JPH06310431A - バレル型気相成長装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】円筒状反応炉容器の内部に軸方向が反応炉容器
の軸と同方向となるように胴部がバレル状の釣鐘状サセ
プタを配し、サセプタ表面に基板を載置して反応ガスを
反応炉容器の軸方向に基板ホールダに沿って流し、サセ
プタを加熱しつつ基板表面に膜成長を行わせるバレル型
気相成長装置を、サセプタへの基板の着脱時間が短く、
かつ着脱時の基板落下の恐れの小さい装置に構成する。 【構成】サセプタを釣鐘状サセプタ本体と、サセプタ本
体と分離可能に構成された被成膜基板搭載用の基板ホー
ルダ３１とで構成し、基板６を反応炉外で基板ホールダ
３１に装着したものをサセプタ本体に組み込むようにす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、主に化合物半導体膜
を被成膜基板の表面に成長させる有機金属気相成長装置
を対象としたものであり、円筒状の反応炉容器と、反応
炉容器の内部に軸方向か該容器の軸と同方向となるよう
に配される，胴部がバレル状の釣鐘状サセプタと、サセ
プタを加熱するサセプタ加熱手段とを備え、サセプタ表
面に被成膜基板を載置して反応炉容器の釣鐘状サセプタ
天井側端部のガス導入口から反応ガスを導入するととも
にサセプタ加熱手段によりサセプタを加熱して被成膜基
板の表面に膜成長を行うバレル型気相成長装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】図８（ａ）に、この種の有機金属気相成
長装置の反応炉の従来の構成例を示す。釣鐘状のサセプ
タ１は、その天井部を構成するドーム１Ａを介して回転
可能なサポート３により、反応炉外容器４と内容器５と
で形成される空間内に支承されている。サセプタ１を構
成するバレル状胴部１Ｂの表面は垂直方向に対して微小
な傾斜角をもつ多面体形状に構成され、各面には、被成
膜基板６を収納するための微小な深さを有する座ぐり部
７が、被成膜基板６の形状に対応して形成されている。
反応ガス８は、反応炉外容器４の上部に設けられた反応
ガス入口９から炉内へと入り、反応炉外容器４とドーム
１Ａ、サセプタ胴部１Ｂとで形成される空間を通り、被
成膜基板６へと導かれる。導かれた反応ガス８は、サセ
プタ１の内側に配置された赤外線ランプ１０により高温
となったサセプタ１により加熱・熱分解され、拡散して
被成膜基板６へと到達し膜を形成する。被成膜基板６を
通過したガスは反応炉外容器４の下流側に設置したガス
排出口１１から炉外へ排出される。

【０００３】図６（ｂ）は、本気相成長装置のサセプタ
胴部の外形図で、バレル型の胴部１Ｂの表面は多面体に
形成され、各面には被成膜基板形状に対応した収納用の
座ぐり部７が設けられている。本構成の気相成長装置
は、１回の成長運転で多数枚、例えば２インチウェハで
あれば４８枚程度、３インチウェハであれば３０枚程度
の被成膜基板の上に膜成長を行うことができるので、量
産用装置として有効な装置である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この種の気相成長装置
では、多数枚の被成膜基板上に均一な膜を成長させるに
は、反応ガスが被成膜基板上を層流状に流れることが必
要である。従来のこの種の気相成長装置では、サセプタ
に被成膜基板の厚さと略同一の深さと平面とを有する座
ぐり部を設けて、この部分に被成膜基板を装着すること
により、被成膜基板の表面とその周囲のサセプタの表面
とをほぼ同一面に保持することにより、反応ガスの流れ
の乱流発生を抑制し、多数枚の被成膜基板上に均一な膜
形成を可能としている。

【０００５】一方、本構成は、鉛直方向に対して微小な
角度しか有していないサセプタ表面の浅い座ぐり部に、
薄く、かつ胞い被成膜基板を装着する構成であるので、
成長に先立つ基板組み込み作業、ならびに成長後の基板
取り出し作業に際しては、基板の落下、破損や基板表面
の損傷を生ずる危険性があるとともに、多数枚の基板組
み込み作業、基板取り出し作業に長時間を必要とし、ひ
いては膜成長に必要な全所要時間が長時間となって生産
効率を低下させるという問題点があった。

