JPH06308046A

JPH06308046A - 周期性パターン検査装置

Info

Publication number: JPH06308046A
Application number: JP10241593A
Authority: JP
Inventors: Masayoshi Kobayashi; 正嘉小林; Toru Shibahara; 亨芝原; Kichiji Asai; 吉治浅井
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1993-04-28
Filing date: 1993-04-28
Publication date: 1994-11-04
Anticipated expiration: 2013-08-27
Also published as: JP2791265B2

Abstract

(57)【要約】【目的】簡単な構成でパターンの欠陥が正確に判別で
きるようにする。【構成】周期性パターン検査装置１は、配列された複
数の周期性パターンを有するシャドウマスク３０に向け
て光を照射するための発光部３と、シャドウマスク３０
の隣接し合う周期性パターンをそれぞれ通過した発光部
３からの光束が干渉し合う位置において受光量を認識す
るための受光部４と、受光部４が認識した受光量に基づ
いてシャドウマスク３０の周期性パターンの欠陥の有無
を判断するためのデータ処理装置５とを備え、対物レン
ズ１１からこのレンズのピント位置までの間隔Δｆを所
定の条件の距離に設定している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、周期性パターン検査装
置、特に、検査対象物の複数の透孔からなる周期性パタ
ーンの欠陥を検出する周期性パターン検査装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】カラーブラウン管は、３本の電子ビーム
を放射する電子銃と、この電子銃から放射された電子ビ
ームを受けて３原色に発光し得る蛍光体と、蛍光体の電
子銃側に配置され、複数の透孔からなる周期性パターン
を有する検査対象物の１種であるシャドウマスクとを主
に備えている。このようなカラーブラウン管に含まれる
シャドウマスクは、たとえば厚さ０．１〜０．３ｍｍの
鉄板に１０万個から数十万個のドット型またはスロット
型の透孔を整然と形成したものであり、電子銃から放射
される電子ビームのうち必要な方向の電子ビームだけを
選択的に通過させて不要な方向の電子ビームを遮断する
ためのものである。

【０００３】ところで、このようなシャドウマスクに設
けられた透孔は、ブラウン管の形状、電子銃の特性また
はシャドウマスクの強度等により、シャドウマスク上の
位置に応じて異なる形状に形成されている。すなわち、
各透孔の形状は、シャドウマスクの中心からそれぞれ縦
方向、横方向及び対角線方向に離れた位置ごとに微妙に
異なる形状に形成されており、その形状は細かく規定さ
れている。しかしながら、これらの各透孔は１枚の中で
は異なるが、近接する部分はほぼ同じ周期性パターンと
みなせるという特徴がある。

【０００４】透孔の形状がこのように精密に規定された
シャドウマスクは、数十万個の透孔のうちの一つに欠陥
がある場合でもその機能を充分に発揮し得ない。そのた
め、シャドウマスクの製造では、最終工程において全て
の透孔の形状を検査する必要がある。そこで、複数の透
孔からなる周期性パターンを有するシャドウマスクのよ
うな検査対象物を検査する装置として、シャドウマスク
の全体像または部分像をビデオ信号として画像処理装置
に入力し、Ａ／Ｄ変換後にフレームメモリに格納してフ
レームごとの画像情報に基づいて欠陥部分を検出するも
の（特開平１−３０７６４６号公報）が提案されてい
る。この検査装置では、ローパスフィルタでＴＶカメラ
から出力されたビデオ信号が高周波成分を除去し、Ａ／
Ｄ変換して画像処理装置に取り込んでパターンを変位さ
せた画像の加算・減算を含む各種の画像処理を行うこと
により欠陥を検出している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の検査装置では、ビデオ信号から高周波成分を除去す
る際に、微細な欠陥を含む信号を除去してしまう可能性
がある。また、シャドウマスクのような広い面積を持っ
た周期性パターンの画像をイメージセンサで撮像する場
合、パターンがもっている固有の空間周期と画像入力時
のサンプリング周期とが整合しないことによりビートノ
イズ（モアレ縞現象）が発生することにより、異常孔の
検出が困難になるという問題がある。

