約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの素地を加熱して、AlF3をSiO2と反応さ
せて棒様のトパーズ結晶を形成させ、 (3) 約1150℃〜約1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの態様のトパーズ結晶を加熱して、この棒様のト
パーズ結晶を多孔性で硬質のフェルト構造を形成する針
様の単結晶ムライトウイスカーに変換させる、 工程を順に含んで成る、硬質のムライト−ウイスカーフ
ェルト成形体を形成する方法。 - 【請求項2】工程(1) に用いられるAlF3と溶融Si
O2粉体を、 (a) AlF3のSiO2に対するモル比が12:13であ
り、 (b) 工程(2) 中の蒸発によるAlF3の損失を補償する
若干過剰量のAlF3 を提供するように選択された量で混合物する、請求の範
囲第1項に記載の方法。 - 【請求項3】工程(1) の素地の細孔度が約40〜約60容量
%である、請求の範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項4】工程(3) で用いられる温度が1250℃〜1350
℃である、請求の範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項5】工程(2) を下記の工程(2) : (2) 無水のSiF4雰囲気中で、室温から約1150℃〜約
1700℃の温度まで0.5 〜2.0 ℃/分の加熱速度で素地を
加熱する、 によって置き換える、請求の範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項6】AlF3と溶融SiO2の粒度が45ミクロ
ン未満である、請求の範囲第1項に記載の方法。 - 【請求項7】AlF3と溶融SiO2の粒度が30ミクロ
ン以下である、請求の範囲第6項に記載の方法。 - 【請求項8】(1)70.50重量%から化学量論的ムライト中
にAl2O3の飽和溶液を生成する量までの量でAl2
O3を含み、SiO2がムライトの残りであるムライト
−ウイスカーフェルトを生成させるように選択された量
のAlF3とAl2O3と溶融SiO2粉体とのよく混
りあった均一な混合物から素地を形成させ(但し、Al
の0 %を上回り75%まではAl2O3によって供給さ
れ、残りはAlF3によって供給される)、 (2) 約700 ℃〜約950 ℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの素地を加熱して、AlF3とSiO2とAl2
O3とを反応させて棒様のトパーズ結晶を形成させ、 (3) 約1150℃〜約1700℃の温度で無水のSiF4雰囲気
中でこの棒様のトパーズ結晶を加熱して、この棒様のト
パーズ結晶を多孔性で硬質のフェルト構造を形成する針
様の単結晶ムライトウイスカーに変換させる、 工程を順に含んで成る、硬質のムライト−ウイスカーフ
ェルト形成体を形成する方法。 - 【請求項9】AlF3とAl2O3と溶融SiO2と
を、71.80 重量%から化学量論的ムライト中にAl2O
3の飽和溶液を生成する量までの量でAl2O3を含
み、SiO2がムライトウイスカーフェルトの残りであ
るムライト−ウイスカーフェルトを生成させるように選
択された量で用いる、請求の範囲第8項に記載の方法。 - 【請求項10】AlF3とAl2O3と溶融SiO2と
を、71.80 重量%から73.00 重量%のAl2O3とSi
O2が残りであるムライトウイスカーフェルトを生成さ
せるように選択された量で用いる、請求の範囲第9項に
記載の方法。 - 【請求項11】AlF3とAl2O3と溶融SiO2と
を、71.80 重量%から72.00 重量%のAl2O3とSi
O2が残りであるムライトウイスカーフェルトを生成さ
せるように選択された量で用いる、請求の範囲第9項に
記載の方法。 - 【請求項12】AlF3とAl2O3と溶融SiO2と
を、化学量論的ムライトウイスカーを生成させるように
選択された量で用いる、請求の範囲第11項に記載の方
法。 - 【請求項13】工程(1) の素地の細孔度が約40〜約60容
量%である、請求の範囲第8項に記載の方法。 - 【請求項14】工程(3) で用いられる温度が1250℃〜13
50℃である、請求の範囲第8項に記載の方法。 - 【請求項15】工程(2) を下記の工程(2) : (2) 無水のSiF4雰囲気中で、室温から約1150℃〜約
1700℃の温度まで0.5 〜2.0 ℃/分の加熱速度で素地を
加熱する、 によって置き換える、請求の範囲第8項に記載の方法。 - 【請求項16】AlF3とAl2O3と溶融SiO2の
粒度が45ミクロン未満である、請求の範囲第8項に記載
の方法。 - 【請求項17】AlF3とAl2O3と溶融SiO2と
の粒度が30ミクロン以下である、請求の範囲第16項に
記載の方法。 - 【請求項18】均一に分布されかつランダムに三次元的
に配向され、かつ、機械的に結合して結合剤なしでその
形状を保持することが可能な硬質なフェルト構造を形成
する単結晶ムライトウイスカーであって、ムライトが化
学量論的ムライトの量から化学量論的ムライト中のAl
2O3の飽和溶液を生成する量までの量でAl2O3を
含み、SiO2が残りであることを特徴とする、硬質の
ムライト−ウイスカーフェルト構造物。 - 【請求項19】細孔度が約75〜約85%である、請求項の
範囲第18項に記載のムライトウイスカーフェルト構造
物。 - 【請求項20】ムライトが化学量論的ムライトである、
請求の範囲第18項に記載の硬質のムライト−ウイスカ
ーフェルト構造物。 - 【請求項21】ムライト−ウイスカーフェルトが71.80
〜73.00 重量%を含み、残りがSiO2である、請求の
範囲第18項に記載の硬質のムライト−ウイスカーフェ
ルト構造物。 - 【請求項22】ムライト−ウイスカーフェルトが71.80
〜72.00 重量%を含み、残りがSiO2である、請求の
範囲第20項に記載の硬質のムライト−ウイスカーフェ
ルト構造物。 - 【請求項23】(1) 均一に分布されかつランダムに三次
元的に配向され、かつ、機械的に結合して結合剤なしで
その形状を保持することが可能な強固で硬質なフェルト
構造を形成する単結晶ムライトウイスカー約15〜約25容
量%(但し、ムライトが (a) 化学量論的ムライトと、 (b) 化学量論的ムライト中のAl2O3の固溶体とから
成る群から選択されるものである)と、 (2) 金属マトリックスを0 容量%を上回り約85容量%ま
でとを 含んで成り、但し単結晶ムライトウイスカーフェルトの
容量%と金属マトリックスの容量%との和は100 を超過
しない、硬質のムライトウイスカーフェルト/金属マト
リックス複合体構造物。 - 【請求項24】金属がアルミニウム、マグネシウム、ア