【０００６】この発明の目的は、被成膜基板を座ぐり部
に組み込み均一な膜形成を行う装置にあっても、基板の
組み込み作業、取り出し作業に際しての基板の落下、破
損や基板表面損傷の可能性が極めて低く、かつ多数枚の
処理が短時間で可能な装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明においては、サセプタを釣鐘状サセプタ本体
と，サセプタ本体と分離可能に構成された被成膜基板搭
載用の基板ホールダとで構成し、被成膜基板は基板ホー
ルダに装着するものとする。ここで、被成膜基板搭載用
の基板ホールダは、被成膜基板が反応ガスの流れの方向
に複数枚搭載可能となるように流れ方向に長い平板状に
形成され、各被成膜基板が嵌合状態に嵌め込まれる，深
さが被成膜基板の厚みとほぼ等しい座ぐり部が、反応ガ
スと接触する表面側に反応ガスの流れ方向複数個所に形
成されてなる平板状基板ホールダの複数枚で構成するも
のとすれば極めて好適である。

【０００８】また、上記平板状基板ホールダは、適宜の
位置にサセプタ本体への着脱作業把手を備えたものとす
れば極めて好適である。また、基板ホールダを複数枚の
平板状基板ホールダで構成する装置は、サセプタ加熱手
段がサセプタの内側に配置されるとともに、被成膜基板
搭載用基板ホールダを保持するサセプタ本体が、各平板
状基板ホールダの裏面全面に当接する伝熱面を備えてい
る装置とするとよい。

【０００９】また、基板ホールダを複数枚の平板状基板
ホールダで構成する装置を、サセプタ加熱手段がサセプ
タの内側に配置されるとともに、被成膜基板搭載用基板
ホールダを保持するサセプタ本体が、各平板状基板ホー
ルダを直接加熱させるための開口を備えた装置とすれば
さらに好適である。また、反応炉容器内で軸方向が反応
炉容器の軸と同方向となる釣鐘状のサセプタ本体は、そ
の軸まわりに回転可能に支承されるようにすれば極めて
好適である。

【００１０】さらに、被成膜基板搭載用基板ホールダの
各平板状基板ホールダに搭載基板落下防止用の基板カバ
ーを付設するようにすればさらに好適である。ここで、
搭載基板落下防止用の基板カバーは、被成膜基板の反応
ガス流と直角方向の両端部のみを押さえる板材とするの
がよい。また、基板ホールダを複数枚の平板状基板ホー
ルダで構成する場合には、装置として、各平板状基板ホ
ールダをサセプタ本体に取り付け、あるいはサセプタ本
体から取り外すための，水平方向搬送機構および上下方
向移動機構を有する搬送装置を組み込んだ装置とすれば
極めて好適である。

【００１１】また、基板ホールダを複数枚の平板状基板
ホールダで構成する場合には、各平板状基板ホールダが
反応ガスの上流側端部両側に面方向両側へ突き出た棒状
のホールダサポートを備えるとともにサセプタ本体に該
ホールダサポートが挿入されるホールダサポート受けを
設けるようにすれば極めて好適である。

【００１２】

【作用】上記のごとく、被成膜基板を装着した基板ホー
ルダをサセプタに組み込む構成とすると、成長に先立つ
被成膜基板組み込み作業に際しては、被成膜基板の基板
ホールダへの装着作業は、基板ホールダを予め反応炉外
で基板装着面が水平となるように置いた状態で実施でき
るので、短時間で容易に装着でき、かつ基板の落下，破
損，表面の損傷等の恐れはない。また、被成膜基板を装
着した基板ホールダをサセプタに組み込む作業において
も、従来と異なり、剛性の高い基板ホールダを搬送すれ
ばよいので作業は容易となる。