【０００６】本発明はこのような問題点を解決するため
になされたものであって、簡単な構成で、欠陥を正確に
かつ容易に判断する周期性パターン検査装置を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】第１の発明に係る周期性
パターン検査装置は、検査対象物の複数の透孔からなる
周期性パターンの欠陥を検出するためのものである。こ
の装置は、検査対象物に向けて光を照射する光照射手段
と、周期性パターンからの透過光を受光しかつ受光量を
電気信号に変換する光電変換手段と、検査対象物と光電
変換手段との間に設けられかつ光電変換手段に透過光を
結像する光学系と、電気信号に基づき周期性パターンの
欠陥を検出する欠陥検出手段とを有している。また、周
期性パターンの周期をＰ，光電変換手段の単位受光面の
１辺または直径をＤ，周期性パターンからの透過光の開
口角の半角をθ、光学系のピント位置から検査対象物ま
での距離をΔｆ、光学系の倍率をＭとしたとき、下記の
式（１）を満たしている。

【０００８】

【数３】第２の発明に係る周期性パターン検査装置は、検査対象
物の複数の透孔からなる周期性パターンの欠陥を検出す
るためのものである。この装置は、検査対象物に向けて
光を照射する光照射手段と、周期性パターンからの透過
光を受光しかつ受光量を電気信号に変換する光電変換手
段と、電気信号に基づき周期性パターンの欠陥を検出す
る欠陥検出手段とを有している。また、周期性パターン
の周期をＰ，光電変換手段の単位受光面の１辺または直
径をＤ，周期性パターンからの透過光の開口角の半角を
θ、光電変換手段から検査対象物までの距離をＧａｐと
したとき、下記の式（２）を満たしている。

【０００９】

【数４】

【００１０】

【作用】第１の発明に係る周期性パターン検査装置は、
光照射手段からの光が検査対象物の周期性パターンを透
過し、その透過光を光電変換手段に結像する光学系を介
して光電変換手段に受光される。そして、光電変換手段
で受光量を電気信号に変換し、欠陥検出手段でこの電気
信号に基づき検査対象物上の周期性パターンの欠陥を検
出する。この場合、周期性パターンの周期をＰ、光電変
換手段の単位受光面の１辺または直径をＤ、周期性パタ
ーンからの透過光の開口角の半角をθ、光学系の倍率を
Ｍとしたとき、光学系のピント位置から検査対象物まで
の間隔Δｆが次の式（１）の条件を満たすようにしてい
るので、周期性パターンに由来するノイズが少なくな
り、周期性パターンの欠陥が容易に判別される。

【００１１】

【数５】第２の発明に係る周期性パターン検査装置は、光照射手
段からの光が検査対象物の周期性パターンを透過し、そ
の透過光を直接光電変換手段で受光する。そして、光電
変換手段で受光量を電気信号に変換し、欠陥検出手段で
この電気信号に基づき検査対象物上の周期性パターンの
欠陥を検出する。この場合、周期性パターンの周期を
Ｐ、光電変換手段の単位受光面の１辺または直径をＤ、
周期性パターンからの透過光の開口角の半角をθとした
とき、光電変換手段と検査対象物との距離Ｇａｐが次の
式（２）の条件を満たすようにしているので、第１の発
明の周期性パターン検査装置と同様に、周期性パターン
に由来するノイズが少なくなり、周期性パターンの欠陥
が容易に判別される。

【００１２】

【数６】

【００１３】

【実施例】図１に、本発明の一実施例に係る周期性パタ
ーン検査装置の概略を示す。図において、周期性パター
ン検査装置１は、移動テーブル２と、発光部３と、受光
部４と、データ処理装置５とから主に構成されている。
移動テーブル２は、中央部に開口６を有する平板状の枠
状部材であり、その上面には、開口６を塞ぐように透明
ガラス板７が配置されている。移動テーブル２は、図示
しない駆動モータにより図の左右方向及び紙面と直交す
る方向、すなわち水平面内で自由に移動し得る。

【００１４】発光部３は、移動テーブル２の下方に配置
されており、移動テーブル２側から順に拡散板８、スト
レートライトガイド９及びハロゲンランプ１０を備えて
いる。ストレートライトガイド９は、ハロゲンランプ１
０からの光を直線光に変換し、拡散板８に向けて照射す
るためのものである。拡散板８は、ストレートライトガ
イド９からの光を移動テーブル２上に配置された透明ガ
ラス板７に向けて均等に照射するためのものである。

