JPH0228386Y2 - - Google Patents

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JPH0228386Y2
JPH0228386Y2 JP18533585U JP18533585U JPH0228386Y2 JP H0228386 Y2 JPH0228386 Y2 JP H0228386Y2 JP 18533585 U JP18533585 U JP 18533585U JP 18533585 U JP18533585 U JP 18533585U JP H0228386 Y2 JPH0228386 Y2 JP H0228386Y2
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【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は鉱石等の湿潤造粒物のような被処理
物を乾燥処理したのち焼成(焙焼)を行なうロー
タリキルンに関するものである。
〔従来の技術〕
ロータリキルン内において湿潤造粒物のような
被処理物の乾燥・焼成処理を連続的に行ない、か
つ乾燥室内での被処理物の流れを連続円滑に行う
ことにより被処理物の粉化を防止する目的でロー
タリキルン内後部に一段の乾燥室を設けたロータ
リキルンを特願昭59−195961号(特開昭61−
72985号公報参照)によつて提案した。
このロータリキルンは胴体内後部にほぼ円筒状
の同心内壁を有するところの前後方向の多数の放
射状乾燥通路からなる一段の乾燥室を設置したも
のであり、各乾燥通路の放射状仕切板の両面には
被処理物を前方へ誘導するように傾斜させた多数
の傾斜送り羽根を固定し、入口側端部には、供給
された被処理物を各乾燥通路内に誘導するように
かき上げ板と堰板からなる誘導手段を設け、同じ
く排出側端部には乾燥された被処理物の落下によ
る粉化を防止するよう落下防止樋を設けている。
〔考案が解決しようとする問題点〕
前記の特願昭59−195961号(特開昭61−72985
号公報参照)に記載のロータリキルンは、各乾燥
通路の入口側端部にかき上げ板を設けたことによ
り、供給口から供給された被処理物が各乾燥通路
に配分され胴体の回転とともに引き上げられる際
に入口側端部より落下(フイードバツク)する量
を極力少なくするよう配慮されているが、乾燥室
入口部分においてフイードバツクした原料は滞留
蓄積し、ある原料層厚で平衡状態となる。従つて
かき上げ板だけでは被処理物の誘導手段として十
分とはいえず、湿潤造粒物からの蒸発水分の拡散
が不十分となり、乾燥室入口部分における原料の
ふやけ崩壊、強度低下による乾燥、焼成工程での
粉化につながるという問題がある。
この考案は乾燥室入口部分において内壁後端に
載つて上方に回動した被処理物の余剰のものが、
こぼれ落ちることによる崩壊、粉化を著しく低減
させることを技術課題とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕
上記の問題点を解決するため講じた技術的手段
はロータリキルンの胴体の後端寄りの内周にほぼ
円筒状の内壁を同心に配置するとともに、この内
壁と胴体内周面間に、前後方向の多数の仕切板を
放射状に固定して、この各仕切板間に前後方向の
多数の乾燥通路を形成し、各仕切板の両面には被
処理物を前方へ誘導するように傾斜させた多数の
傾斜送り羽根を固定した乾燥室を設け、前記各乾
燥通路の入口側端部に被処理物を各乾燥通路内に
誘導するかき上げ板を設け、さらに、前記内壁の
後端部内から後方へかけて前部を小径としたコー
ンを放射状に配設した仕切板を介して同芯に配設
し、その後端を内壁の後端より後方へ突出させ、
コーンの外周と内壁間には環状の誘導通路を形成
したことである。
〔作用〕
この考案の技術的手段は上記の通りであり、供
給口からロータリキルンの胴体内に投入された被
処理物は、かき上げ板でかき上げられながら入口
から乾燥通路に流入する。この通路に入つた原料
は、キルンの回転に伴ないこの通路内において、
転動と対向する傾斜羽根による送りを繰り返しな
がら静かに連続的に移送される。
