JPH06308472A

JPH06308472A - 液晶表示素子

Info

Publication number: JPH06308472A
Application number: JP6024154A
Authority: JP
Inventors: Noburu Fujisawa; 宣藤澤; Hiroshi Ogawa; 洋小川; Masao Aizawa; 政男相澤
Original assignee: Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 1993-02-23
Filing date: 1994-02-22
Publication date: 1994-11-04

Abstract

(57)【要約】【構成】（１）透明電極層を有する２枚の透明基板、
（２）これらの基板間に支持された調光層であって、液
晶材料及び透明性固体物質からなる調光層、（３）一方
の基板の調光層と接していない基板面に設けられた光反
射増加層であって、屈折率の異なる光透過性媒体を少な
くとも２種類以上積み重ねてなる多層の光反射増加層及
び（４）光反射増加層の外側に設けた光吸収層を有する
液晶表示素子。【効果】高コントラストの表示ができ、バックライト
や偏光板を必要としない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光散乱型の調光層を有
し、文字や図形を表示し、高速応答性を以て電気的に表
示を切り換えることによって、各種表示素子、案内板、
公告板、装飾表示板等の表示用として利用される直視型
の液晶表示素子に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示素子は、ＤＳ（ダイナミック・
スキャッタリング）型が最初に応用され、初期の液晶時
計や電卓に使用された。現在では、ネマチック液晶を使
用したＴＮ（ツイスティッド・ネマチック）型やＳＴＮ
（スーパー・ツイスティッド・ネマチック）型の液晶表
示素子が実用化され、最も広く用いられている。また、
強誘電性液晶を利用したものも提案されている。

【０００３】ＴＮ型、ＳＴＮ型の液晶表示素子及び強誘
電性液晶表示素子は、偏光板を使用し、電界効果により
光の遮断及び透過を制御するものであり、このような機
能を表示に利用し、その多くを直視型として使用してい
る。

【０００４】ＤＳ型液晶表示素子は、電圧印加でイオン
性電流により乱流が発生し、光を散乱させる動的散乱の
原理を利用して偏光板不要の直視型の液晶表示素子とし
て用いられている。

【０００５】これらの液晶表示素子は非発光形素子であ
り、直視型表示装置においては何らかの光源が必要とさ
れる。そのため、ＴＮ型、ＳＴＮ型においては、周囲光
を利用する反射型と、背面に光源を組み込んだ透過型、
及びこれらの兼用型などの種類がある。

【０００６】反射型液晶表示素子は、素子の裏面側にア
ルミ箔等の光反射板が取り付けられており、素子の入射
光を反射させて表示に利用し、主に白黒表示に実用され
ている。

【０００７】透過型液晶表示素子は、エレクトロルミネ
センスの平面発光素子等の光源や蛍光灯を拡散板等によ
り光源からの光を均一拡散させ、導光板又は反射板を用
いて面発光体に変換させた光源を表示面の裏面側に設
け、白黒表示に使用され、或いは更にカラーフィルター
を組み込んだ上でカラー表示に使用されている。

【０００８】ＤＳ型液晶表示素子では、光の散乱光を表
示に利用し、光反射板が取り付けられているため、反射
型は表示面が鏡面となり見難いなどの欠点がある。ま
た、この型は電流動作型であるため寿命が短く実用的で
はない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】現在では、ＴＮ型又は
ＳＴＮ型液晶表示素子以外に、偏光板を必要としない型
の液晶表示素子が開発されている。その中で、調光層が
液晶材料及び透明性固体物質からなる光散乱型液晶表示
素子は、光の透過散乱を電界効果により制御するもので
ある。即ち、電界を印加しない場合に、液晶分子の配向
がランダムとなり、その結果、光を散乱させ、白濁する
散乱状態と、電界を印加した場合に、液晶分子が電界の
方向に配列し、光を透過する透明状態との切り換えによ
り、表示を認識させるものである。

【００１０】このような表示方式の光散乱型液晶表示素
子に、従来のＴＮ型あるいはＳＴＮ型液晶表示素子と同
様の方法を適用した場合、以下のような問題が生じる。

【００１１】（１）拡散光源を用いた場合、本来の表示
部分及び非表示部分に拡散光が照射されるため、透明状
態の部分とその周囲の散乱状態の部分とのコントラスト
の差が小さい。

【００１２】（２）光源を表示面裏面側に取り付けた場
合、透明状態の部分を透過する光によって、発光体が見
えてしまい表示の認識が難しくなる。

【００１３】このような問題点が生じるため、直視型か
つ光散乱型の液晶表示素子では、従来のような表示裏面
側に光源を設ける方法を用いることができない。

【００１４】更に、ＴＮ型、ＳＴＮ型に実用化されてい
る直視型の反射方式を光散乱型液晶表示素子に適用する
と、電圧無印加時の光散乱状態では調光層で散乱された
光が反射されて再び調光層で更に散乱されるため、白色
の表示が強められる。しかし、電圧印加により光散乱型
液晶素子を光透過状態にすると、素子に入射する周囲光
を直接反射するため、反射板が鏡の様に見え、白黒表示
やカラー表示とは異なり違和感のある表示になる。特
に、白黒表示を得ることは、この方式では難しくなる。

【００１５】本発明が解決しようとする課題は、表示が
明るく、バックライト及び偏光板が不要な直視型かつ光
散乱型の液晶表示素子を提供することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、（１）透明電極層を有する２枚の透明基
板、（２）これらの基板間に支持された調光層であっ
て、液晶材料及び透明性固体物質からなる調光層、
（３）一方の基板の調光層と接していない基板面に設け
られた光反射増加層であって、屈折率の異なる光透過性
媒体を少なくとも２種類以上積み重ねてなる多層の光反
射増加層及び（４）光反射増加層の外側に設けた光吸収
層を有することを特徴とする液晶表示素子を提供する。

