JPH06331705A - マルチチップ半導体装置 - Google Patents

マルチチップ半導体装置

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JPH06331705A
JPH06331705A JP14008393A JP14008393A JPH06331705A JP H06331705 A JPH06331705 A JP H06331705A JP 14008393 A JP14008393 A JP 14008393A JP 14008393 A JP14008393 A JP 14008393A JP H06331705 A JPH06331705 A JP H06331705A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 マルチチップ半導体装置に搭載された複数の
半導体チップの各々に対してオープンテストを可能にす
ること。 【構成】 基板2に搭載された各半導体チップ1−1、
1−2には、内部回路に接続された入出力パッドP1
2 、この入出力パッドに接続されたスイッチングトラ
ンジスタQn4、Qn6、このスイッチングトランジスタを
制御するための付加的入出力パッドP3 、P4 を設けて
いる。他方、基板2には、各半導体チップ1−1、1−
2の入出力パッドP1 、P2 に接続された入出力パッド
1'、P2'、各半導体チップの付加的入出力パッド
3 、P4 に接続された付加的入出力パッドP3'、
4'、これら入出力パッドに接続された入出力ピンT1
及び付加的入出力パッドに接続されたテストピンT3
4 を設けている。各テストピンT3、T4 の電圧によ
りスイッチングトランジスタをオン、オフすることによ
って半導体チップ1−1、1−2を個々に活性化、非活
性化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は複数の半導体チップを1
つの基板に搭載したマルチチップ半導体装置、特に、各
半導体チップのテスト機能の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】まず、シングルチップ(MOS)半導体
装置を図5を参照して説明する。すなわち、1つの半導
体チップ1が1つの基板(パッケージ)2に搭載されて
いる。半導体チップ1においては入出力パッドP1 がP
チャネルトランジスタQP1及びNチャネルトランジスタ
n1よりなる入力バッファに接続され、この場合、入出
力パッドP1 と入力バッファ(QP1、Qn1)との間に
は、過電圧(過大電圧、過小電圧)に対する保護ダイオ
ードQP2、Qn2が接続されている。保護ダイオードQP2
はソース−ゲート間が接続されたPチャネルトランジス
タであり、従って、入出力パッドP1 の電圧がVCC+
|Vthp |(Vthp はPチャネルトランジスタのしきい
値電圧)より大きくなったときに保護ダイオードQP2
オンとなって入出力パッドP1 の電圧(つまり、入力バ
ッファ(QP1、Qn1)の入力電圧)が高電圧になるのを
防止する。他方、保護ダイオードQn2はソース−ゲート
間が接続されたNチャネルトランジスタであり、従っ
て、入出力パッドP1 の電圧がGND−Vthn (Vthn
はNチャネルトランジスタのしきい値電圧)より小さく
なったときに保護ダイオードQn2がオンとなって入出力
パッドP1 の電圧(つまり、入力バッファ(QP1
n1)の入力電圧)が低電圧になるのを防止する。この
半導体チップ1の入出力パッドP1 はボンディングワイ
ヤW1 によって基板2の入出力パッドP1'に接続され、
さらに、この入出力パッドP1'は内部配線C1 によって
入出力ピンT1 に接続されている。
【0003】また、半導体チップ1においては、Pチャ
ネルトランジスタQP3及びNチャネルトランジスタQn3
よりなる出力バッファが入出力パッドP2 に接続されて
いる。この半導体チップ1の入出力パッドP2'はボンデ
ィングワイヤW2 によって基板2の入出力パッドP2'に
接続され、さらに、この入出力パッドP2'は内部配線C
2 によって入出力ピンT2 に接続されている。なお、出
力バッファ(QP3、Qn3)にも、保護ダイオードが等価
的に存在する。つまり、図6に示すごとく、CMOS構
造の場合には、P- 半導体基板に電源電圧GNDが印加
され、P- 半導体基板内のN+ 不純物層には出力バッフ
ァ(QP3、Qn3)の出力OUTつまり入出力パッドP2
が接続されているのでその間に形成されるPN接合ダイ
オードD1が低電圧用保護ダイオードとして作用し、他
方の場合には、N- ウェルに電源電圧VCCが印加され