このように被処理物が移送される過程で、向流
熱ガスとの熱交換により乾燥され乾燥通路の出口
よりキルン内に排出される。従つて、装置処理物
の層は通路内を繰り返し反転しながら移動するの
で、向流ガスとの接触が均等となる。
また、上記のようにかき上げ板でかき上げられ
つつ乾燥通路内に送り込まれる被処理物のうちの
余剰のものは内壁の後端から若干こぼれ落ちる
が、このこぼれ落ちた被処理物はコーンにより受
けられて誘導通路を滑り落ち、内壁の下部内を転
動しながら前方の焼成室へ向う。従つて落差が少
なく、落下時の衝撃も小さくなり、破壊が防止さ
れ、この間に向流ガスとの熱交換も行われて十分
に乾燥される。
〔実施例〕 第1図において、1は前端に排出口(図示省
略)、後端に供給口2を有するロータリキルンの
回転ドラムの胴体で、耐火材を内張りした円筒状
であり、公知のロータリキルンと同様に前方、す
なわち、図示省略してある排出口側が下になるよ
うに、緩い下り勾配に傾斜させて適宜の支持手段
により回動自在に支承され、適宜の駆動手段によ
り回転し、かつ排出口側に設けたバーナにより送
り込まれた高温の燃焼ガスが胴体1内を供給口2
へ向けて流れる。
この胴体1は直胴部1aと後端のテーパ部1b
からなつている。
前記供給口2は被処理物用で燃焼ガスの出口を
兼ねたもので、ここに供給シユート3が臨んでい
る。
Aは胴体1内の後部に設けた乾燥室であり、こ
の乾燥室は次のように構成される。
4は胴体1に設けた内壁で、第2図ないし第4
図に示すようにほぼ円筒状をなしており、多数の
仕切板5によつて胴体1に対して同心に固定され
ている。また、内壁4の後端は後端が開いたテー
パ部6となつている。各仕切板5は内壁4の全長
に亘るもので、一定の間隔で放射状に配置され、
この各仕切板5間は前後端が開放された前後方向
に長い多数の乾燥通路8となつており、8aはそ
の入口である。
7はコーンで、その前部が小径となつたテーパ
状であり、前部は閉鎖され(開放でもよい)、後
部は開放されている。またコーン7の後端外周に
は全周に亘る鍔状の立壁9が形成されているが、
この立壁9は内壁4のテーパ部6の後方に出てい
る。
また、このコーン7は放射状に配置した複数の
軸方向の仕切板10で内壁4に固定され、内壁4
とコーン7の間には環状の誘導通路11が形成さ
れている。
前記の各仕切板5の両面にはそれぞれ多数の傾
斜送り羽根12,13を設けるが、両面の羽根1
2,13は反対方向に傾斜している。すなわち、
仕切板5に被処理物を載せて回転していく側にお
いて、各羽根12,13が被処理物を前方へ摺落
させるような傾斜方向とする。
各乾燥通路8の入口8a側には被処理物の誘導
手段としてかき上げ板14と堰板15aおよび堰
板15bを設ける。かき上げ板14は第2図、第
5図のように仕切板5の端部の折目から、仕切板
5の回転していく方向に若干傾斜したものであ
り、堰板15aはその内端に設け、堰板15bは
その反対に向いている。
各仕切板5の前端の部分に落下防止樋16を設
ける。この防止樋16は第4図、第5図のように
下方へ回転していく側の仕切板5の上面における
内壁4側に設けたもので、この樋16の前端は端
板17で閉鎖され、後端は後方へ傾斜した仕切板
5の前縁に沿つて設けられた堰板18となり、こ
の堰板18の端部と胴体1の内面間は被処理物を
乾燥室Aの前方の焼成室Bへ排出する排出部19
となつている。
また、乾燥室Aの前部中央には円板状のバツフ
ル板20を複数のブラケツト21で同心に固定し
て燃焼ガスの大部分が各通路8に流入するように
してある。
つぎに、上記実施例の作用を説明する。
ロータリキルンの胴体1は第2図ないし第5図
の矢印方向に回転させ、燃焼ガスは第1図の右方
から左方へと流す向流式とする。
鉱石等の湿潤造粒物からなる被処理物を供給シ
ユート3により下方に位置する乾燥通路8の入口
へ投入する。
投入された被処理物はテーパ部1bの底部を流
下し、下位の通路8内に入り、最初は胴体1の内
面に載つて上方へ移動しつつかき上げ板14及び
堰板15aに誘導され、また堰板15aにより落
ちこぼれを防止しながら仕切板5上に載り、その
途中で上向きになつた傾斜送り羽根13により、