【００１３】ここで基板ホールダを、被成膜基板が反応
ガスの流れの方向に複数枚搭載可能となるように流れ方
向に長い平板状に形成され、各被成膜基板が嵌合状態に
嵌め込まれる，深さが被成膜基板の厚みとほぼ等しい座
ぐり部が、反応ガスと接触する表面側に反応ガスの流れ
方向複数個所に形成されてなる平板状基板ホールダの複
数枚で構成するようにすれば、各平板状基板ホールダを
反応炉外で水平に置いた状態で各平板状基板ホールダご
とに複数枚づつ被成膜基板が組み込まれるので、サセプ
タへの組み込み作業の所要繰返し回数が１／３〜１／４
と大幅に低減される。また、被成膜基板が嵌め込まれる
座ぐり部は深さが基板の厚みにほぼ等しいので、基板を
流れる反応ガスの層流状態を乱すことなく上記作業時間
の短縮が可能になる。

【００１４】また、基板ホールダを複数枚の平板状基板
ホールダで構成する場合には、各平板状基板ホールダの
適宜の位置にサセプタ本体への着脱作業用把手を設ける
ことにより、サセプタ本体への着脱が著しく容易とな
り、人手を用いて着脱を行う場合、基板落下の危険が極
めて小さくなる。また、基板ホールダを複数枚の平板状
基板ホールダで構成する場合、装置として、サセプタ加
熱手段がサセプタの内側に配置されるとともに、被成膜
基板搭載用基板ホールダを保持するサセプタ本体が、各
平板状基板ホールダの裏面全面に当接する伝熱面を備え
たものとすれば、伝熱面と平板状基板ホールダ裏面との
接触状態に不均一があっても、熱は温度の低い方に多く
流れる性質があるので、平板状基板ホールダ裏面から伝
達された熱は、平板状基板ホールダを面方向に均熱化し
ながら厚み方向に進み、平板状基板ホールダの厚みを適
宜に設定することにより、平板状基板ホールダの表面温
度を実質的に均一することができ、サセプタをサセプタ
本体と基板ホールダとに分割する前の装置と変わらない
装置運転が可能となる。

【００１５】また、基板ホールダを複数枚の平板状基板
ホールダで構成する場合、装置として、サセプタ加熱手
段がサセプタの内側に配置されるとともに、被成膜基板
搭載用基板ホールダを保持するサセプタ本体が、各平板
状基板ホールダを直接加熱させるための開口を備えたも
のとすれば、平板状基板ホールダの均一加熱が厚みの影
響を受けることなく可能となり、サセプタをサセプタ本
体と基板ホールダとに分割する際の各部寸法設定の自由
度が増し、従来のサセプタの寸法を保持して分割に伴う
コストを最小とすることができる。

【００１６】また、釣鐘状のサセプタ本体をその軸まわ
りに回転可能に支承する装置構成とすれば、サセプタ本
体を回転させながら基板ホールダを取り付けることがで
き、作業が容易になり、かつ作業能率も向上する。さら
に、平板状基板ホールダの場合、ホールダに基板落下防
止用カバーを付加すれば基板の保持が確実となり、基板
のサセプタへの装着作業の進行が基板落下により阻害さ
れることがなくなり、装着作業の短時間化がより確実と
なる。

【００１７】そして、このカバーを、基板の反応ガス流
と直角方向の両端部のみを押さえる板材とすれば、基板
を流れる反応ガスの層流を乱すことなく基板を押さえる
ことができ、また、カバーで覆われる基板面積は僅少で
あるから、膜面積の損失分は極めて小さくてすむ。さら
に、基板ホールダが複数枚の平板状基板ホールダで構成
される装置の場合、装置として各平板状基板ホールダを
サセプタ本体に取り付け、あるいはサセプタ本体から取
り外すための，水平方向搬送機構および上下方向移動機
構を有する搬送装置を組み込んだ装置とすることによ
り、常に安定した組込み、取外し作業が可能となり、被
成膜基板のサセプタへの装着作業の短時間化と、基板落
下の危険のない安全化とを安定して実現させることがで
きる。

【００１８】また基板ホールダが複数枚の平板状基板ホ
ールダで構成される装置の場合、各平板状基板ホールダ
が反応ガスの上流側端部両側に面方向両側へ突き出た棒
状のホールダサポートを備えるとともにサセプタ本体に
該ホールダサポートが挿入されるホールダサポート受け
を設けるようにすると、基板のサセプタへの着脱を人手
を用いて行う場合にも、また搬送装置を用いて行う場合
にも着脱が確実，容易となるメリットが得られる。