【００１７】本発明で使用する基板は、堅固な材料、例
えば、ガラス、金属等であってもよく、柔軟性を有する
材料、例えば、プラスチックフィルムの如きものであっ
てもよい。そして、基板は２枚が対向して適当な間隔を
隔て得るものであり、２枚の基板は透明性を有し、その
２枚の間に挟持される液晶層及び透明性高分子物質を有
する層からなる調光層を外界から視覚させるものでなけ
ればならない。また、この基板には、目的に応じて透
明、不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配置
される。

【００１８】なお、２枚の基板間には、液晶材料及び透
明性固体物質からなる調光層が介在されるが、この２枚
の基板間には、通常、周知の液晶表示素子と同様、間隔
保持用のスペーサーを介在させることもできる。

【００１９】スペーサーとしては、例えば、マイラー、
アルミナ、ポリマービーズ等種々の液晶セル用のものを
用いることができる。

【００２０】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
化合物であることを要しないのは勿論であり、２種以上
の液晶化合物や液晶化合物以外の物質を含んだ混合物で
あってもよく、通常この技術分野で液晶材料として認識
されるものであればよく、そのうちの正の誘電率異方性
を有するものが好ましい。用いる液晶としては、ネマチ
ック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が好
ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を改
善するために、コレステリック液晶、キラルネマチック
液晶、キラルスメクチック液晶やキラル化合物や２色性
色素等が適宜含まれていてもよい。

【００２１】本発明で使用する液晶材料は、以下に示し
た化合物群から選ばれる１種以上の化合物からなる配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、屈折率異方性（Δ
ｎ）、誘電率異方性（Δε）、及び重合性組成物との溶
解性等を考慮して、適宜選択、配合して用いることがで
きる。

【００２２】前記液晶材料としては、例えば、４−置換
安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロ
ヘキサンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−
置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエ
ステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキ
シ）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−
置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエス
テル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−
置換シクロヘキシルエステル、４−置換４’−置換ビフ
ェニル、４−置換フェニル４’−置換シクロヘキサン、
４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル
４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）
−５−置換ピリミジンなどを挙げることができる。

【００２３】調光層中の、液晶材料、透明性固体物質を
形成する透明性高分子物質の含有量は、重量比で６０：
４０〜９５：５の範囲が好ましく、７５：２５〜８５：
１５の範囲が特に好ましい。調光層中の液晶材料の割合
がこの範囲よりも多すぎたり、少なすぎる場合、液晶材
料と透明性高分子物質の分散状態が均一にならないの
で、光散乱による調光機能が発現しなくなる傾向にある
ので、好ましくない。

【００２４】前記調光層中に形成される透明性高分子物
質は、ポリマー中に液晶材料が液滴状となって分散する
ものでもよいが、三次元網目状構造を有するものがより
好ましい。

【００２５】この透明性高分子物質の三次元網目状部分
には、液晶材料が充填され、且つ、液晶材料が連続層を
形成することが好ましく、液晶材料の無秩序な状態を形
成することにより、光学的境界面を形成し、光の散乱を
発現させる上で必須である。

【００２６】本発明で使用する透明性高分子物質として
は、光硬化性の合成樹脂が好適である。三次元網目状構
造を与えるものとしては、高分子形成性モノマーもしく
はオリゴマーを重合させて得られる光硬化型樹脂が好ま
しい。

【００２７】基板間に形成される透明性高分子物質が三
次元網目状構造を形成する方法としては、例えば、２枚
の基板間に挟持された（ａ）液晶材料及び（ｂ）高分子
形成性モノマーもしくはオリゴマー及び重合開始剤を含
有する光重合性組成物を含有する調光層形成材料を等方
性液体状態に保持しながら活性光線を照射し、光重合性
組成物を重合させる方法が挙げられる。

【００２８】調光層形成材料を２枚の基板間に介在させ
るには、調光層形成材料を基板間に注入してもよいが、
これに限らず、一方の基板に適当な溶液塗布機やスピン
コーター等を用いて均一に塗布し、次いで他方の基板を
重ね合わせて圧着させてもよい。

【００２９】また、一方の基板上に調光層形成材料を均
一な厚さに塗布し、光重合性組成物を重合し、硬化させ
た調光層を形成した後、他方の基板を貼り合わせる液晶
表示素子の製造方法も用いることができる。

【００３０】前記透明性高分子物質を形成する高分子形
成性モノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチ
レン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン：置換基
としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミ
ル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシ
ル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベ
ンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシ
エチル、アルリル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロ
キシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２
−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチ
ルアミノエチル等のごとき基を有するアクリレート、メ
タクリレート又はフマレート；エチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、１，３ −ブチレングリコール、
テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコー
ル、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパ
ン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモノ（メ
タ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレート；酢酸
ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロニト
リル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセ
ン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、２
−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル酸、メタク
リル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒド
ロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒドロキシエチル
メタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル化合
物、トリメチロールプロパン、１モルに３モル以上のエ
チレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加
して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレー
ト、ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチ
レンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加し
て得たジオールのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロ
キシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソ
シアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルと
の反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）
アクリレート、トリス−（ヒドロキシエチル）−イソシ
アヌル酸のポリ（メタ）アクリレート、トリス−（ヒド
ロキシエチル）−リン酸のポリ（メタ）アクリレート、
ジ−（ヒドロキシエチル）−ジシクロペンタジエンのモ
ノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、
ピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレ
ート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、直鎖脂肪族
ジ（メタ）アクリレート、ポリオレフィン変性ネオペン
チルグリコールジ（メタ）アクリレート等を挙げること
ができる。