- ウェル内のP+ 不純物層には出力バッファ(QP3
n3)の出力OUTつまり入出力パッドP2 が接続され
ているのでその間に形成されるPN接合ダイオードD2
が高電圧用保護ダイオードとして作用する。
【0004】このように、図5においては、半導体チッ
プ1の入出力ピンたとえばP1 と基板2の入出力ピンた
とえばT1 とは1対1に対応している。
【0005】次に、図5のシングルチップ半導体装置の
オープン・ショートテストたとえば半導体チップ1の入
出力ピンP1 と基板2の入出力ピンT1 との接続をテス
トする場合について説明する。まず、半導体チップ1の
電源VCC及びGNDを図示しない入出力ピンを介して
OVとする。次に、入出力ピンT1 を図7の(A)に示
すダイオードブリッジ回路の端子Cに接続し、入出力ピ
ンT2 をOVにする。この状態で、ダイオードブリッジ
回路の端子Aに−2V程度を印加し、端子B、C間に3
00μA程度の定電流を流す(参照:図7の(B))。
【0006】図5の回路にオープン・ショートの異常が
なければ、保護ダイオードとしてのNチャネルトランジ
スタQn2がオンとなり、この結果、入出力ピンT1 の電
圧つまりダイオードブリッジ回路の端子Cの電圧はNチ
ャネルトランジスタのしきい値電圧−Vthn たとえば−
0.6Vとなる。
【0007】図5の入出力ピンT1 と入出力ピンT2
の間がショートしていれば、入出力ピンT2 の電圧が0
Vであるので、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオード
ブリッジ回路の端子Cの電圧は0Vとなる。また、図5
の入出力ピンT1 と入出力パッドP1 との間がオープン
であれば、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオードブリ
ッジ回路の端子Cの電圧は端子Aの電圧つまり−2Vと
なる。
【0008】このように、ダイオードブリッジ回路の端
子Cの電圧が−0.6V、0V、−2Vのいずれかにあ
ることを判別することにより入出力ピンT1 と入出力パ
ッドP1 との接続テストを行える。入出力ピンT2 と入
出力パッドP2 との接続テストも図6に示すような内在
する保護ダイオードD1を利用して同様に行える。
【0009】次に、マルチチップ半導体装置を図8を参
照して説明する。すなわち、基板2には複数たとえば3
つの半導体チップ1−1、1−2、1−3が搭載されて
いる。各半導体チップ1−1、1−2、1−3の入出力
パッド(図示せず)は基板2の入出力パッドP' にボン
ディングワイヤ(図示せず)によって接続され、基板2
の入出力パッドP' は内部配線Cによって入出力ピンT
に接続されている。このようなマルチチップ半導体装置
においては、図示のごとく、複数の半導体チップの入出
力パッドが基板2の1つの入出力ピンTに接続されてい
ることがある。
【0010】図9は図8の部分詳細図であって、2つの
半導体チップ1−1、1−2の入出力パッドが1つの入
出力ピンに接続されている場合を示す。すなわち、半導
体チップ1−1の入力バッファ(QP1、Qn1)に接続さ
れた入出力パッドP1 と半導体チップ1−2の出力バッ
ファ(QP3、Qn3)に接続された入出力パッドP2 が基
板2の入出力パッドP1'、P2'及び内部配線C1 を介し
て1つの入出力ピンT1 に接続されている。
【0011】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、図
9に示す入出力ピンT1 と入出力パッドP1 、P2 との
接続テストを図7に示すダイオードブリッジ回路によっ
て行うと、入出力ピンT1 と入出力パッドP1 との間が
オープンでありかつ入出力ピンT1 と入出力パッドP2
との間がオープンである場合のみオープンと判別できる
が、いずれか一方のみがオープンの場合には正常に接続
されて半導体チップの保護ダイオードがオンするのでオ
ープンと判別できないという課題がある。
【0012】なお、特定の半導体チップを不活性にする
ECIPTテスト構造体と呼ばれるものがあるが(参
照:特開昭64−10184号公報)、このようなテス
ト構造体を半導体チップ内に設けても個々の半導体チッ
プのオープン・ショートテストは不可能である。従っ
て、本発明の目的は、個々の半導体チップのオープン・
ショートテストが可能なマルチチップ半導体装置を提供
することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めの手段は図1に示される。すなわち、各半導体チップ
1−1、1−2には、内部回路に接続された入出力パッ
ドP1 、P2 、この入出力パッドP1 、P2 と電源線G
