JPH06323735A - 連続熱処理炉 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】炉芯管内における被処理物の滞留時間を必要に
応じて延長するとともに、生産効率の向上をも同時に図
ることができる連続熱処理炉を提供する。 【構成】被処理物Ｓを収納したうえで周方向に沿って回
転駆動される円筒状の炉芯管１１を備えた連続熱処理炉
１であって、前記炉芯管１１内の軸芯方向に沿って離間
する所定位置ごとには被処理物Ｓの全面的な通過を阻止
する仕切板２をそれぞれ取り付けるとともに、各仕切板
２の互いに対向しない位置ごとには所定量の被処理物Ｓ
が通過しうる開口部４を形成している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は連続熱処理炉にかかり、
特には、回転レトルト型といわれる連続熱処理炉に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来から、粉末状や粒体状となった被処
理物に対する熱処理、例えば、セラミックス原料に対す
る仮焼などの処理を行うに際しては、図３で示すような
構成とされて回転レトルト型といわれる連続熱処理炉が
用いられている。すなわち、この連続熱処理炉１０は、
耐熱金属やセラミックスなどを用いて作製された円筒状
の炉芯管１１と、これを軸芯方向に沿う傾斜状態として
回転自在に支持するローラ１２と、ローラ１２を介して
炉芯管１１を回転駆動する駆動用モータ１３と、炉芯管
１１の外周囲を取り囲んで配置されたヒータ１４が内周
面上の所定位置ごとに配設された炉体１５とを備えてお
り、ヒータ１４は炉芯管１１の軸芯方向に沿って所要の
昇温・降温曲線を描くよう温度制御されている。

【０００３】そして、この連続熱処理炉１０を用いて仮
焼される被処理物としてのセラミックス原料Ｓは、炉芯
管１１の入口側に配設された原料供給用ホッパー１６を
通じて投入されることによって炉芯管１１内に収納され
た後、この炉芯管１１が周方向に沿って回転駆動される
に従って移動しながらヒータ１４によって加熱されるこ
とになり、仮焼済みとなったセラミックス原料Ｓは炉芯
管１１の出口側から排出されたうえで原料取出用ドラム
１７内に貯溜されるようになっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の連
続熱処理炉１０においては、炉芯管１１内に収納された
セラミックス原料Ｓの移動速度、すなわち、炉芯管１１
内におけるセラミックス原料Ｓの滞留時間の長短が処理
済み後の製品の品質に対して大きな影響を与えることに
なる。そこで、この連続熱処理炉１０では、炉芯管１１
の傾斜角度及び回転速度を調整してセラミックス原料Ｓ
の滞留時間を延長することが行われている。ところが、
その一方で生産効率の向上を図ろうとする場合には、で
きるだけ大量のセラミックス原料Ｓを炉芯管１１内に投
入したうえでの仮焼を行う必要があることになる。

【０００５】しかしながら、大量のセラミックス原料Ｓ
を投入した場合には、炉芯管１１内の軸芯方向に沿って
形成される空間を通ってセラミックス原料Ｓが直進状に
移動する現象、いわゆるショートパスが生じ易くなる結
果、品質確保のために必要な滞留時間の延長を行うこと
ができなくなってしまう。すなわち、従来構成とされた
連続熱処理炉１０によっては、セラミックス原料Ｓの滞
留時間延長と生産効率向上とを同時に満たすことができ
ないのが実情であった。

【０００６】本発明は、これらの不都合を解消すべく創
案されたものであって、炉芯管内における被処理物の滞
留時間を必要に応じて延長するとともに、生産効率の向
上をも同時に図ることができる連続熱処理炉の提供を目
的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、被処理物を収納したうえで周方向
に沿って回転駆動される円筒状の炉芯管を備えた連続熱
処理炉であって、前記炉芯管内の軸芯方向に沿って離間
する所定位置ごとには被処理物の移動を抑制する仕切板
をそれぞれ取り付けるとともに、各仕切板の互いに対向
しない位置ごとには被処理物の所定量のみが通過しうる
開口部を形成している。