【００３１】高分子形成性オリゴマーとしては、例え
ば、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メ
タ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレー
ト、ポリエーテル（メタ）アクリレート等を用いること
ができる。

【００３２】重合開始剤としては、例えば、２−ヒドロ
キシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
（メルク社製「ダロキュア１１７３」) 、１−ヒドロキ
シシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製
「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフ
ェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−
オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジル
ジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア
６５１」）、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フ
ェニル］−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア９０７」）、２，４−ジエチル
チオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＴ
Ｘ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬
社製「カヤキュアＥＰＡ」）との混合物、イソプロピル
チオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタキ
ュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルと
の混合物等が挙げられる。

【００３３】活性光線としては紫外線、可視光線、電子
線、レザー光線等を用いることができるが、汎用性の点
からは特に紫外線が好ましく、例えば、高圧水銀ラン
プ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノ
ンランプ等の装置を用いることができる。

【００３４】本発明で使用する光反射増加層は、光透過
性媒体の屈折率に差がある２種類以上の媒体を積層さ
せ、所望の反射率を得るために媒体の積層回数で調整す
る。また、積層する媒体の組み合わせにより、光の入射
方向に対し使用する媒体の屈折率が大から小、小から
大、大小大小及び小大小大に変化させることができる。
小から大の変化では反射光量は小さい傾向になるが、液
晶表示素子における表示の認識できる範囲を示す視野角
は大きくなり、大から小の変化では全反射が起こり、反
射光量は大きくなるが視野角は狭くなる傾向にある。

【００３５】例えば、積層する媒体の屈折率が小から大
に変化する場合、表示面法線方向より入射した光に対す
る反射増加層の反射率は数％であるが、法線方向に対し
て入射角が増加すると、反射増加層の反射率は増加し、
入射角が４０〜６０度付近を越えると入射角度に対する
反射率の変化量が大きく、反射率が約１０〜４５％にな
る。この付近でコントラストが低下することから、使用
する媒体間の屈折率の違いでコントラストが低下する視
野角の範囲を調整することができる。また、コントラス
トが低下するまでの視野角の範囲を超える角度では、反
射率は更に高くなる。そのため、素子のＯＦＦ状態部分
では光が透過する際に散乱された前方散乱光の一部は反
射され、ＯＦＦ状態部分の散乱強度を向上させ、ＯＦＦ
状態部分の表示面の輝度を高くさせる効果がある。コン
トラストが低下するまでの視野角の範囲に於いて、ＯＮ
状態の部分では、光は直進透過し、光の反射率は数％で
あることから、大部分の光は反射増加層を透過し、光吸
収層に吸収され、ＯＮ状態部分の表示面の輝度上昇は小
さく、結果として、ＯＮとＯＦＦの輝度の差が大きくな
り、コントラストが向上する。

【００３６】一方、使用する媒体の屈折率が大から小に
変化する場合、隣接する異なる屈折率媒体間の屈折率の
比の大きさに依存して全反射が起きる臨界角が存在し、
反射率が１００％近くに達し表示が認識できなくなる。
この場合は、表示の視野角は表示法線方向から臨界角が
起きる範囲以内となる。コントラスト向上の効果は積層
する媒体の屈折率が小から大に変化た場合と同様であ
る。従って、使用目的に応じて異なる屈折率の光透過性
媒体の組み合わせを選択することができる。

【００３７】光透過性媒体の反射率が低く、配置した光
吸収層の影響で表示面の輝度が弱くなり、コントラスト
が低下する場合は、積層回数を増やすことにより、光吸
収層の影響を小さくして、コントラストを改善させるこ
とができる。

【００３８】光透過性媒体の材料としては、光透過層が
形成可能であればよく、高分子、気体、誘電体膜、金属
薄膜、光学ガラス等が挙げられる。また、それ自体フィ
ルム形状をなすものに限らず、ゴム状、柔らかい物であ
ってもよく、液状であっても周辺部をシールすることに
より使用してもよい。また、接着機能や紫外線カット機
能等他の機能を付加した形状で用いればより好ましい。

【００３９】更に、高い屈折率材料と低い屈折率材料と
を組み合わせて、光反射増加層を形成することが効果的
である。

【００４０】高分子から成る光透過性媒体は、芳香族環
やフッ素以外のハロゲンを含んだ高分子が高屈折率を示
し、フッ素系高分子及びシリコン系高分子が低屈折率を
示す。低屈折率の高分子としては、例えば、ポリパーフ
ロロエチレン、ポリトリフロロエチレン、ポリジメチル
シロキサン、ポリトリフルオロイソプロピルメタクリレ
ート、ポリメタクリル酸トリフルオロエチル、シリコン
ポリマー等が挙げられ、高屈折率の高分子としては、例
えば、ポリクロロスチレン、ポリカーボネイト、ポリス
チレン、ポリ安息香酸ビニル、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルナフタレン
等が挙げられる。

【００４１】また、汎用樹脂として安価に入手可能な光
透過性媒体であれば、パネルコストを低くでき有効であ
る。そのような樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェ
ノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹
脂、ポリエチレンポリプロピレン、ポリブタジエン、ポ
リウレタン、ポリアミド、ポリイミド、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニルデン、ポリビニルブチラール、ポリ
アセタール等が挙げられる。必要に応じて、低屈折率の
高分子と高屈折率の高分子を組み合わせて積層すること
ができるが、ガラス、誘電体膜、金属薄膜とも組み合わ
せて積層することも可能である。また、市販されている
光透過性を示す接着剤等を媒体として使用することもで
きる。