ルミニウムを基材とする合金、およびマグネシウムを基
材とする合金から成る群から選択される、請求の範囲第
23項に記載の硬質のムライトウイスカーフェルト/金
属マトリックス複合体構造物。 - 【請求項25】(1) 均一に分布されかつ無作為に三次元
的に配向され、かつ機械的に結合して結合剤なしでその
形状を保持することが可能な強固で硬質なフェルト構造
を形成する単結晶ムライトウイスカー約15〜約25容量%
(但し、ムライトが (a) 化学量論的ムライトと、 (b) 化学量論的ムライト中のAl2O3の固溶体とから
成る群から選択されるものである)と、 (2) セラミックマトリックスを0 容量%を上回り約85容
量%までとを 含んで成り、但し単結晶ムライトウイスカーフェルトの
容量%とセラミックマトリックスの容量%との和は100
を超過しない、硬質のムライトウイスカーフェルト/セ
ラミックマトリックス複合体構造物。 - 【請求項26】セラミックがオキシドセラミックであ
る、請求の範囲第25項に記載の硬質のムライトウイス
カーフェルト/セラミックマトリックス複合体構造物。 - 【請求項27】オキシドセラミックがジルコン、ムライ
ト、アルミナ、コージライト、酸化クロム、およびシリ
カから成る群から選択される、請求の範囲第26項に記
載の硬質のムライトウイスーフェルト/セラミックマト
リックス複合体構造物。 - 【請求項28】セラミックが非オキシドセラミックであ
る、請求の範囲第25項に記載の硬質のムライトウイス
カーフェルト/セラミックマトリックス複合体構造物。 - 【請求項29】非オキシドセラミックが、炭化ケイ素、
窒化ケイ素、窒化アルミニウムおよび窒化ホウ素から成
る群から選択される、請求の範囲第28項に記載の硬質
のムライトウイスカーフェルト/セラミックマトリック
ス複合体構造物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US229,517 | 1988-08-05 | ||
US07/229,517 US4948766A (en) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | Rigid mullite=whisker felt and method of preparation |
PCT/US1989/003175 WO1990001471A1 (en) | 1988-08-05 | 1989-07-26 | Method of preparing rigid mullite-whisker felt |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03504848A JPH03504848A (ja) | 1991-10-24 |
JPH0633193B2 true JPH0633193B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=22861580
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1508238A Expired - Lifetime JPH0633193B2 (ja) | 1988-08-05 | 1989-07-26 | 硬質ムライト―ウィスカーフェルトの製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4948766A (ja) |
EP (1) | EP0428565A4 (ja) |
JP (1) | JPH0633193B2 (ja) |
WO (1) | WO1990001471A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0754659A1 (en) * | 1995-07-18 | 1997-01-22 | Nichias Corporation | Porous inorganic material and metal-matrix composite material containing the same and process therefor |
JP2014518193A (ja) * | 2011-07-06 | 2014-07-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 多孔質針状ムライト体の製造方法 |
Families Citing this family (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA2020453A1 (en) * | 1989-07-28 | 1991-01-29 | Bulent O. Yavuz | Thermal shock and creep resistant porous mullite articles |
US5340516A (en) * | 1989-07-28 | 1994-08-23 | Engelhard Corporation | Thermal shock and creep resistant porous mullite articles prepared from topaz and process for manufacture |
US5252272A (en) * | 1989-07-28 | 1993-10-12 | Engelhard Corporation | Thermal shock and creep resistant porous mullite articles prepared from topaz and process for manufacture |
JPH06504517A (ja) * | 1990-12-21 | 1994-05-26 | ザ・ダウ・ケミカル・カンパニー | ムライトウイスカ網状組織の製造および使用 |
US5098455A (en) * | 1990-12-21 | 1992-03-24 | The Dow Chemical Company | Regenerable exhaust gas filter element for diesel engines |
US6306335B1 (en) | 1999-08-27 | 2001-10-23 | The Dow Chemical Company | Mullite bodies and methods of forming mullite bodies |
DE60037205T2 (de) | 1999-12-23 | 2008-10-02 | Dow Global Technologies, Inc., Midland | Katalytische vorrichtungen |