NDとの間に接続されたスイッチングトランジスタ
n4、Qn6、このスイッチングトランジスタQn4、Qn6
を制御するための付加的入出力パッドP3 、P4 を設け
ている。他方、基板2には、各半導体チップ1−1、1
−2の入出力パッドP1 、P2に接続された入出力パッ
ドP1'、P2'、各半導体チップ1−1、1−2の付加的
入出力パッドP3 、P4 に接続された付加的入出力パッ
ドP3'、P4'、これら入出力パッドP1'、P2'に接続さ
れた入出力ピンT1 及び付加的入出力パッドP3'、P4'
に接続されたテストピンT3 、T4 を設けている。
【0014】
【作用】上述の手段によれば、各半導体チップ1−1、
1−2に設けられたスイッチングトランジスタQn4、Q
n6をオン、オフ制御することにより、半導体チップの各
入出力部を活性化、非活性化する。
【0015】
【実施例】図2は本発明に係るマルチチップ半導体装置
の第1の実施例を示す。図2においては、図9の構成要
素に、スイッチとしてのNチャネルトランジスタQn4
保護ダイオードとしてのPチャネルトランジスタQP5
びNチャネルトランジスタQn5、入出力パッドP3 、P
3'、テストピンT3 、スイッチとしてのNチャネルトラ
ンジスタQn6、保護ダイオードとしてのPチャネルトラ
ンジスタQP7及びNチャネルトランジスタQn7、入出力
パッドP4 、P4'、テストピンT4 が付加されている。
すなわち、半導体チップ1−1の入出力パッドP3 の電
圧によりトランジスタQn4をオン、オフ制御するもので
あり、この入出力パッドP3 は基板2の入出力パッドP
3'にボンディングワイヤW3 によって接続され、さらに
内部配線C3 によってテストピンT3 に接続されてい
る。同様に、半導体チップ1−2の入出力パッドP4
電圧によりトランジスタQn6をオン、オフ制御するもの
であり、この入出力パッドP3 は基板2の入出力パッド
4'にボンディングワイヤW4 によって接続され、さら
に内部配線C3 によってテストピンT4 に接続されてい
る。この場合、入出力パッドP3 の過電圧を防止するた
めに保護ダイオードQP5、Qn5が設けられ、入出力パッ
ドP4 の過電圧を防止するために保護ダイオードQP7
n7が設けられている。
【0016】従って、図2の半導体チップ1−1の入出
力パッドP1 と基板2の入出力ピンT1 とのオープンテ
ストを行う場合、テストピンT3 をハイレベルにし、テ
ストピンT4 、電源VCC、GNDを0Vとし、入出力
ピンT1 に適当な電圧たとえば2〜3V(トランジスタ
n4のオン抵抗を約3KΩとした場合)を印加させる。
これにより、トランジスタQn4をオンにし、トランジス
タQn6をオフにする。この結果、半導体チップ1−1の
入出力パッドP1 と基板2の入出力ピンT1 との間に異
常がなければ、トランジスタQn4のドレイン−ソース間
に流れる電流たとえば約1mAを観測でき、つまり、ト
ランジスタQn6がオフしているので半導体チップ1−1
のみのオープンテストが可能となる。
【0017】同様に、図2の半導体チップ1−2の入出
力パッドP2 と基板2の入出力ピンT1 とのオープンテ
ストを行う場合、テストピンT4 をハイレベルにし、テ
ストピンT3 、電源VCC、GNDを0Vとし、入出力
ピンT1 に適当な電圧たとえば2〜3Vを印加させる。
これにより、トランジスタQn6をオンにし、トランジス
タQn4をオフにする。この結果、半導体チップ1−2の
入出力パッドP1 と基板2の入出力ピンT1 との間に異
常がなければ、トランジスタQn6のドレイン−ソース間
に流れる電流たとえば約1mAを観測でき、つまり、ト
ランジスタQn4がオフしているので半導体チップ1−2
のみのオープンテストが可能となる。
【0018】また、図2のマルチチップ半導体装置を図
7に示すテスト回路でオープンテストを行う場合につい
て考察すると、テストピンT3 をハイレベル、テストピ
ンT4 を0Vとし、また、電源VCC及びGNDを0V
とする。この状態で図7の(A)に示すダイオードブリ
ッジ回路の端子Cと入出力ピンT1 に接続し、端子Aに
−2V程度を印加し、端子B、C間に300μA程度の
低電流を流す(参照:図7の(B))。この結果、図2
の入出力ピンT1 と半導体チップ1−1の入出力パッド
1 との間に異常がなければ、トランジスタQn4がオン
であるので、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオードブ
リッジ回路の端子の電圧は0Vとなる。他方、図の入出
力ピンT1 と入出力パッドP1 との間がオープンであれ
ば、入出力ピンT1 の電圧つまりダイオードブリッジ回
路の端子Cの電圧は端子Aの電圧つまり−2Vとなる。