【００４２】気体は、他の光透過性媒体と組み合わるこ
とにより光透過性媒体として利用できる。特に、空気は
使用する他の光透過性媒体との屈折率の差を大きくで
き、使用する光透過性媒体の１種類が板状又は膜状の場
合は、板状又は膜状の媒体間に空間を設けて積層するだ
けで容易に光反射増加層を形成できる。

【００４３】光透過性媒体の材料となる誘電体膜は、例
えば、高屈折率を有する材料として、ＺｎＳ、ＴｉＯ₂
等が挙げられ、低屈折率を有する材料として、Ｃｅ
Ｆ₃、氷晶石等が挙げられ、蒸着等の薄膜形成方法によ
り形成できるので、薄膜化が容易であり、光の干渉を利
用して、特定の光の波長の反射強度を増加させることが
可能である。

【００４４】その調整方法は各層の膜厚をｄとした場合
に式

【００４５】

【数１】ｎｄ＝λ／４

【００４６】（式中、λは光の波長を、ｎは媒体の屈折
率をそれぞれ表わす。）の関係を満たすように膜厚を形
成して特定の波長の反射率を高めて積層することができ
る。特に、光散乱型の液晶表示素子の短波長側の散乱強
度が高い場合、反射率の分光特性において３００〜６０
０nm付近の反射率が高くなるように膜厚や積層数を調整
することにより、コントラストを向上させることがで
き、より好ましくなる。更に、表示面に対し裏面側に配
置した光吸収層と調光層との距離を最小にできるので表
示の視野角の改善が可能となる。

【００４７】金属薄膜も光透過性媒体の材料として使用
可能であり、例えば、Ａｌなど薄膜化により光透過性を
有し、屈折率が異なれば任意の組み合わせで積層するこ
とができ、蒸着等の薄膜形成方法で容易に形成できる。

【００４８】本発明で使用する光反射増加層は、組み合
わせて使用する媒体間の屈折率の差をできるだけ大きく
することにより、少ない積層回数で高いコントラストが
得られる。更に、選択した光透過性媒体の内、１種類の
屈折率ｎが上記透明性基板の屈折率ｎ_sより大きくする
ことがより好ましい。

【００４９】光反射増加層の支持方法としては、直接、
液晶素子の前記透明性基板に蒸着等により屈折率の異な
る光透過性媒体を積層させる方法、高分子膜等を前記透
明性基板に貼り合わせる方法、高分子膜等の前記透明性
基板以外の支持基板に貼り合わせて積層する方法或いは
蒸着等により積層させる方法等が挙げられ、これらの方
法は、必要に応じて選択することができる。

【００５０】特に、前記基板に積層させる方法は、ポリ
エチレンテレフタレートフィルム等の高分子膜の表面に
前記光反射増加層を形成させることにより、安価な光反
射増加層として提供できる。また、前記支持基板は、光
透過性媒体でもよく、光吸収性媒体でも必要に応じ使用
でき、更に、前記光反射増加層を構成する光透過性媒体
の内の１層を支持基板として使用することもできる。

【００５１】光反射増加層の積層方法としては、屈折率
の異なる光透過性媒体を順次積み重ねればよいことか
ら、スパッタリング・蒸着等の一般の薄膜形成方法で形
成すればよく、異なる光透過性媒体の膜を接着剤等を使
用して貼り合わせる方法、及び、その媒体の一部分を接
着剤等で固定する方法が挙げられる。使用する接着剤
は、光透過性を示すものを用いることが好ましく、更
に、使用する光透過性媒体の屈折率と異なるものを用い
れば光反射増加層を構成する媒体として利用することが
できるので、より好ましい。また、屈折率の異なる光透
過性媒体間にスペーサを分散させて空間を設け、気体を
光反射増加層を構成する媒体として使用することもでき
る。

【００５２】光吸収層に使用する材料は、可視光領域を
吸収する材料で塗装や蒸着等で薄膜化可能なものが好ま
しく、光吸収層の表面反射率が数％以下であることがよ
り好ましい。そのような材料としては、例えば、吸収層
が黒色の場合はカーボンを蒸着して用いてもよく、カー
ボンを含んだ塗料を使用してもよい。使用目的に応じ
て、単色を全面に塗布することができる。また、所望の
表示に合わせて数種類の色を選択して使用することがで
き、使用目的に応じて光の吸収波長を調整することもで
きる。所望の色彩で表示を得るには、反射増加層の透過
光の波長依存性を考慮する必要があり、光吸収層のＣＩ
Ｅ表色系の明度及び彩度を調整して得ることができる。

【００５３】更に、光吸収層は、光の吸収波長の異なる
材料を複数組み合わせて使用することもできる。例え
ば、赤の吸収波長領域、青の吸収波長領域、黄色の吸収
波長領域を示す材料を紙等に塗布し、表示がマトリック
ス状に配置した画素で構成されている場合は、画素と同
等の大きさにし、各色の配置を必要に応じて、モザイク
状、三角形状、又はストライプ状で各画素の裏面に規則
性を以て配置し、各画素の透明状態、散乱状態を切り換
えることにより波長別の光吸収量を変化させ、カラー表
示を得ることができる。