ATE498598T1 (de) | 2001-04-23 | 2011-03-15 | Dow Global Technologies Inc | Verfahren zur herstellung eines monolithischen wanddurchflussfilters |
KR100965042B1 (ko) * | 2002-03-25 | 2010-06-21 | 다우 글로벌 테크놀로지스 인크. | 멀라이트체 및 멀라이트체의 형성 방법 |
CN101164965B (zh) * | 2003-04-24 | 2012-09-26 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 改善的多孔莫来石体及其制备方法 |
US7485594B2 (en) * | 2005-10-03 | 2009-02-03 | Dow Global Technologies, Inc. | Porous mullite bodies and methods of forming them |
CN1303037C (zh) * | 2005-10-18 | 2007-03-07 | 山东大学 | 一种莫来石晶须的制备方法 |
US20080095690A1 (en) * | 2006-10-24 | 2008-04-24 | Wei Liu | Nano-sized needle crystal mullite film and method of making |
RU2346971C2 (ru) * | 2006-12-27 | 2009-02-20 | Шлюмбергер Текнолоджи Б.В. | Проппант, способ его получения и способ его применения |
US8820028B2 (en) * | 2007-03-30 | 2014-09-02 | Certainteed Corporation | Attic and wall insulation with desiccant |
RU2011115066A (ru) | 2008-09-18 | 2012-10-27 | ДАУ ГЛОБАЛ ТЕКНОЛОДЖИЗ ЭлЭлСи (US) | Способ изготовления пористых муллит-содержащих композитов |
WO2011005535A1 (en) | 2009-06-22 | 2011-01-13 | Dow Global Technologies, Inc. | Ceramic-polymer composites |
EP2585782A1 (en) | 2010-06-25 | 2013-05-01 | Dow Global Technologies LLC | Drying method for ceramic green ware |
CN101935877B (zh) * | 2010-09-03 | 2012-05-23 | 昆明理工大学 | 一种常压烧结合成莫来石晶须的方法 |
US8999872B2 (en) | 2011-03-29 | 2015-04-07 | Dow Global Technologies Llc | Method for making porous mullite-tialite composites |
US9090510B2 (en) | 2011-05-12 | 2015-07-28 | Dow Global Technologies Llc | Mullite body and method of forming the mullite body |
CN103764357B (zh) | 2011-08-26 | 2016-11-09 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 制备陶瓷体的改进方法 |
WO2013096113A1 (en) | 2011-12-19 | 2013-06-27 | Dow Global Technologies Llc | Improved method and apparatus for preparing ceramic body segments |
CA2809479A1 (en) | 2012-03-30 | 2013-09-30 | Certainteed Corporation | Roofing composite including dessicant and method of thermal energy management of a roof by reversible sorption and desorption of moisture |
JP6196301B2 (ja) | 2012-06-28 | 2017-09-13 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | セラミック・フィルタの配列を結合するプロセス |
KR20150042789A (ko) | 2012-08-16 | 2015-04-21 | 다우 글로벌 테크놀로지스 엘엘씨 | 고다공성 세라믹 물질의 제조 방법 |
DE112013005049T5 (de) | 2012-10-19 | 2015-08-06 | Dow Global Technologies Llc | Vorrichtung, System und Verfahren zum Heben und Bewegen formbarer und/oder faltbarer Teile |
CN104870400A (zh) | 2012-12-05 | 2015-08-26 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 具有改进的热稳定性的多孔莫来石体 |
CN104837789B (zh) | 2012-12-05 | 2017-05-24 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 具有改进的热稳定性的多孔莫来石体 |
CN103342566A (zh) * | 2013-07-10 | 2013-10-09 | 武汉科技大学 | 一种以托帕石为原料的莫来石耐火骨料及其制备方法 |
JP6750815B2 (ja) * | 2015-09-10 | 2020-09-02 | 国立大学法人信州大学 | アルミナ繊維、アルミナ繊維シート、アルミナ繊維−有機樹脂複合シート、及びアルミナ繊維の製造方法 |
CN110357655B (zh) * | 2019-07-23 | 2021-09-14 | 武汉理工大学 | 一种仿生结构碳化硅基多孔陶瓷及其制备方法 |