【００１５】受光部４は、移動テーブル２を挟んで発光
部３と対向しており、対物レンズ１１と光電変換装置１
２とから主に構成されている。対物レンズ１１は、鏡筒
１１ａに取付けられている。鏡筒１１ａは、図示しない
駆動モータにより、図の上下方向に移動可能であり、こ
れにより、対物レンズ１１の焦点を調節し得る。光電変
換装置１２は、テレビカメラ、ＣＣＤセンサ又はフォト
センサ等であり、対物レンズ１１を支持している鏡筒１
１ａの上端に固定されている。この光電変換装置１２
は、対物レンズ１１により投影された画像の光量を電気
信号に変換し、データ処理装置５に伝達するためのもの
である。

【００１６】データ処理装置５（欠陥検出手段の一例）
は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ及び入出力ポートを含む制
御部１３から主に構成されている。制御部１３の入力側
には、アンプ１４及びＡ／Ｄ変換器１５を介して光電変
換装置１２が接続されている。また、測定条件等を入力
するための入力装置１６も接続されている。一方、制御
部１３の出力側には、測定結果を表示するためのＣＲＴ
１７と、プリンタ等のその他の出力装置１８が接続され
ている。

【００１７】次に、前記周期性パターン検査装置１によ
るパターン検査方法について説明する。ここでは、検査
対象物としてカラーブラウン管のシャドウマスクの透孔
パターンを検査する場合を例にして説明する。まず、移
動テーブル２の透明ガラス板７上に、図１に示すよう
に、シャドウマスク３０を配置する。シャドウマスク３
０は、図３に示すように、規則的に配列された複数の透
孔３１を有している。

【００１８】透明ガラス板７に配置されたシャドウマス
ク３０には、発光部３からの光を部分的に照射する。こ
こでは、ハロゲンランプ１０からの光が、ストレートラ
イトガイド９により直線光に変換され、拡散板８及び透
明ガラス板７を通じてシャドウマスク３０の図１下面に
照射される。シャドウマスク３０に照射された発光部３
からの光は、シャドウマスク３０の各透孔３１を通過し
て受光部４に向けて照射される。ここで、図４に示すよ
うに、各透孔３１を通過する光束Ｌは、円錐状に広が
り、シャドウマスク３０から距離ｄ上方において隣接す
る透孔３１を通過する光束Ｌと重なり合う。

【００１９】次に、図示しないモータを駆動して受光部
４の鏡筒１１ａを上下方向に移動させ、対物レンズ１１
のピント位置を上述の距離ｄよりも上方に設定し、例え
ば図４に示すように、対物レンズ１１のピント位置とシ
ャドウマスク３０との距離をΔｆの位置に調節する。こ
れにより、光電変換装置１２には、シャドウマスク３０
の一部の画像（例えば、図３の一点鎖線で示す円内の画
像Ａ）が対物レンズ１１によりデフォーカス状態で投影
される。ここで、光電変換装置１２が認識する光量は、
画像Ａ内に含まれる透孔３１の平均個数に比例する。す
なわち、透孔３１の平均面積をＳとすると、図３に示す
画像Ａ内には平均７個の透孔３１が含まれているので、
光電変換装置１２が認識する光量は７×Ｓに比例するこ
とになる。この光量は、光電変換装置１２において電気
信号に変換され、データ処理装置５に伝達される。

【００２０】データ処理装置５において、光電変換装置
１２からの電気信号は、アンプ１４により増幅され、さ
らにＡ／Ｄ変換器１５によりデジタル信号に変換されて
制御部１３に入力される。そして、その結果が、ＣＲＴ
１７上に図６に示すような波形データとなって表示され
る。ＣＲＴ１７上に表示される波形は、光電変換装置１
２に投影された画像Ａがデフォーカス状態の画像である
ため、単位受光面あたりの光量変動が少なく、安定した
波形になり対物レンズ１１の焦点をシャドウマスク３０
上に合わせて光電変換装置１２に鮮明な画像を投影した
場合に比べて欠陥部分の判別が容易な状態になる。

【００２１】この状態で、図示しないモータを駆動して
移動テーブル２を一定方向、例えば図１において紙面と
直交する方向（図５の矢印ａ方向）に等速で移動させる
と、図５に示すように、光電変換装置１２に投影される
画像Ａは矢印ｂで示す方向に連続的に変化する。より具
体的には、図３に示すように、光電変換装置１２に投影
された画像Ａは、図の二点鎖線で示す円内の画像Ａ′に
なる。