【００５４】なお、必要に応じて、外光反射防止手段を
用いることもできる。前記外光反射防止手段は、液晶表
示素子の表示面における周囲光の正反射を防止して見や
すい表示に改善するためのものである。具体的には、液
晶表示素子の表面を微細凹凸状に加工して該表面を用い
て正反射光を拡散させる方法が挙げられ、あるいは、液
晶表示素子の透明基板の屈折率をｎ_s、空気の屈折率を
ｎ₀、光透過性媒体の屈折率をｎとすると、それらの関
係が

【００５５】

【数２】ｎ₀＜ｎ＜ｎ_s

【００５６】を満足する媒体を選択して表面反射を防止
する方法が挙げられる。

【００５７】また、ｎを、ｎ0とｎsの積の平方根に等し
くなるよう選び、光透過性媒体の膜厚を

【００５８】

【数３】λ／４

【００５９】（式中、λは透過光の波長であって、例え
ば、λ＝５５０ｎｍとする）に等しくして、前記透明性
基板表面に単層膜を形成することにより、透過率１００
％になり反射防止状態となる。例えば、単層膜では、
ＭｇＦ₂を使用して約２％、二層では、ガラス基板表面
に第１層をＭｇＦ₂、第２層をＣｅＦ₃とすることによ
り、反射率が０．３％となる。

【００６０】

【作用】本発明の液晶表示素子は、光反射増加層を屈折
率が異なる２種類以上の光透過性媒体を１〜１０数回積
層して形成し、必要に応じ、光吸収層と組み合わせたも
のである。光反射増加層を屈折率が異なる媒体で構成
し、異なる媒体間の境界で光の反射が起こる性質を利用
して多層膜を構成すると、多重反射が起こる。また、積
層回数を調整することにより、反射率を変化させること
が可能である。更に、異なる媒体間の界面における光の
反射は、反射率に角度依存性があり、層の法線方向の入
射角をゼロとすると入射角が大きくなるにつれて反射率
が増加する。従って、調光層が散乱状態においては、多
重反射と異なる媒体間の界面における反射率の角度依存
性の性質を利用して散乱された光の反射光量を増大させ
ることができる。一方、調光層が透過状態では、光反射
層に到達する光は入射角が小さく散乱される成分が少さ
いため反射光量は減少する。このように、本発明の液晶
表示素子は、光反射増加層の作用により、調光層の散乱
状態の反射光量と調光層の透過状態の反射光量の差が大
きいため、直視型かつ光散乱型の液晶表示素子において
はコントラストを大幅に改善することができ、光吸収層
の組み合わせによりバックライト不要な白黒表示やカラ
ー表示の直視型かつ光散乱型の液晶素子を提供すること
ができる。

【００６１】

【実施例】以下、本発明の実施例及び比較例を用いて本
発明を詳細に説明する。しかしながら、本発明は、これ
らの実施例に限定されるものではない。

【００６２】評価特性で使用される記号は、下記の表１
において意味及び内容を示した。

【００６３】

【表１】

【００６４】（実施例１）図１に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層３、調光層４、及び透
明性電極５で構成される。

【００６５】「ＰＮ−００１」（ロディック社製のネマ
チック液晶）８０．０％、「カヤラッド（KAYARAD）−
ＨＸ−６２０」（日本化薬社製のカプロラクトン変性
ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコール
ジアクリレート）１９．６％、及び「ダロキュア１１７
３」（メルク社製の重合開始剤；２−ヒドロキシ−２−
メチル−１−フェニルプロパン−１−オン）０．４％か
らなる調光層形成材料を、１１．０μｍのガラスファイ
バー製スペーサーが塗布された２枚のＩＴＯ電極ガラス
基板に挟み込み、基板全体を３８℃に保ちながら、２
５ｍＷ／cm²の紫外線を６０秒間照射し、調光層の厚さ
が１１．５μｍの基板と調光層から成る液晶表示素子を
得た。

【００６６】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【００６７】なお、ロディック社のネマチック液晶「Ｐ
Ｎ−００１」の諸特性は以下に示した通りである。転移温度：６８．５℃（Ｎ−Ｉ） −２５ ℃（Ｃ−Ｎ）屈折率：ｎ_e ＝１．７８７ｎ_o ＝１．５８３屈折率の異方性： Δｎ＝０．２５４しきい値電圧：Ｖ_th＝１．１５Ｖ２０℃の粘度：５９c.p. 誘電率の異方性： Δε＝２６．９

【００６８】この液晶表示素子の印加電圧と光透過率に
関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝２．１％、Ｔ₁₀₀＝
８９％、Ｖ₁₀＝７．１Ｖ_rms 、Ｖ₉₀＝１６．１Ｖ_rms で
あった。

【００６９】光反射増加層２は、上記基板と調光層から
成る液晶表示素子の一方の基板の調光層と接していない
面に、厚さ６００オングストロームのＺｎＳと、厚さ１
０６０オングストロームのＭｇＦ₂と、厚さ６００オン
グストロームのＺｎＳを蒸着により順次積層した。

【００７０】更に光吸収層３として、カーボンを上記光
反射増加層２上に蒸着して、本発明に係わる液晶表示素
子を得た。

【００７１】光源（５０Ｗハロゲンランプ）、及び照度
計（トプコン社製、ＢＭ−７型）を設置し、光反射増加
層及び光吸収層を設けた液晶表示素子の表示面の電圧印
加部分及び無印加部分の照度を測定した。

【００７２】別途、同様の方法によって、ガラス基板上
に光吸収層３を蒸着し、光吸収層３の表面において照度
を測定したところ、３．５cd／ｍ²であった。（cdは光
度の単位であるカンデラ（candela）を表わす。）一
方、本実施例で得た液晶表示素子の表示面において電
圧を印加した部分（透明になった部分）の照度は、４．
２cd／ｍ²であり、電圧を印加しなかった部分（白濁し
た部分）の照度は、６５cd／ｍ²であり、コントラスト
の比が１：１５の白黒の表示が可能なことが理解でき
る。