【０００８】

【作用】上記構成によれば、炉芯管内には一対ごとの仕
切板で仕切られて所定容量を有する複数の空間が設けら
れていることになる結果、炉芯管内に投入された被処理
物の全面的な移動は仕切板によって抑制されることにな
り、各空間内には仕切板の開口部を通過した所定量の被
処理物だけが投入して収納されることになる。そして、
これら所定量の被処理物は各仕切板の開口部を通りなが
ら空間内を順次移動した後、炉芯管から排出されること
になる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【００１０】図１は本実施例にかかる連続熱処理炉の概
略構成を示す縦断側面図、図２はその要部構成を示す一
部省略斜視図であり、図１における符号１は回転レトル
ト型といわれる連続熱処理炉を示している。なお、この
連続熱処理炉１の全体構成は従来例と基本的に異ならな
いので、図１において従来例を示す図３と互いに同一も
しくは相当する部品、部分には同一符号を付し、ここで
の詳しい説明は省略する。

【００１１】本実施例にかかる連続熱処理炉１は、被処
理物であるセラミックス原料Ｓを収納したうえで周方向
に沿って回転駆動される円筒状の炉芯管１１を備えてお
り、軸芯方向に沿う傾斜状態として炉体１５内に配置さ
れた炉芯管１１の炉外にまで突出した端部のそれぞれは
ローラ１２を用いて回転自在に支持されている。そし
て、この炉芯管１１内、例えば、その出口側端部の内部
には、炉芯管１１同様の素材を用いたうえで円形平板状
として作製された複数枚（図では、４枚）の仕切板２が
炉芯管１１の開口面を塞ぐようにして並列配置されてお
り、これら仕切板２のそれぞれは炉芯管１１の軸芯方向
に沿って設定された均等な間隔を介して互いに離間する
所定位置ごとに取り付けられている。そこで、この炉芯
管１１の内部には、一対ごとの仕切板２によって仕切ら
れて所定容量を有する空間３の複数個が設けられている
ことになる。

【００１２】また、炉芯管１１内に並列配置された仕切
板２それぞれの外周縁に沿いながら互いに対向しない位
置ごと、例えば、図２で示すような９０°ずつ位置ずれ
した位置ごとには、所定量のセラミックス原料Ｓだけが
通過しうる大きさとされた半月形状の開口部４が各仕切
板２の径（弦）方向に沿う切り落とし加工によって形成
されている。なお、各開口部４の大きさ、すなわち、セ
ラミックス原料Ｓの通過量はセラミックス原料Ｓの処理
条件などに対応して任意に設定されるものであり、これ
ら開口部４の平面視形状が図示した形状に限られないの
は勿論である。

【００１３】ところで、これら開口部４は各仕切板２を
炉芯管１１内に取り付けた状態において対向しなければ
よいのであり、例えば、仕切板２同士を重ね合わせたう
えで開口部４を一括的に形成した後、開口部４同士が対
向しないように各仕切板２を取り付けてもよいのであ
る。さらにまた、仕切板２の取り付け位置が炉芯管１１
の出口側端部内に限定されることもなく、図示していな
いが、これら仕切板２を必要によっては炉芯管１１の軸
芯方向に沿う中途部内に並列配置することも可能であ
る。

【００１４】つぎに、本実施例にかかる連続熱処理炉１
の動作及び作用について説明する。

【００１５】被処理物であるセラミックス原料Ｓは、炉
芯管１１の入口側に配設された原料供給用ホッパー１６
を通じて炉芯管１１内に投入して収納された後、炉芯管
１１が周方向に沿って回転駆動されるに従って炉芯管１
１内の入口側から出口側に向かって移動しながらヒータ
１４によって加熱される。ところが、この炉芯管１１内
にはその開口面を塞ぐようにして並列配置された複数枚
の仕切板２が取り付けられているため、セラミックス原
料Ｓは炉芯管１１内の最も入口側に位置する仕切板２に
よってせき止められ、セラミックス原料Ｓの全面的な移
動は抑制されてしまうことになる。そして、せき止めら
れたセラミックス原料Ｓは炉芯管１１の回転駆動に伴っ
て混合されながらヒータ１４によって加熱される。