CN112047726A (zh) * | 2020-09-02 | 2020-12-08 | 上海交通大学 | 定向凝固用莫来石晶须增强铝基陶瓷型芯制备方法 |
CN116589269A (zh) * | 2023-04-19 | 2023-08-15 | 福建省云智新材料科技有限公司 | 一种莫来石晶须的制备方法与应用 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2555933A2 (fr) * | 1983-12-01 | 1985-06-07 | Ceraver | Procede de fabrication d'une structure composite renforcee en matiere ceramique |
US4911902A (en) * | 1987-07-06 | 1990-03-27 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Mullite whisker preparation |
-
1988
- 1988-08-05 US US07/229,517 patent/US4948766A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-26 EP EP19890908752 patent/EP0428565A4/en not_active Withdrawn
- 1989-07-26 JP JP1508238A patent/JPH0633193B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-26 WO PCT/US1989/003175 patent/WO1990001471A1/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0754659A1 (en) * | 1995-07-18 | 1997-01-22 | Nichias Corporation | Porous inorganic material and metal-matrix composite material containing the same and process therefor |
JP2014518193A (ja) * | 2011-07-06 | 2014-07-28 | ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー | 多孔質針状ムライト体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0428565A1 (en) | 1991-05-29 |
JPH03504848A (ja) | 1991-10-24 |
WO1990001471A1 (en) | 1990-02-22 |
US4948766A (en) | 1990-08-14 |
EP0428565A4 (en) | 1991-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0633193B2 (ja) | 硬質ムライト―ウィスカーフェルトの製造法 | |
US4910172A (en) | Preparation of mullite whiskers from AlF3, SiO2, and Al2 O3 powders | |
US4756895A (en) | Hexagonal silicon carbide platelets and preforms and methods for making and using same | |
US6506502B2 (en) | Reinforcement preform and metal matrix composites including the reinforcement preform | |
US4981665A (en) | Hexagonal silicon carbide platelets and preforms and methods for making and using same | |
US5202105A (en) | Method for making hexagonal silicon carbide platelets with the addition of a growth additive | |
JP3094148B2 (ja) | 軽量耐火物の製造方法 | |
US5972489A (en) | Porous inorganic material and metal-matrix composite material containing the same and process therefor | |
JPH02296771A (ja) | 複合セラミックスとその製造方法 | |
US5002905A (en) | Hexagonal silicon carbide platelets and preforms and methods for making and using same | |
JPH03183641A (ja) | 酸素―窒素ガラス組成物、その先駆物質並びにガラス質セラミック及び複合材料の調製へのその応用 | |
Choi et al. | Carbothermic synthesis of monodispersed spherical Si3N4/SiC nanocomposite powder | |
JPH0615421B2 (ja) | ムライト焼結体の製造方法 | |
JPH0218311A (ja) | 六方晶系炭化珪素プレートレットおよびプレフォーム並びにその製造および利用法 | |
JP3228890B2 (ja) | 多孔質無機材料の製造法 | |
AU614495B2 (en) | Production of ceramic articles incorporating porous filler material | |
US6844281B2 (en) | Reinforcement preform for metal matrix composites | |
JPH06100358A (ja) | ムライト質焼結体の製造方法 | |
JP2614045B2 (ja) | チタン酸アルカリ金属繊維強化複合材料の製造方法 | |
JPH0930872A (ja) | 多孔質無機材料およびその製造法 | |
JPH0818875B2 (ja) | 窒化珪素焼結体の製造方法 | |
JPH03265600A (ja) | ムライトウィスカーの製造方法 | |
JPS603032B2 (ja) | 炭化珪素焼結体の製造方法 | |
JPH0818876B2 (ja) | 窒化珪素焼結体の製造方法 | |
JPH0461833B2 (ja) |