【００７３】（比較例１）実施例１において、光反射増
加層２を設けなかった以外は、実施例１と同様にして液
晶表示素子を作製し、液晶表示素子の表示面における照
度を測定したところ、電圧印加部分の照度は４．０cd／
ｍ²であり、電圧無印加部分の照度は２４．５cd／ｍ²
であり、コントラストの比は１：６であった。

【００７４】（実施例２）図２に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層３、調光層４、透明性
電極５及び支持層６で構成される。

【００７５】２枚の透明性基板に挟持された調光層を有
する液晶表示素子は、実施例１と同一の調光層形成材料
を使用し、同一の作製条件にて作製した。

【００７６】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【００７７】基板と調光層から成る液晶表示素子の印加
電圧と光透過率に関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝
２．１％、Ｔ₁₀₀＝８８．７％、Ｖ₁₀＝７．０Ｖ_rms 、
Ｖ₉₀＝１５．９Ｖ_rms であった。

【００７８】支持層６は、８０μｍのポリエチレンテレ
フタレート高分子膜を使用し、支持層６の一方の面に、
厚さ６００オングストロームのＺｎＳと、厚さ１０６０
オングストロームのＭｇＦ₂と、厚さ６００オングスト
ロームのＺｎＳとを蒸着により順次積層して光反射増加
層を形成した。

【００７９】光吸収層３は、支持層６のもう一方の面に
カーボンを蒸着して形成した。

【００８０】調光層を挟持した２枚の基板の一方の面
に、メチルメタクリレート系の接着剤を塗布した後、接
着剤層に光反射増加層２を貼り合わせる形で、光反射増
加層２及び光吸収層３を設けた支持層６を接着して、本
発明の液晶表示素子を得た。

【００８１】光源（５０Ｗハロゲンランプ）、及び照度
計（トプコン社製、ＢＭ−７型）を設置し、光反射増加
層及び光吸収層を設けた液晶表示素子の表示面の電圧印
加部分及び無印加部分の照度を測定した。

【００８２】別途、同様の方法によって、ガラス基板上
に光吸収層３を蒸着し、光吸収層３の表面において照度
を測定したところ、３．５cd／ｍ²であった。一方、本
実施例で得た液晶表示素子の表示面において電圧を印加
した部分（透明になった部分）の照度は、４．８cd／ｍ
²であり、電圧を印加しなかった部分（白濁した部分）
の照度は、４８cd／ｍ²であり、コントラストの比が
１：１０の白黒の表示が可能なことが理解できる。

【００８３】（比較例２）実施例２において、光反射増
加層２を設けなかった以外は、実施例２と同様にして液
晶表示素子を作製し、液晶表示素子の表示面における照
度を測定したところ、電圧印加部分の照度は４．０cd／
ｍ²であり、電圧無印加部分の照度は２４．５cd／ｍ²
であり、コントラストの比は１：６であった。

【００８４】（実施例３）図２に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層３、調光層４、透明性
電極５及び支持層６で構成される。

【００８５】２枚の透明性基板に挟持された調光層を有
する液晶表示素子は、実施例１と同一の調光層形成材料
を使用し、同一の作製条件にて作製した。

【００８６】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【００８７】基板と調光層から成る液晶表示素子の印加
電圧と光透過率に関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝
２．１％、Ｔ₁₀₀＝８８．９％、Ｖ₁₀＝７．１Ｖ_rms 、
Ｖ₉₀＝１６．０Ｖ_rms であった。

【００８８】光反射増加層２は、厚さ５０μｍポリエチ
レン高分子膜表面に１５μｍのスペーサビーズを散布
し、ポリエチレン高分子膜と空気を７回積層して形成し
たものを用いた。

【００８９】支持層６は、８０μｍのポリエチレン高分
子膜を使用し、光反射増加層２を包み込み、この高分子
膜の外周部分に接着剤を塗布して液晶素子ガラス基板に
固定して、本発明の液晶表示素子を得た。

【００９０】光源（５０Ｗハロゲンランプ）、及び照度
計（トプコン社製、ＢＭ−７型）を設置し、光反射増加
層及び光吸収層を設けた液晶表示素子の表示面の電圧印
加部分及び無印加部分の照度を測定した。

【００９１】別途、同様の方法によって、ガラス基板上
に光吸収層３を蒸着し、光吸収層３の表面において照度
を測定したところ、３．５cd／ｍ²であった。一方、本
実施例で得た液晶表示素子の表示面において電圧を印加
した部分（透明になった部分）の照度は、５．１cd／ｍ
²であり、電圧を印加しなかった部分（白濁した部分）
の照度は、６１．２cd／ｍ²であり、コントラストの比
が１：１２の白黒の表示が可能なことが理解できる。

【００９２】（比較例３）実施例３において、光反射増
加層２を設けなかった以外は、実施例３と同様にして液
晶表示素子を作製し、液晶表示素子の表示面における照
度を測定したところ、電圧印加部分の照度は４．０cd／
ｍ²であり、電圧無印加部分の照度は２４．５cd／ｍ²
であり、コントラストの比は１：６であった。

【００９３】（実施例４）図３に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層と成る光吸収媒体８、
調光層４、ＴＦＴ付き画素電極７及び支持層６で構成さ
れる。