【００２２】このように、移動テーブル２を移動させな
がら光電変換装置１２に投影される画像Ａの光量を連続
的に測定すると、透孔３１にパターンの欠陥が存在しな
い場合は図６のＸの領域で示すような安定した波形がＣ
ＲＴ１７上に表示される。一方、図３に示した画像Ａ′
のように、パターンの欠陥を有する透孔３１ａが含まれ
ると、光電変換装置１２が認識する光量は変化する。例
えば、パターンの欠陥を有する透孔３１ａの面積が他の
透孔３１の面積に比べてΔＳだけ大きい場合は、光電変
換装置１２が認識する光量は７×Ｓ＋ΔＳに比例する。
この結果、ＣＲＴ１７上に表示される波形は、図６にＹ
で示すようなピーク波形となる。ここでは、光電変換装
置１２からデータ処理装置５に伝達される電気信号の欠
陥部分での波形の変化、つまりＳ／Ｎ比が良好なため、
ピーク波形と安定時の波形とは明確に区別できる。これ
により、シャドウマスク３０のパターンの欠陥が検出で
きる。

【００２３】なお、ここでいうＳ／Ｎ比は、出力平均値
を基準にした欠陥部分の出力変化量をｈＳ，正常部分の
出力値を統計処理し、標準偏差σを求め、それを３倍し
たものを正常部分の出力変化量ｈＮとしたとき、ｈＳ／
ｈＮ＝Ｓ／Ｎと定義したものである。上述の実施例にお
いて、シャドウマスク３０と対物レンズ１１のピント位
置との間の距離Δｆ及び対物レンズ１１により光電変換
装置１２に投影される画像Ａの直径（以下、センシング
エリアＤという）は、それぞれ一定の範囲内に設定する
のが好ましい。次に、これらについて説明する。Δｆについて Δｆの範囲は、光電変換装置１２からデータ処理装置５
に伝達される信号のＳ／Ｎ比との関係において規定され
る。すなわち、ΔｆとＳ／Ｎ比との関係は、図７に示す
ようになる。図７から明らかなように、ΔｆがΔｆ₁よ
りも小さい場合及びΔｆ₂よりも大きい場合には、Ｓ／
Ｎ比の高い信号が得られない。

【００２４】ここで、Δｆ₁は、上述のｄ、すなわち、
隣接し合う透孔３１からの光束Ｌが互いに重なり合う最
初の位置になる。このΔｆ₁は、図４に示すように、隣
接し合う透孔３１間のピッチをＰとし、また透孔３１を
透過する光束Ｌの開口角の半角をθとすると、次の式の
ように表される。

【００２５】

【数７】一方、Δｆ₂は、光束Ｌの直径がセンシングエリアＤの
直径を超えない位置となる。この位置は、対物レンズ１
１の倍率をＭとすると、次の式で表される。

【００２６】

【数８】以上から、Δｆとして好ましい範囲は、次のようにな
る。

【００２７】

【数９】センシングエリアＤセンシングエリアＤは、できるだけ大きく設定する方が
測定時間の短縮やデータ量の低減のために好ましいが、
光電変換装置１２の感度との関係で一定の限界が存在す
る。一般には、センシングエリアＤは次の範囲内に設定
するのが好ましい。

【００２８】

【数１０】式中、Ｍは対物レンズ１１の倍率、Ｐは透孔３１のピッ
チ間隔を示している。なお、ＤがＭＰ未満の場合は、Ｐ
／２ｔａｎθと（Ｄ／Ｍ）／２ｔａｎθとの値が逆転す
るため、上述のΔｆに関する範囲が成立しなくなる。逆
に、Ｄが５ＭＰを超える場合は、センシングエリア内に
含まれる欠陥を有する透孔３１ａの面積比が小さくなり
過ぎるので、Ｓ／Ｎ比が低下し、微細な欠陥の検出が困
難になる。実験例１透孔の直径が１３０μｍ、透孔のピッチ間隔が０．２６
６ｍｍの、図８に示すようなパターンの欠陥Ｆを有する
シャドウマスクについて、前記実施例のパターン検査装
置１を用いてΔｆの値を種々に変更しながらパターンの
欠陥の有無を調べた。パターン検査装置１では、１００
Ｗのハロゲンランプ１０を用いた。また、対物レンズ１
１として、倍率が１０倍、開口数（ＮＡ）が０．３０の
ものを用いた。さらに、光電変換装置１２として、受光
面の直径が１１．３ｍｍのフォトダイオードを用いた。