【００１６】また、この際、せき止められたセラミック
ス原料Ｓのうちの所定量のみは炉芯管１１の回転に伴っ
て仕切板２の開口部４を通過することになり、この開口
部４を通過した所定量のセラミックス原料Ｓは一対の仕
切板２で構成されて最も入口側に位置する第１の空間３
₁内に投入して収納される。そして、この第１の空間３
内に収納されたセラミックス原料Ｓは炉芯管１１の回転
駆動に伴って各仕切板２の開口部４を通過しながら第２
及び第３の空間３₂，３₃内へと順次移動していった後、
この第３の空間３₃を構成して最も出口側に位置する仕
切板２の開口部４を通過したうえで炉芯管１１から排出
される。さらに、仮焼済みとなって炉芯管１１から所定
量ずつ排出されたセラミックス原料Ｓは、炉芯管１１の
出口側に配設されていた原料取出用ドラム１７内に貯溜
される。

【００１７】すなわち、上記構成とされた連続熱処理炉
１においては、炉芯管１１から排出されるセラミックス
原料Ｓの量が仕切板２及びこれらに形成された開口部４
によって規制され、このことによってセラミックス原料
Ｓの移動速度が制御される結果、炉芯管１１内における
セラミックス原料Ｓの滞留時間が延長されることにな
る。そして、この際においては、仕切板２それぞれの取
り付け位置及び開口部４の大きさを適宜に設定すること
によって炉芯管１１から排出されるセラミックス原料Ｓ
の量を調整することができ、セラミックス原料Ｓの滞留
時間を任意に制御することが可能となる。また、大量の
セラミックス原料Ｓを投入した場合であっても、セラミ
ックス原料Ｓのショートパスが仕切板２によって抑制さ
れることになる。

【００１８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかる連
続熱処理炉によれば、炉芯管内には一対ごとの仕切板で
仕切られて所定容量を有する複数の空間が設けられてい
ることになる結果、炉芯管内に投入して収納された被処
理物の全面的な移動は仕切板によって抑制されることに
なり、この炉芯管内においては被処理物の所定量ずつし
か移動し得ないことになる。したがって、この炉芯管内
における被処理物の滞留時間を広範囲かつ任意に制御し
て延長することが可能となる結果、処理済み後の製品に
おける品質向上を図ることが可能となる。

【００１９】また、大量の被処理物を炉芯管内に収納し
たうえで処理する場合であっても、従来例におけるよう
なショートパスを生じることがなくなる結果、被処理物
の滞留時間延長と同時に、生産効率の大幅な向上を図る
ことができるという効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施例にかかる連続熱処理炉の概略構成を示
す縦断側面図である。

【図２】その要部構成を示す一部省略斜視図である。

【図３】従来例にかかる連続熱処理炉の概略構成を示す
縦断側面図である。

【符号の説明】

１ 連続熱処理炉 ２ 仕切板 ４ 開口部 Ｓ セラミックス原料（被処理物）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理物（Ｓ）を収納したうえで周方向
   に沿って回転駆動される円筒状の炉芯管（１１）を備え
   た連続熱処理炉であって、 前記炉芯管（１１）内の軸芯方向に沿って離間する所定
   位置ごとには被処理物（Ｓ）の移動を抑制する仕切板
   （２）をそれぞれ取り付けるとともに、各仕切板（２）
   の互いに対向しない位置ごとには被処理物（Ｓ）の所定
   量のみが通過しうる開口部（４）を形成していることを
   特徴とする連続熱処理炉。