【００９４】２枚の基板に挟持された調光層を有する液
晶表示素子は、実施例１と同一の調光層形成材料を使用
し、一方の基板として、ガラス基板を使用し、他方の基
板として、ガラス基板上に８０×８０ドットのＣｄ−Ｓ
ｅアクティブマトリックスＴＦＴ（薄膜トランジスタ）
から成り、１画素の大きさが、５００×５００μｍであ
って、マトリックス状に表示画素を配置したものを使用
した以外は、同一の作製条件にて作製した。

【００９５】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【００９６】基板と調光層から成る液晶表示素子の印加
電圧と光透過率に関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝
２．１％、Ｔ₁₀₀＝８８．９％、Ｖ₁₀＝７．６Ｖ_rms 、
Ｖ₉₀＝１７．０Ｖ_rms であった。

【００９７】光反射増加層２は、Ｃｄ−Ｓｅアクティブ
マトリックスＴＦＴが設けられた透明性基板面の裏面側
に、厚さ６００オングストロームのＺｎＳと、厚さ１０
６０オングストロームのＭｇＦ₂、厚さ６００オングス
トロームのＺｎＳとを順次積層した光学薄膜を蒸着によ
り形成した。

【００９８】光吸収層３は、赤色の吸収波長領域、青色
の吸収波長領域、黄色の吸収波長領域を示す印刷インキ
を紙に塗布して各色の光吸収媒体とし、各色の光吸収媒
体を５３０×５３０μｍの大きさにして一つの表示画素
が一色の光吸収媒体をもつように各色の光吸収媒体を紙
面に配置した。各色の紙面上の配置は、図４に示したよ
うに、三角形状で規則性を以て配置した。

【００９９】光吸収媒体８を形成した光吸収層２を、光
吸収媒体８と光反射増加層２が接触するように貼り合わ
せて、本発明の液晶表示素子を得た。

【０１００】各画素の透明状態、散乱状態を切り換えて
表示させたところ、波長別の光吸収量を変化させること
ができ、カラー表示をすることができた。

【０１０１】（実施例５）図２に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層３、調光層４、透明性
電極５及び支持層６で構成される。

【０１０２】２枚の透明性基板に挟持された調光層を有
する液晶表示素子は、実施例１と同一の調光層形成材料
を使用し、同一の作製条件にて作製した。

【０１０３】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【０１０４】基板と調光層から成る液晶表示素子の印加
電圧と光透過率に関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝
２．０％、Ｔ₁₀₀＝８７．９％、Ｖ₁₀＝６．９Ｖ_rms 、
Ｖ₉₀＝１５．７Ｖ_rms であった。

【０１０５】光反射増加層２は、厚さ５０μｍのポリエ
チレンテレフタレート高分子膜の一方の面に、厚さ１５
０オングストロームのＺｎＳをポリエチレンテレフタレ
ート高分子膜に蒸着して形成した。更に、この蒸着面に
カーボンブラックの塗料を塗布した。次に、接着剤と
してノーランド（Norland）社製の「ＮＯＡ−６５」を
用い、蒸着膜及びカーボンブラック塗布層を有するポリ
エチレンテレフタレートの高分子膜面側を透明性基板１
に密着させた。従って、光反射増加層２の層構造は、Ｎ
ＯＡ−６５（屈折率：１．５２）−ポリエチレンテレフ
タレート高分子膜（屈折率：１．５８）−ＺｎＳ（屈折
率：２．３）の三層となった。次に、光反射増加層２の
上に、カーボンブラック塗布層から成る光吸収層３を設
けて、本発明の液晶表示素子を得た。

【０１０６】光源（５０Ｗハロゲンランプ）、及び照度
計（トプコン社製、ＢＭ−７型）を設置し、光反射増加
層及び光吸収層を設けた液晶表示素子の表示面の電圧印
加部分及び無印加部分の照度を測定した。

【０１０７】別途、同様の方法によって、ガラス基板上
にカーボンブラック塗布層（光吸収層３）を形成し、光
吸収層３の表面において照度を測定したところ、３．２
cd／ｍ²であった。一方、本実施例で得た液晶表示素子
の表示面において電圧を印加した部分（透明になった部
分）の照度は、３．７cd／ｍ²であり、電圧を印加しな
かった部分（白濁した部分）の照度は、３７．１cd／ｍ
²であり、コントラストの比が１：１０の白黒の表示が
可能なことが理解できる。

【０１０８】（比較例５）実施例５において光反射増加
層２を設けず、一方の基板１の調光層と接していない面
にカーボンブラック塗布層を設けた以外は、実施例５と
同様にして液晶表示素子を作製し、液晶表示素子の表示
面における照度を測定したところ、電圧印加部分の照度
は３．６cd／ｍ²、電圧無印加部分の照度は２１．３cd
／ｍ²で、コントラストは１：６であった。

【０１０９】（実施例６）図２に示した構成を有する液
晶表示素子を作製した。なお、この液晶表示素子は、透
明性基板１、複数の屈折率の異なる透明性媒体を積層し
てなる光反射増加層２、光吸収層３、調光層４、透明性
電極５及び支持層６で構成される。

【０１１０】２枚の透明性基板に挟持された調光層を有
する液晶表示素子は、実施例１と同一の調光層形成材料
を使用し、同一の作製条件にて作製した。

【０１１１】得られた液晶表示素子の調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質が
確認できた。

【０１１２】基板と調光層から成る液晶表示素子の印加
電圧と光透過率に関する諸特性を測定した結果、Ｔ₀＝
２．０％、Ｔ₁₀₀＝８８．１％、Ｖ₁₀＝６．９Ｖ_rms 、
Ｖ₉₀＝１５．８Ｖ_rms であった。