【００２９】なお、この実験例では、対物レンズ１１の
開口数（ＮＡ）が０．３０であるため、透過光束Ｌの開
口角の半角θは、約ｓｉｎ^-1〔０．３０〕になる。よっ
て、Δｆ₁及びΔｆ₂は、それぞれ０．４２２ｍｍ及び
１．７９３ｍｍになる。また、フォトダイオードの受光
面の直径は、上述のセンシングエリアＤに相当し、その
値は上述のＭＰと５ＭＰとの間にある。

【００３０】結果を図９に示す。ΔｆをΔｆ₁＝０．４
２２ｍｍとΔｆ₂＝１．７９３ｍｍとの間に設定してい
る場合、例えば、Δｆ＝０．５ｍｍ，Δｆ＝１．７ｍｍ
のときは、図１１，図１２のように欠陥部分に対するピ
ーク波形を容易に判別することができる。一方、Δｆが
Δｆ₁とΔｆ₂との範囲外にある場合、例えば、Δｆ＝
０，Δｆ＝２．２のときは、図１０，図１３のように欠
陥部分の判別が困難になる。

【００３１】図１４〜図１７に、それぞれ図１０〜図１
３の波形を微分したデータを示す。図から明らかなよう
に、データを微分処理すると、欠陥部分に対応するピー
ク波形の判別がより容易になる。実験例２実験例１において、フォトダイオードの受光面の直径、
すなわちセンシングエリアＤを種々に変更し、透孔のピ
ッチ間隔が０．３１４ｍｍのシャドウマスクについてパ
ターン欠陥の有無を検査した。

【００３２】センシングエリアＤは、既に説明したよう
に、ＭＰ以上５ＭＰ以下に設定するのが好ましいので、
Ｄ／ＭＰが１以上５以下であれば好ましい範囲である。
結果を図１８〜図２１に示す。図１８，図２１のよう
に、Ｄ／ＭＰが１未満又は５を超える場合は、欠陥部分
に対応するピーク波形の判別が困難になる。なお、この
実験例では、Δｆを上述の式（１）を満足する範囲に設
定した。

【００３３】〔他の実施例〕（ａ）前記実施例では、受光部４に対物レンズ１１を
用いたが、図２２のように対物レンズ１１を設けずに、
シャドウマスク３０からの光を直接光電変換装置１２に
より受光しても良い。この場合、シャドウマスク３０と
光電変換装置１２との間の距離Ｇａｐは、図２３に示し
たｄ以上に設定するのが好ましい。なお、Ｇａｐの好ま
しい範囲は次の通りである。式中、Ｐは、前記実施例と
同じである。また、Ｄは、光電変換装置１２の受光面の
直径である。

【００３４】

【数１１】ただし、この実施例では、対物レンズを用いていないた
め、図２２において拡散板８の幅をＣ、拡散板８の表面
からシャドウマスク３０までの距離をｈとすると、拡散
板８から出た光は透孔３１を通過することで、透過光束
Ｌの開口角の半角は次の式のようになる。

【００３５】

【数１２】また、光電変換装置１２の受光面の直径Ｄは、次のよう
に設定するのが好ましい。

【００３６】

【数１３】実験例３この実施例について、Ｇａｐの値を種々に変更しながら
実験例１で検査したものと同じシャドウマスクのパター
ンの欠陥を調べた。なお、光電変換装置１２の受光面の
直径Ｄは０．８ｍｍに設定した。また、透過光束Ｌの半
角θを約ｔａｎ ^-1〔０．４１〕とした。したがって、Ｇ
ａｐとして好ましい範囲は、０．３２ｍｍ以上０．９８
ｍｍ以下になる。結果は図２４のようになる。図から明
らかなように、Ｇａｐが上述の範囲内の場合は、Ｓ／Ｎ
比が多角なり、欠陥部分の判別が容易である。（ｂ）前記他の実施例（ａ）において、図２５に示す
ように、受光部をフォトダイオードアレイ４ａにより構
成してもよい。フォトダイオードアレイ４ａは、例えば
１ｍｍ角のフォトダイオードを一次元的に数１００個並
べたものであり、各フォトダイオードが個々に光電流出
力端子を備えている。また、フォトダイオードアレイ４
ａは、図示しない駆動モータにより上下移動可能であ
る。発光部は、フォトダイオードアレイ４ａと同一方向
に延びるリニアライトガイド９ａと拡散板８ａとを備え
ている。リニアライトガイド９ａは、ハロゲンランプ１
０からの光をシャドウマスク３０の幅方向全体に照射す
るためのものである。