前方へ摺動しつつ上方において、上向きの内壁4
上に載りながら下降していく。
下降工程においては、被処理物は堰板15aに
より落ちこぼれを防止しながら、仕切板5の傾斜
送り羽根12側に載り、この羽根12に沿つて前
方へ摺動しつつ排出部19から胴体内の焼成室B
に入るが、仕切板5の前端の落下防止樋16内に
入つた被処理物は樋16に続く堰板18に沿つて
胴体1の内面に近い排出部19から前方の焼成室
Bに排出される。こうして各乾燥通路8を被処理
物が移動する間に、その移動方向と反対の方向に
流れる燃焼ガスに接触して乾燥される。
また、前記のようにかき上げ板14などでかき
上げられた被処理物のうち、通路8へ入りきれな
かつたものはコーン7の外側にこぼれ落ち、コー
ン7の外側の誘導通路11に沿つて滑り落ちて、
内壁4内に入り前方へ転動しながら流れ、燃焼ガ
スと接触し、乾燥されて焼成室Bに入る。
〔効果〕
この考案は、ロータリキルンの胴体内の後部に
設けた乾燥室に、同心の円筒状内壁を設け、この
内壁と胴体内に設けた多数の仕切板により前後方
向の多数の乾燥通路を設け、仕切板の両面にそれ
ぞれ異なる向きの傾斜送り羽根を設けたから、通
路内の被処理物の層はキルンの回転とともに何回
も繰り返し反転しながら移動する。この結果、高
温の向流燃焼ガスとの接触機会が大巾に増大する
とともに各々の被処理物の粒子がほぼ均等に接触
し、乾燥ムラを生じることなく極めて均一な乾燥
を行なうことができ、被処理物の流れが連続的、
かつ極めて円滑でその動きが静かである。
また、前記内壁の後端部内から後方へかけて前
部を小径としたコーンを放射状に配設した仕切板
を介して同心に配設し、その後端を内壁の後端よ
り後方へ突出させ、コーンの外周と内壁間には環
状の誘導通路を設けたから、かき上げ板でかき上
げられながら、乾燥通路に入り切れなかつた被処
理物はコーンの外側に落下し、誘導通路を滑り落
ちるので落差が小さく、この落下の衝撃で粒状処
理物の粉化のおそれがなく、また、後方へ被処理
物が落下するおそれがないので、乾燥室入口部で
の被処理物の滞留によるふやけや崩壊がなく、コ
ーン上の被処理物はコーン上を滑り落ちつつ燃焼
ガスに接触して乾燥されるので十分な熱交換効果
が得られるなどの効果がある。
その他に傾斜送り羽根の取付角度や個数を適宜
選択することにより乾燥室内における原料の滞留
時間を任意に設定できる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案のロータリキルンの一実施例
を示す一部切欠縦断側面図、第2図は第1図−
線の一部切欠拡大断面図、第3図は第1図−
線の一部切欠拡大断面図、第4図は第1図−
線の一部切欠拡大断面図、第5図は仕切板の一
部切欠拡大斜視図である。 1……胴体、2……供給口、4……内壁、5,
10……仕切板、7……コーン、8……乾燥通
路、9……立壁、11……誘導通路、12,13
……傾斜送り羽根、14……かき上げ板、16…
…落下防止樋、19……排出部、A……乾燥室、
B……焼成室。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 前端に排出口、後端に供給口を有する円筒状の
    胴体を傾斜状に設置したロータリキルンにおい
    て、胴体の後端寄りの内周にほぼ円筒状の内壁を
    同心に配置するとともに、この内壁と胴体内周面
    間に、前後方向の多数の仕切板を放射状に固定し
    て、この各仕切板間に前後方向の多数の乾燥通路
    を形成し、各仕切板の両面には被処理物を前方へ
    誘導するように傾斜させた多数の傾斜送り羽根を
    固定した乾燥室を設け、前記各乾燥通路の入口側
    端部に被処理物を各乾燥通路内に誘導するかき上
    げ板を設け、さらに、前記内壁の後端部内から後
    方へかけて前部を小径としたコーンを放射状に配
    置した仕切板を介して同芯に配設し、その後端を
    内壁の後端より後方へ突出させ、コーンの外周と
    内壁間には環状の誘導通路を形成したロータリキ
    ルン。
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