【０１１３】光反射増加層２は、厚さ５０μｍのポリエ
チレンテレフタレート高分子膜の一方の面に、厚さ１５
０オングストロームのＺｎＳをポリエチレンテレフタレ
ート高分子膜に蒸着して形成した。更に、この蒸着面に
カーボンブラックの塗料を塗布した。次に、ポリエチレ
ンテレフタレート高分子膜の他方の面に、１５μｍのス
ペーサービーズを散布した後、この面を透明性基板１と
接触させた。従って、光反射増加層２の層構造は、空気
層（屈折率：１．０）−ポリエチレンテレフタレート高
分子膜（屈折率：１．５８）−ＺｎＳ（屈折率：２．
３）の三層となった。次に、光反射増加層２の上に、カ
ーボンブラック塗布層から成る光吸収層３を設けて、本
発明の液晶表示素子を得た。

【０１１４】光源（５０Ｗハロゲンランプ）、及び照度
計（トプコン社製、ＢＭ−７型）を設置し、光反射増加
層及び光吸収層を設けた液晶表示素子の表示面の電圧印
加部分及び無印加部分の照度を測定した。

【０１１５】別途、同様の方法によって、ガラス基板上
にカーボンブラック塗布層（光吸収層３）を形成し、光
吸収層３の表面において照度を測定したところ、３．５
cd／ｍ²であった。一方、本実施例で得た液晶表示素子
の表示面において電圧を印加した部分（透明になった部
分）の照度は、３．９cd／ｍ²であり、電圧を印加しな
かった部分（白濁した部分）の照度は、４２．７cd／ｍ
²であり、コントラストの比が１：１１の白黒の表示が
可能なことが理解できる。

【０１１６】（比較例６）実施例６において光反射増加
層２を設けず、一方の基板１の調光層と接していない面
にカーボンブラック塗布層を設けた以外は、実施例６と
同様にして液晶表示素子を作製し、液晶表示素子の表示
面における照度を測定したところ、電圧印加部分の照度
は３．５cd／ｍ²、電圧無印加部分の照度は２１．３cd
／ｍ²で、コントラストは１：６であった。

【０１１７】下記の表２において、実施例１〜３と比較
例１〜３の結果の比較、実施例４及び実施例５〜６と比
較例５〜６の結果を示した。

【０１１８】

【表２】

【０１１９】表２に示した結果から明かなように、本発
明の液晶表示素子は、光反射増加層が形成されていない
液晶表示素子に比べて、表示が大変明るく、コントラス
トに優れる。また、本発明の液晶表示素子は、実施例４
に示されるように、カラー表示ができる。

【０１２０】

【発明の効果】本発明によれば、表示が明るく、バック
ライトや偏光板が不要な、コントラストが良好でカラー
表示可能な直視型かつ光散乱型の液晶表示素子を提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子の一例を示した模式断面
図である。

【図２】本発明の液晶表示素子の一例を示した模式断面
図である。

【図３】本発明の液晶表示素子の一例を示した要部の模
式断面図である。

【図４】光吸収層を構成する、赤、青、及び黄色の光吸
収媒体の平面配置の概念を示した模式図である。

【符号の説明】

１透明性基板２複数の屈折率の異なる光透過性媒体を積層してなる
光反射増加層３光吸収層４調光層５透明性電極６支持層７Ｃｄ−ＳｅアクティブマトリックスＴＦＴ付き画素
電極８光吸収媒体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（１）透明電極層を有する２枚の透明基
板、（２）これらの基板間に支持された調光層であっ
て、液晶材料及び透明性固体物質からなる調光層、
（３）一方の基板の調光層と接していない基板面に設け
られた光反射増加層であって、屈折率の異なる光透過性
媒体を少なくとも２種類以上積み重ねてなる多層の光反
射増加層及び（４）光反射増加層の外側に設けた光吸収
層を有することを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】調光層が液晶材料の連続層中に三次元網
目状構造を有する透明性固体物質を含有することを特徴
とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項３】屈折率の異なる光透過性媒体を少なくと
も２種類以上積み重ねてなる多層の光反射増加層に於け
る光透過性媒体の屈折率ｎの少なくとも一種が透明性基
板の屈折率ｎ_s より大きいことを特徴とする請求項１又
は２記載の液晶表示素子。
【請求項４】多層の光反射増加層における各層の光透
過性媒体の屈折率を透明性基板側より順次に増加するよ
うに積み重ねたことを特徴とする請求項１又は２記載の
液晶表示素子。
【請求項５】多層の光反射増加層における光透過性媒
体の内、少なくとも一種が光透過性の高分子膜であるこ
とを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶表示
素子。
【請求項６】光吸収層が、赤色の光吸収媒体、青色の
光吸収媒体及び黄色の光吸収媒体からなり、液晶表示素
子の表示画素がマトリックス状に配置され、各画素の表
示面側に対し前記調光層を介した裏面側に前記の赤色、
青色及び黄色の光吸収媒体の内の一つの媒体が配置さ
れ、前記の赤色、青色及び黄色の光吸収媒体の配列が規
則性を以て配置されていることを特徴とする請求項１、
２、３、４又は５記載の液晶表示素子。
【請求項７】光反射増加層を設けた基板とは反対側の
基板であって、調光層と接していない基板面に反射防止
層を設けたことを特徴とする請求項１、２、３、４、５
又は６記載の液晶表示素子。
【請求項８】反射防止層が、（ａ）空気の屈折率と透
明性基板の屈折率との間の屈折率を有する光透過性媒体
を単層の反射防止層又は（ｂ）空気の屈折率と透明性基
板の屈折率との間の屈折率の範囲内で異なる屈折率を有
する少なくとも二種類以上の前記光透過性媒体を積み重
ねてなる多層の反射防止層である請求項７記載の液晶表
示素子。