このように、ダイオードブリッジ回路の端子Cの電圧が
0V、−2Vのいずれかにあることを判別することによ
り入出力ピンT1 と半導体チップ1−1の入出力パッド
1 との接続テストを行える。
【0019】同様に、テストピンT4 をハイレベル、テ
ストピンT3 を0Vとし、また、電源VCC及びGND
を0Vとすると、ダイオードブリッジ回路の端子Cの電
圧が0V、−2Vのいずれかにあることを判別すること
により入出力ピンT1 と半導体チップ1−2の入出力パ
ッドP2 との接続テストを行える。
【0020】図3は本発明に係るマルチチップ半導体装
置の第2の実施例を示す。図3においては、図2におけ
る保護ダイオードとしてのNチャネルトランジスタQn2
のゲートを入出力パッドP3 に接続せしめ、図2のNチ
ャネルトランジスタQn4をも兼用せしめたものである。
これにより、半導体チップ1−1の素子数を減少でき
る。なお、出力バッファ(QP3、Qn3)に内在する保護
ダイオードの場合には(参照:図6)、このような保護
ダイオードをスイッチングトランジスタに兼用できな
い。図3のマルチチップ半導体装置のオープンテスト動
作は図2のマルチチップ半導体装置のオープンテスト動
作と全く同一であるので省略する。
【0021】図4はマルチチップ半導体装置のテストフ
ローを示す図である。まず、ステップ401において、
シングルチップ半導体装置と同様にショートテストを行
う。この場合、すべてのテストピンたとえばT3 、T4
を0Vとする。この結果、ショートが検出されればリペ
アステップに進み、ショートが検出されなければステッ
プ402に進む。
【0022】ステップ402では、シングルチップ半導
体装置と同様に、オープンテストを行う。この場合に
も、すべてのテストピンたとえばT3 、T4 を0Vとす
る。これにより、基板の入出力ピンとその入出力ピンに
接続されている複数の半導体チップの入出力パッドとの
間ですべての接続がオープンである場合に不良として検
出され、また、基板の入出力ピンとその入出力ピンに接
続されている1つの半導体チップの入出力パッドとの間
でその接続がオープンである場合に不良として検出され
る。この結果、オープンが検出されなければリペアステ
ップに進み、オープンが検出されなければ、ステップ4
03に進む。
【0023】ステップ403では、本発明によって設け
られたテストピンたとえばT3 、T4 を用いてオープン
テストを行う。つまり、特定のテストピンをハイレベル
にし、他のテストピンを0Vとすることにより、基板の
入出力ピンとその入出力ピンに接続されている複数の半
導体チップの入出力パッドとの接続において、特定の接
続におけるオープンテストを行う。この結果、オープン
が検出されれば、リペアステップに進み、オープンが検
出されなければファンクションテストに進む。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、マ
ルチチップ半導体装置に搭載された複数の半導体チップ
の個々に対してオープンテストを行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本構成を示す回路図である。
【図2】本発明に係るマルチチップ半導体装置の第1の
実施例を示す回路図である。
【図3】本発明に係るマルチチップ半導体装置の第2の
実施例を示す回路図である。
【図4】本発明に係るマルチチップ半導体装置のテスト
フローである。
【図5】従来のシングルチップ半導体装置を示す回路図
である。
【図6】図5の出力バッファを示す断面図である。
【図7】オープン・ショートテスト回路を示す回路図で
ある。
【図8】従来のマルチチップ半導体装置を示す図であ
る。
【図9】図8の詳細な部分回路図である。
【符号の説明】
1、1−1、1−2…半導体チップ 2…基板 QP1、Qn1…入力バッファ QP2、Qn2…保護ダイオード QP3、Qn3…出力バッファ Qn4…スイッチングトランジスタ QP5、Qn5…保護ダイオード Qn6…スイッチングトランジスタ QP7、Qn7…保護ダイオード P1 、P2 …入出力パッド W1 、W2 、W3 、W4 …ボンディングワイヤ P1'、P2'…入出力パッド C1 、C2 、C3 、C4 …内部配線 T1 、T2 …入出力ピン T3 、T4 …テストピン

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
    を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
    置において、 前記各半導体チップは、内部回路に接続された入出力パ