【００１９】

【実施例】図１に、本発明によるサセプタ構成の第１の
実施例を示す。被成膜基板６を装着した平板状の基板ホ
ールダ３１が、多面体形状に形成されたサセプタ本体の
胴部２１Ｂの各面の表面に形成されたホールダ収納部３
２に組み込まれている。したがって、被成膜基板６は予
め基板ホールダ３１を水平にして組み込みを行った後、
サセプタ本体の胴部２１Ｂへと組み込まれるので、ハン
ドリングに際しての基板の落下，破損等のトラブルが大
幅に抑制され、かつ短時間での装着が可能となる。ホー
ルダ収納部３２は、基板ホールダ３１が組み込まれたと
きに基板ホールダ３１の裏面と当接する底面を有し、こ
の底面が図示されないサセプタ本体内側の赤外線ランプ
の熱を受けて基板ホールダ３１の裏面に伝達し、サセプ
タ本体と基板ホールダ３１とが同時に温度上昇する。平
板状の基板ホールダ３１には厚みがあり、基板ホールダ
３１の裏面とサセプタ本体のホールダ収納部３２の底面
との当接状態に不均一があっても、熱は常に温度の低い
方へより多く向かう性質があるので、基板ホールダ３１
に伝達された熱は面方向にホールダを均熱化しながら厚
み方向に進行し、基板ホールダ３１の表面では実質的に
温度が均一化され、表面の浅い座ぐり部に装着された被
成膜基板６の温度を面内均一に上昇させる。

【００２０】図２に本発明によるサセプタ構成の第２の
実施例を示す。被成膜基板６を装着した平板状の基板ホ
ールダ３１は、サセプタ本体の胴部２１Ｂの外側から内
側へ貫通する開口３３を有するホールダ収納部３２に組
み込まれている。この構成では、基板ホールダ３１の裏
面が直接赤外線ランプで加熱されるので、平板状基板ホ
ールダ３１の厚みが薄くても温度均一性を得ることが容
易に可能である。

【００２１】図３ないし図５は、それぞれ、本発明にお
ける平板状基板ホールダ３１の異なる実施例を示したも
のである。図３の実施例では、平板状基板ホールダ３１
の表面に、被成膜基板が嵌合状態に嵌め込まれかつ基板
の被成膜面と基板ホールダ３１の表面とが同一平面とな
るように形成された座ぐり部７１が設けられており、さ
らに反応ガス流れの上流側，下流側の両側には、本基板
ホールダ３１をサセプタに組み込むとき、あるいはサセ
プタから取り出すときに把手となるピン３４が植設され
ている。

【００２２】図４の実施例は、図３の実施例で示した基
板ホールダ３１に、ピン３４を利用して基板カバー３５
を取りつけたものである。本構成では、座ぐり部７１に
被成膜基板６を装着した上に基板カバー３５を取りつけ
て、サセプタへの組込み作業、サセプタからの取外し作
業を行うので、搬送時の基板の落下、破損の防止に極め
て有効である。なお、本構成では、基板カバー３５が基
板ホールダ３１や被成膜基板６の表面から突出した構成
となっているので、反応ガスの流れを部分的に乱すこと
が危惧されるが、被成膜基板の落下防止の用をはたすた
めには基板カバー３５は成膜基板の端部１〜２ｍｍの表
面のみを覆えば良く、また流れ方向の長さが基板の配列
長さを十分カバーしているので、実質的に反応ガスの流
れを乱す恐れはない。

【００２３】図５の実施例は、図３の実施例で示した基
板ホールダ３１に、さらに反応ガス流れの上流側端部の
両側面にホールダサポート３６を付加したものである。
本構成ではホールダサポート３６を、図示していないサ
セプタに設置されたホールダサポート受けに嵌め合わせ
ることにより、基板ホールダ３１をサセプタと緊密に組
み合わせることができるので、基板ホールダ３１の取付
け、取外しがより確実，安全に実施できる。なお、本構
成でさらに図４の実施例で示した基板カバー３５を付加
すれば、より効果が上がることはいうまでもない。