【００３７】この実施例では、リニアライトガイド９ａ
からの光が拡散板８ａを介してシャドウマスク３０の幅
方向全体に照射される。そして、シャドウマスク３０に
照射された光は、透孔を通過してフォトダイオードアレ
イ４ａを構成する個々のフォトダイオードに照射され
る。したがって、この実施例によれば、移動テーブル２
を紙面と垂直方向に移動するだけでシャドウマスク３０
全体のパターンの欠陥を検査できるので、検査時間の短
縮が図れる。（ｃ）前記実施例では、周期性パターン検査装置をシ
ャドウマスクの検査用に用いたが、周期性パターン検査
装置は、ＴＶカメラ用カラーフィルター、カラー液晶用
カラーフィルター又は半導体集積回路のパターンを検査
するために用いられてもよい。

【００３８】

【発明の効果】本発明の周期性パターン検査装置は、光
学系からこの光学系のピント位置までの間隔Δｆまたは
光電変換手段と検査対象物との距離Ｇａｐを所定の条件
の距離にするという簡単な構成で検査対象物上の周期性
パターンの欠陥を検出することにより、周期性パターン
に由来する欠陥部分のノイズが少なくなり、欠陥部分を
正確にかつ容易に判別できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の概略構成図。

【図２】前記実施例に採用された制御装置の概略構成
図。

【図３】前記実施例により検査され得るシャドウマスク
の平面拡大図。

【図４】前記シャドウマスクの透孔を通過する光束の干
渉状態を示す図。

【図５】前記実施例に適用されたシャドウマスクの平面
図。

【図６】前記実施例により得られる測定波形の模式図。

【図７】ΔｆとＳ／Ｎ比との関係を示すグラフ。

【図８】実験例１で検査されたシャドウマスクのパター
ン欠陥部分の平面拡大図。

【図９】実験例１の測定結果を示す図。

【図１０】実験例１の測定結果を示す図。

【図１１】実験例１の測定結果を示す図。

【図１２】実験例１の測定結果を示す図。

【図１３】実験例１の測定結果を示す図。

【図１４】図１０の波形を微分したグラフ。

【図１５】図１１の波形を微分したグラフ。

【図１６】図１２の波形を微分したグラフ。

【図１７】図１３の波形を微分したグラフ。

【図１８】実験例２の測定結果を示すグラフ。

【図１９】実験例２の測定結果を示すグラフ。

【図２０】実験例２の測定結果を示すグラフ。

【図２１】実験例２の測定結果を示すグラフ。

【図２２】他の実施例の概略構成図。

【図２３】図２２の部分拡大図。

【図２４】実験例３の測定結果を示すグラフ。

【図２５】他の実施例の図１に相当する図。

【符号の説明】

１周期性パターン検査装置３発光部４受光部５データ処理装置１１対物レンズ１２光電変換装置３０シャドウマスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者浅井吉治滋賀県彦根市高宮町480番地の１大日本スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】検査対象物の複数の透孔からなる周期性パ
ターンの欠陥を検出する周期性パターン検査装置であっ
て、前記検査対象物に向けて光を照射する光照射手段と、前記周期性パターンからの透過光を受光し、受光量を電
気信号に変換する光電変換手段と、前記検査対象物と前記光電変換手段との間に設けられ、
前記光電変換手段に前記透過光を結像する光学系と、前記電気信号に基づき前記周期性パターンの欠陥を検出
する欠陥検出手段と、を有し、前記周期性パターンの周期をＰ，前記光電変換手段の単
位受光面の１辺または直径をＤ，前記周期性パターンか
らの透過光の開口角の半角をθ、前記光学系のピント位
置から前記検査対象物までの距離をΔｆ、前記光学系の
倍率をＭとしたとき、下記の式（１）を満たすことを特
徴とする周期性パターン検査装置。【数１】
【請求項２】検査対象物の複数の透孔からなる周期性パ
ターンの欠陥を検出する周期性パターン検査装置であっ
て、前記検査対象物に向けて光を照射する光照射手段と、前記周期性パターンからの透過光を受光し、受光量を電
気信号に変換する光電変換手段と、前記電気信号に基づき前記周期性パターンの欠陥を検出
する欠陥検出手段と、を有し、前記周期性パターンの周期をＰ，前記光電変換手段の単
位受光面の１辺または直径をＤ，前記周期性パターンか
らの透過光の開口角の半角をθ、前記光電変換手段から
前記検査対象物までの距離をＧａｐとしたとき、下記の
式（２）を満たすことを特徴とする周期性パターン検査
装置。【数２】