    ッド(P1 、P2 )と、該入出力パッドと電源線(GN
    D)との間に接続されたスイッチングトランジスタ(Q
    n4、Qn6)と、該スイッチングトランジスタを制御する
    ための付加的入出力パッド(P3 、P4 )とを具備し、 前記基板は、前記各半導体チップの入出力パッドに接続
    された入出力パッド(P1'、P2')と、前記各半導体チ
    ップの付加的入出力パッドに接続された付加的入出力パ
    ッド(P3'、P4')と、前記入出力パッド(P1'、
    2')に接続された入出力ピン(T1 )と、前記付加的
    入出力パッドに接続されたテストピン(T3、T4 )と
    を具備することを特徴とするマルチチップ半導体装置。
  2. 【請求項2】 さらに、前記各半導体チップは前記入出
    力パッド(P1 )と前記内部回路との間に過電圧保護ダ
    イオード(Qn2)を具備し、前記過電圧保護ダイオード
    を前記スイッチングトランジスタとして用いる請求項1
    に記載のマルチチップ半導体装置。
  3. 【請求項3】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
    を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
    置において、 前記各半導体チップは、内部回路に接続された入出力パ
    ッド(P1 、P2 )と、該入出力パッドと電源線(GN
    D)との間に接続されたスイッチングトランジスタ(Q
    n4、Qn6)と、該スイッチングトランジスタのゲートに
    接続された付加的入出力パッド(P3 、P4 )とを具備
    し、 前記基板は、前記各半導体チップの入出力パッドにボン
    ディングワイヤ(W1、W2 )により接続された入出力
    パッド(P1'、P2')と、前記各半導体チップの付加的
    入出力パッドにボンディングワイヤ(W3 、W4 )によ
    り接続された付加的入出力パッド(P3'、P4')と、前
    記入出力パッド(P1'、P2')に接続された入出力ピン
    (T1 )と、前記付加的入出力パッドに配線パターン
    (C3 、C4 )により接続されたテストピン(T3 、T
    4 )とを具備することを特徴とするマルチチップ半導体
    装置。
  4. 【請求項4】 さらに、前記各半導体チップは前記入出
    力パッド(P1 )と前記内部回路との間に過電圧保護ダ
    イオード(Qn2)を具備し、該過電圧保護ダイオードを
    前記スイッチングトランジスタとして用いる請求項3に
    記載のマルチチップ半導体装置。
  5. 【請求項5】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
    を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
    置において、 前記各半導体チップは、入出力バッファ(QP1、Qn1
    に接続されかつ過電圧保護ダイオード(QP2、Qn2)が
    接続されもしくは内在する入出力パッド(P1、P2
    と、該入出力パッドと電源線(GND)との間に接続さ
    れたスイッチングトランジスタ(Qn4、Qn6)と、該ス
    イッチングトランジスタを制御するための付加的入出力
    パッド(P3 、P4 )とを具備し、 前記基板は、前記各半導体チップの入出力パッドに接続
    された入出力パッド(P1'、P2')と、前記各半導体チ
    ップの付加的入出力パッドに接続された付加的入出力パ
    ッド(P3'、P4')と、前記入出力パッド(P1'、
    2')に接続された入出力ピン(T1 )と、前記付加的
    入出力パッドに接続されたテストピン(T3、T4 )と
    を具備することを特徴とするマルチチップ半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記接続された過電圧保護ダイオード
    (Qn2)を前記スイッチングトランジスタとして用いる
    請求項5に記載のマルチチップ半導体装置。
  7. 【請求項7】 複数の半導体チップ(1−1、1−2)
    を1つの基板(2)上に搭載したマルチチップ半導体装
    置において、 前記各半導体チップは、入出力バッファ(QP1、Qn1
    に接続されかつ過電圧保護ダイオード(QP2、Qn2)が
    接続されもしくは内在する入出力パッド(P1、P2
    と、該入出力パッドと電源線(GND)との間に接続さ
    れたスイッチングトランジスタ(Qn4、Qn6)と、該ス