【００２４】図６は、図５に示した基板ホールダ３１を
用いることにより、水平方向の搬送機構と上下方向の移
動機構とを有する搬送装置と組み合わせての、基板のサ
セプタへの自動組込みの実施例を示したものである。図
６（ａ）に図示したように、被成膜基板６を装着した基
板ホールダ３１は搬送装置のホールダ搬送アーム３８に
積載され、サセプタ本体の胴部２１Ｂのホールダ収納部
３２の上端部に設けられたホールダサポート受け３７と
基板ホールダ３１に設けられたホールダサポート３６と
が同一高さとなる水平面を水平方向に搬送し、図６
（ｂ）に図示したように、ホールダサポート３６をホー
ルダサポート受け３７へ嵌め合わせる。嵌め合わせの
後、搬送装置を下方へ移動させると、図６（ｃ）に図示
したように、基板ホールダ３１は上端が枢支された状態
で下端がホールダ搬送アーム３８の上をスライドして行
く。さらに搬送装着を下方へ移動させると、図７（ｄ）
に図示したように、下端がホールダ収納部３２の壁面へ
と達する。この後、ホールダ搬送アーム３８を水平方向
にサセプタ本体の胴部２１Ｂから遠ざけることにより胴
部２１Ｂへの基板ホールダ３１の組み込み、すなわち被
成膜基板６の装着が終了する。なお、サセプタ本体の胴
部各面への組込み作業は、サセプタ本体を回転させて順
次当該面を搬送装置に対向させることにより実施可能で
ある。また、本図では被成膜基板６のサセプタ本体への
装着を示したが、成膜運転終了後に被成膜基板６をサセ
プタ本体から取り出す際には、図６，７において逆の順
序、すなわち、図７（ｂ）→（ａ）→図６（ｃ）→
（ｂ）→（ａ）の手順で操作すればよい。

【００２５】なお、図６，７の実施例では、サセプタ本
体胴部の構造を図１の構造として例示したが、図２の構
造においても同様の操作が可能である。また、実施例で
は、基板ホールダ３１を図５に示した構造として例示し
たが、本構造にさらに図４に例示した基板カバーを付加
した構成とすることも可能である。

【００２６】

【発明の効果】本発明においては、バレル型気相成長装
置を以上のように構成したので、以下に記載する効果が
得られる。請求項１の装置では、サセプタを釣鐘状サセ
プタ本体と，サセプタ本体と分離可能に構成された被成
膜基板搭載用の基板ホールダとで構成し、被成膜基板を
装着した基板ホールダをサセプタ本体に組み込むように
したので、膜成長に先立つ被成膜基板の組込み作業，膜
成長後の被成膜基板の取出し作業が反応炉外の水平位置
で実施でき、被成膜基板のサセプタへの着脱が短時間で
可能となり、装置の稼働率が向上する。また、基板の落
下，破損，表面損傷等の不都合を生じる恐れが少なくな
り、基板の損失枚数が減少する。

【００２７】請求項２の装置では、請求項１の装置にお
ける基板ホールダを、被成膜基板が反応ガスの流れの方
向に複数枚搭載可能となるように流れ方向に長い平板状
に形成され、各被成膜基板が嵌合状態に嵌め込まれる，
深さが被成膜基板の厚みとほぼ等しい座ぐり部が、反応
ガスと接触する表面側に反応ガスの流れ方向複数個所に
形成されてなる平板状基板ホールダの複数枚から成るも
のとしたので、被成膜基板のサセプタへの組込み時間が
さらに大幅に短縮され、装置の稼働率かさらに向上す
る。

【００２８】請求項３の装置では、基板ホールダのサセ
プタ本体への着脱が著しく容易となり、着脱作業中の基
板落下の危険が減少し、基板の損失枚数がさらに減少す
る。請求項４の装置では、サセプタをサセプタ本体と基
板ホールダとに分割したことによるサセプタ加熱手段の
加熱効果の変化がほとんどなく、装置運用を従来のまま
継続して行うことができ、装置の稼働率を一時的にでも
低下させないですむ。

【００２９】請求項５の装置では、平板状基板ホールダ
の均一加熱が基板ホールダの厚みの影響を受けることな
く可能となり、サセプタをサセプタ本体と基板ホールダ
とに分割する際の各部寸法設定の自由度が増し、サセプ
タの分割に伴うコストを最小とすることができる。請求
項６の装置では、基板ホールダのサセプタ本体への着脱
が効率よく行われ、装置の稼働率が向上する。