    イッチングトランジスタを制御するための付加的入出力
    パッド(P3 、P4 )とを具備し、 前記基板は、前記各半導体チップの入出力パッドにボン
    ディングワイヤ(W1、W2 )により接続された入出力
    パッド(P1'、P2')と、前記各半導体チップの付加的
    入出力パッドにボンディングワイヤ(W3 、W4 )によ
    り接続された付加的入出力パッド(P3'、P4')と、前
    記入出力パッド(P1'、P2')に接続された入出力ピン
    (T1 )と、前記付加的入出力パッドに配線パターン
    (C3 、C4 )により接続されたテストピン(T3 、T
    4 )とを具備することを特徴とするマルチチップ半導体
    装置。
  8. 【請求項8】 前記接続された過電圧保護ダイオード
    (Qn2)を前記スイッチングトランジスタとして用いる
    請求項7に記載のマルチチップ半導体装置。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6018462A (en) * 1997-06-30 2000-01-25 Nec Corporation Multi-tip module
JP2003057284A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Advantest Corp 半導体試験装置及びその試験方法
KR20030019081A (ko) * 2001-08-28 2003-03-06 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 핀 콘택트 불량을 적절히 검출할 수 있는 반도체 집적 회로
JP2009139273A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置および導通テスト方法
JP2015102374A (ja) * 2013-11-22 2015-06-04 日置電機株式会社 基板検査装置、集積回路検査装置、集積回路、基板検査方法および集積回路検査方法
EP3594704A1 (en) * 2018-07-13 2020-01-15 Allegro MicroSystems, LLC Integrated circuit with connectivity error detection

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3611522B1 (en) 2018-08-14 2021-05-05 NXP USA, Inc. Embedded test circuitry and method therefor

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6018462A (en) * 1997-06-30 2000-01-25 Nec Corporation Multi-tip module
JP2003057284A (ja) * 2001-08-10 2003-02-26 Advantest Corp 半導体試験装置及びその試験方法
KR20030019081A (ko) * 2001-08-28 2003-03-06 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 핀 콘택트 불량을 적절히 검출할 수 있는 반도체 집적 회로
US6900628B2 (en) 2001-08-28 2005-05-31 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit allowing proper detection of pin contact failure
JP2009139273A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Elpida Memory Inc 積層型半導体装置および導通テスト方法
JP2015102374A (ja) * 2013-11-22 2015-06-04 日置電機株式会社 基板検査装置、集積回路検査装置、集積回路、基板検査方法および集積回路検査方法
EP3594704A1 (en) * 2018-07-13 2020-01-15 Allegro MicroSystems, LLC Integrated circuit with connectivity error detection

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