【００３０】請求項７の装置では、着脱に伴う基板落下
の恐れがなくなり、基板の損失枚数をさらに減少させる
ことができる。請求項８の装置では、請求項７の効果
を、基板表面の反応ガス流の層流状態を乱すことなく、
また膜面積の損失を極く僅少として得ることができる。
請求項９の装置では、被成膜基板のサセプタへの着脱作
業が常に安定して、かつ時間の無駄なく行われ、請求項
２の効果を最大限まで高めることができる。

【００３１】請求項１０の装置では、基板ホールダのサ
セプタ本体への着脱が容易，確実となり、基板のサセプ
タへの着脱時間が一層短縮され、かつ基板の損失枚数が
さらに減少する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるバレル型気相成長装置におけるサ
セプタ構成の第１の実施例を示す部分断面図

【図２】本発明によるバレル型気相成長装置におけるサ
セプタ構成の第２の実施例を示す部分断面図

【図３】本発明によるバレル型気相成長装置における基
板ホールダ構造の一実施例を示す斜視図

【図４】本発明によるバレル型気相成長装置における基
板ホールダ構造の、図３と異なる実施例を示す斜視図

【図５】本発明によるバレル型気相成長装置における基
板ホールダの、図３および図４と異なる実施例を示す斜
視図

【図６】本発明によるバレル型気相成長装置を基板ホー
ルダ搬送装置付きとした場合の、該搬送装置による基板
ホールダのサセプタ本体への装着手順を示す説明図であ
って、同図（ａ）は搬送装置の装着開始直前の状態、同
図（ｂ）は装着開始直後の状態、同図（ｃ）は装着行程
途中の状態をそれぞれ示す図

【図７】図６（ｃ）以後の装着状態の各段階を示す説明
図であって、同図（ａ）は装着完了時点の状態、同図
（ｂ）は搬送装置が装着開始直前の位置に戻ったときの
搬送装置ハンド上の状態をそれぞれ示す図

【図８】従来のバレル型気相成長装置構成の一例を示す
断面図

【符号の説明】

１ サセプタ １Ｂ 胴部（バレル上胴部） ４ 反応炉容器 ６ 基板（被成膜基板） ７ 座ぐり部 ８ 反応ガス ９ 反応ガス入口（ガス導入口） １０ 赤外線ランプ（サセプタ加熱手段） ２１Ｂ 胴部 ３１ 基板ホールダ（平板状基板ホールダ） ３２ ホールダ収納部 ３３ 開口 ３４ 把手 ３５ ホールダサポート ３７ ホールダサポート受け ３８ 搬送アーム（搬送装置）

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成５年５月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２４

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２４】図６は、図５に示した基板ホールダ３１を
用いることにより、水平方向の搬送機構と上下方向の移
動機構とを有する搬送装置と組み合わせての、基板のサ
セプタへの自動組込みの実施例を示したものである。図
６（ａ）に図示したように、被成膜基板６を装着した基
板ホールダ３１は搬送装置のホールダ搬送アーム３８に
積載され、サセプタ本体の胴部２１Ｂのホールダ収納部
３２の上端部に設けられたホールダサポート受け３７と
基板ホールダ３１に設けられたホールダサポート３６と
が同一高さとなる水平面を水平方向に搬送し、図６
（ｂ）に図示したように、ホールダサポート３６をホー
ルダサポート受け３７へ嵌め合わせる。嵌め合わせの
後、搬送装置を下方へ移動させると、図６（ｃ）に図示
したように、基板ホールダ３１は上端が枢支された状態
で下端がホールダ搬送アーム３８の上をスライドして行
く。さらに搬送装着を下方へ移動させると、図７（ａ）
に図示したように、下端がホールダ収納部３２の壁面へ
と達する。この後、ホールダ搬送アーム３８を水平方向
にサセプタ本体の胴部２１Ｂから遠ざけることにより胴
部２１Ｂへの基板ホールダ３１の組み込み、すなわち被
成膜基板６の装着が終了する。なお、サセプタ本体の胴
部各面への組込み作業は、サセプタ本体を回転させて順
次当該面を搬送装置に対向させることにより実施可能で
ある。また、本図では被成膜基板６のサセプタ本体への
装着を示したが、成膜運転終了後に被成膜基板６をサセ
プタ本体から取り出す際には、図６，７において逆の順
序、すなわち、図７（ｂ）→（ａ）→図６（ｃ）→
（ｂ）→（ａ）の手順で操作すればよい。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】円筒状の反応炉容器と、反応炉容器の内部
   に軸方向か該容器の軸と同方向となるように配される，
   胴部がバレル状の釣鐘状サセプタと、サセプタを加熱す
   るサセプタ加熱手段とを備え、サセプタ表面に被成膜基
   板を載置して反応炉容器の釣鐘状サセプタ天井側端部の
   ガス導入口から反応ガスを導入するとともにサセプタ加
   熱手段によりサセプタを加熱して被成膜基板の表面に膜
   成長を行うバレル型気相成長装置において、サセプタを
   釣鐘状サセプタ本体と，サセプタ本体と分離可能に構成
   された被成膜基板搭載用の基板ホールダとにより構成す
   ることを特徴とするバレル型気相成長装置。
2. 【請求項２】請求項第１項に記載の装置において、被成
   膜基板搭載用の基板ホールダは、被成膜基板が反応ガス
   の流れの方向に複数枚搭載可能となるように流れ方向に
   長い平板状に形成され、各被成膜基板が嵌合状態に嵌め
   込まれる，深さが被成膜基板の厚みとほぼ等しい座ぐり
   部が、反応ガスと接触する表面側に反応ガスの流れ方向
   複数個所に形成されてなる平板状基板ホールダの複数枚
   からなることを特徴とするバレル型気相成長装置。
3. 【請求項３】請求項第２項に記載の装置において、被成
   膜基板搭載用の基板ホールダは、各平板状基板ホールダ
   が適宜の位置にサセプタ本体への着脱作業用把手を備え
   てなることを特徴とするバレル型気相成長装置。
4. 【請求項４】請求項第２項に記載の装置において、サセ
   プタ加熱手段がサセプタの内側に配置されるとともに、
   被成膜基板搭載用基板ホールダを保持するサセプタ本体
   が、各平板状基板ホールダの裏面全面に当接する伝熱面
   を備えていることを特徴とするバレル型気相成長装置。
5. 【請求項５】請求項第２項に記載の装置において、サセ
   プタ加熱手段がサセプタの内側に配置されるとともに、
   被成膜基板搭載用基板ホールダを保持するサセプタ本体
   が、各平板状基板ホールダを直接加熱させるための開口
   を備えていることを特徴とするバレル型気相成長装置。
6. 【請求項６】請求項第１項に記載のバレル型気相成長装
   置において、反応炉容器内で軸方向が反応炉容器の軸と
   同方向となる釣鐘状のサセプタ本体は、その軸まわりに
   回転可能に支承されることを特徴とするバレル型気相成
   長装置。
7. 【請求項７】請求項第２項に記載の装置において、被成
   膜基板搭載用基板ホールダの各平板状基板ホールダに搭
   載基板落下防止用の基板カバーを付設したことを特徴と
   するバレル型気相成長装置。
8. 【請求項８】請求項第７項に記載の装置において、搭載
   基板落下防止用の基板カバーは、被成膜基板の反応ガス
   流と直角方向の両端部のみを押さえる板材であることを
   特徴とするバレル型気相成長装置。
9. 【請求項９】請求項第２項に記載の装置において、各平
   板状基板ホールダをサセプタ本体に取り付け、あるいは
   サセプタ本体から取り外すための，水平方向搬送機構お
   よび上下方向移動機構を有する搬送装置を組み込んだこ
   とを特徴とするバレル型気相成長装置。
10. 【請求項１０】請求項第２項または第３項に記載の装置
    において、被成膜基板搭載用基板ホールダの各平板状基
    板ホールダは、反応ガスの上流側端部両側に面方向両側
    へ突き出た棒状のホールダサポートを備えるとともにサ
    セプタ本体に該ホールダサポートが挿入されるホールダ
    サポート受けが設けられていることを特徴とするバレル
    型気相成長装置。